JP2519079B2 - Wafer cassette lifting device - Google Patents

Wafer cassette lifting device

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【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は、ウエハカセット昇降装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Object of the Invention (Field of Industrial Application) The present invention relates to a wafer cassette lifting device.

(従来の技術) 一般に、半導体製造装置においては、ウエハカセット
を使用し、このウエハカセットに半導体ウエハを搬入し
たり、また半導体ウエハを搬出したりする。
(Prior Art) Generally, in a semiconductor manufacturing apparatus, a wafer cassette is used, and a semiconductor wafer is loaded into or unloaded from the wafer cassette.

そして、上記半導体ウエハの搬送に際し、所定の搬送
位置に上記半導体ウエハを位置させるために、例えばウ
エハカセットを昇降する。
Then, when the semiconductor wafer is transferred, for example, a wafer cassette is moved up and down to position the semiconductor wafer at a predetermined transfer position.

このウエハカセットには例えば25枚程度の半導体ウエ
ハが所定の間隔を保って多段に収納されており、上記半
導体ウエハを破損させることなく確実に搬出するために
は、上記ウエハカセットを高精度で位置決め停止させる
必要がある。
In this wafer cassette, for example, about 25 semiconductor wafers are stored in a multi-tiered manner at a predetermined interval. In order to reliably carry out the semiconductor wafers without damaging the semiconductor wafers, the wafer cassettes are accurately positioned. Need to stop.

このため、従来、ウエハカセットを昇降する装置の駆
動モータなどを制御して所定位置直前に相対速度を遅く
して停止精度を高めたりしていた。
For this reason, conventionally, the driving accuracy of the apparatus for raising and lowering the wafer cassette has been controlled to reduce the relative speed immediately before the predetermined position to improve the stopping accuracy.

また、ウエハカセットを昇降するものではないが、所
定位置において昇降速度を変化させる技術として、例え
ば特開昭61−13640号公報にて開示されたものがある。
Further, as a technique for changing the ascending / descending speed at a predetermined position, which is not for elevating the wafer cassette, for example, there is one disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 61-13640.

(発明が解決しようとする課題) しかしながら、上述の従来技術には次のような問題が
ある。
(Problems to be Solved by the Invention) However, the above-described conventional technique has the following problems.

前者の場合には停止位置の正確な制御を必要とし、後
者の場合には、昇降駆動用の回転軸自身に所定の速度変
化が得られるようなカム溝を形成する構成のため、回転
軸の加工がめんどうであり、また停止位置の変更に対応
でき難い。
In the former case, accurate control of the stop position is required, and in the latter case, the rotation shaft for lifting and lowering drive itself has a cam groove for obtaining a predetermined speed change. It is difficult to process and it is difficult to deal with changing the stop position.

本発明は上述の従来事情に対処してなされたもので、
簡単な構成で位置決め精度が高いウエハカセット昇降装
置を提供しようとするものである。
The present invention has been made in response to the above conventional circumstances,
An object of the present invention is to provide a wafer cassette lifting / lowering device having a simple structure and high positioning accuracy.

〔発明の構成〕[Structure of Invention]

(課題を解決するための手段) すなわち本発明は、ウエハカセット保持体の一部と滑
合する螺旋状の溝を有する回転軸を回転させて、上記ウ
エハカセット保持体を移動し位置決めするウエハカセッ
ト昇降装置において、上記回転軸が回転中に、この回転
軸を軸方向に移動する手段を備えたことを特徴とする。
(Means for Solving the Problems) That is, the present invention is a wafer cassette that moves and positions the wafer cassette holder by rotating a rotary shaft having a spiral groove that slides with a part of the wafer cassette holder. The lifting device is characterized in that it comprises means for axially moving the rotary shaft while the rotary shaft is rotating.

(作 用) 本発明ウエハカセット昇降装置では、ウエハカセット
保持体を昇降する回転軸を、回転中に軸方向に移動する
手段を備えているので、上記回転軸によるウエハカセッ
ト保持体の昇降速度を可変できる。
(Operation) The wafer cassette lifting / lowering device of the present invention is provided with means for moving the rotating shaft for lifting / lowering the wafer cassette holder in the axial direction during rotation. Can be changed.

(実施例) 以下、本発明ウエハカセット昇降装置を半導体ウエハ
用インデクサーに適用した一実施例を図面を参照して説
明する。
(Embodiment) An embodiment in which the wafer cassette lifting device of the present invention is applied to a semiconductor wafer indexer will be described below with reference to the drawings.

基台(1)には、例えば棒状の支持材A(2)が立設
して下端が取着されており、またこの支持材A(2)の
上端部にはゴムベルト(3)などを使用して半導体ウエ
ハ(4)を基台(1)と平行に載置搬送する搬送機構A
(5)が設けられている。
For example, a rod-shaped support member A (2) is erected on the base (1) and the lower end thereof is attached, and a rubber belt (3) or the like is used at the upper end of the support member A (2). And a transfer mechanism A for mounting and transferring the semiconductor wafer (4) in parallel with the base (1).
(5) is provided.

次に、上記支持材A(2)の近傍にはこの支持材A
(2)と平行に回転軸(6)が立設されており、その上
端部は支持材A(2)に下端部は基台(1)に回転自在
で所定距離上下動可能なように取着されている。
Next, in the vicinity of the support material A (2), the support material A
A rotating shaft (6) is erected parallel to (2), and the upper end of the rotating shaft (6) is rotatably supported by the support member A (2) and the lower end thereof is rotatably supported by the base (1) so as to be vertically movable a predetermined distance. It is worn.

また、上記回転軸(6)の表面部分には所定の寸法の
螺旋状の溝(7)が形成されている。例えば、1/2回転
で上記所定距離上下動するように形成しておく。この回
転軸(6)の例えば基台(1)側には、この基台(1)
に取着された回転駆動手段例えばモータ(8)の軸に取
付けられた歯車A(9)と噛合う歯車B(10)が取着さ
れており、モータ(8)を回転することにより上記回転
軸(6)が回転するように構成されている。
A spiral groove (7) having a predetermined size is formed on the surface of the rotary shaft (6). For example, it is formed so as to move up and down by the predetermined distance in 1/2 rotation. For example, on the side of the base (1) of the rotating shaft (6), the base (1)
The gear B (10) meshing with the gear A (9) attached to the shaft of the motor (8) is attached to the rotation driving means attached to the above, and the rotation is performed by rotating the motor (8). The shaft (6) is arranged to rotate.

さらに、回転軸(6)の歯車B(10)の下部には、こ
の回転軸(6)を回転中に軸方向に移動する手段例え
ば、上記回転軸(6)に取着され、その周縁部を第2
図,第3図に示すように90度毎に所定の2組の凹凸形状
に形成された立体カム(11)と、基台(1)側に取着さ
れ上記立体カム(11)の周縁部に当接回転するローラー
(12)とが設けられている。そして、回転軸(6)を回
転することにより上記立体カム(11)も回転し、この立
体カム(11)の周縁部の凹凸に対応して回転軸(6)が
軸方向に上下移動する。
Further, at the lower part of the gear B (10) of the rotary shaft (6), means for moving the rotary shaft (6) in the axial direction during rotation, for example, the rotary shaft (6) is attached, and the peripheral portion thereof is attached. The second
As shown in FIG. 3 and FIG. 3, two sets of three-dimensional cams (11) each having a predetermined concave-convex shape are formed every 90 degrees, and a peripheral portion of the three-dimensional cam (11) attached to the base (1) side. And a roller (12) for contacting and rotating with. Then, by rotating the rotating shaft (6), the three-dimensional cam (11) also rotates, and the rotating shaft (6) moves up and down in the axial direction corresponding to the unevenness of the peripheral portion of the three-dimensional cam (11).

なお、例えば歯車B(10)には、回転軸(6)を中心
にして180度ずれた相対する位置に2個のセンサー板(1
3)が取付けられており、このセンサー板(13)をセン
サー(14)で検出してモータ(8)の回転を停止するご
とく構成されている。
In addition, for example, the gear B (10) has two sensor plates (1
3) is attached, and the sensor plate (13) is detected by the sensor (14) to stop the rotation of the motor (8).

次に、歯車B(10)上方側には、回転軸(6)に形成
された螺旋状の溝(7)に滑合し、かつ支持材A(2)
に摺動可能に取着された昇降部材(15)と、ウエハカセ
ット(図示せず)を載置するテーブル(16)とからなる
ウエハカセット保持体(17)が設けられている。このウ
エハカセット保持体(17)は回転軸(6)の回転および
上下動に対応して昇降する。
Next, on the upper side of the gear B (10), the support member A (2) is slidably engaged with the spiral groove (7) formed in the rotary shaft (6).
There is provided a wafer cassette holder ( 17 ) comprising a vertically movable member (15) slidably attached to the table and a table (16) on which a wafer cassette (not shown) is placed. The wafer cassette holder ( 17 ) moves up and down in response to the rotation and vertical movement of the rotary shaft (6).

上記テーブル(16)は、概略H字の形状に形成されて
おり、中央部付近で昇降部材(15)に取着されている。
The table (16) is formed in an approximately H shape, and is attached to the elevating member (15) near the center.

一方、基台(1)の回転軸(6)側には、例えば棒状
の支持材B(18)が立設され下端が取着されており、ま
たこの支持材B(18)の上端部には、支持材A(2)と
同様に半導体ウエハ(4)を基台(1)と平行に載置搬
送する搬送機構B(19)が設けられている。そして、上
記支持材A(2)の搬送機構A(5)と支持材B(18)
の搬送機構B(19)との中間には、テーブル(16)に載
置されたウエハカセット(図示せず)が通過可能なよう
に空間が設けられている。また、上記テーブル(16)
は、上記搬送機構A(5),B(19)の周辺近傍を通過可
能に構成されている。
On the other hand, on the rotary shaft (6) side of the base (1), for example, a rod-shaped support member B (18) is erected and the lower end is attached, and the upper end of this support member B (18) is attached. Is provided with a transfer mechanism B (19) for mounting and transferring the semiconductor wafer (4) in parallel with the base (1) similarly to the support material A (2). Then, the transport mechanism A (5) for the support material A (2) and the support material B (18)
A space is provided in the middle of the transfer mechanism B (19) so that a wafer cassette (not shown) placed on the table (16) can pass therethrough. Also, the above table (16)
Is configured to be able to pass in the vicinity of the periphery of the transport mechanisms A (5) and B (19).

次に動作を説明する。 Next, the operation will be described.

先ず、ウエハカセット(図示せず)内に半導体ウエハ
(4)を収納する場合について説明する。
First, the case where the semiconductor wafer (4) is stored in a wafer cassette (not shown) will be described.

一般にウエハカセット(図示せず)内には半導体ウエ
ハ(4)を収納保持するために所定のピッチ間隔で収納
用の溝が設けられており、ある半導体ウエハ(4)を収
納し終ると次の半導体ウエハ(4)を収納可能な状態に
なるように、上記所定のピッチ間隔距離だけ例えばウエ
ハカセット(図示せず)を上昇させる。
Generally, a wafer cassette (not shown) is provided with grooves for accommodating semiconductor wafers (4) at a predetermined pitch for accommodating and holding the semiconductor wafers (4). For example, a wafer cassette (not shown) is raised by the predetermined pitch distance so that the semiconductor wafer (4) can be stored.

すなわち、第1図において、モータ(8)を動作させ
て回転軸(6)を回転することによりウエハカセット保
持体(17)つまりウエハカセット(図示せず)を上昇さ
せる。この時、もし回転軸(6)のみによる上昇の場合
には第4図に示すように、ウエハカセット(図示せず)
の上昇過程は螺旋状の溝(7)による高さの変化と同様
になり、回転軸(6)が180度回転つまり1/2回転で高さ
が例えば4に1ピッチ上昇し、360度回転つまり1回転
で高さが8に2ピッチ上昇し、直線的に変化する。
That is, in FIG. 1, the motor (8) is operated to rotate the rotary shaft (6) to raise the wafer cassette holder ( 17 ), that is, the wafer cassette (not shown). At this time, if only the rotating shaft (6) is used for lifting, as shown in FIG. 4, a wafer cassette (not shown) is used.
The ascending process is the same as the height change due to the spiral groove (7), and the rotating shaft (6) rotates 180 degrees, that is, 1/2 turn increases the height by 1 pitch to 4, for example, and rotates 360 degrees. That is, the height increases by 2 pitches to 8 with one rotation, and changes linearly.

一方、立体カム(11)の回転による上記回転軸(6)
の高さの変化は、ウエハカセット(図示せず)の停止位
置つまり上記立体カム(11)がローラー(12)と当接し
た状態で停止する位置を例えば立体カム(11)の周縁部
凹凸の高低差H(31)の中央に設定した場合、第5図に
示すように回転に対応して変化する。停止時の高さを基
準0とすると例えば±0.5の高さ範囲内で回転に対応し
て上下動する、言いかえれば回転軸(6)を上下動させ
る。
On the other hand, the rotating shaft (6) by the rotation of the solid cam (11)
Changes in the height of the wafer cassette (not shown), that is, the position at which the three-dimensional cam (11) is stopped in contact with the roller (12), for example, the unevenness of the peripheral edge of the three-dimensional cam (11). When it is set at the center of the height difference H (31), it changes corresponding to the rotation as shown in FIG. When the height at the time of stop is 0 as a reference, for example, it moves up and down corresponding to the rotation within a height range of ± 0.5, in other words, the rotation shaft (6) is moved up and down.

したがって、実際のウエハカセット保持体(17)つま
りウエハカセット(図示せず)の上昇過程は上記回転軸
(6)と立体カム(11)による上下動作用を合成したも
のになる。
Therefore, the actual ascending process of the wafer cassette holder ( 17 ), that is, the wafer cassette (not shown), is a combination of the vertical movement by the rotary shaft (6) and the solid cam (11).

すなわち、第6図に示すように、破線で示す回転軸
(6)のみによる直線的な高さの変化(61)に対して、
停止位置0から回転角度90度までの間は、立体カム(1
1)が回転軸(6)を下げようと作用するので下向きに
彎曲した変化をし、回転角度90度から180度までの間は
立体カム(11)が回転軸(6)を上げようと作用するの
で上向きに彎曲した変化を呈する。
That is, as shown in FIG. 6, with respect to the linear height change (61) due to only the rotation axis (6) indicated by the broken line,
The solid cam (1
Since 1) acts to lower the rotating shaft (6), it makes a downward bending change, and the solid cam (11) acts to raise the rotating shaft (6) between the rotation angles of 90 degrees and 180 degrees. As it does, it exhibits an upward curve.

特に、回転角度0度,180度の位置付近の前後、すなわ
ちウエハカセット(図示せず)内に半導体ウエハ(4)
を収納するための所定の停止1ピッチ位置付近では、回
転軸(6)の回転角度の変化に対して上昇高さの変化は
緩やかである。そのため、センサー(14)でセンサー板
(13)を検知してモータ(8)の回転動作を停止して回
転軸(6)を停止する精度にバラツキがあった場合で
も、ウエハカセット(図示せず)を高精度で位置決めす
ることが可能となる。ウエハカセット(図示せず)に設
けられた半導体ウエハ収納用の溝の隣り同士のピッチ間
隔は例えば3/16インチ(約4.76mm)程度と狭いので高精
度の位置決めが必要であるが、上記説明のように直線的
な高さ変化の場合に比べて対応は容易となる。
Particularly, the semiconductor wafer (4) is placed before and after the position near the rotation angle of 0 ° and 180 °, that is, in the wafer cassette (not shown).
In the vicinity of a predetermined stop 1 pitch position for housing the, the change in the rising height is gentle with respect to the change in the rotation angle of the rotating shaft (6). Therefore, even if the accuracy of stopping the rotation operation of the motor (8) and the rotation shaft (6) by detecting the sensor plate (13) by the sensor (14) varies, the wafer cassette (not shown) ) Can be positioned with high accuracy. The pitch interval between adjacent grooves for storing semiconductor wafers provided in a wafer cassette (not shown) is narrow, for example, about 3/16 inch (about 4.76 mm), so high-precision positioning is required. As compared with the case where the height changes linearly as shown in FIG.

上記動作を回転軸(6)の1/2回転、つまり1ピッチ1
80度回転毎にくり返し、搬送機構A(5),B(19)によ
って搬送されてきた半導体ウエハ(4)をウエハカセッ
ト(図示せず)内に収納する。
The above operation is performed 1/2 rotation of the rotation axis (6), that is, 1 pitch 1
The semiconductor wafer (4), which is repeatedly carried out every 80 ° rotation and carried by the carrying mechanisms A (5) and B (19), is housed in a wafer cassette (not shown).

次に、ウエハカセット(図示せず)内に収納されてい
る半導体ウエハ(4)を搬出する場合には例えば回転軸
(6)を収納時の回転方向とは逆に回転させてウエハカ
セット(図示せず)を所定の間隔距離だけ下降させて、
半導体ウエハ(4)を搬送機構A(5),B(19)に載置
して搬出する。
Next, when the semiconductor wafer (4) stored in the wafer cassette (not shown) is unloaded, for example, the rotation shaft (6) is rotated in the opposite direction to the rotation direction at the time of storage and the wafer cassette (see FIG. (Not shown) is lowered by a predetermined distance,
The semiconductor wafer (4) is placed on the transfer mechanisms A (5) and B (19) and unloaded.

この場合においても、第6図に示すようにウエハカセ
ット(図示せず)の高さが変化するので、停止位置決め
精度は高い。
Even in this case, since the height of the wafer cassette (not shown) changes as shown in FIG. 6, the stop positioning accuracy is high.

なお、上記実施例では、回転軸(6)の螺旋状の溝
(7)をウエハカセット(図示せず)の溝ピッチ間隔に
対応して、回転軸(6)の1/2回転で1ピッチ間隔変化
するように形成したが、本発明はかかる実施例に限定さ
れるものではなく、例えば回転軸(6)の1回転で1ピ
ッチ間隔変化するように形成してもよい。
In the above-described embodiment, the spiral groove (7) of the rotary shaft (6) corresponds to the groove pitch interval of the wafer cassette (not shown), and the pitch is 1/2 pitch of the rotary shaft (6) for one pitch. Although the distance is changed, the present invention is not limited to such an embodiment, and the distance may be changed by one pitch for one rotation of the rotary shaft (6).

また、回転軸(6)を上下動する立体カム(11)につ
いても、例えばハート形状の平板カムを使用して上下動
させるように構成してもよい。
Further, the solid cam (11) that vertically moves the rotating shaft (6) may also be configured to vertically move by using, for example, a heart-shaped flat plate cam.

なお、上記回転軸(6)の螺旋状の溝(7)は同一ピ
ッチにて形成するので従来例のような可変ピッチの場合
と比べて製作は簡単で低コストであり、また高さの変化
は、立体カム(11)の形状を変更することにより種々可
変することができる。
Since the spiral grooves (7) of the rotary shaft (6) are formed at the same pitch, the manufacturing is simpler and less costly than the conventional case of variable pitch, and the height changes. Can be variously changed by changing the shape of the three-dimensional cam (11).

上記説明から分るように、本発明ウエハカセット昇降
装置の機構は優れた位置決め精度が得られるので、上記
のように半導体ウエハ用インデクサーに適用できる他、
例えばXYステージなどの位置決め装置に適用して有効で
ある。
As can be seen from the above description, since the mechanism of the wafer cassette lifting / lowering device of the present invention can obtain excellent positioning accuracy, it can be applied to the indexer for semiconductor wafer as described above.
For example, it is effective when applied to a positioning device such as an XY stage.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

上述のように本発明ウエハカセット昇降装置によれ
ば、簡単な構成で高精度の位置決めが可能となる。
As described above, according to the wafer cassette lifting / lowering device of the present invention, highly accurate positioning is possible with a simple structure.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は、本発明ウエハカセット昇降装置を半導体ウエ
ハ用インデクサーに適用した一実施例を示す構成図、第
2図,第3図は第1図の一構成部分の説明図、第4図,
第5図,第6図は第1図の動作説明図である。 6……回転軸、7……螺旋状の溝、 11……立体カム、12……ローラー、17 ……ウエハカセット保持体。
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment in which the wafer cassette lifting / lowering device of the present invention is applied to an indexer for semiconductor wafers, and FIGS. 2 and 3 are explanatory views of one component of FIG. 1, FIG.
5 and 6 are explanatory views of the operation of FIG. 6 ... Rotary axis, 7 ... Helix groove, 11 ... Solid cam, 12 ... Roller, 17 ... Wafer cassette holder.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】ウエハカセット保持体の一部と滑合する螺
旋状の溝を有する回転軸を回転させて、上記ウエハカセ
ット保持体を移動し位置決めするウエハカセット昇降装
置において、 上記回転軸が回転中に、この回転軸を軸方向に移動する
手段を備えたことを特徴とするウエハカセット昇降装
置。
1. A wafer cassette lifting device for moving and positioning the wafer cassette holder by rotating a rotary shaft having a spiral groove that slides with a part of the wafer cassette holder. A wafer cassette lifting / lowering device, characterized in that it is provided with means for axially moving the rotary shaft.
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