JPS5932369B2 - Alignment device for plate-shaped members - Google Patents

Alignment device for plate-shaped members

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JPS5932369B2
JPS5932369B2 JP5894579A JP5894579A JPS5932369B2 JP S5932369 B2 JPS5932369 B2 JP S5932369B2 JP 5894579 A JP5894579 A JP 5894579A JP 5894579 A JP5894579 A JP 5894579A JP S5932369 B2 JPS5932369 B2 JP S5932369B2
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JP
Japan
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plate
guide member
alignment
cassette
wafer
Prior art date
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JP5894579A
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Japanese (ja)
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JPS55151418A (en
Inventor
清治 今仲
弘道 山田
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 この発明は板状部材、特に転動可能な、例えばシリコン
ウェハ、ガラスウエー・などの円板状部材を、整列治具
に形成された所定ピッチ毎の細溝間に直立支持させるた
めの整列装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a plate-shaped member, particularly a rollable disc-shaped member such as a silicon wafer or a glass wafer, between narrow grooves formed at a predetermined pitch on an alignment jig. This invention relates to an alignment device for upright support.

例えば、IC、トランジスタ、サイリスタなどの半導体
装置は、よく知られているように、円形をなすウエー・
に対し、拡散、写真製版などの処理を繰ク返し施すこと
によつて形成される。
For example, as is well known, semiconductor devices such as ICs, transistors, and thyristors are manufactured using circular wafers.
It is formed by repeatedly applying processes such as diffusion and photoengraving to the surface.

そして特に拡散処理については、一般にバッチ処理され
ることが多く、このバッチ処理のためには、前記ウエ・
・を各々に直立支持させるところの、l組づつの細溝を
所定ピッチ毎に多数形成ざせた石英、SiC、ポリシリ
コンなどからなる整列治具、いわゆる拡散ボートが使用
される。しかして従来、この拡散ボートヘのウェハのロ
ーディングおよびアンローディングは、第1図ないし第
3図に示すようにして行なわれていた。
Particularly regarding diffusion processing, batch processing is often performed, and for this batch processing, the above-mentioned wafer
A so-called diffusion boat, which is an alignment jig made of quartz, SiC, polysilicon, etc., is used, in which a large number of l sets of narrow grooves are formed at predetermined pitches, each of which is supported upright. Conventionally, loading and unloading of wafers into the diffusion boat has been carried out as shown in FIGS. 1 to 3.

すなわち、これらの第1図ないし第3図において、1は
拡散ボート、2a、2bはこの拡散ボートLに所定ピッ
チ毎に多数形成されたl組づつの細溝、盈はウェハの工
程間搬送に使用するカセット、4a、4bはこのカセッ
ト1に同様に所定ピッチ毎に多数形成されたl組づつの
細溝、5は周面の一部に平坦な基準面5aを形成した円
形のウェハ、6は先端一側に真空吸着口をもつ真空ピン
セットである。またLは、前記カセットlを受入れて支
持することのできるボックス8と、モータ10によつて
回転駆動し得るようにしたロッド9とからなるフアセツ
トアライナである。前記構成において、l組づゝの細溝
4a、4b間に各々ウェハiを装入支持させたカセット
lは、まずフアセソトアライナエのボックス8内にセッ
トされる。
That is, in FIGS. 1 to 3, 1 is a diffusion boat, 2a and 2b are l groups of thin grooves formed in large numbers at predetermined pitches in this diffusion boat L, and the cap is for transporting wafers between processes. The cassettes 4a and 4b used are l groups of thin grooves, which are similarly formed in large numbers at predetermined pitches in the cassette 1, 5 is a circular wafer with a flat reference surface 5a formed on a part of the circumference, 6 is a vacuum tweezers with a vacuum suction port on one side of the tip. Further, L is a facet aligner consisting of a box 8 capable of receiving and supporting the cassette I, and a rod 9 rotatably driven by a motor 10. In the above structure, the cassette 1 in which the wafers i are loaded and supported between the 1 sets of narrow grooves 4a and 4b is first set in the box 8 of the front aligner.

このセットにより各ウェハiはロッド9によつて第3図
のl点鎖線位置に幾分持ち上げられ、この状態でモータ
10によりロッド9を回転駆動させると、このロッド9
に縁部を接しているウェハ互は、摩擦伝導によ)回転を
始め、その基準面5aがロッド9に接することによ)、
摩擦力のうちのウエ・・5.を回転させようとする分力
が減衰して、接線方向に移動させようとする力に置換さ
れ、このようにしてすべてのウェハiは、カセットJ内
において各基準面5aを下方にして揃えられる。ついで
このように各基準面5aが揃えられた各各のウェハjは
、真空ピンセット6によV1枚づつカセットJ内から取
ジ出され、拡散ボート1の一組づ\の細溝2a,2b間
に順次に移し替えられるものであ)、反対に拡散ボート
1からカセットJへの移し替えも同様にしてなされてい
た。
With this set, each wafer i is lifted somewhat by the rod 9 to the position indicated by the dashed line l in FIG.
The wafers whose edges are in contact with each other start rotating due to frictional conduction, and their reference surfaces 5a contact the rod 9),
Among the frictional forces...5. The force trying to rotate the wafers is attenuated and replaced by the force trying to move the wafers in the tangential direction, and in this way all the wafers i are aligned in the cassette J with each reference plane 5a facing downward. . Next, each of the wafers j whose reference surfaces 5a are aligned in this way is taken out from the cassette J one by one by the vacuum tweezers 6, and placed in the narrow grooves 2a, 2b of each set of the diffusion boat 1. In contrast, the transfer from diffusion boat 1 to cassette J was done in the same way.

しかし乍らこのようにして行なわれるローディング、ア
ンローディング、すなわち移し替え作業は、1つの工程
毎に繰)返されることから、ウェハの枚数からみるとき
、膨大な手間となつて極めて煩雑であるばかvか、しか
もウェハ面を一々吸着し、あるいは挟む必要があつてウ
ェハの損傷を避けられず、かつまた人手の介人による直
接、間接的なウェハの汚染も重大な問題となり、製造歩
留力が低下するという欠点があつた。この発明は従来の
このような欠点を改善するため、ウェハ、ひいては転動
可能な円板状部材を対象として、その整列治具へのロー
ディング、アンローディング作業につき、ウェハ面に他
物が接触しない状態で自動化させるようにしたものであ
る。
However, since the loading and unloading operations performed in this way, that is, the transfer operations, are repeated for each process, it becomes a huge amount of effort and is extremely complicated, considering the number of wafers. Moreover, it is necessary to pick up or pinch the wafer surface one by one, making it impossible to avoid damage to the wafers, and direct or indirect wafer contamination caused by manual intervention becomes a serious problem, reducing manufacturing yield. The disadvantage was that the value decreased. In order to improve these conventional drawbacks, this invention targets wafers and, by extension, a rollable disc-shaped member, and prevents other objects from coming into contact with the wafer surface during loading and unloading operations on the alignment jig. It is designed to be automated depending on the state.

以下この発明装置の一実施例につき、第4図ないし第6
図を参照して詳細に説明する。これらの第4図ないし第
6図において、前記第1図ないし第3図と同一符号は同
一または相当部分を示している。
4 to 6 below regarding one embodiment of this invention device.
This will be explained in detail with reference to the drawings. In these FIGS. 4 to 6, the same reference numerals as in FIGS. 1 to 3 indicate the same or corresponding parts.

そしてこの実施例において、拡散ボート移動機構11お
よびカセット移動機構12は、各々に前記拡散ボートL
およびカセットJを定位置に保持して、各々の細溝2a
,2bおよび4a,4b毎にピッチ送りできるようにな
つており、これらの両機構11,12間には、各々に保
持される拡散ボートL,カセット盈の各細溝2a,2b
および4a,4bに臨ませて、カセットJ側から垂直方
向に立上)、かつ拡散ボート1側に向けて斜下方向に延
長される案内部材13を設置させ、同部材13にウェハ
1の周縁部を案内する■字状溝14a,14bを形成さ
せる。また前記カセットJ側には、前記ピッチ送り毎に
カセットJ内のウエー・jを、その位置Aから前記案内
部材13の垂直方向最上部位置Bまで突き上げるための
、昇降機構15と移動プレート16とが配置されると共
に、案内部材13の傾斜側には、前記位置Bまで突き上
げられたウエー・iの転動を支えて、拡散ボートLへの
直立支持位置Cまで案内するための、周囲にv字状溝1
9を形成した案内ロール18とその往復機構17とを配
置させてある。さらに前記案内部材13の傾斜側途上に
は、下側■字状溝14aに接して転動案内されるウエー
・旦の周縁に接し得る位置においてファセットロッド2
0と、このファセットロッド20位置にウエ・・5.を
一旦停止させるストッパピン20とが設けられておジ、
かつこれらはフレーム22に保持されたファセットモー
タ23およびシリンダ機構24によジ、前者のファセッ
トロッド20をその位置で回転させ、前記したと同様に
フアセツトアライナ作用を転動途上にあるウェハjに与
え、後者のストッパピン21を出没させて、ウェハ5を
その位置に一旦停止させ得るようにしたものである。
In this embodiment, the diffusion boat moving mechanism 11 and the cassette moving mechanism 12 each include the diffusion boat L.
and holding the cassette J in place, each narrow groove 2a
, 2b and 4a, 4b, and between these two mechanisms 11 and 12, there is a diffusion boat L held respectively, and each thin groove 2a, 2b of the cassette cap.
4a and 4b, a guide member 13 is installed that extends vertically from the cassette J side) and extends obliquely downward toward the diffusion boat 1 side. ■-shaped grooves 14a and 14b are formed to guide the parts. Further, on the cassette J side, a lifting mechanism 15 and a moving plate 16 are provided for pushing up the way j in the cassette J from its position A to the top position B in the vertical direction of the guide member 13 every time the pitch is fed. is arranged, and on the inclined side of the guide member 13 there is a v around the periphery for supporting the rolling of the way i pushed up to the position B and guiding it to the upright support position C to the diffusion boat L. Shape groove 1
A guide roll 18 having a shape of 9 and a reciprocating mechanism 17 thereof are arranged. Furthermore, on the inclined side of the guide member 13, there is a facet rod 2 at a position where it can contact the peripheral edge of the way/way which is rollingly guided in contact with the lower ■-shaped groove 14a.
0 and this facet rod 20 position...5. A stopper pin 20 is provided to temporarily stop the
These are rotated by the facet motor 23 and cylinder mechanism 24 held by the frame 22 to rotate the former facet rod 20 at that position, and apply the facet aligner action to the wafer j in the process of rolling in the same manner as described above. The latter stopper pin 21 is moved in and out to temporarily stop the wafer 5 at that position.

従つて以上の実施例構成においては、まず拡散ボートお
よびカセット各移動装置11,12により、拡散ボート
1およびカセットJの各細溝2a,2bおよび4a,4
bを、各々に案内部材13の■字状溝14a,14bの
両開口端に一致させ、かつ案内ロール18を位置B対応
にセットさせると共に、ストッパピン21を案内部材1
3側に突出させておく。
Therefore, in the configuration of the above embodiment, first, the diffusion boat and cassette moving devices 11 and 12 move the narrow grooves 2a, 2b and 4a, 4 of the diffusion boat 1 and the cassette J.
b are aligned with both open ends of the ■-shaped grooves 14a and 14b of the guide member 13, and the guide roll 18 is set to correspond to position B, and the stopper pin 21 is set in the guide member 1.
Leave it sticking out on the 3rd side.

ついでこの初期セット状態で、昇降機構15を起動して
移動プレート16を上昇させると、この移動プレート1
6は、カセットJ内の最初のウエー・互を、位置Aから
位置Bまで、その周縁部をV字状溝14a,14bに合
わせたま\上昇させ、かつ同位置Bにおいて待機してい
る案内ロール18に支えさせる。
Next, in this initial set state, when the elevating mechanism 15 is activated to raise the movable plate 16, this movable plate 1
6 is a guide roll that raises the first way in the cassette J from position A to position B with its peripheral edge aligned with the V-shaped grooves 14a and 14b, and waits at the same position B. Let 18 support you.

ついでこの案内ロール18が第4図で左方、すなわち案
内部材13の傾斜に沿い、往復機構17によつて移動を
初めると、ウエ・・iもまた、位置Bからそのま\■字
状溝14a,14bおよび19に周縁部が合わされて転
動され、位置Cに向かつて移動を始める。そしてこのウ
ェハiは突出位置にあるストッパピン21により、その
位置に一旦停止されると共に、同時にファセットモータ
23が駆動されてファセットロッド20が回転を始め、
一旦停止の状態にあるウエ・・5を前記のようにしてそ
の基準面5aが下方となるようにオリエンテーションさ
せ、またその終了によジフアセツトモータ23が停止す
ると、ストッパピン21もまたシリンダ機構24によう
引き込められ、オリエンテーションされたウエー・δは
、そのオリエンテーシヨ7位置での姿勢のま\再度案内
ロール18に支えられて転動を始め、その周縁部が下方
の■字状溝14aを経て、拡散ボート1の一方の細溝2
bに接したのちは、第6図に示されているように、同細
溝2bの部分を支点に矢印の軌跡をたどつて他方の細溝
2aに誘導され、かつ案内ロール18はその位置を通ク
過ぎて停止するから、結果的にウェハjは位置C,すな
わち拡散ボートV上に移し替えられて、各細溝2a,2
b間に直立支持されるのである。そしてこのウエ・・5
の転動移動中に、前記昇降プレー口6は元位置に復帰さ
れ、続いて拡散ボート1およびカセットJがlピッチ送
りされてから、案内ロール18およびストッパピン21
もまた元位置に復帰されて、l枚のウエー・5の移し替
えが終了し、以下同様にして順次に移し替えを自動的に
行なうのである。
Then, when this guide roll 18 begins to move to the left in FIG. The peripheral edges are aligned with 14a, 14b and 19 and rolled, and begin to move toward position C. Then, this wafer i is temporarily stopped at that position by the stopper pin 21 located at the protruding position, and at the same time, the facet motor 23 is driven and the facet rod 20 starts rotating.
Once the wafer 5 in the stopped state is oriented as described above so that its reference surface 5a is downward, and when the differential facet motor 23 is stopped, the stopper pin 21 is also moved to the cylinder mechanism. The way δ, which has been pulled in and oriented as shown in FIG. 14a, one narrow groove 2 of the diffusion boat 1
After contacting the narrow groove 2b, as shown in FIG. As a result, the wafer j is transferred to the position C, that is, onto the diffusion boat V, and the wafer j passes through the narrow grooves 2a, 2.
It is supported upright between ``b'' and ``b''. And this...5
During the rolling movement, the elevating play port 6 is returned to its original position, and then the diffusion boat 1 and the cassette J are fed l pitches, and then the guide roll 18 and the stopper pin 21 are moved.
is also returned to its original position, and the transfer of l way 5 is completed, and the subsequent transfers are automatically performed sequentially in the same manner.

そしてまた前記とは反対に拡散ボート1からカセットJ
への移し替えに際しては、ストッパピン21を突出させ
ずにしておき、ファセットロッド20によるウェハjの
オリエンテーションを行なわないでよく、他の動作は前
記とおよそ逆にすることによつて実行されるのである。
なお前記実施例では、拡散ボート1およびカセット3.
を、各々の移動機構U,Lλによつてピッチ送シする場
合について述べたが、案内部材追側を相対的にピッチ送
勺しても同様の作用を得られる。
And again, contrary to the above, from the diffusion boat 1 to the cassette J
When transferring the wafer to the wafer, the stopper pin 21 is left unprotruded and the orientation of the wafer j by the facet rod 20 is not required, and the other operations are performed by reversing the above. be.
In the above embodiment, the diffusion boat 1 and the cassette 3.
A case has been described in which the movement mechanisms U and Lλ are used to feed the guide member in pitch, but the same effect can be obtained by relatively feeding the trailing side of the guide member in pitch.

また同様に実施例では、円板状部材として一部に基準面
5aをもつウェハ1について述べたが、基準面を有して
オリエンテーションできかつ転動可能な薄板であればそ
の他任意のものにも適用でき、さらにまたストッパピン
21に代えて案内ロール18にその機能を与えてもよい
ことは勿論である。以上詳述したようにこの発明による
ときは、一部に平坦な基準面をもつ転動可能な円板状部
材の整列治具間でのオリエンテーションを含む移し替え
を、この円板状部材の各面に全く触れることなしに自動
的に実行できるのであり、特にウェハの場合には、汚染
などの不都合を排除できると共に、そのオリエンテーシ
ョンによつて拡散ボートへのローディングが繰ク返し行
なわれても、これに直立支持される部分を常に一定に限
定し得て、例えば酸化膜生成、不純物拡散時に小良とな
シ易い部分を常時定位置に局限でき、併せて移し替えに
はもつぱら転動を移用するために損傷などを生ずる虞れ
もなくなり、作業を円滑、迅速に行なえるほか、ウェハ
などの製造歩留vを向上できるなどの特長を有するもの
である。
Similarly, in the embodiment, the wafer 1 is described as having a reference surface 5a in a part as a disc-shaped member, but any other thin plate having a reference surface, which can be oriented, and which can be rolled can also be used. It goes without saying that this function may be applied to the guide roll 18 instead of the stopper pin 21. As described in detail above, according to the present invention, the transfer including the orientation between the alignment jigs of a rollable disc-shaped member having a partially flat reference surface can be performed on each of the disc-shaped members. This can be done automatically without touching the surface at all, which eliminates inconveniences such as contamination, especially in the case of wafers, and the orientation allows for repeated loading into the diffusion boat. This makes it possible to always limit the part that is supported upright to a fixed position, and for example, parts that are easily damaged during the formation of oxide films or diffusion of impurities can be kept in the same position at all times. This eliminates the risk of damage during transfer, allows work to be carried out smoothly and quickly, and has the advantage of improving the manufacturing yield of wafers and the like.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は従来例によるウエー・の整列治具への移し替え
作業を説明する斜視図、第2図は同上ウェハの正面図、
第3図は同上カセットとそのアライナボツクスとの断面
図、第4図はこの発明に係わる整列装置の一実施例を示
す正面図、第5図は第4図■−■線部の要部断面図、第
6図は同上乗D移ジの状態を示す要部正面図である。 1・・・・・・拡散ボート(VlJ治具)、2a2b・
・・・・・細溝、3・・・・・・カセット(整列治具)
、4a,4b・・・・・・細溝、5・・・・・・ウエー
・(円板状部材)、5a・−・・・・基準面、11,1
2・・・・・・移動機構、13・・・・・・案内部材、
14a,14b・・・・・・■字状溝、15・・・・・
・昇降機構、16・・・・・・移動プレート、17・・
・・・・往復機構、18・・・・・・案内ロール、19
・・・・・・■字状溝、20・・・・゜゜ファセットロ
ッド、21・・・・・・ストッパピン、23・・・・・
・ファセットモータ、24・・・・・・シリンダ機構。
Fig. 1 is a perspective view illustrating the work of transferring the wafer to the alignment jig according to the conventional example, Fig. 2 is a front view of the same wafer,
3 is a sectional view of the same cassette and its aligner box, FIG. 4 is a front view showing an embodiment of the alignment device according to the present invention, and FIG. 5 is a sectional view of the main part taken along line ■-■ in FIG. FIG. 6 is a front view of the main part showing the state of the D-transfer as described above. 1... Diffusion boat (VlJ jig), 2a2b.
...Narrow groove, 3...Cassette (alignment jig)
, 4a, 4b... Thin groove, 5... Way (disk-shaped member), 5a... Reference surface, 11, 1
2...Moving mechanism, 13...Guiding member,
14a, 14b...■-shaped groove, 15...
・Lifting mechanism, 16...Movement plate, 17...
... Reciprocating mechanism, 18 ... Guide roll, 19
・・・・・・■-shaped groove, 20...゜゜facet rod, 21...stopper pin, 23...
・Facet motor, 24...Cylinder mechanism.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 所定ピッチ毎に1組づゝの細溝を多数形成させた1
組の整列治具間で、各細溝内に直立支持される一部に平
坦な基準面をもつ転動可能な板状部材を移し替える整列
装置であつて、所定位置に位置決めされる前記各整列治
具の各細溝に臨ませて、一方の整列治具側から下方に傾
斜されて他方の整列治具側に向かう案内部材を設けると
共に、この案内部材に前記板状部材の周縁部を案内する
溝を形成させ、また前記一方の整列治具側には、案内部
材の溝位置に対応して出入りする移動プレートを、案内
部材側には、前記整列治具間で往復作動される案内ロー
ルを配設させ、かつ案内部材の途上には、その位置で板
状部材を一旦停止する手段および一旦停止された板状部
材をオリエンテーションするファセットロッドを設け、
さらに各整列治具と案内部材、移動プレートとを、前記
所定ピッチ毎に相対的に移動し得るようにしたことを特
徴とする板状部材の整列装置。
1 A large number of narrow grooves, one set at each predetermined pitch, are formed.
An alignment device for transferring a rollable plate-like member having a flat reference surface on a part supported upright in each narrow groove between a set of alignment jigs, wherein each of the above-mentioned alignment jigs is positioned at a predetermined position. A guide member is provided facing each narrow groove of the alignment jig and is inclined downward from one alignment jig side toward the other alignment jig side, and the peripheral edge of the plate-like member is attached to this guide member. A guiding groove is formed, and a movable plate that moves in and out according to the groove position of the guide member is formed on the one alignment jig side, and a guide that is reciprocated between the alignment jigs is formed on the guide member side. A means for temporarily stopping the plate-like member at that position and a facet rod for orienting the once-stopped plate-like member are provided in the middle of the guide member where the roll is disposed,
Furthermore, each alignment jig, the guide member, and the moving plate are configured to be relatively movable at each of the predetermined pitches.
JP5894579A 1979-05-11 1979-05-11 Alignment device for plate-shaped members Expired JPS5932369B2 (en)

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