JPH0249718Y2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0249718Y2
JPH0249718Y2 JP7094788U JP7094788U JPH0249718Y2 JP H0249718 Y2 JPH0249718 Y2 JP H0249718Y2 JP 7094788 U JP7094788 U JP 7094788U JP 7094788 U JP7094788 U JP 7094788U JP H0249718 Y2 JPH0249718 Y2 JP H0249718Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
boat
wafer
carrier
wafers
pusher
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP7094788U
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH01173942U (en
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP7094788U priority Critical patent/JPH0249718Y2/ja
Publication of JPH01173942U publication Critical patent/JPH01173942U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPH0249718Y2 publication Critical patent/JPH0249718Y2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Description

【考案の詳細な説明】 産業上の利用分野 本考案は半導体ウエーハ立替装置に関し、詳し
くは半導体装置の製造に使用され、複数の半導体
ウエーハをキヤリアとボート間で一括して移し替
える装置に関するものである。
[Detailed description of the invention] Industrial field of application The present invention relates to a semiconductor wafer transfer device, and more specifically, to a device that is used in the manufacture of semiconductor devices and transfers multiple semiconductor wafers at once between a carrier and a boat. be.

従来の技術 半導体装置の製造は、多数の半導体素子を形成
した半導体ウエーハ(以下単にウエーハと称す)
を種々の処理工程にて加工処理することにより行
われる。この各種処理工程のうち、例えば不純物
拡散等の熱処理工程では、上記ウエーハの片面の
みを処理するため、第14図に示すように複数の
ウエーハ1,1……をウエーハ専用保持治具(後
述のボート)上に、二枚ずつその裏面同士を密着
させて植立させた状態で定ピツチで若干傾倒させ
て整列保持するBack to Back方式が採用されて
いる。このBack to Back方式を採用した熱処理
工程とその前後工程間では、二つのウエーハ専用
保持具、即ち、複数のウエーハ1,1…を一枚ず
つその表面を同一方向に向けて定ピツチでウエー
ハ収納溝2,2……に整列収納する第15図に示
すような枠状のテフロン製キヤリア3と、複数の
ウエーハ1,1……を二枚ずつその裏面同士を密
着させて植立させた状態でウエーハ保持溝4,4
……に若干傾倒させて定ピツチで整列保持する第
16図に示すような筏状の石英ガラス製ボート5
との間で、上記ウエーハ1,1……を一括して移
し替える必要がある。
Background Art Semiconductor devices are manufactured using semiconductor wafers (hereinafter simply referred to as wafers) on which a large number of semiconductor elements are formed.
This is done by processing in various processing steps. Among these various processing steps, for example, in the heat treatment step such as impurity diffusion, only one side of the wafer is processed, so as shown in FIG. A back-to-back method is used, in which two sheets are placed on top of a boat, their backs touching each other, and then held at a fixed pitch slightly tilted to maintain alignment. During the heat treatment process using this back-to-back method and between the processes before and after it, two wafer-dedicated holders are used to store multiple wafers 1, 1, etc. one by one at a fixed pitch with their surfaces facing the same direction. A frame-shaped Teflon carrier 3 as shown in Fig. 15 is arranged and stored in the grooves 2, 2..., and a plurality of wafers 1, 1... are placed two by two with their back surfaces in close contact with each other. wafer holding grooves 4, 4
A raft-shaped quartz glass boat 5 as shown in FIG.
It is necessary to transfer the wafers 1, 1, . . . , all at once.

上記キヤリア3とボート5間でのBack to
Back方式によるウエーハ移し替えは、第17図
に示すようにキヤリア3及びボート5を位置決め
載置したキヤリアベース6及びボートベース7間
に配置されたホルダ8にて、上記キヤリア3或い
はボート5から移送されたウエーハ1,1……を
その整列状態を変更させて密着或いは分離し、そ
の後、空のボート5或いはキヤリア3へローデイ
ング或いはアンローデイングする。
Back to between carrier 3 and boat 5 above
Wafer transfer using the Back method is carried out using a holder 8 placed between a carrier base 6 and a boat base 7 on which the carrier 3 and boat 5 are positioned and placed, as shown in FIG. The wafers 1, 1, . . . are brought into close contact or separated by changing their alignment, and then loaded or unloaded onto an empty boat 5 or carrier 3.

このキヤリア3或いはボート5からホルダ8へ
のウエーハ移し替えは、上記キヤリアベース6及
びボートベース7の下方に昇降動自在に夫々設け
られたプツシヤ9,10により行われる。上記プ
ツシヤ9,10の上面には、第18図及び第20
図に示すように複数のウエーハ受け溝11,11
……12,12……がキヤリア3及びボート5で
のウエーハ整列方向に沿つて定ピツチで刻設され
ている。上記プツシヤ9,10のウエーハ受け溝
11,11……12,12……は、第19図及び
第21図に示すようにその上面に対して垂直な溝
である。尚、第20図に示すようにボート5上の
ウエーハ1,1……は、上記ボート5に対して若
干傾倒させた状態で保持させているので、ウエー
ハ1,1……の起立方向とプツシヤ10の昇降方
向とを揃えるため、ボートベース7をウエーハ傾
倒方向とは逆方向へ傾斜させて配置し、プツシヤ
10に対してボート5上のウエーハ1,1を直立
状態に保持できるようにしている。
The wafers are transferred from the carrier 3 or boat 5 to the holder 8 by pushers 9 and 10 provided below the carrier base 6 and boat base 7 so as to be movable up and down, respectively. On the upper surface of the pushers 9 and 10, there are shown figures 18 and 20.
As shown in the figure, a plurality of wafer receiving grooves 11, 11
. . . 12, 12 . . . are carved at regular pitches along the wafer alignment direction in the carrier 3 and boat 5. The wafer receiving grooves 11, 11, . . . , 12, 12, . As shown in FIG. 20, the wafers 1, 1... on the boat 5 are held in a slightly tilted state with respect to the boat 5, so the upright direction and pusher of the wafers 1, 1... 10, the boat base 7 is arranged to be inclined in the opposite direction to the wafer tilting direction, so that the wafers 1, 1 on the boat 5 can be held upright with respect to the pusher 10. .

ウエーハローデイング或いはアンローデイング
時、上記キヤリア3或いはボート5からホルダ8
へのウエーハ移し替えは、キヤリアベース6或い
はボートベース7をホルダ8の下方に移送し、そ
の上でプツシヤ9,10を上昇させ、このプツシ
ヤ9,10の突上げ動作によりキヤリア3或いは
ボート5上のウエーハ1,1……を一旦プツシヤ
9,10のウエーハ受け溝11,11……12,
12……に移し替え、更にホルダ8に移し替えて
このホルダ8にて整列保持する。
During wafer loading or unloading, the holder 8 is transferred from the carrier 3 or boat 5.
To transfer the wafer to the carrier base 6 or the boat base 7, move the carrier base 6 or the boat base 7 below the holder 8, raise the pushers 9 and 10, and push up the pushers 9 and 10 to move the carrier base 6 or the boat base 7 onto the carrier 3 or the boat 5. Once the wafers 1, 1... are placed in the wafer receiving grooves 11, 11... 12 of the pushers 9, 10,
12..., further transferred to holder 8, and held in alignment in this holder 8.

考案が解決しようとする課題 ところで、従来の半導体ウエーハ立替装置で
は、前述したようにキヤリア3或いはボート5か
らホルダ8へウエーハ1,1……を移し替えるに
際して、プツシヤ9,10上に上記ウエーハ1,
1……を整列保持した状態で移送している。この
プツシヤ9,10では、第19図及び第20図に
示すように上記ウエーハ1,1……がウエーハ受
け溝11,11……12,12……に嵌り込み易
いようにその溝幅W1,W2をウエーハ1,1……
の厚み(キヤリア側ではウエーハ一枚分、ボート
側ではウエーハ二枚分)w1,w2よりも若干大き
く設定しておく必要がある。そのため、上記ウエ
ーハ1,1……がプツシヤ9,10のウエーハ受
け溝11,11……12,12……内で直立状態
とはならず、微小角度傾倒した状態に整列保持さ
れる。尚、上記ウエーハ1,1……の整列方向が
ばらつかないように、装置全体を傾斜配置させて
上記ウエーハ1,1……をすべて一方向に傾倒さ
せている。このようにウエーハ1,1……の傾倒
が微小角度であつても、これによる上記ウエーハ
1,1……の上端縁での位置ずれが大きくなつて
しまうと、移し替え途中で、ウエーハ1,1……
の上端縁がホルダ8でのガイド溝(図示せず)に
スムーズに嵌り込まず引掛かつて上記ウエーハ
1,1……を破損するという問題があつた。
Problems to be Solved by the Invention By the way, in the conventional semiconductor wafer reloading apparatus, when transferring the wafers 1, 1, . ,
1... are being transported in a state where they are kept aligned. The pushers 9, 10 have a groove width W 1 so that the wafers 1, 1... can easily fit into the wafer receiving grooves 11, 11...12, 12... as shown in FIGS. 19 and 20. , W 2 to wafer 1, 1...
(the thickness of one wafer on the carrier side and the thickness of two wafers on the boat side) must be set slightly larger than w 1 and w 2 . Therefore, the wafers 1, 1, . . . are not held upright within the wafer receiving grooves 11, 11, 12, 12, . Incidentally, in order to prevent the alignment direction of the wafers 1, 1, . In this way, even if the wafers 1, 1... are tilted at a small angle, if the positional deviation at the upper edge of the wafers 1, 1... becomes large due to this, the wafers 1, 1... 1...
There was a problem in that the upper edge of the wafer 8 did not fit smoothly into the guide groove (not shown) of the holder 8 and got caught, causing damage to the wafers 1, 1, . . . .

そこで、本考案の目的は上記問題点を可能な限
り簡便な手段にて改善した半導体ウエーハ立替装
置を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a semiconductor wafer reloading apparatus that solves the above-mentioned problems using the simplest possible means.

課題を解決するための手段 本考案は前記問題点に鑑みて提案されたもの
で、複数のウエーハを定ピツチで整列させて保持
し、そのウエーハ整列方向に沿つて傾斜配置され
たキヤリア或いはボートから、その上方に対向配
置されたホルダにウエーハをプツシヤの突上げ動
作により一括して移し替える装置であつて、上記
プツシヤの上面に、ウエーハを定ピツチで整列保
持する複数のウエーハ受け溝を、上記キヤリア及
びボートの傾斜によるウエーハの傾倒方向とは逆
向きに微小角度傾斜させて刻設したことにより前
記目的を達成した半導体ウエーハ立替装置であ
る。
Means for Solving the Problems The present invention was proposed in view of the above-mentioned problems, and it holds a plurality of wafers aligned at a fixed pitch, and is carried out from a carrier or boat tilted along the wafer alignment direction. , is a device for transferring wafers all at once to a holder disposed above the holder by pushing up a pusher, and the upper surface of the pusher has a plurality of wafer receiving grooves for holding the wafers aligned at regular pitches. This is a semiconductor wafer stand-up device that achieves the above object by inclining the wafer at a slight angle in the opposite direction to the direction in which the wafer is tilted due to the inclination of the carrier and boat.

作 用 本考案によれば、プツシヤのウエーハ受け溝を
キヤリア及びボートの傾斜によるウエーハの傾倒
方向とは逆向きに微小角度傾斜させて刻設したか
ら、上記ウエーハ移し替え時、プツシヤのウエー
ハ受け溝に嵌り込んだウエーハは、プツシヤ上面
に対して直立状態に整列保持されてホルダに移し
替えられる。
Effect According to the present invention, since the wafer receiving groove of the pusher is inclined at a slight angle in the opposite direction to the direction in which the wafer is tilted due to the inclination of the carrier and boat, the wafer receiving groove of the pusher is The wafer that has been inserted into the pusher is held in alignment in an upright position on the upper surface of the pusher and transferred to the holder.

実施例 本考案に係る半導体ウエーハ立替装置の一実施
例を第1図乃至第13図を参照しながら説明す
る。尚、第1図及び第2図、第3図及び第4図は
キヤリア部、ボート部でのプツシヤのウエーハ受
け溝形状を、第5図乃至第7図、第8図及び第9
図は上記半導体ウエーハ立替装置のキヤリア部、
ボート部構成を、第10図乃至第13図は半導体
ウエーハ立替装置の全体構成を示す。
Embodiment An embodiment of the semiconductor wafer reloading apparatus according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 13. In addition, FIGS. 1 and 2, FIGS. 3 and 4 show the shape of the wafer receiving groove of the pusher in the carrier section and the boat section, and FIGS. 5 to 7, 8 and 9
The figure shows the carrier section of the semiconductor wafer advance equipment mentioned above.
10 to 13 show the overall structure of the semiconductor wafer reloading apparatus.

第10図乃至第13図に示す半導体ウエーハ立
替装置15は、複数のウエーハ1,1……を一枚
ずつ定ピツチでその表面を同一方向に向けてウエ
ーハ収納溝2,2……に整列収納する枠状のテフ
ロン製キヤリア3(第15図参照)が位置決め載
置された水平動自在なキヤリアベース16を有す
るキヤリア部17と、複数のウエーハ1,1……
を二枚ずつその裏面同士を密着させて植立させた
状態でウエーハ保持溝4,4……に若干傾倒させ
て定ピツチで整列保持する筏状の石英ガラス製ボ
ート5(第16図参照)が位置決め載置された水
平動自在なボートベース18を有し、上記キヤリ
ア部17に並設されたボート部19と、上記キヤ
リア部17とボート部19の中間ポジシヨンP0
上方に配置され、キヤリア3或いはボート5から
移し替えられたウエーハ1,1……を一時的に収
納保持し、二枚の上下回転ローラ20〜23を使
用して上記ウエーハ1,1……を密着或いは分離
させてその整列状態を変更する上下動自在なホル
ダ24を有するホルダ部25とでその主要部を構
成する。上記ボート部19では、第13図に示す
ようにボート5上にウエーハ1,1……を微小角
度傾倒させて整列保持しているため、ボートベー
ス18を上記ウエーハ1,1……の傾倒方向とは
逆向きに微小角度傾斜させて配置し、ウエーハ
1,1……の起立方向と後述するプツシヤの昇降
方向とを揃えている。また、この装置全体を、第
12図に示すようにウエーハ整列方向に沿う前後
方向で若干後方へ傾斜させることにより、キヤリ
ア3及びボート5を傾斜配置して、後述するよう
にウエーハ1,1……をウエーハ収納溝2,2…
…及びウエーハ保持溝4,4……内で一方向(装
置後方)に位置規制する。尚、上述したキヤリア
部17、ボート部19及びホルダ部25の各部は
制御部(図示せず)によつて後述の如く駆動制御
される。
The semiconductor wafer reloading device 15 shown in FIGS. 10 to 13 stores a plurality of wafers 1, 1, . A carrier section 17 includes a horizontally movable carrier base 16 on which a frame-shaped Teflon carrier 3 (see FIG. 15) is positioned and mounted, and a plurality of wafers 1, 1...
A raft-shaped quartz glass boat 5 (see Fig. 16) holds the wafers in two wafer holding grooves 4, 4, slightly tilted and aligned at a fixed pitch with their back sides closely touching each other. has a horizontally movable boat base 18 on which is positioned and mounted, a boat section 19 arranged parallel to the carrier section 17, and an intermediate position P 0 between the carrier section 17 and the boat section 19.
The wafers 1, 1... transferred from the carrier 3 or the boat 5 are placed above and temporarily stored and held, and the wafers 1, 1... are transferred using two vertically rotating rollers 20 to 23. Its main part is composed of a holder part 25 having a vertically movable holder 24 that can be brought into close contact with each other or separated to change its alignment state. In the boat section 19, as shown in FIG. 13, the wafers 1, 1... are tilted at a minute angle and held in alignment on the boat 5, so that the boat base 18 is moved in the direction in which the wafers 1, 1... are tilted. The wafers 1, 1, . . . are arranged at a slight angle of inclination in the opposite direction, and the direction in which the wafers 1, 1, . Further, by tilting the entire apparatus slightly backward in the front-rear direction along the wafer alignment direction as shown in FIG. 12, the carrier 3 and boat 5 are arranged at an angle, and the wafers 1, 1, . . . ...wafer storage groove 2, 2...
...and the wafer holding grooves 4, 4... to restrict the position in one direction (towards the rear of the device). The respective parts of the carrier section 17, boat section 19, and holder section 25 described above are driven and controlled by a control section (not shown) as described later.

上記キヤリア部17及びボート部19には、キ
ヤリアベース16及びボートベース18を、待機
ポジシヨンP1,P2とその中間ポジシヨンP0間で
夫々移送するベース移送機構26,27がその直
下方に配設される。また、キヤリアベース16及
びボートベース18の下部には、キヤリア3及び
ボート5とホルダ24との間でウエーハ1,1…
…を移し替える昇降動自在なプツシヤ28,29
を有するプツシヤ機構30,31を装設する。
尚、ホルダ部25後方にはホルダ24を昇降動さ
せるホルダ昇降機構32が設けられる。
Directly below the carrier section 17 and boat section 19 are base transfer mechanisms 26 and 27 that transfer the carrier base 16 and boat base 18 between standby positions P 1 and P 2 and intermediate position P 0 , respectively. will be established. Further, at the lower part of the carrier base 16 and the boat base 18, the wafers 1, 1, . . .
Pushers 28, 29 that can be moved up and down to transfer...
Pusher mechanisms 30 and 31 are installed.
Note that a holder elevating mechanism 32 for elevating and lowering the holder 24 is provided behind the holder portion 25.

この上記キヤリア部17及びボート部19の各
プツシヤ機構30,31は、第5図乃至第7図、
第8図及び第9図に示すように、テフロン製プツ
シヤ28,29をプツシヤベース33,34を介
してキヤリアベース16及びボートベース18と
一体のベースフレーム35,36にガイド軸3
7,37,38,38で上下方向に摺動自在に装
着する。上記プツシヤベース33,34には、ベ
ースフレーム35,36に固設された駆動源であ
るエアシリンダ39,40のシリンダヘツド4
1,42を連結し、このエアシリンダ39,40
の作動によりプツシヤベース33,34を介して
プツシヤ28,29を昇降動させる。
The pusher mechanisms 30 and 31 of the carrier section 17 and boat section 19 are shown in FIGS.
As shown in FIGS. 8 and 9, Teflon pushers 28 and 29 are attached to base frames 35 and 36 that are integral with the carrier base 16 and the boat base 18 via pusher bases 33 and 34 to guide shafts 3 and 3.
7, 37, 38, and 38 so as to be slidable in the vertical direction. The pusher bases 33, 34 are provided with cylinder heads 4 of air cylinders 39, 40, which are drive sources fixed to the base frames 35, 36.
1, 42 are connected, and this air cylinder 39, 40
The pushers 28 and 29 are moved up and down via the pusher bases 33 and 34 by the operation of the pushers 28 and 29.

本考案の特徴は上記プツシヤ28,29のウエ
ーハ受け溝43,43……44,44……にあ
る。尚、第1図及び第2図はキヤリア側のプツシ
ヤ28及びそのウエーハ受け溝43,43……
を、第3図及び第4図はボート側のプツシヤ29
及びそのウエーハ受け溝44,44……を示す。
上記キヤリア側とボート側とでウエーハ受け溝4
3,43……44,44……が異なるのは寸法関
係だけであるので以下まとめて説明する。
The feature of the present invention lies in the wafer receiving grooves 43, 43, . . ., 44, 44, . . . of the pushers 28, 29. 1 and 2 show the pusher 28 on the carrier side and its wafer receiving grooves 43, 43...
, Figures 3 and 4 show the pusher 29 on the boat side.
and its wafer receiving grooves 44, 44... are shown.
Wafer receiving groove 4 on the carrier side and boat side above
3, 43...44, 44... differ only in dimensional relationship, so they will be explained together below.

まず、プツシヤ28,29では、第1図及び第
2図、第3図及び第4図に示すようにその上面に
キヤリア3或いはボート5でのウエーハ整列方向
に沿つて複数のウエーハ受け溝43,43……4
4,44……が、上記キヤリア3のウエーハ収納
溝2,2……或いはボート5のウエーハ保持溝
4,4……と同一ピツチで刻設される。尚、上記
ウエーハ受け溝43,43……44,44……
は、ウエーハ1,1……の挿入が容易なようにそ
の幅方向に沿う上面エツジ部をテーパ状に形成す
ると共に、幅寸法D1,D2をウエーハ厚み(キヤ
リア側では一枚分、ボート側では二枚分)よりも
大きく設定する。本考案のウエーハ受け溝43,
43……44,44……は、上記キヤリア3或い
はボート5の傾斜によるウエーハ1,1……の傾
倒方向、即ち、装置全体を傾斜させている前後方
向(第12図参照)とは逆向きに微小角度傾斜さ
せる。装置全体からみれば、上記ウエーハ受け溝
43,43……44,44……が前方(図中A矢
印方向)へ傾斜した状態となる。例えばウエーハ
厚みが0.5mmとすれば、キヤリア側のウエーハ受
け溝43,43……では、第1図に示すように溝
幅D1を0.6mmとし、開口部及び底部で中心線lか
らの前後寸法をα1=0.35mm、β1=0.25mm、α1′=
0.25mm、β1′……0.35mmとなるように傾斜させる。
この時、その傾斜角度θ1は1゜08′となる。またボー
ト側のウエーハ受け溝44,44……では、溝幅
D2を1.2mmとし、開口部及び底部で中心線lから
の前後寸法をα2=0.7mm、β2=0.5mm、α2′=0.5mm、
β2′=0.7mmとなるようにし、その結果傾斜角度θ2
が2゜17′となる。
First, as shown in FIGS. 1, 2, 3, and 4, the pushers 28 and 29 have a plurality of wafer receiving grooves 43 on their upper surfaces along the wafer alignment direction in the carrier 3 or boat 5. 43...4
4, 44... are carved at the same pitch as the wafer storage grooves 2, 2... of the carrier 3 or the wafer holding grooves 4, 4... of the boat 5. In addition, the above-mentioned wafer receiving grooves 43, 43...44, 44...
In order to facilitate the insertion of wafers 1, 1..., the top edge along the width direction is formed into a tapered shape, and the width dimensions D 1 and D 2 are set to the wafer thickness (one wafer thickness on the carrier side, one wafer thickness on the carrier side, one wafer thickness on the carrier side, Set it larger than the size of two sheets on the side. Wafer receiving groove 43 of the present invention,
43...44, 44... are the directions in which the wafers 1, 1... are tilted due to the tilting of the carrier 3 or boat 5, that is, the direction opposite to the front-rear direction in which the entire apparatus is tilted (see FIG. 12). tilt at a small angle. When viewed from the entire apparatus, the wafer receiving grooves 43, 43, . . . , 44, 44, . . . are inclined forward (in the direction of arrow A in the figure). For example, if the wafer thickness is 0.5 mm, the wafer receiving grooves 43, 43... on the carrier side have a groove width D 1 of 0.6 mm as shown in FIG. The dimensions are α 1 = 0.35mm, β 1 = 0.25mm, α 1 ′=
Tilt it so that it becomes 0.25mm, β 1 ′...0.35mm.
At this time, the inclination angle θ 1 is 1°08'. Also, in the wafer receiving grooves 44, 44 on the boat side, the groove width is
D 2 is 1.2 mm, and the front and rear dimensions from the center line l at the opening and bottom are α 2 = 0.7 mm, β 2 = 0.5 mm, α 2 ′ = 0.5 mm,
β 2 ′=0.7mm, resulting in the inclination angle θ 2
becomes 2°17′.

上記構成からなる半導体ウエーハ立替装置15
におけるウエーハローデイング及びアンローデイ
ング時での移動替え動作を以下説明する。
Semiconductor wafer advance equipment 15 having the above configuration
The movement change operation during wafer loading and unloading will be described below.

まず、ウエーハローデイング時、複数のウエー
ハ1,1……を一枚ずつ整列収納したキヤリア3
をキヤリア部17のキヤリアベース16上に位置
決め載置する。そして上記キヤリアベース16を
中間ポジシヨンPoまでベース移送機構26によ
り移送し、その間にホルダ部25のホルダ24を
ホルダ昇降機構32によりキヤリア3の上方近傍
位置まで下降させ、キヤリア3のウエーハ1,1
……をプツシヤ機構30によりホルダ部25のホ
ルダ24に移送する。次に待機ポジシヨンP1
初期復帰させたキヤリアベース16上に、前記キ
ヤリア3のウエーハ1,1……とは逆方向を向け
た複数のウエーハ1,1……を一枚ずつ整列収納
した次のキヤリア3を半ピツチずらして位置決め
載置し、前述と同一動作を繰り返して上記ウエー
ハ1,1……をホルダ24に移送する。このホル
ダ24では上下回転ローラ20〜23を使用して
上記ウエーハ1,1……を二枚ずつその裏面同士
を密着させてその整列状態を設定する。そしてホ
ルダ24内の密着状態にあるウエーハ1,1……
を、中間ポジシヨンPoにベース移送機構27に
より移送されたボートベース18上の空のボート
5に移し替える。
First, during wafer loading, the carrier 3 stores multiple wafers 1, 1... one by one.
is positioned and placed on the carrier base 16 of the carrier section 17. Then, the carrier base 16 is transferred to the intermediate position Po by the base transfer mechanism 26, and in the meantime, the holder 24 of the holder part 25 is lowered to a position near the upper part of the carrier 3 by the holder lifting mechanism 32, and the wafers 1, 1 of the carrier 3 are moved.
... is transferred to the holder 24 of the holder section 25 by the pusher mechanism 30. Next, a plurality of wafers 1, 1, . . . facing in the opposite direction to the wafers 1, 1, . The carrier 3 is shifted by half a pitch, and the wafers 1, . In this holder 24, the above-mentioned wafers 1, 1, etc. are brought into close contact with their back surfaces two by two using vertically rotating rollers 20 to 23 to set their alignment. Then, the wafers 1, 1, which are in close contact with each other in the holder 24...
is transferred to the empty boat 5 on the boat base 18 transferred by the base transfer mechanism 27 to the intermediate position Po.

次にウエーハアンローデイング時、複数のウエ
ーハ1,1……を二枚ずつその裏面同士を密着さ
せて整列保持したボート5をボート部19のボー
トベース18上に位置決め載置する。そして上記
ボートベース18をベース移送機構27により中
間ポジシヨンPoまで移送し、その間にホルダ部
25のホルダ24をホルダ昇降機構32によりボ
ート5の上方近傍位置まで下降させ、このポジシ
ヨンPoでボート5上のウエーハ1,1……をプ
ツシヤ機構31によりホルダ部25のホルダ24
に移送する。このホルダ24では、ウエーハロー
デイング時とは逆に上下回転ローラ20〜23を
使用して二枚ずつその裏面同士が密着したウエー
ハ1,1……を一枚ずつ分離し、その後、中間ポ
ジシヨンPoにベース移送機構26により移送さ
れたキヤリアベース16上の空のキヤリア3に同
一動作を二回繰り返して移し替える。
Next, at the time of wafer unloading, a boat 5 in which a plurality of wafers 1, 1, . Then, the boat base 18 is transferred to the intermediate position Po by the base transfer mechanism 27, and in the meantime, the holder 24 of the holder part 25 is lowered to a position close to above the boat 5 by the holder lifting mechanism 32. The wafers 1, 1... are transferred to the holder 24 of the holder section 25 by the pusher mechanism 31.
Transfer to. In this holder 24, the vertically rotating rollers 20 to 23 are used to separate the wafers 1, 1, . The same operation is repeated twice and transferred to the empty carrier 3 on the carrier base 16 transferred by the base transfer mechanism 26.

上記ウエーハローデイング及びアンローデイン
グ時、中間ポジシヨンPoにてキヤリア3及びボ
ート5のウエーハ1,1……をプツシヤ機構3
0,31によりホルダ24に移し替えるに際して
は、エアシリンダ39,40の作動によりシリン
ダヘツド41,42を突出させ、ガイド軸37,
37,38,38を介してプツシヤベース33,
34を上昇させる。このプツシヤベース33,3
4の上昇に追従してプツシヤ28,29を突上げ
動作させ、キヤリアベース16及びボートベース
18の開口窓孔m、nを介してキヤリア3及びボ
ート5のウエーハ1,1……を上記プツシヤ2
8,29のウエーハ受け溝43,43……44,
44……に移し替える。このプツシヤ28,29
の突上げ動作によりプツシヤ28,29上に起立
状態で整列保持されたウエーハ1,1……をホル
ダ24内に移し替える。
During the above-mentioned wafer loading and unloading, the wafers 1, 1... of the carrier 3 and boat 5 are pushed to the pusher mechanism 3 at the intermediate position Po.
0 and 31 to the holder 24, the air cylinders 39 and 40 are operated to protrude the cylinder heads 41 and 42, and the guide shafts 37 and
Pusher base 33 via 37, 38, 38,
Raise 34. This pusher base 33,3
4, the pushers 28, 29 are pushed up, and the wafers 1, 1, .
8, 29 wafer receiving grooves 43, 43...44,
Move to 44... This Pushsia 28, 29
The wafers 1, 1, .

この時、上記プツシヤ28,29のウエーハ受
け溝43,43……44,44……に移し替えら
れたウエーハ1,1は、第1図及び第3図に破線
で示すようにウエーハ受け溝43,43……4
4,44……内で、そのa点及びb点に当接して
後方へ傾倒するように収納配置されるが、前述し
たように上記ウエーハ受け溝43,43……4
4,44……が前方へ傾斜しているため、プツシ
ヤ28,29の上面に対してウエーハ1,1……
を中心線l,lに沿つて直立状態に整列保持でき
て、上記プツシヤ28,29の昇降方向とウエー
ハ1,1……の起立方向とが一致する。したがつ
て、上記プツシヤ28,29上のウエーハ1,1
……は、ホルダ24のガイド溝に引掛かることな
くスムーズに嵌り込んで上記ホルダ24に移し替
えられる。
At this time, the wafers 1, 1 transferred to the wafer receiving grooves 43, 43, . . . , 44, 44, . ,43...4
4, 44... The wafer receiving grooves 43, 43... 4 are stored so as to be in contact with points a and b and tilted backward, but as described above, the wafer receiving grooves 43, 43... 4
Since the wafers 4, 44, . . . are tilted forward, the wafers 1, 1, . . .
The wafers 1, 1, . . . can be aligned and maintained in an upright state along the center lines 1, 1, and the direction in which the pushers 28, 29 are raised and lowered coincides with the direction in which the wafers 1, 1, . . . are raised. Therefore, the wafers 1, 1 on the pushers 28, 29
... is smoothly fitted into the guide groove of the holder 24 without being caught, and is transferred to the holder 24.

考案の効果 本考案によれば、プツシヤのウエーハ受け溝
を、キヤリア及びボートの傾斜によるウエーハ傾
倒方向とは逆向きの微小角度傾斜させたから、キ
ヤリア或いはボートからホルダへのプツシヤによ
るウエーハ移し替え時、上記プツシヤ上面に対し
てウエーハを直立状態に整列保持できてホルダ内
へスムーズに収納させることが可能となり、上記
ウエーハの破損を未然に防止でき、信頼性の高い
実用的価値大なる半導体ウエーハ立替装置を提供
できると共に製品歩留まりも大幅に向上する。
Effects of the invention According to the invention, since the wafer receiving groove of the pusher is tilted at a small angle opposite to the wafer tilting direction due to the inclination of the carrier and boat, when transferring wafers by the pusher from the carrier or boat to the holder, The wafer can be maintained in an upright position on the upper surface of the pusher, and can be smoothly stored in the holder, preventing the wafer from being damaged.It is a highly reliable semiconductor wafer reloading device with great practical value. This also greatly improves product yield.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図乃至第13図は本考案に係る半導体ウエ
ーハ立替装置の一実施例を示すためのもので、第
1図は第2図のプツシヤのウエーハ受け溝を示す
要部拡大側面図、第2図はキヤリア部のプツシヤ
を示す拡大側面図、第3図は第4図のプツシヤの
ウエーハ受け溝を示す要部拡大側面図、第4図は
ボート部のプツシヤを示す拡大側面図、第5図は
半導体ウエーハ替え装置のキヤリア部を示す拡大
側面図、第6図は第5図装置の正面図、第7図は
第5図装置の平面図、第8図は半導体ウエーハ立
替装置のボート部を示す拡大側面図、第9図は第
8図装置の正面図、第10図は半導体ウエーハ立
替装置の全体構成を示す正面図、第11図は第1
0図の平面図、第12図は第10図の側面図、第
13図は第10図装置のボート部を示す側面図で
ある。第14図はボート上でのBack to Back方
式によるウエーハを示す側面図、第15図はウエ
ーハを整列収納したキヤリアを示す斜視図、第1
6図はウエーハを整列保持したボートを示す斜視
図、第17図は従来の半導体ウエーハ立替装置の
概略構成を示す正面図、第18図キヤリア部での
プツシヤを示す側面図、第19図は第18図のプ
ツシヤのウエーハ受け溝を示す部分拡大側面図、
第20図はボート部でのプツシヤを示す側面図、
第21図は第20図のプツシヤのウエーハ受け溝
を示す部分拡大側面図である。 1……半導体ウエーハ、3……キヤリア、5…
…ボート、16……キヤリアベース、18……ボ
ートベース、24……ホルダ、28,29……プ
ツシヤ、43,44……ウエーハ受け溝。
1 to 13 are for showing one embodiment of the semiconductor wafer stand-up apparatus according to the present invention, and FIG. 1 is an enlarged side view of the main part showing the wafer receiving groove of the pusher in FIG. The figure is an enlarged side view showing the pusher in the carrier section, Figure 3 is an enlarged side view of the main part showing the wafer receiving groove of the pusher in Figure 4, Figure 4 is an enlarged side view showing the pusher in the boat part, and Figure 5 is an enlarged side view showing the pusher in the boat part. 6 is a front view of the device shown in FIG. 5, FIG. 7 is a plan view of the device shown in FIG. 5, and FIG. 8 is an enlarged side view showing the carrier section of the semiconductor wafer changing device. 9 is a front view of the apparatus shown in FIG. 8, FIG.
0 is a plan view, FIG. 12 is a side view of FIG. 10, and FIG. 13 is a side view of the boat portion of the device shown in FIG. Fig. 14 is a side view showing wafers on a boat using the back-to-back method, Fig. 15 is a perspective view showing a carrier with wafers arranged and stored, and Fig. 1
Fig. 6 is a perspective view showing a boat holding wafers in alignment, Fig. 17 is a front view showing a schematic configuration of a conventional semiconductor wafer loading device, Fig. 18 is a side view showing a pusher in the carrier section, and Fig. 19 is a A partially enlarged side view showing the wafer receiving groove of the pusher in Figure 18;
Figure 20 is a side view showing pushers in the boat section;
FIG. 21 is a partially enlarged side view showing the wafer receiving groove of the pusher shown in FIG. 20. 1... Semiconductor wafer, 3... Carrier, 5...
... Boat, 16 ... Carrier base, 18 ... Boat base, 24 ... Holder, 28, 29 ... Pusher, 43, 44 ... Wafer receiving groove.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】 複数の半導体ウエーハを定ピツチで整列させて
保持し、そのウエーハ整列方向に沿つて傾斜配置
されたキヤリア或いはボートから、その上方に対
向配置されたホルダに半導体ウエーハをプツシヤ
の突上げ動作により一括して移し替える装置であ
つて、 上記プツシヤの上面に、半導体ウエーハを定ピ
ツチで整列保持する複数のウエーハ受け溝を、上
記キヤリア及びボートの傾斜による半導体ウエー
ハの傾倒方向とは逆向きに微小角度傾斜させて刻
設したことを特徴とする半導体ウエーハ立替装
置。
[Claims for Utility Model Registration] A plurality of semiconductor wafers are arranged and held at a fixed pitch, and the semiconductor wafers are transferred from a carrier or a boat tilted along the wafer arrangement direction to a holder arranged oppositely above the carrier or boat. The device is a device that transfers the semiconductor wafers all at once by the push-up action of the pusher, and the upper surface of the pusher is provided with a plurality of wafer receiving grooves for holding the semiconductor wafers aligned at a fixed pitch in the direction in which the semiconductor wafers are tilted due to the inclination of the carrier and boat. A semiconductor wafer stand-up device characterized in that the wafer is engraved at a slight angle in the opposite direction.
JP7094788U 1988-05-27 1988-05-27 Expired JPH0249718Y2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7094788U JPH0249718Y2 (en) 1988-05-27 1988-05-27

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7094788U JPH0249718Y2 (en) 1988-05-27 1988-05-27

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH01173942U JPH01173942U (en) 1989-12-11
JPH0249718Y2 true JPH0249718Y2 (en) 1990-12-27

Family

ID=31296160

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7094788U Expired JPH0249718Y2 (en) 1988-05-27 1988-05-27

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0249718Y2 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
JPH01173942U (en) 1989-12-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5647626A (en) Wafer pickup system
US4806057A (en) Automatic wafer loading method and apparatus
KR100638942B1 (en) Device and method for handling individual wafers
JPH03125453A (en) Semiconductor wafer transfer device
JPH10284577A (en) Method for transferring substrate to be processed
JPH09172052A (en) Apparatus and method for transferring wafer
JPH0249718Y2 (en)
JP2002076094A (en) Board carrying apparatus
JPH0211489B2 (en)
JP3752414B2 (en) Substrate manufacturing apparatus and substrate manufacturing method
JP3514176B2 (en) Vertical furnace semiconductor wafer transfer equipment
JP2630366B2 (en) Loading / unloading method and loading / unloading device for plate-like body
JP2801140B2 (en) Substrate transfer device
JPS62136439A (en) Plate takeout device
JP3659724B2 (en) Substrate transport apparatus and substrate transport method
JP3909597B2 (en) Board loading / unloading device
JP2004018134A (en) Transfer/feed device for sheet, and cassette and transfer/feed method of sheet for use in the same
JPH0648858Y2 (en) Wafer storage container
JP4254980B2 (en) Wafer transfer equipment
JPS58296Y2 (en) Wafer-shaped object holder
JPS61263533A (en) Semiconductor transfer apparatus
JPH01295435A (en) Wafer transfer apparatus
JP3070202B2 (en) Wafer transfer equipment
JPH0415682Y2 (en)
JP3628865B2 (en) Substrate processing equipment