JPS5931192A - Support for planographic printing plate - Google Patents

Support for planographic printing plate

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Publication number
JPS5931192A
JPS5931192A JP11464382A JP11464382A JPS5931192A JP S5931192 A JPS5931192 A JP S5931192A JP 11464382 A JP11464382 A JP 11464382A JP 11464382 A JP11464382 A JP 11464382A JP S5931192 A JPS5931192 A JP S5931192A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
printing plate
iron
chromium
acid
iron material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11464382A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Norihito Suzuki
鈴木 則人
Takeshi Yamamoto
毅 山本
Toru Aoki
亨 青木
Kazuo Iwaki
和男 岩城
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
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Priority to EP83303766A priority patent/EP0098166A3/en
Publication of JPS5931192A publication Critical patent/JPS5931192A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41MPRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M1/00Inking and printing with a printer's forme
    • B41M1/10Intaglio printing ; Gravure printing
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41NPRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N1/00Printing plates or foils; Materials therefor
    • B41N1/04Printing plates or foils; Materials therefor metallic
    • B41N1/08Printing plates or foils; Materials therefor metallic for lithographic printing

Abstract

PURPOSE:To obtain a support for a planographic printing plate excellent in latitude of developability and printing durability, by using an iron material with center line average roughness of 0.1-3mum as an iron material on which a cromium electrodeposition layer is formed. CONSTITUTION:As an iron material used as a base material, a plate shaped one which may be made of an iron alloy such as carbon steel or special steel other than pure iron and subjected to surface roughening treatment so as to bring the center line average roughness (Ra) thereof to 0.1-3mum is used. Surface roughening may be performed by either one of a mechanical method, a chemical method and an electrolytic method. A chromium electrodeposition layer having protruded parts formed on the iron material has, for example, polygonal crystal substance and/or the agglomerate thereof and pref. has a thickness of 0.01- 10mum and can be formed by a method wherein the iron material is subjected to electrolytic treatment in a plating liquid having the ratio of Cr<6+> ion concn. and sulfate ion concn. of 75-18 at current density of 100A/dm<2> or less and a temp. of 40 deg.C or less for 30sec or more.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は平版印刷版用支持体に関し、詳しくは表面が粗
面化され、た鉄材上にクロム電着層を有する平版印刷版
用支持体に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a support for a lithographic printing plate, and more particularly to a support for a lithographic printing plate having a roughened surface and a chromium electrodeposited layer on an iron material.

平版印刷版用支持体としで、電気鋳造法によって製造さ
nる鉄箔等表面が粗面化さnた鉄材が用いられることが
特開昭56−1:50395号、同56−133396
号、同56−1505ソ2号及び同57−64597号
の各公報において知らnている。
It is disclosed in JP-A-56-1:50395 and JP-A-56-133396 that iron materials with roughened surfaces, such as iron foil manufactured by electroforming, are used as supports for lithographic printing plates.
No. 56-1505 So2 and No. 57-64597.

しかしながら、これらの支持体を使用した平版印刷版は
、長期印刷中に11!11瑯t4ζか−ffds剥蔭し
たすして耐刷性が充分でないといった欠点や、現像に際
して、自IJ<+IJ9.像機を用いずスポンジに現像
液を含ませて版を擦って現像するいわゆる1手現像”な
どにより画線部の損傷故障が起きやすいといった問題、
即ち現像性の寛容度が挟いという問題を有している。
However, lithographic printing plates using these supports have drawbacks such as insufficient printing durability due to peeling of 11! Problems such as "one-hand development" in which development is done by soaking a sponge in developer and rubbing the plate without using an imager can easily cause damage to the image area.
That is, there is a problem that the latitude of development is limited.

従って本発明の目的は、現像性の寛容度及び耐刷性にお
いて充分な性能を有する平版印刷版に刺した支持体を提
供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to provide a support for lithographic printing plates having sufficient performance in terms of developability latitude and printing durability.

本発明の他の目的は明細書の記載から明らかとなろう。Other objects of the invention will become apparent from the description.

本発明の目的は中心線平均粗さく 1.La )か01
〜38mである鉄材上に突起部を有するクロム電H”1
層を有することを特徴とする平版印刷版用tr=1体に
よって達成される。
The object of the present invention is to improve the centerline average roughness.1. La ) or 01
Chrome electric H”1 with protrusions on iron material with a length of ~38m
This is achieved by a lithographic printing plate tr=1 body characterized by having a layer.

本発明について更に詳細に説明する。The present invention will be explained in more detail.

本発明における鉄材の素材としては純鉄の他鉄と他の元
素との合金を包含する。鉄と合金をつくる他の元素とし
ては炭素、マンガン、ニッケル等が挙げられ、る。
In the present invention, the iron material includes pure iron and alloys of iron and other elements. Other elements that form alloys with iron include carbon, manganese, and nickel.

合金としては、具体的には炭素41′・1(炭素(00
4〜1.7%〕と鉄の合金う、炭素縛より炭素含イ1半
+7)高い鋳鉄、更に他の元素(例えはマンガン、ニッ
ケル、クロム、コバルト、タングステン、モリブデン等
)を加えた特殊沖1(例えばマンカン鋼、ニッケル鋼、
クロム鋼、ニッケルークロム鋼等)等が挙げらnる。上
記炭禦鋼と[7ては、極状ζ萌(炭素0.25%以下〕
、軟鋼(0,’25〜0.5%)、硬鋼(炭素0.5〜
1.0%) 、N! W ?i!! (炭素1.0%以
上)か包含される。
Specifically, the alloy is carbon 41'.1 (carbon (00
Cast iron has a higher carbon content (1.5% + 7%) than carbon bound, and special alloys containing other elements (such as manganese, nickel, chromium, cobalt, tungsten, molybdenum, etc.) Oki 1 (e.g. Mankan steel, nickel steel,
chromium steel, nickel-chromium steel, etc.). The above-mentioned carbon steel and [7] polar ζ moe (carbon 0.25% or less)
, mild steel (0,'25~0.5%), hard steel (carbon 0.5~0.5%),
1.0%), N! W? i! ! (carbon 1.0% or more) is included.

本発明の鉄材としては、圧延法、′4気鋳造法等により
製造された板状(箔状のものを含む。〕のものが使用”
できる。
The iron material used in the present invention is a plate-like material (including a foil-like material) manufactured by a rolling method, a 4-gas casting method, etc.
can.

本発明における鉄材は、その中心線平均粗さくRaか0
.1〜3μmであるが、ここに中心線平均粗さく R,
a )とは、D工N4768に示されるように組さ…1
mにおける中心線からの該曲線上の各点の偏差の絶対値
の平均であり、横方向の中心線をX軸とし、縦方向をY
軸とし、粗さ曲線上の点を(工ry)で表わしたとき、
測定長さemについて下記式で求められるRa 4Mを
ミクロン単位で表わしたものである。
The iron material in the present invention has a center line average roughness of Ra or 0.
.. 1 to 3 μm, but here the center line average roughness R,
a) means assembled as shown in D-work N4768...1
It is the average of the absolute value of the deviation of each point on the curve from the center line at m, where the horizontal center line is the X axis and the vertical direction is the Y axis.
When the point on the roughness curve is expressed as the axis,
It is expressed in microns as Ra 4M, which is determined by the following formula for the measurement length em.

本発明の鉄材の几aは好ましくは0.3〜2μmであり
、特に0.3〜1.5μmの場合が保水性の点で好まし
い。
The diameter a of the iron material of the present invention is preferably 0.3 to 2 μm, and particularly preferably 0.3 to 1.5 μm from the viewpoint of water retention.

かかる中心線平均粗さの鉄材を製造する方法としては、
従来知られた種々の方法が使用でき、例えば機械的方法
、化学的方法、電解による方法が挙げらnる。機械的方
法としては例えはボールイIJ1磨法、ブラシ研磨法、
液体ホーニングによる研磨法等か挙げられる。化学的方
法としては硫酸、リン酸、硝酸、@酸、シュウ酸、ピロ
リン酸、塩化第1鉄、過酸化水素等を含む溶液でエツチ
ングする方法が挙げらγする。電解による方法としては
’[[t。
As a method for manufacturing iron materials with such center line average roughness,
Various conventionally known methods can be used, including mechanical methods, chemical methods, and electrolytic methods. Examples of mechanical methods include ball IJ1 polishing method, brush polishing method,
Examples include a polishing method using liquid honing. Chemical methods include etching with a solution containing sulfuric acid, phosphoric acid, nitric acid, @acid, oxalic acid, pyrophosphoric acid, ferrous chloride, hydrogen peroxide, etc. As a method using electrolysis, '[[t.

解によりエツチングする方法及び電解によりめっきする
方法が挙げられる。電解によりエツチングする方法とし
ては、リン酸、硫酸、過塩素酸、塩酩、硝酸、ピロリン
酸、フッ酸、無水酢酸等を含む溶液を用いてエツチング
する方法が挙げられ4、。
Examples include a method of etching by electrolytic solution and a method of plating by electrolysis. Examples of the electrolytic etching method include a method of etching using a solution containing phosphoric acid, sulfuric acid, perchloric acid, salt alcohol, nitric acid, pyrophosphoric acid, hydrofluoric acid, acetic anhydride, etc.4.

i!解によりめっきする方法としては硫酸塩浴、塩化物
浴、ホウ7ツ化物浴、混合塩浴(例えば硫酸塩塩化物浴
」スルファミン酸21≧l鉄浴等の酸性浴を用いる方法
が挙げられる。粗面化さnた鉄材の製造にあたっては鉄
相の組成等に応じて上述の各種方法を適宜選択して使用
することができる。本発明において特に好まし、いのは
iK FWによりめっきする方法である。
i! Methods for plating by solution include methods using acidic baths such as sulfate baths, chloride baths, boroptide baths, mixed salt baths (for example, sulfate chloride baths, sulfamic acid 21≧l iron baths). In producing the roughened iron material, the above-mentioned various methods can be appropriately selected and used depending on the composition of the iron phase, etc. Particularly preferred in the present invention is the method of plating with iK FW. It is.

本発明における鉄材はRaが01〜3μmであり、特に
ベルテン社製ベルトメータータイプ35Fで測定した切
断線04μmにおけるバリーカウントT。
The iron material in the present invention has an Ra of 01 to 3 μm, and especially a burry count T at a cutting line of 04 μm measured with a Belten belt meter type 35F.

が300〜]、 500のものが好ましい。ここにT、
は粗さプロファイルRにおいてセットした切断線を越え
、その後、中心線より下にさがったピークの1インチ当
りの数である。
is preferably 300 to 500. T here,
is the number of peaks per inch that cross the cut line set in the roughness profile R and then fall below the center line.

上述の粗面化された鉄材はRaか前述の範囲内にあれば
、突起部を有するクロムrrt、 s層を設けるのに先
だって粗面化され、た鉄材に表向処理を施してもよい。
As long as the Ra of the above-mentioned roughened iron material is within the above-mentioned range, surface treatment may be applied to the roughened iron material prior to providing the chromium rrt, s layer having protrusions.

該表面処理としては例えは叱鉛、ニッケル、銅、錫、ク
ロム等を電気めっき、化学めっき、溶融めっき、気相め
っき等によりめっきする方法、リン酸塩、シュウ酸塩、
クロム酸塩等による皮膜化成法(電解による方法でもよ
い。)等が挙げら71.る。
Examples of the surface treatment include methods of plating lead, nickel, copper, tin, chromium, etc. by electroplating, chemical plating, hot-dip plating, vapor phase plating, etc., phosphates, oxalates,
71. Film formation methods using chromate, etc. (methods using electrolysis may also be used), etc. Ru.

又、R[面化さnた鉄材が例えは電、気幼漬法により製
造さn、た箔の如く薄い場合には金匡板、プラスチック
フィルム等を直接または接着層を介して裏面に貼り合わ
せてもよい。この貼り−合わゼ工程は突起部を有するク
ロム電着層を設ける工程の前であっても後であってもよ
い。
In addition, if the surface-surfaced iron material is as thin as a foil, for example, made by electric or pneumatic incubation, a metal plate, plastic film, etc. may be attached to the back surface directly or through an adhesive layer. May be combined. This bonding step may be performed before or after the step of providing the chromium electrodeposition layer having protrusions.

以上述べた粗面化さnた鉄材に表面処理を1iffi 
L。
Surface treatment is applied to the roughened iron material mentioned above.
L.

たちの及び裏面に金属板等を貼り合わせたものも本発明
の鉄材に包゛含さnる。
Iron materials of the present invention also include materials in which metal plates or the like are bonded to the front and back surfaces.

本発明の平版印刷版用支持体における突起部を有するク
ロム電着層について以下説明する。
The chromium electrodeposition layer having protrusions in the lithographic printing plate support of the present invention will be explained below.

クロム電着層は平版印刷版用支持体のルaを前述の範囲
内に保つ限りにおいて種々のものを用いることができる
Various types of chromium electrodeposited layer can be used as long as the lua of the lithographic printing plate support is maintained within the above-mentioned range.

クロム電着層の突起部の形状として好ましいものとして
は例えば小さい丸形突出部のある曲面状のやや凝集した
、だ内体状粒子が融合的に凝氾した集合体であって、該
集合体には角が実際上ない例えば特開昭55−1451
93号公報に記載のもの、並びに角のある結晶状物及び
/又はその彰集体821えは本出願人の昭Jul 57
年6月18日出加の符加11r(57−号明細書(発明
の名称「平版印刷版用支持体」2に記載のものが拳げら
れ、る。特に、角のある結晶状物及び/又はそのに集体
を有するクロム″r#J、着層が平版印刷版σ)耐刷性
、現像性の寛容L(Qにおいて、より優れており好まし
い。角のある結晶状物としては板状または6面体状例え
は立方体状のものが好ましい。
A preferred shape of the protrusions of the chromium electrodeposited layer is, for example, an aggregate of curved, slightly agglomerated duct-shaped particles with small round protrusions, which are fused and flooded. For example, JP-A-55-1451 has virtually no corners.
No. 93, as well as angular crystals and/or collections thereof 821 and the applicant's Sho Jul 57
On June 18, 2003, the product described in the specification No. 57-2 (title of the invention "Support for lithographic printing plate") was disclosed. /or chromium having aggregates therein ``r#J, deposited layer on lithographic printing plate σ) Tolerance of printing durability and developability L (more excellent and preferable in Q). Alternatively, the hexahedral shape is preferably cubic.

板状結晶状物としては、多角形、主として6)14形の
板状のものが好ましく、多角杉状の而の径は0.5〜5
μmのものが好ましく、EXさはO,f) 1〜0.8
μmのものが好ましい。6面体状結晶状物としては立方
体状、特に辺長が0.1〜2μmのものか好ましい。上
述の突起物の投影面積率としては20%以上が好ましい
。ここに、投影1川檀率は本発明の↑電着層を有する支
持体向に垂直な方向の投影、即ち、正投影におけるもの
であって、該向槓率は顕微鏡写真等により測定できる。
The plate-like crystals are preferably polygonal, mainly 6) to 14-shaped plates, and the diameter of the polygonal cedar-shaped crystals is 0.5 to 5.
μm is preferable, and the EX size is O, f) 1 to 0.8
Preferably, the thickness is μm. The hexahedral crystals are preferably cube-shaped, particularly those with side lengths of 0.1 to 2 μm. The projected area ratio of the above-mentioned protrusions is preferably 20% or more. Here, the projection rate is a projection perpendicular to the direction of the support having the ↑electrodeposited layer of the present invention, that is, orthogonal projection, and the rate can be measured by microphotographs or the like.

又、突起物は、クロム電着層の表面に0.3〜5声突起
していることが好丈しく、特に05〜4μ汽突起してい
ることが好ましい。
The protrusions are preferably 0.3 to 5 microns thick, particularly preferably 05 to 4 microns thick, on the surface of the electrodeposited chromium layer.

クロムT[4層の厚さは0.0l−j10μmが好まし
く特に0.01〜4μmが好ましい。
The thickness of chromium T [4 layers is preferably 0.0 l-j10 μm, particularly preferably 0.01 to 4 μm.

この膜厚はケイ光X紳分析により、基準の膜厚既知のク
ロムメッキ層により、予め作成しておいた検Qiから定
S41シて平均値として求めることができる。
This film thickness can be determined as an average value using a chromium plating layer with a known reference film thickness by means of a fluorescence X-ray analysis and a constant S41 from a pre-prepared test Qi.

クロム電着層の元素組成はクロム及び酸素から実質的に
なり、γ朶さ方向の元素分析から、クロム酸化物(この
酸化物には水和物も包含される。〕及び金属クロムから
実質的に結成さrL 、緑くなるにつれて金属クロムの
比率が多くなっていると14]断される。クロム酸化物
としては2価、3価又(よ6価のクロムの酸化物か挙げ
らnるが主として3価クロムの酸化物である。
The elemental composition of the chromium electrodeposited layer consists essentially of chromium and oxygen, and elemental analysis in the gamma direction shows that it consists essentially of chromium oxide (this oxide also includes hydrates) and metallic chromium. Chromium oxides include divalent, trivalent, and hexavalent chromium oxides. is mainly an oxide of trivalent chromium.

第1図はクロム屯謳層を設ける前の粗面化された鉄相の
表11riの電子顕微鏡写真である。第2図〜第4図は
粗面化された鉄材上に板状の突起1ηζを有するクロム
電着層を翁する本@1v1に係る支持体の表面の7E子
顕微鏡写真である。
FIG. 1 is an electron micrograph of Table 11ri of the roughened iron phase before providing the chromium layer. Figures 2 to 4 are 7E microscopic photographs of the surface of a support according to Book@1v1, in which a chromium electrodeposition layer having plate-like protrusions 1ηζ is formed on a roughened iron material.

次に、粗面化された鉄材上に突起部を有するクロム電詣
層を設ける代表的な方法を4くす。
Next, four typical methods of providing a chromium conductive layer having protrusions on a roughened iron material will be described.

小さい丸形突出h1−のある曲面状のやや凝集しただ固
体状粒子が1に1合的に凝1さした早合体から榴改さ2
’Lる角のない突起部を有するクロム電着層はビフルス
ライドを含む粒子化槽に飲料を浸r#シた後、Cjr”
/ 5042−の割合を75〜180に1λ・持する量
の水、)11(水クロム酸及び硫酸を含むのつぎ1合中
で少くとも30秒+rtl 眠気めっきすることにより
製造できる。
Curved, slightly agglomerated, solid particles with small round protrusions (h1) are rapidly coalesced into 1, 1 and 2.
A chromium electrodeposited layer with rounded protrusions is formed after immersing the beverage in a granulation tank containing a biflu slide.
/5042- in an amount of water having a ratio of 75 to 180 1λ·)11 (containing hydrochromic acid and sulfuric acid) for at least 30 seconds + rtl in one cup.

具体的な条件に゛ついては持回t11′I55 145
193号公報に詳しく記4tυされている。
For specific conditions, please refer to t11'I55 145
It is described in detail in Publication No. 193.

角のある結晶状物及び/又はぞの凝集体である突起部を
有するクロム電着層を鉄材上に設ける好ましい方法とし
ては例えばdlに示す電解液1を冷却または加熱して液
温を調節し、表2に示す電解条件lで■解処理を行うも
のである。このCIW液1は鉄相の表L…に本づ6明の
m〜クロム層を形成するための電着クロム層生戊液であ
る。
A preferred method for providing a chromium electrodeposited layer having protrusions that are angular crystals and/or aggregates on a steel material is, for example, by cooling or heating the electrolytic solution 1 shown in dl to adjust the liquid temperature. , The solution treatment is carried out under the electrolytic conditions 1 shown in Table 2. This CIW liquid 1 is an electrodeposited chromium layer forming solution for forming a chromium layer of 6 on the surface L of the iron phase.

表1          電  解  液  l無水ク
ロム酸(Or、OB)    l OO〜5oogバリ
ウム化合物    1〜10g 弗化物9例えは弗化水1(HIF)O〜20g硝   
   酸        0〜log酢      酸
        0〜1g水で全体を11とする。
Table 1 Electrolyte solution l Chromic anhydride (Or, OB) l OO~5oog barium compound 1~10g Fluoride 9 example is water fluoride (HIF) O~20g nitric acid
Acid: 0 to log acetic acid Acid: 0 to 1 g Make the total amount to 11 with water.

表2     1B、解条件1 直流電圧   5〜15(V) 電流密度   5〜50A/dゴ 液      濡         0〜60’C陰 
     極        鉄  材@      
極        鉛  電  極陰極と1嚇極との面
積比     1 : l〜l  :  1.5処理時
間   2〜6分 この方法については本出願人による昭和57年6月18
日句出願の特許願(3)に添イ」シた明細書(発明の名
称「平版印刷版用支持体の製造方法」)に詳しく記載さ
nている。
Table 2 1B, solution condition 1 DC voltage 5-15 (V) Current density 5-50 A/d Soup wet 0-60'C negative
Polar iron material @
Electrode Lead Electrode Area ratio of cathode to 1 intimidation electrode 1: l~l: 1.5 Processing time 2~6 minutes This method was published by the applicant on June 18, 1982.
The invention is described in detail in the specification (title of the invention: ``Method for manufacturing a support for lithographic printing plate'') attached to the patent application (3) filed in Japan.

角のある結晶状物及び/又はその凝集体である突起部を
有するクロム電着層を鉄材上に設ける別の好ましい方法
は、[Or□+]/[so、’−] (ここに[ar”
]はOr6+のイオンsrvを、[so、t −]はS
O1!−のイオンits 度を表わす。)か75〜18
0のめつき液中、m流密曳100A/d77/以下、温
度40゛℃以下で、30秒間以上軍解処理して鉄材上に
電着板(4をする方法である。該めっき液中、[Cjr
” ]は0.2〜4.5モル/lか好ましく、0.5〜
3モル/lが特に好ましい。[5n42− ]は0.0
1〜0.046モル/lが好ましく、0015〜0.0
3モルが特に好ましい。”Cr’+供給柳とし7ては無
水クロム酸か好ましく、so、’−供給源としては和1
1、酸が好ましい。
Another preferred method for providing a chromium electrodeposited layer having protrusions that are angular crystals and/or aggregates thereof on a steel material is [Or□+]/[so,'-] (where [ar ”
] is Or6+ ion srv, [so, t −] is S
O1! - represents the ion's degree. ) or 75-18
This is a method in which the electrodeposited plate (4) is applied to the iron material by dissolution treatment for 30 seconds or more in a plating solution of 0.0 m at a flow rate of 100A/d77/ or less and a temperature of 40°C or less. , [Cjr
” ] is preferably 0.2 to 4.5 mol/l, and preferably 0.5 to 4.5 mol/l.
Particularly preferred is 3 mol/l. [5n42-] is 0.0
1 to 0.046 mol/l is preferable, and 0.015 to 0.0
3 mol is particularly preferred. "Cr'+ supply source 7 is preferably chromic anhydride, and so, '- supply source is sum 1
1. Acid is preferred.

6価りロムイオン濃度とI++!l、酸イオン6 iの
比([Or  ]/[so、’−] )は75〜180
であり、好ましく i=t s o〜130の範囲であ
る。本発明のめつき液には他にフッ素化合物やストロン
チウム化合物等も含有することができる。フッ素化合物
としては、フッ化アンモニウム、ケイフッ化ソーダ、ケ
イフッ酬、ケイ7ツ化クロム等が挙げらnる。
Hexavalent ROM ion concentration and I++! l, the ratio of acid ion 6i ([Or]/[so,'-]) is 75 to 180
and preferably i=tso is in the range of 130. The plating solution of the present invention may also contain fluorine compounds, strontium compounds, and the like. Examples of the fluorine compound include ammonium fluoride, sodium fluorosilicide, silica fluoride, chromium 7silicate, and the like.

ストロンチウム化合物としては、硫酸ストロンチウム、
クロム酸ストロンチウム等が挙げられる。
Strontium compounds include strontium sulfate,
Examples include strontium chromate.

フッ素化合物の添加量は0.5〜10g/lであり・ス
トロンチウム化合物の添加量は3〜20 g/lである
The amount of the fluorine compound added is 0.5 to 10 g/l, and the amount of the strontium compound added is 3 to 20 g/l.

本発明における電解条件としては、電流密度か100A
/drI?以下であり、好ましくは10〜30p、7d
7の範囲である。更にめっき浴温度は、好ましくは0〜
40°C1特に好ましくは10〜30 ’Cの範囲であ
る。浴温と電流密度の関係は、浴温が高いときには電流
密度を高くし浴温か低いときには電流密度も低くするの
が好ましい。好ましくは浴温22±4℃と電流’H5I
ll 5〜” OA/ dmの絹合わせである。この方
法については、本出願人による本願と同日付の特許願に
添付した明細書(発明の名称「平版印刷版用支持体の製
造方法」)に詳しく記載されている。
The electrolytic conditions in the present invention include a current density of 100A
/drI? or less, preferably 10 to 30p, 7d
The range is 7. Furthermore, the plating bath temperature is preferably 0 to
40°C1, particularly preferably in the range of 10-30'C. Regarding the relationship between bath temperature and current density, it is preferable to increase the current density when the bath temperature is high and to decrease the current density when the bath temperature is low. Preferably bath temperature 22±4℃ and current 'H5I
This method is described in the specification attached to the patent application filed by the applicant on the same date as the present application (title of the invention: ``Method for manufacturing a lithographic printing plate support''). is described in detail.

クロム電着層を設ける工程(本処理)の前後に適当な前
処理や後処理を施すことも可能である。
It is also possible to perform appropriate pre-treatments and post-treatments before and after the step of providing the chromium electrodeposition layer (main treatment).

前処理工程としては例えは次の方法が挙げられる。表3
に示す電解液2に対向陰極電極として鉄板を用い、表4
に示す電解条件2で1解処理を行う。
Examples of the pretreatment step include the following method. Table 3
An iron plate was used as a counter cathode electrode for electrolyte 2 shown in Table 4.
1 solution processing is performed under electrolytic conditions 2 shown in .

表3     電 解 液 2 無水クロム酸     80〜200g硝      
酸(64%)   0.5〜l ml水で11とする。
Table 3 Electrolyte solution 2 Chromic anhydride 80-200g Nitrogen
Acid (64%) 0.5-1 Make up to 11 with ml water.

表4    電解条件2 泊、流WtFF、    4〜xov 電流V DL2〜l Q A/ dm7液      
 渇         10℃〜40°C陽     
 極        鉄  材陰極と陽極との面積比 
    l:l処理時間   30秒〜5分 このようにして前処Jul L、たkk4Δにシャワー
により水を吹きかけ水洗したのち本処理工桿に移る。
Table 4 Electrolysis conditions 2 Night, flow WtFF, 4~xov Current V DL2~l Q A/dm7 liquid
Thirst 10℃~40℃Sun
Area ratio of iron material cathode and anode
1:1 Processing time: 30 seconds to 5 minutes In this way, water is sprayed onto the pre-treated Jul L and takk4Δ using a shower and washed, and then the main processing step is started.

後処理工程として好ましい方法としては次の方法か挙げ
られる。
Preferred methods for the post-treatment step include the following method.

クロム′電着層を有する鉄材を必要に応じて酸又はアル
カリ水溶液にて洗浄した後、過マンガン酸塩水溶液の表
面処理液にて表面処理する。
After washing the iron material having the chromium electrodeposited layer with an acid or alkali aqueous solution as required, the surface is treated with a surface treatment solution of a permanganate aqueous solution.

上記の表面処理液中に使用される過マンガン酸塩の好ま
しいものとしては、渦マンガン酸リチウム、過マンガン
酸ナトリウム、過マンガン酸カリウム、過マンガン酸ル
ビジウム、過マンガン酸カリウム、過マンガン酸バリウ
ム等がある。使用される表面処理液中のかマンガン酸塩
の諾度は、0.05〜10重量%が好ましく、特に好ま
しくG;11.0〜5.0重ht%である。処理液のi
bA度は0〜80℃が好ましく、特に好ましくは20〜
50℃である。この方法については本出鋳1人による昭
和57年6月18日付特信願(5)に添伺した明細書(
発明の名称「平版印刷版用支持体の製造方法」うに更に
詳しく記載さnている。
Preferred permanganates used in the above surface treatment solution include lithium diormanganate, sodium permanganate, potassium permanganate, rubidium permanganate, potassium permanganate, barium permanganate, etc. There is. The content of manganate in the surface treatment liquid used is preferably 0.05 to 10% by weight, particularly preferably 11.0 to 5.0% by weight. i of treatment liquid
The bA degree is preferably 0 to 80°C, particularly preferably 20 to 80°C.
The temperature is 50°C. Regarding this method, the specification (
The title of the invention is ``Method for manufacturing a support for a lithographic printing plate,'' which describes the invention in more detail.

後処理工程として別の好ましい方法は、次の方法である
Another preferred method for the post-treatment step is the following method.

クロム電着層を有する鉄相を必要にl+ムじて酸または
アルカリ水溶液にて洗浄した後、水浴性高分子化合物、
並ひにカルシウム、マグネシウム1.i、lj鉛、バリ
ウム、ストロンチウム、コバルト、マンガン、ニッケル
およびシリコンの水溶性塩から選げnた少なくとも1つ
を含む溶液の表面処理液にて表向処理する。
After washing the iron phase having the chromium electrodeposited layer with an acid or alkaline aqueous solution as necessary, a water-bathable polymer compound,
Also calcium and magnesium 1. The surface is treated with a surface treatment solution containing at least one selected from water-soluble salts of lead, barium, strontium, cobalt, manganese, nickel, and silicon.

水溶性高分子化合物としては、001%以上の溶解度を
有するものが好ましい。好ましい水溶性高分子化合物と
しては、例えばアラビアカム、デンプン、テキストリン
、アルギン酸ナトリウム、ゼラチン等の天然高分子化合
物、水浴性セルロース糸化合物、例えばカルボキシアル
キルセルロースの水溶性塩(アルキルとしてはメチル、
エチル、プロピル等)、アルキルセルロース、例えばメ
チルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロ
キシエチルセルロース、ヒドロ片ジプロピルセルロース
等、ポリアクリル酸丈たはその水溶性塩、ポリメタクリ
ル酸またはその水溶性塩、アクリル酸共重合体またはそ
の水溶性塩、メタクリル酸共重合体またはその水溶性塩
、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアル
コール、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン等
の合成高分子化合物、ここに高分子化合物の水溶性塩と
してはナトリウム塩、カリウム塩が挙げらnる。
The water-soluble polymer compound preferably has a solubility of 0.001% or more. Preferred water-soluble polymer compounds include, for example, natural polymer compounds such as arabicum, starch, textrin, sodium alginate, and gelatin, water-bathable cellulose thread compounds, such as water-soluble salts of carboxyalkylcellulose (alkyl is methyl,
ethyl, propyl, etc.), alkylcellulose such as methylcellulose, hydroxymethylcellulose, hydroxyethylcellulose, hydrodipropylcellulose, etc., polyacrylic acid or its water-soluble salt, polymethacrylic acid or its water-soluble salt, acrylic acid copolymer or a water-soluble salt thereof, a methacrylic acid copolymer or a water-soluble salt thereof, a styrene-maleic anhydride copolymer, a synthetic polymer compound such as polyvinyl alcohol, polyacrylamide, polyvinylpyrrolidone, etc., including a water-soluble salt of a polymer compound. Examples include sodium salts and potassium salts.

以上の各種の水溶性高分子化合物は単独または2種以上
併用してもよい。水溶性高分子化合物の中でもデンプン
、デキストリン等の天然高分子化合物および水溶性セル
ロース化合物が好ましい。また、分子量としては500
〜1,000,000のものが好ましく用いらn、る。
The above various water-soluble polymer compounds may be used alone or in combination of two or more. Among water-soluble polymer compounds, natural polymer compounds such as starch and dextrin and water-soluble cellulose compounds are preferred. Also, the molecular weight is 500
~1,000,000 is preferably used.

水溶性高分子化合物と共に用いられる水溶性塩として好
ましいのは0.01%以上の溶解度を有するものであり
、特に無機酸または有機mのカルシウム、マグネシウム
、亜鉛、バリウム、ストロンチウム、コバルト、マンガ
ン、ニッケルおよびシリコンの塩である。代表的な有機
酸塩は、酢酸、プロピオン酸、酪酸、コハク酸、安息K
i 酸、サリチル酸のようなカルボン酸の塩およびアセ
チルアセトネートである。代表的な無機酸塩は、塩化物
、臭化物、塩素酸塩、臭素酸塩、沃化物、沃素酸塩、硝
酸塩、硫酸塩および燐酸塩である。水溶性塩は単独また
は2種以上併用してもよい。
Water-soluble salts used with water-soluble polymer compounds are preferably those having a solubility of 0.01% or more, particularly inorganic acids or organic acids such as calcium, magnesium, zinc, barium, strontium, cobalt, manganese, and nickel. and silicon salts. Typical organic acid salts include acetic acid, propionic acid, butyric acid, succinic acid, and K-benzene.
i acids, salts of carboxylic acids such as salicylic acid, and acetylacetonates. Representative inorganic acid salts are chloride, bromide, chlorate, bromate, iodide, iodate, nitrate, sulfate and phosphate. The water-soluble salts may be used alone or in combination of two or more.

水溶性塩としては、有機酸端が特に好ましく、またカル
シウム、マグネシウム、バリウムおよび亜鉛の塩か特に
好ましい。この方法により形成される水溶性高分子化合
物および水浴性塩を含む層の皮膜鼠としては0.001
〜l m9/ dゴか好ましく、特に005〜0.5m
り7 d、Iか好ましい。この方法及び形成される皮膜
については不出トゐ1人による1「r1和57年6月1
8日付特許願(6)に添付した明細書(発明の名称[平
版印刷版用支持体及びその製造方法j)に史に山しく記
4氏され、ている。
As water-soluble salts, organic acid ends are particularly preferred, and calcium, magnesium, barium and zinc salts are particularly preferred. The coating weight of the layer containing the water-soluble polymer compound and the water-bathable salt formed by this method is 0.001
~l m9/d go is preferable, especially 005~0.5m
7 d, I is preferred. This method and the film formed are described in 1 "r1 June 1, 1957" by Mr.
In the specification attached to the patent application (6) dated August 8 (Title of the invention [Support for lithographic printing plate and method for producing the same)], there are numerous references to this invention.

不発Illの支持体上に感光性組Iノ児物を例えは有機
溶Wを用いて塗設することによりIBン光性平版印刷版
を製造することかできる。
An IB photosensitive lithographic printing plate can be produced by coating a photosensitive composition of Group I on a non-exploitable Ill support using, for example, an organic solution of W.

乍゛に光性組成物は必須成分として感光性物′efを含
んでおり、感光性物質としては、bK光により、現1g
!液に対する感光性組成物層のM解性に差が生じるもの
、露ツCの前後で分子間の接着力に差が生じるもの、露
ツCにより感光性組成物層の水及び油に対する親和性に
差か生じるもの等か使用できる。
However, the photosensitive composition contains a photosensitive material 'ef as an essential component, and as a photosensitive material, 1 g of the photosensitive material is currently
! Those in which there is a difference in the M dissolution of the photosensitive composition layer with respect to liquids, those in which there is a difference in the adhesive force between molecules before and after Dew C, and the affinity of the photosensitive composition layer for water and oil due to Dew C You can use it to see if there is a difference or not.

以1その代表的なものについて説明する。先ず従来公知
の0−ナフトキノンジアジド化合物の如きキノンジアジ
ド型のポジ型感光性物質が挙げられる。
Below, we will explain some typical examples. First, quinonediazide-type positive photosensitive materials such as conventionally known 0-naphthoquinonediazide compounds are mentioned.

0−キノンジアジド化合物は、少なくとも1つの0−キ
ノンジアジド基好ましくは0−ベンゾキノンジアジド基
または0−す7トキノンジアジド基を有する化合物で、
公知の種々の構造の化合物、例えば、J、 Kosar
著「Light−8ensitive Systems
J(John Wiley & 5one、工nc、1
965年発行2第339頁〜353頁にM)’細に記さ
nている化合物を包含する。特に抽々のヒドロキシル化
合物と0−ナフトキノンジアジドスルフォン酸とのエス
テルが好適である。好ましいヒドロキシル化合物として
は、フェノール類とカルボニル基含有化合物との縮合樹
脂、特に酸性触媒存在下での縮合によりイ1!られ。
The 0-quinonediazide compound is a compound having at least one 0-quinonediazide group, preferably an 0-benzoquinonediazide group or an 0-su7toquinonediazide group,
Known compounds of various structures, e.g. J. Kosar
Author: “Light-8 intensive Systems
J (John Wiley & 5one, Eng nc, 1
965, Publication 2, pages 339 to 353, M)' includes the compounds described in detail. Particularly suitable is an ester of a natural hydroxyl compound and 0-naphthoquinonediazide sulfonic acid. Preferred hydroxyl compounds include condensation resins of phenols and carbonyl group-containing compounds, particularly those which can be produced by condensation in the presence of an acidic catalyst. Rare.

る樹脂が誉げられる。該フェノール類としてはフェノー
ル、レゾルシン、クレゾール、ビロカロール等が挙げら
n1該力ルボニル基含有化合物としては、ホルムアルデ
ヒド、ベンズアルデヒドの如きアルデヒド類、アセトン
の如きケトン類か挙げらnる。
The resin is praised. Examples of the phenols include phenol, resorcinol, cresol, and virocalol. Examples of the carbonyl group-containing compound include aldehydes such as formaldehyde and benzaldehyde, and ketones such as acetone.

特にフェノール・ホルムアルデヒ)’[I]Lクレゾー
ル自ホルムアルデヒド樹脂、ピロガロール・アセトン樹
1]F7 、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹脂が好ま
しい。
Particularly preferred are phenol/formaldehyde)'[I]L cresol autoformaldehyde resin, pyrogallol/acetone tree 1]F7, and resorcinol/benzaldehyde resin.

0−キノンジアジド化合物の代表的な具体例としては、
ベンゾキノン−(1,2)−ジアジドスルホニルクロラ
イドまたはナフトキノン−(II2)−ジアジドスルホ
ニルクロライドとフェノール・ホルムアルデヒド樹肥ま
たitタレゾール・ホルムアルデヒド樹脂とのエステル
、米1%l特許第3゜635.709号明細書に記載さ
11ているナフトキノン−(1,2)−ジアジドスルホ
ニルクロライドとピロガロール デル、特開昭56−1044号公報に記載されてし)る
ナフトキノン−(1.2)−ジアジド−(2) −5 
−スルホニルクロライドとレゾルシン−ベンズアルデヒ
ド樹脂との縮合物、特開昭55−76346号公報に記
載さnているナフトキノン−(1.2)−ジアジド−(
2)−5−スルホニルクロライドとレゾルシン−ピロガ
ロール−アセトン共dC&7合物とのエステル化合物、
その他有用な0−キノンジアジド化合物としては、特開
昭50−117503号公報に記載されている末端にヒ
ドロキシル基を有するポリエステルに0−ナフトキノン
ジアジドスルホニルクロライドをエステル化反応させた
もの、特開昭50−’i133Q5号公報に記載されて
いるようなp−ヒドロキシスチレンのホモポリマーまた
(Jこれと他の共重合し得るモノマーとの共重合体に0
−ナフトキノンジアジドスルホニルクロライドをエステ
ル化反応させたもの等が挙げられる。
Typical specific examples of 0-quinonediazide compounds include:
Ester of benzoquinone-(1,2)-diazide sulfonyl chloride or naphthoquinone-(II2)-diazide sulfonyl chloride with phenol-formaldehyde manure or ittalesol-formaldehyde resin, 1% U.S. Pat. No. 3,635.709 Naphthoquinone-(1,2)-diazide sulfonyl chloride and pyrogallol del described in JP-A-56-1044) (2) -5
-Condensation product of sulfonyl chloride and resorcinol-benzaldehyde resin, naphthoquinone-(1.2)-diazide-(
2) an ester compound of -5-sulfonyl chloride and a resorcinol-pyrogallol-acetone co-dC&7 compound;
Other useful 0-quinonediazide compounds include those prepared by esterifying a polyester having a hydroxyl group at the terminal with 0-naphthoquinonediazide sulfonyl chloride as described in JP-A-50-117503; A homopolymer of p-hydroxystyrene as described in 'i133Q5 or a copolymer of this with other copolymerizable monomers
Examples include those obtained by subjecting naphthoquinonediazide sulfonyl chloride to an esterification reaction.

これらのO−キノンジアジド化合物の含有1?cは感光
性組成物の全固形−分に対し5〜80重量%が好ましく
、特に好ましくは10〜50重に’に%である。
Containing these O-quinonediazide compounds 1? c is preferably 5 to 80% by weight, particularly preferably 10 to 50% by weight, based on the total solid content of the photosensitive composition.

かかるキノンジアジド型のポジ型感光性物質は必要に応
じて結合剤としてアルカリ司溶性可脂と併用することが
できる。アルカリ司溶性411 litfとしては、フ
ェノール類とケトン類又はアルデヒド類を酸性触媒存在
下で結合して得られるものが好ましい。該フェノール類
としては、例えばフェノール、クレゾール及びp−置換
フエノール等カタ挙番ずられる。該アルデヒド類として
は、例えはアセトアルデヒド、ホルムアルデヒド等か凰
げらロホルムアルデピドが好ましい。ケトン力Jとして
はアセトンが好ましい。
Such a quinonediazide type positive photosensitive material can be used in combination with an alkali-soluble fat as a binder, if necessary. As the alkali-soluble 411 litf, those obtained by combining phenols and ketones or aldehydes in the presence of an acidic catalyst are preferred. Examples of the phenols include phenol, cresol and p-substituted phenol. Preferred examples of the aldehydes include acetaldehyde, formaldehyde, and loformaldepide. As the ketone force J, acetone is preferable.

好ましいアルカリ■」溶性樹脂としては例えGよフェノ
ール・ホルムアルデヒド%j lIeτ″、クレゾール
・ポルムアルデヒド樹脂、特開昭55−57841号公
報に記載さ才1,ているようなフェノール・クレゾール
・ホルムアルデヒド共屯縮合体耐Iiir %特開11
1」55−12←553号公報に記載さね,ているより
なp−置換フエノールとフエ/−ルもしくは、クレゾー
ルとホルムアルデヒドとの共lk縮合体噌1ii4 、
レゾルシン−ベンズアルデヒドffV IIt7 、ヒ
″ロガロールーベンズアルデヒド樹脂等の多価フェノー
ル類とベンズアルデヒドとの縮合体、ピロガロール−レ
ゾルシン−アセトン樹脂等の多価フェノールとアセトン
との共爪縮合体、キシレノール・ホルムアルデヒド・:
苗脂が挙げらnる。こnらσ)アルカ1ノ司溶性樹Jl
iの含有量はM3光性組成物の全固形分Gこ対し30〜
90屯量%が好ましく、特に50〜85亀量%が好まし
い。
Preferred alkali-soluble resins include, for example, phenol-formaldehyde resin, cresol-formaldehyde resin, and phenol-cresol-formaldehyde resin as described in JP-A-55-57841. Condensate resistance IIIR% JP-A-11
1'' 55-12← Co-lk condensates of p-substituted phenol and phenol or cresol and formaldehyde, which are described in Japanese Patent No. 553, 1ii4,
resorcin-benzaldehyde ffV IIt7, condensates of polyhydric phenols and benzaldehyde such as pyrogallol-benzaldehyde resin, co-acrylic condensates of polyhydric phenols and acetone such as pyrogallol-resorcin-acetone resin, xylenol formaldehyde, etc. :
Seedling fat is mentioned. These σ) Alkaline 1-no-silicon soluble tree Jl
The content of i is 30 to 30% of the total solid content G of the M3 photosensitive composition.
It is preferably 90% by weight, particularly preferably 50 to 85% by weight.

別の感光性物質としては、芳香族ジアゾニウム塩とホル
ムアルデヒドとの縮合物で代表されるジアゾ樹脂も用い
らrする。特に好ましくG:j、p−ジアゾジフェニル
アミンとホルムアルデヒド又はア七トアルデビドとの縮
合物の’%−、例え番,[ヘギヤフルオロ燐酸塩、テト
ラフルオロホウ酸1’&.t 、H.’h 8a 素酸
塩または過ヨウ累酸塩とnVI記4本合物とσ)反jl
a+生成物であるジアゾ樹脂無機塩や、米国性1r′1
°第3。
As another photosensitive substance, a diazo resin typified by a condensate of an aromatic diazonium salt and formaldehyde may also be used. Particularly preferred are G: j, '%-' of a condensate of p-diazodiphenylamine and formaldehyde or a7toaldebide, for example, [Hegiyafluorophosphate, tetrafluoroboric acid 1'&. t, H. 'h 8a Subate or periodate and nVI 4 compounds and σ) antijl
Diazo resin inorganic salt which is a+ product and American 1r'1
°3rd.

300、309号明細書に記載さnているような、前記
縮合物とスルフォン酸類の反応生成物であるジアゾ樹脂
有機塩等が挙げらiする。さらにジアゾ樹11Wは、好
ましくは結合剤と共に使用される。かかる結合剤として
は種々の高分子化合物か使m a tzイりるが好まし
くは特開昭54−り8613号公報に記載されているよ
うな芳香族性水酸基を有する単社体、例え8fN−(4
−ヒドロキシフェニルラアクリルアミド、N−(4−ヒ
ドロキシフェニルノメタクリルアミド、o−、m−、ま
たはp−ヒドロキシスチレン、Q−、m−、またはp−
ヒドロキシフェニルメタクリレート等と他の弔耽体との
共重合体、米国特許第4,123,276号明細書に記
載されているようなヒドロキシエチルアクリレート単位
またけヒドロキシエチルメタクリI/−)単位を主なる
繰り返し単位として含むポリマー、シェラツク、ロジン
等の天然樹脂、ポリビニルアルコール、米国特許第3,
751,257号明細書に記載されているポリアミド侮
1脣、米国特許第3,660,097号明細書に記載さ
れている線状ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコ−ル ルAとエピクロルヒドリンから縮合されたエポキシm 
脂、酸mセルロース、セルロースアセテートフタレート
等のセルロース類が包含される。
Examples include diazo resin organic salts which are reaction products of the above condensate and sulfonic acids, as described in Patent Nos. 300 and 309. Furthermore, the diazo tree 11W is preferably used together with a binder. As such a binder, various polymeric compounds can be used, but preferably a monomer having an aromatic hydroxyl group, such as 8fN- (4
-Hydroxyphenyllacrylamide, N-(4-hydroxyphenylnometacrylamide, o-, m-, or p-hydroxystyrene, Q-, m-, or p-
Copolymers of hydroxyphenyl methacrylate, etc. and other medicinal substances, mainly containing hydroxyethyl acrylate units and hydroxyethyl methacrylic I/-) units as described in U.S. Pat. No. 4,123,276. Polymers containing repeating units, natural resins such as shellac and rosin, polyvinyl alcohol, U.S. Patent No. 3,
751,257, linear polyurethane resins as described in U.S. Pat. No. 3,660,097, and epoxy resins condensed from polyvinyl alcohol A and epichlorohydrin.
Celluloses such as cellulose, acid m cellulose, and cellulose acetate phthalate are included.

更に別の感光性物質としては、重合体主鎖又は側鎖にI
盛ツc.hξとして一OH=OH−0−をきむポリニス
I チル類、ポリアミド類、ポリカーボネート類のような感
光性重合体を主成分とするものも適している。例えば、
特開昭55−40415号公報に記載されているような
、フェニレンジエチルアクリレートと水素添加したビス
フェノールA及びトリエチレンクリコールとの縮合で得
らnる感光性ポリエステル、米国特許第2,9 5 6
,8 7 8号明細占に記載さnているような、シンナ
ミリデンマロン酸等の(2−プロペリデンラマロン酸化
合物及び二官能性グリコール類から誘導される感光性ポ
リエステル類等が挙げられる。
Still another photosensitive material includes I in the main chain or side chain of the polymer.
Moritsu c. Polyvarnishes containing 1OH=OH-0- as hξ are also suitable, and those based on photosensitive polymers such as chills, polyamides, and polycarbonates are also suitable. for example,
Photosensitive polyester obtained by condensation of phenylene diethyl acrylate with hydrogenated bisphenol A and triethylene glycol, as described in JP-A-55-40415, US Pat. No. 2,956
Photosensitive polyesters derived from (2-properidinemalonic acid compounds and difunctional glycols such as cinnamylidenemalonic acid) as described in the specification of , 878, .

さらに別の感yC性物質としては、アジド基が直接又は
カルボニル基又はカルボニル糸又はスルホニル基を介し
て芳香環に結合している芳香族アジド化合物も使用され
る。例えは、米国特許第3,09 6、311号明細書
に記載されているようなポリアジドスチレン、ホ゛リビ
ニルーpーアジドベンゾアート、ポリビニル−p−アジ
ドベンザール、持分IF(345−9613号公報に記
載のアジドアリールスルファニルクロリドと不飽和炭化
水禦糸ポリマーとの反応生成物、又特公昭43−210
67号、同44−229号、同44−229154号、
同45−24915号の各公報に記載されているような
、スルホニルアジドやカルボニルアジドを持つポリマー
等が挙げらnる。
Furthermore, aromatic azide compounds in which the azide group is bonded to the aromatic ring directly or via a carbonyl group, a carbonyl thread, or a sulfonyl group are also used as other yC-sensitive substances. Examples include polyazidostyrene as described in U.S. Pat. The reaction product of the azidoarylsulfanyl chloride and the unsaturated hydrocarbon fiber polymer described in Japanese Patent Publication No. 43-210
No. 67, No. 44-229, No. 44-229154,
Examples include polymers having sulfonyl azide and carbonyl azide, as described in each publication of No. 45-24915.

さらにまた、別の感光性物質としては、付加重合性不飽
和化合物からなる元東合性組成物も使用される。
Furthermore, as another photosensitive material, a former synthetic composition comprising an addition-polymerizable unsaturated compound is also used.

本発明の支持体は第2図〜第4図に示す如く鉄材による
Iilい砂目形状の中に、突起部を有するクロムm着層
によるち密な砂目形状が存在する複雑な表面形状のため
、感光性平版印刷版として用いられた際、その上に設け
らnる感光層等親油性表面を有する多くの高分子化合物
を有する層との擬石性に優れており、耐刷性が良好であ
る。又、現像性の寛容度が広いため、必貿以上の摩耗現
像液処理である1手現像1でも画像i′tlsが摘失す
ることが極めて少ない。
As shown in FIGS. 2 to 4, the support of the present invention has a complex surface shape in which a dense grained shape formed by a chromium adhesion layer with protrusions is present in a fine grained shape formed by the iron material. When used as a photosensitive lithographic printing plate, it has excellent pseudolithic properties with a layer containing many polymeric compounds having an oleophilic surface such as a photosensitive layer provided thereon, and has good printing durability. be. Further, since the developing property has a wide latitude, it is extremely rare for the image i'tls to be removed even in one-hand development 1, which is a more abrasive developer treatment than is necessary.

更にその表面形状のため印刷時において保水性が良く、
水の管理が容易であり、また極めて汚i’1畔い。又、
印刷時等に使用する処理薬品に対する画線部の耐久性も
良好である。
Furthermore, due to its surface shape, it has good water retention during printing,
Water management is easy, and it is extremely dirty. or,
The durability of the printed area against processing chemicals used during printing is also good.

以下、実施例によって、本発明を更に詳細に説明する。Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.

ただし本発明の実施態様はこ7’Lらに限定されるもの
ではない。
However, the embodiments of the present invention are not limited to these 7'L.

実施例1 厚さO.1mgの炭素鋼板に炭素板を陽極とし7て、塩
化第一鉄400ゾ/l,塩化カルシウム2oom/l。
Example 1 Thickness O. Using a 1 mg carbon steel plate with the carbon plate as an anode, ferrous chloride 400 zo/l and calcium chloride 2 oom/l.

を含むpHが0.8の電,解液を用い、浴)1情度10
0’c、電流密度30A/diの条件で5μmの厚みに
,烈めっきを行い、表向の中心線平均粗さRaが05μ
mの鉄めっき鋼板を得た。
Using an electrolytic solution with a pH of 0.8 containing
Intense plating was performed to a thickness of 5 μm under the conditions of 0'c and a current density of 30 A/di, and the surface center line average roughness Ra was 05 μm.
An iron-plated steel plate of m was obtained.

この鉄めっき鋼板に無水クロム酸25 0 q/l、°
°硫酸2.59/lを含む電解液を用い、浴温20℃、
電流密度20A/di、電解時間1分の条件でクロムめ
っきを行った。
Chromic anhydride 250 q/l, °
°Using an electrolyte containing 2.59/l of sulfuric acid, bath temperature: 20°C,
Chrome plating was performed under the conditions of a current density of 20 A/di and an electrolysis time of 1 minute.

このようにして本処理工程を終了した炭素鋼板は、続い
てシャワー水洗を行い、次の後処理工程に移した。後処
理工程では、先ずはじめに5%カセイソーダ水溶液に4
0℃にて1分IMl & !し、続いてシャワー水洗を
行い、次にカルボキシメチルセルロースナトリウム塩と
酢酸カルシウムの水溶液(各々0.07@!t%)に室
温にて約1分間浸漬し、続いてシャワー水洗を行った。
The carbon steel plate that had undergone the main treatment step in this way was then washed with shower water, and then transferred to the next post-treatment step. In the post-treatment process, first, add 4% to 5% caustic soda aqueous solution.
IMl & ! for 1 minute at 0°C. Then, the sample was washed with shower water, and then immersed in an aqueous solution of carboxymethylcellulose sodium salt and calcium acetate (0.07@!t% each) at room temperature for about 1 minute, and then washed with shower water.

後処理工程を終了した後、冷風にて乾+iを行った。After finishing the post-treatment process, drying +i was performed with cold air.

次いで、この支持体上に下記組成の感光性塗布液を回転
塗布機を用いて塗布し、100℃で4分間乾燥し、平版
印刷版材料をイυた。
Next, a photosensitive coating solution having the following composition was applied onto this support using a spin coater, and dried at 100°C for 4 minutes to prepare a lithographic printing plate material.

(n@光性塗布液組成) ・ナフトキノン−<1,2)−ジアジド−(2) −5
−スルホン酸クロライドとm−クレゾール・ホルムアル
デヒドノボラック1IvHhとのエステル化物(縮合率
25モル%)        3.5,9・m −クレ
ゾール・ホルム了ルテヒドノボラック樹脂      
           8.0g・す7トキノンー(1
,2)−ジアジド−(2)−4−スルホン酸クロライド
       0.15.lit・p−オクチルフェノ
ールノボラック樹脂とナフトキノン−(1,2)−ジア
ジド−(2)−5−スルホン酸クロライドとのエステル
化物(縮合率50モル%)             
O,12g串オイルブルー#603 (オリエント化学工業■社製)     o、2g書エ
チルセロソルブ          100.!;1乾
燥後の塗布重量は約2.7&/rrlであった。
(n@photosensitive coating liquid composition) ・Naphthoquinone-<1,2)-diazide-(2) -5
- Esterified product of sulfonic acid chloride and m-cresol formaldehyde novolac 1IvHh (condensation rate 25 mol%) 3.5,9 m -Cresol formaldehyde novolak resin
8.0g・su7toquinone (1
,2)-Diazido-(2)-4-sulfonic acid chloride 0.15. Esterified product of lit p-octylphenol novolac resin and naphthoquinone-(1,2)-diazide-(2)-5-sulfonic acid chloride (condensation rate 50 mol%)
O, 12g skewer oil blue #603 (manufactured by Orient Kagaku Kogyo ■) o, 2g ethyl cellosolve 100. ! The coating weight after 1 drying was about 2.7 mm.

かくして得らnた平版印刷版材料上にポジ原稿フィルム
及び感度測定用ステップタブレット(イーストマン・コ
ダック社製A 2 、濃度差0.15づつで21段階の
もの)を蜜着して2 KWメタルハライドランプ(岩崎
電気■社製アイドルフィン2000 )を光源としてI
I!Iの距離から80秒間ト″にツCを行ない、4%メ
タケイ酸ナトリウム水溶液で25℃(パて45秒間現像
し平版印刷版を得た。
A positive original film and a step tablet for sensitivity measurement (A 2 manufactured by Eastman Kodak, 21 steps with a density difference of 0.15 each) were adhered onto the lithographic printing plate material obtained in this manner, and 2 KW metal halide was applied. I use a lamp (Idol Fin 2000 manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd.) as a light source.
I! The plate was heated for 80 seconds from a distance of I, and developed with a 4% aqueous sodium metasilicate solution at 25° C. for 45 seconds to obtain a lithographic printing plate.

支持体と画線部との接着性及び印刷版の耐刷性を検討す
るために、耐処理薬品性試験及び印刷試験を行なった。
In order to examine the adhesion between the support and the image area and the printing durability of the printing plate, a processing chemical resistance test and a printing test were conducted.

耐処理薬品性試験としては、タールグレン湿し水装置で
用いられているイソプロピルアルコール水溶液に対する
耐久性を調べた。
As a treatment chemical resistance test, durability against the isopropyl alcohol aqueous solution used in the Thalgren dampening device was investigated.

上記グレースケールの階段上に濃度差を持つ++lfi
像ができた印刷版を35%イソプロピルアルコール水溶
液に室温で10分間浸漬の後、水洗し水を含ませた脱脂
綿で画像部をこすり、その画像部をイソプロピルアルコ
ールに浸漬前の(1ム1像部と比較することにより、画
像部の薬品に対する侵食度を判定した。その結果、前記
印刷版は画鯨部の侵食がなく良好な耐処理薬品性を示し
た。耐刷性試験は、オフセット印刷(恣(ハマダスター
900 CDX)に印刷版をかけて印hiiQをおこな
い、画f象部に損傷か生じ印刷不可能となるまでに44
1られた印刷物の枚数で計測した。その結果、+m記t
a刷版では2g万枚まで良好な印刷物が得ら才)た。ま
た、前記印刷版は印刷時に汚れ+IIl < 、また保
水性も良好であった。
++lfi with density difference on the above grayscale stairs
The printing plate with the image formed thereon was immersed in a 35% aqueous solution of isopropyl alcohol for 10 minutes at room temperature, then washed with water and rubbed with absorbent cotton soaked in water. The degree of corrosion of the image area against chemicals was determined by comparing it with the image area.As a result, the printing plate showed good treatment chemical resistance with no erosion of the image area.The printing durability test was conducted using offset printing. (I applied the printing plate to a Hamada Star 900 CDX) and performed the printing process, and it took 44 hours before the image area was damaged and printing became impossible.
It was measured by the number of printed matter. As a result, +m
With the A printing plate, good prints up to 20,000 sheets could be obtained. In addition, the printing plate showed no stains during printing, and also had good water retention.

実施例 実施例1と同一条件で鉄めっきを行った鉄めっき鋼板に
、下記の組成の′FjL哨液および′電解え・件でクロ
ムめっきを行った。
EXAMPLE An iron-plated steel sheet that had been iron-plated under the same conditions as in Example 1 was chromium-plated using FjL solution and electrolytic solution having the following composition.

電  解  液 無水クロム酸     +30jl/71(1肖酸バリ
ウム      3.B9/1硝      酸(64
%)    1.2ml/73弗化水素アンモニウム 
      51/1酢      酸       
 0.2g/l弗化バリウム     0.19/1 電  解  条  件 電流+f;度   5A/d771“ 液  湿  度        5°C陰    極 
    鉄めっきhM板陽    極     鉛板 処理時h    5分 電解液を調液する際、先ず弗化水素アンモニウムと弗化
バリウムを除いた電解液で予f+iil ?lt Pi
(を行ない、次に前記2つの弗化物を加えて電解液とす
る。
Electrolytic solution Chromic anhydride +30jl/71 (1 barium oxide 3.B9/1 nitric acid (64
%) 1.2ml/73 ammonium hydrogen fluoride
51/1 acetic acid
0.2g/l barium fluoride 0.19/1 Electrolysis Conditions Current +f; Degrees 5A/d771" Liquid Humidity 5°C Cathode
Iron plated hM plate anode When processing lead plate h 5 minutes When preparing the electrolyte, first pref + i ? lt Pi
(), and then add the two fluorides to form an electrolytic solution.

次いで、実施例1と同様の後熟511を行ない、水洗、
乾燥を行なった。
Next, post-ripening 511 similar to Example 1 was carried out, washing with water,
Drying was performed.

このようにして得られ、た表面に電*’iクロム層を有
するWi板支持体上に実施例1と同じ処方で同様に塗布
して平版印刷版材料を得た。
A lithographic printing plate material was obtained by applying the same formulation as in Example 1 onto the thus obtained Wi plate support having a chromium layer on its surface.

かかる平版印刷版材料に実施例1と同様に露光、現像を
行ない平版印刷版を得て、こ第1について、上記実施例
1と同様の耐処理薬品性試NR及び1−IJ J!Ii
ll試験を行なった。その結果、この印刷版は実施例1
同様、耐処理薬品性、保水性、耐刷性が良好であり25
万枚まで良好な印刷物が得ら7した。
This lithographic printing plate material was exposed and developed in the same manner as in Example 1 to obtain a lithographic printing plate, and this lithographic printing plate was subjected to treatment chemical resistance tests NR and 1-IJ J! in the same manner as in Example 1 above. Ii
A ll test was conducted. As a result, this printing plate was prepared in Example 1.
Similarly, it has good treatment chemical resistance, water retention, and printing durability.
Up to 70,000 good prints were obtained.

比較例1゜ 実施例1と同一条件で鉄めっきを行った鉄めっき鋼板に
、無水クロム酸250 g/is硫酸2.5g/lを含
む電解液を用い、浴温45 ”C、電流密ル40A/d
77L″の条件で厚み0.1μmのクロムめっきを行っ
た。このようにして得らオーまた表面に゛電着クロム層
を有する支持体の表面は、平たんで結晶状物か突出して
いないことが電子顕微鏡写真で確認さnた。
Comparative Example 1 An iron-plated steel sheet was iron-plated under the same conditions as in Example 1, using an electrolytic solution containing 250 g of chromic anhydride/is sulfuric acid and 2.5 g/l of sulfuric acid at a bath temperature of 45"C and a current density. 40A/d
Chromium plating with a thickness of 0.1 μm was carried out under the conditions of 77 L. was confirmed by electron micrographs.

次いで、実施例1と同様の後処理を行い、水洗、乾燥を
行なった。次いで、実施例1と同じ処方で同様に塗布し
て平版印刷版材料を得た。
Next, the same post-treatment as in Example 1 was performed, including washing with water and drying. Next, the same formulation as in Example 1 was applied in the same manner as in Example 1 to obtain a lithographic printing plate material.

かかる平版印刷版材料に実施例1と同様に露ツC1現像
を行ない平版印刷版を得て、これについて、上記実施例
1と同様の耐処理薬品性試r・入及び印刷試験を行なっ
た。その結果、この印刷版は画像す・1七の侵食が著し
く認められ耐処理薬品性が不良であり、また9万枚程印
刷したところで、id+if゛ぐ部の(員傷が発生し耐
刷性も不良であった。
This lithographic printing plate material was subjected to dew C1 development in the same manner as in Example 1 to obtain a lithographic printing plate, which was subjected to processing chemical resistance testing and printing tests in the same manner as in Example 1 above. As a result, this printing plate showed significant erosion of the image 17 and poor processing chemical resistance, and after about 90,000 sheets were printed, scratches occurred in the ID + IF area and the printing durability was poor. It was also defective.

実施例3 実施例1と同種の鋼板に、実施例1と同様に本処理工稈
と後処理工程を行った。
Example 3 The same type of steel plate as in Example 1 was subjected to the main treatment process and post-treatment process in the same manner as in Example 1.

次いでこの鉄板に、下記の組成を有する%光j/E塗布
液を回転塗布機を用いて塗布し、100’Cで4分tハ
J乾燥し、平版印)pjI版材料を得た。
Next, a % Hikari J/E coating solution having the following composition was applied to this iron plate using a rotary coater and dried at 100'C for 4 minutes to obtain a lithographic printing plate material.

(感光性塗布液組成) ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−(2)−5−X
/l/yhン酸クロライドとレゾルシン−ベンズアルデ
ヒド樹脂との縮合物(特開昭56−1044号公報実施
例1に記載さゎ、た方法で台底されたもの)     
       3.5.!?フェノールとm−+p!合
クレゾールとホルムアルデヒドとの共@縮合制服(フェ
ノールとクレゾールのモル比が3ニア 重量(平均分子
量1500 )              Byす7
トキノンー(1,,2)−ジアジド−(2)−4−スル
ホン酸クロライド      0.15gオイルブルー
#603 (オリエント化学工業(株〕社製)     0.2.
)ilp −t−ブチル・ホルムアルデヒド ノボラック樹脂           0.15gメチ
ルセロソルブ          100g乾(j17
’、19の塗布重量は約z、5’j/rrtであった。
(Photosensitive coating liquid composition) Naphthoquinone-(1,2)-diazide-(2)-5-X
/l/yh condensate of acid chloride and resorcinol-benzaldehyde resin (produced by the method described in Example 1 of JP-A-56-1044)
3.5. ! ? Phenol and m-+p! Co-condensation of cresol and formaldehyde (molar ratio of phenol and cresol is 3) Weight (average molecular weight 1500) Bysu7
Toquinone-(1,,2)-diazide-(2)-4-sulfonic acid chloride 0.15g Oil Blue #603 (manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.) 0.2.
)ilp -t-butyl formaldehyde novolac resin 0.15g methyl cellosolve 100g dry (j17
The coating weight of ', 19 was approximately z, 5'j/rrt.

かくして得られた平版印刷版材料上に感度測定用ステッ
プタブレット(イーストマン・コダック社製黒2)及び
ポジ原稿フィルムを密着して2KWメタルハライドラン
プ(岩崎電気(味り社製アイドルフィン2000 )を
光源として1mの距離から80秒ll1J E光を行な
い、4%メタケイ酸ナトリウム水溶液で25℃にて45
秒181現像し、平版印刷版を得た。
A step tablet for sensitivity measurement (Black 2 manufactured by Eastman Kodak) and a positive original film were tightly placed on the planographic printing plate material obtained in this way, and a 2KW metal halide lamp (Iwasaki Electric (Idol Fin 2000 manufactured by Ajiri)) was used as the light source. A 4% sodium metasilicate aqueous solution was used at 25°C for 80 seconds at a distance of 1m.
It was developed at 181 seconds to obtain a lithographic printing plate.

支持体とfi’lji線部との接着性及び印ハ)1]版
の耐刷性を検討するために、耐処理薬品性試験及び印刷
試1強を行なった。耐処理薬品性試験として、印刷中伸
画像部に発生する地汚わ、を除去する洗浄液として用い
られるウルトラプレートクリーナー(A、 B。
In order to examine the adhesion between the support and the fi'lji line portion and the printing durability of the printing plate, a processing chemical resistance test and one or more printing trials were conducted. As a treatment chemical resistance test, Ultra Plate Cleaner (A, B), which is used as a cleaning solution to remove background stains that occur in the stretched image area during printing, was used.

Cケミカル(株〕製ノに対する耐久性を調べた。Durability against C Chemical Co., Ltd. product was investigated.

上記グレースケールの階段上に殉度差を持つ画像ができ
た印刷版をウルトラプレートクリーナー原液に室温で2
0分間浸漬の後水洗し、浸fa前の画像部と比較するこ
とにより、画像部の処理薬品に対する侵食度を判定した
。その結果、前記印刷版は画像部の侵食がなく、又網点
についても商情率2%の網点まで保存され良好な耐処理
薬品性を示した。耐刷性試験は、実施例1と同様に行な
いその結果、前記印刷版では25万枚まで良好t「印刷
物が得られた。また保水性か良く印)I’ll管卯が容
易であった。
The printing plate with the image with the difference in martyrdom on the gray scale steps mentioned above is added to the Ultra Plate Cleaner stock solution for 2 minutes at room temperature.
After immersion for 0 minutes, the sample was washed with water, and the degree of corrosion of the image area against the processing chemicals was determined by comparing it with the image area before immersion fa. As a result, the printing plate had no erosion in the image area, and the halftone dots were preserved up to a halftone dot with a business ratio of 2%, showing good resistance to processing chemicals. The printing durability test was conducted in the same manner as in Example 1, and the results showed that the printing plate produced good prints up to 250,000 copies.It also had good water retention and was easy to manage. .

実施例4 実施例1と同種の鋼板に実施例2と同様に鉄めつきとク
ロムメッキを行い水洗、乾燥した。
Example 4 A steel plate of the same type as in Example 1 was plated with iron and chrome in the same manner as in Example 2, washed with water, and dried.

次いでこの支持体に、下記の組成を有する幀元性塗布液
を回転塗布機を用いて塗布し、85℃で3分間乾燥し平
版印刷版材料を得た。
Next, a spreadable coating solution having the following composition was applied to this support using a rotary coater and dried at 85° C. for 3 minutes to obtain a lithographic printing plate material.

(感光性塗布液組成ン ・共重合体A               5.0.
lit・ジアゾ樹脂B              O
,5g・ジュリマーAC−1OL         O
,05,9(日本純薬(株〕社製ノ φビクトリアピュアーブルーBOH0,1g(保止ケ谷
化学(株〕社製ノ ・メチルセロソルブ          100m1但
し、上記共重合体Aは、モル比でp−ヒドロキシフェニ
ルメタクリルアミド/アクリロニトリル/エチルアクリ
レート/メタクリル酸=10/30/ 60 / 6の
組成をメチルセロソルブに溶y4 L、窒素置換した封
管中で65℃で10時1ζ11加熱し、反応終了後、反
応液を水中に攪拌下注ぎ生じた白色沈澱をf4取乾燥し
て得たものである。ジアゾ樹脂″B +;t 、M 温
で5%のジアゾ樹脂(商品名、K、 H,0(株)製D
−012)水溶液と、10%へキサフルオロリン酸アン
モニウム水溶液を混合し、生じた沈、噌物を吸収沢過し
、30〜40℃で減圧乾燥してfけたへキサフルオロリ
ン酸塩である。上記共H(合体の市量平均分子瞳は80
,000であり、更に上記ジアゾ樹脂の分子晴分布をゲ
ルノぐ−ミネーションクロマトグラフイー(Gpe〕に
よって測定したところ、3量体以下が全体の93モル%
であった。
(Photosensitive coating liquid composition: Copolymer A 5.0.
lit/diazo resin B O
, 5g Julimar AC-1OL O
,05,9 (manufactured by Nippon Pure Chemical Co., Ltd.) Victoria Pure Blue BOH 0.1 g (Methyl Cellosolve manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.) 100 ml However, the above copolymer A has a molar ratio of p -Hydroxyphenylmethacrylamide/acrylonitrile/ethyl acrylate/methacrylic acid = 10/30/60/6 composition was dissolved in 4 L of methyl cellosolve, heated at 65°C for 10:11 in a nitrogen-substituted sealed tube, and after the reaction was completed. It was obtained by pouring the reaction solution into water with stirring and drying the resulting white precipitate at f4.Diazo resin "B +; t, M 5% diazo resin (trade name, K, H, 0) Co., Ltd. D
-012) Mix an aqueous solution with a 10% ammonium hexafluorophosphate aqueous solution, absorb and filter the resulting precipitate, and dry under reduced pressure at 30 to 40°C to obtain a fluorinated hexafluorophosphate. . The above-mentioned H (the market weight average molecular pupil of the union is 80
,000, and furthermore, when the molecular distribution of the above diazo resin was measured by gel emission chromatography (Gpe), trimers and below accounted for 93 mol% of the total.
Met.

乾燥後の塗布重量は約2.0 g/ばであった。The coating weight after drying was approximately 2.0 g/ba.

かくして得らnた平版印刷版材料上にネガ原稿フィルム
を密着して2 KWメタルハライドランプ(岩崎電気(
株〕社製アイドルフィン2000 )を光源として1m
の距離がら84秒l58IfiK光を行ない、下記の組
成の現像液で現像し、平版印刷版をt’dた。
A negative original film was closely attached to the planographic printing plate material obtained in this way, and a 2 KW metal halide lamp (Iwasaki Electric Co., Ltd.) was used.
1m using Idolfin 2000 manufactured by Co., Ltd. as a light source.
The planographic printing plate was t'd by applying 158 IfiK light for 84 seconds at a distance of 150 ms and developing with a developer having the composition shown below.

(現像液組成) ・フェニルセロソルブ         1oog・ジ
ェタノールアミン          5QgΦパイオ
ニンA−44B          30ソ(竹本油脂
(株〕社勧 ・水              780.ji+現像
条件は、25℃、45秒間である。
(Developer composition) - Phenyl cellosolve 10og - Jetanolamine 5QgΦ Pionin A-44B 30so (Takemoto Yushi Co., Ltd. Shakan, Water 780.ji + Development conditions are 25°C and 45 seconds.

支持体とiI!U像部との接着性、現像性の寛容度、及
び印刷版の耐刷性を検討するために、現像について自動
現像機による処理の他に1手現像”処理試験を行ない、
又印刷試験を行なった。
Support and iI! In order to examine the adhesion with the U image area, the latitude of developability, and the printing durability of the printing plate, we conducted a "one-hand development" process test in addition to the process using an automatic developing machine.
A printing test was also conducted.

手現像は、スポンジに上記現像液を充分含ませ、皿の中
に置いた上記露光済みの平版印刷版材料上而をそのスポ
ンジで2分間均一に軽く噛り、その後水洗いすることに
よって行なった。その結果、上記平版印刷版材料は手現
像によっても画像部が損なわれることはまったくなかっ
た。印刷試験は実施例1と同様にして行なった。その結
果、本発明の支持体を用いた平版印刷版は、22万枚ま
で良好な印刷物が得らnた。
Manual development was carried out by thoroughly soaking a sponge with the above-mentioned developer and lightly biting the exposed lithographic printing plate material placed in a dish with the sponge evenly for 2 minutes, followed by washing with water. As a result, the image area of the lithographic printing plate material was not damaged at all even by manual development. The printing test was conducted in the same manner as in Example 1. As a result, the planographic printing plate using the support of the present invention produced good printed matter up to 220,000 sheets.

比較例2 ″J!、施例1と同種の鋼板に比較例1と同様に鉄めつ
きとクロムメッキを行い水洗、乾燥した。
Comparative Example 2 ``J!'' A steel plate of the same type as Example 1 was plated with iron and chrome in the same manner as in Comparative Example 1, washed with water, and dried.

次いでこの支持体に実施例4と同じ組成の感光性塗布液
を同様に塗布、乾燥し平版印刷版材料を旬だ。次にこn
を実施例2と同様にして平版印刷版を作成し、耐刷性試
験を行なった。その結果、手現像処理において、画線部
が著しく損なわnlはとんど剥離してしまった。更に、
印刷においては、8万枚印刷して画綽部の一部が剥13
1i t、てしまい印刷不可能となった。
Next, a photosensitive coating solution having the same composition as in Example 4 was applied to this support in the same manner as in Example 4, and dried to prepare a lithographic printing plate material. Next
A lithographic printing plate was prepared in the same manner as in Example 2, and a printing durability test was conducted. As a result, during manual development, the image area was significantly damaged and the nl was almost completely peeled off. Furthermore,
In printing, part of the image line peeled off after 80,000 copies were printed.13
1it, and it became impossible to print.

実施例5 実施例1と同種の鋼板に実施例1と同様に鉄めつきを行
い、次に厚み1.4μmの面沿めっきを行い、次に実施
例1と同様のクロムめっきを施し、以下実施例1と同様
の操作により平版印刷版を得1.−0この刷版は同4ル
に印刷したところ、地汚nがなく良好な品質の印刷物が
得ら第1た。
Example 5 A steel plate of the same type as Example 1 was plated with iron in the same manner as in Example 1, then plated along the surface to a thickness of 1.4 μm, and then chromium plated in the same manner as in Example 1. A lithographic printing plate was obtained by the same operation as in Example 1.1. -0 When this printing plate was printed on the same 4th printing plate, a good quality printed matter with no background stains was obtained.

実施例6 実施例1と同種の几1板に実施例1と同4゛1:に鉄め
つきを行い、次に厚み2μmのニッケルめっきを行い、
次に実施例1と同F;7のクロムめっきを施し、以下実
施例1と同様σ)操作により平版間J Pil1版をイ
atた。
Example 6 A plate of the same type as in Example 1 was plated with iron to the same 4゛1: as in Example 1, and then plated with nickel to a thickness of 2 μm,
Next, chromium plating of F:7 as in Example 1 was applied, and a J Pil 1 plate between the planographic plates was then etched by the same procedure as in Example 1.

このDlj版は同様に印刷したところ、地汚γ1.がな
く良好な品質の印刷物が得られた。
When this Dlj version was printed in the same way, it showed dirt γ1. Good quality printed matter was obtained.

実施例7 実施例1と同種の画板をボーメ−40’の塩化a・2鉄
溶液でエツチングして、表面の中心線平均組さI(、a
を0.7μmに粗面化した。
Example 7 A drawing board of the same type as in Example 1 was etched with a Baumey-40' diiron chloride solution, and the center line average pattern of the surface was I(, a
The surface was roughened to 0.7 μm.

次に実施例1と同様のクロムメッキを施し、以下実施例
1と同様の操作により平版1−IJ刷版をヤ°ンた。
Next, the same chromium plating as in Example 1 was applied, and the lithographic plate 1-IJ printing plate was yarned by the same operations as in Example 1.

この刷版は同様に印刷したところ、地汚れがなく良好な
品質の印刷物が得らnた。
When this printing plate was printed in the same manner, it was possible to obtain printed matter of good quality with no scumming.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図(写真)ニクロム’tIK、着1曽全設ける前の
粗面化さね、た鉄材表面の走査型m子顕微鏡琴真(倍率
5000倍、傾斜角300)、 第2閏〜第4図(全て写ぷり二本発明の支持体表面の走
査型電子顕微鏡写」ず(倍率、第2図、第3図は500
0倍、第4閾は3611 Q倍、傾斜角は第2図が00
、その他はいずちも300〕。 代理人   桑 原 義 美 第2図 第3図 第4Iズ 手続補正書 昭和58イ19II l 3+、1 1冒’FIij+ ’l’;若杉和夫殿1 中(′1の
)く小 llj’i 和 5フイ14’r R’+’ jx+’
t i:fi   114643   lじ25こ明の
名(イj 平版印刷版用支持体 、)1111116−・1ノ:ll’i°11イ′1ど
の関係 1冒’rIII Jiffi人11  所  
東j;【都゛a1宿1〆西T+NiJ l ’J「l 
26番2I32・ I’F  (1271tJ −jJ
Ll六)j゛真、に業株式会ン1代ノく取締段  月1
   本   イ言   彦4、代理人 〒IC)1 j1嗜:lTf      −1町 !;−1?i l
 l  !1f  山 さ (+’、 Il1丁’  
irr Jil明細1°の「発明の詳細な説明」の欄 7、 補正の内容 発明の詳細な説明を次の如く補正する。 (1)  明細書上、下表の通り補正する。 (2)  明細書第30頁、第9行目〜第12行目を削
除する。
Figure 1 (Photograph) Nichrome 'tIK, scanning type microscopy of the surface of iron material with roughening grooves and ridges before installation (magnification 5000 times, tilt angle 300), 2nd to 4th leap Figures (All photos are taken from a scanning electron microscope of the surface of the support of the present invention) (Magnification: Figures 2 and 3 are 500
0 times, 4th threshold is 3611 Q times, tilt angle is 00 in Figure 2
, and all others are 300]. Agent Yoshimi Kuwahara Figure 2 Figure 3 Figure 4 I's Procedural Amendments 1982-19II l 3+, 1 1 1st 'FIij+ 'l'; Kazuo Wakasugi 1 Middle ('1) Kullj'i sum 5 phi 14'r R'+'jx+'
t i:fi 114643 lji25 name of name (ij lithographic printing plate support,) 1111116-・1ノ:ll'i°11i'1 which relationship 1 de'rIII Jiffi person 11 place
East j; [To ゛a1 inn 1〆West T+NiJ
No. 26 2I32・I'F (1271tJ -jJ
Ll6) J゛Shin, Nigyo Co., Ltd. 1st Generation Control Dan 1 month
Hon Ikotohiko 4, agent〒IC) 1 j1报:lTf -1 town! ;-1? i l
l! 1f Yamasa (+', Il1cho'
irr Jil Specification 1°, "Detailed Description of the Invention" Column 7, Contents of the Amendment The detailed description of the invention is amended as follows. (1) The description shall be amended as shown in the table below. (2) Delete page 30 of the specification, lines 9 to 12.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 中心線平均粗さく Ra )が01〜3μmである鉄材
上に突起部を有するクロム電着層を有することを特徴と
する平版印刷版用支持体。
A support for a lithographic printing plate, comprising a chromium electrodeposited layer having protrusions on an iron material having a centerline average roughness (Ra) of 01 to 3 μm.
JP11464382A 1982-06-30 1982-06-30 Support for planographic printing plate Pending JPS5931192A (en)

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