JPH0542783A - Manufacture of support for lithographic printing form plate - Google Patents
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- JPH0542783A JPH0542783A JP19730691A JP19730691A JPH0542783A JP H0542783 A JPH0542783 A JP H0542783A JP 19730691 A JP19730691 A JP 19730691A JP 19730691 A JP19730691 A JP 19730691A JP H0542783 A JPH0542783 A JP H0542783A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は印刷版用支持体の製造方
法に関するものであり、詳しくはアルミニウム又はアル
ミニウム合金からなる支持体の陽極酸化方法に関するも
ので、とくにオフセット印刷版用に適する均一な陽極酸
化皮膜を効率よく生成する方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a support for printing plates, and more particularly to a method for anodizing a support made of aluminum or an aluminum alloy, which is particularly suitable for offset printing plates. The present invention relates to a method for efficiently forming an anodized film.
【0002】[0002]
【従来の技術】平版印刷は、水と油が物性上混合しない
ことを利用した印刷方式であって、一平面上に水受容性
の非画像部と、インキ受容性の画像部とからなる版面を
形成させ、その版面に水を供給して非画像部分に水を保
持させた状態でさらに版面にインキを供給すると画像部
分のみにインキが保持されるので、このようにして形成
されたインキ画像を、ブランケットに転写したのち、紙
に印刷する印刷方式である。2. Description of the Related Art Lithographic printing is a printing method that utilizes the fact that water and oil do not mix in terms of physical properties. It is a plate surface consisting of a water-receptive non-image area and an ink-receptive image area on one plane. Is formed, and when water is supplied to the plate surface and water is retained in the non-image portion, and ink is further supplied to the plate surface, the ink is retained only in the image portion. Is a printing method of printing on paper after transferring to a blanket.
【0003】従来、平版印刷に使用する平版印刷版を作
成する感光材料として”PS版”と称せられるものがあ
り、これは一般には板状のアルミニウム又はアルミニウ
ム合金からなる支持体(以下には特に区別した記述が必
要がない限りアルミニウム支持体と略記する)に感光組
成物が被覆されたものであって、その使用に際してはP
S版の感光性版面を所望の画像状に露光し、ポジ型PS
版においては、露光部分を水や有機溶剤あるいはそれら
の混合物により、溶解させて、非画像部分となし、非露
光部分は上記溶液に溶解しない性質を維持させ、画像部
分となし、ネガPS版においては、非露光部分を上記溶
液により溶解させて非画像部分となし、露光部分は上記
溶液に溶解しない性質を維持させて、画像部分となして
印刷版面を形成せしめるものである。Conventionally, as a photosensitive material for preparing a lithographic printing plate used for lithographic printing, there is a so-called "PS plate", which is a plate-like support made of aluminum or aluminum alloy (hereinafter, especially Unless otherwise specified, it is abbreviated as an aluminum support) which is coated with a photosensitive composition.
The photosensitive plate surface of the S plate is exposed in a desired image shape, and a positive PS
In the plate, the exposed portion is dissolved with water or an organic solvent or a mixture thereof to form a non-image portion, and the non-exposed portion maintains the property of not being dissolved in the above solution to form an image portion. Is to dissolve the non-exposed portion with the above solution to form a non-image portion, and to maintain the property of the exposed portion not to be dissolved in the above solution to form an image portion to form a printing plate surface.
【0004】上述のごとく、印刷版面の非画像部分は、
感光性組成物の層が除かれた部分であるので、支持体の
アルミニウム表面そのものである。従ってアルミニウム
支持体の表面は非画像部分を構成する場合、水を保持す
る性質が必要なので、一般に粗面化などによりその水を
保持する性質(保水性)を向上させている。またアルミ
ニウムは比較的軟らかく、耐摩耗性、耐腐食性に劣る材
料なので、平版印刷版の支持体として用いる場合は通
常、上述の粗面化処理を施した後、必要により酸または
アルカリ等の溶液によりエッチングし、次に陽極酸化処
理を行って硬い皮膜を形成させる。As described above, the non-image portion of the printing plate surface is
It is the aluminum surface itself of the support because it is the part where the layer of the photosensitive composition is removed. Therefore, when the surface of the aluminum support constitutes a non-image portion, it is necessary to have a property of retaining water, so that the property of retaining water (water retention) is generally improved by roughening or the like. Further, aluminum is a relatively soft material, which is inferior in abrasion resistance and corrosion resistance, so when it is used as a support for a lithographic printing plate, it is usually subjected to the above-mentioned surface roughening treatment and, if necessary, a solution of acid or alkali etc. And then anodized to form a hard film.
【0005】アルミニウム支持体の表面を粗面化する方
法は、例えば機械的な粗面化法としては、ワイヤーブラ
シグレイニング法、ブラシグレイニング法、サンドブラ
スト法、ボールグレイニング法が用いられる。化学的な
方法としてはアルカリエッチング法が、また電気化学的
粗面化法としては、硝酸、塩酸およびその塩の希薄水溶
液中で、直流または交流で粗面化する方法が用いられ
る。また、特開昭54−63902号公報に開示されて
いる直流と交流の両者を組合せて粗面化する法も用いる
ことができる。As a method of roughening the surface of the aluminum support, for example, a wire roughening method, a brush graining method, a sand blasting method, and a ball graining method are used as a mechanical roughening method. As a chemical method, an alkali etching method is used, and as an electrochemical surface roughening method, a method of roughening by direct current or alternating current in a dilute aqueous solution of nitric acid, hydrochloric acid or a salt thereof is used. Further, the method disclosed in JP-A-54-63902, in which both direct current and alternating current are combined for roughening, can also be used.
【0006】アルミニウム支持体は表面を粗面化した
後、上記したよう表面の耐摩耗性や耐腐食性を向上する
ために陽極酸化処理を施ごす。この陽極酸化処理は従来
硫酸やリン酸の水溶液中でアルミニウム支持体を陽極と
して交流または直流の電流を用いて陽極酸化することに
よって行われてきた。After the surface of the aluminum support is roughened, it is anodized in order to improve the wear resistance and corrosion resistance of the surface as described above. This anodizing treatment has been conventionally performed by anodizing in an aqueous solution of sulfuric acid or phosphoric acid using an aluminum support as an anode and using an alternating or direct current.
【0007】例えば、米国特許第4211619号明細
書には、粗面化されたアルミニウム支持体の表面に硫酸
を電解液として0.5〜10g/m2 の陽極酸化皮膜の
形成例が記載されている。この硫酸を電解液として形成
された陽極酸化皮膜は一般には無定形皮膜であり、比較
的厚い皮膜が得られるがアルカリ性の溶液にたいする抵
抗性が低くアルカリ性の溶液を現像液として製版する場
合皮膜が侵されてアルミニウム支持体表面の耐摩耗性が
劣化したり、印刷時の地汚れが起こり易い。For example, US Pat. No. 4,211,619 describes an example of forming an anodized film of 0.5 to 10 g / m 2 on the surface of a roughened aluminum support using sulfuric acid as an electrolytic solution. There is. The anodic oxide film formed by using this sulfuric acid as an electrolytic solution is generally an amorphous film, and a relatively thick film can be obtained, but the resistance to alkaline solution is low and the film is eroded when plate making an alkaline solution as a developer. As a result, the abrasion resistance of the surface of the aluminum support is deteriorated, and scumming during printing is likely to occur.
【0008】また米国特許第3511661号明細書に
は、42〜85%の濃度のリン酸水溶液中で陽極酸化し
た例が記載されている。リン酸水溶液中で陽極酸化して
得られた酸化層は硫酸水溶液中で陽極酸化して得られた
酸化層よりもち密な酸化皮膜が得られ、アルカリに対す
る抵抗性が優れており、かつ現像中の汚れも起こり難い
特徴が有るが、酸化皮膜が薄いためスクラッチに対する
抵抗性に乏しい欠点を有する。厚い酸化皮膜は容易には
得られず、比較的厚い皮膜を得るためにも高電圧で長時
間の陽極酸化処理が必要である。Further, US Pat. No. 3,511,661 describes an example of anodic oxidation in a 42-85% strength phosphoric acid aqueous solution. The oxide layer obtained by anodizing in a phosphoric acid aqueous solution has a denser oxide film than the oxide layer obtained by anodizing in a sulfuric acid aqueous solution, has excellent resistance to alkali, and is under development. However, since the oxide film is thin, it has poor scratch resistance. A thick oxide film cannot be easily obtained, and an anodizing treatment at a high voltage for a long time is required to obtain a relatively thick film.
【0009】これ等の従来技術の欠点を改良するために
米国特許第42292440明細書にリン酸10〜50
g/リットル、硫酸25〜150g/リットル及びアル
ミニウム塩5〜25g/リットルを含有する電解質水溶
液中で電流密度4〜25A/dm2 、温度25〜65℃
で陽極酸化処理する例が記載されている。しかし、混合
電解質水溶液を陽極酸化処理の電解媒体に使用すると電
解質水溶液の成分の濃度管理が困難で、生産管理上の問
題となる。In order to remedy these drawbacks of the prior art, US Pat. No. 4,229,440 discloses phosphoric acid 10-50.
g / liter, sulfuric acid 25-150 g / liter, and current density 4-25 A / dm 2 in an electrolyte aqueous solution containing aluminum salt 5-25 g / liter, temperature 25-65 ° C.
An example of performing anodizing treatment is described. However, when the mixed electrolyte aqueous solution is used as an electrolytic medium for anodizing treatment, it is difficult to control the concentration of the components of the electrolytic aqueous solution, which is a problem in production control.
【0010】また別の改良工程として2工程で行う陽極
酸化処理が知られている。2工程陽極酸化処理の内の1
工程は硫酸水溶液中で行う陽極酸化処理であることが多
い。その例を挙げれば、最初の陽極酸化が硫酸水溶液中
で行われる処理方法には例えば英国特許GB−A第14
10768号明細書に硫酸水溶液中で先ず陽極酸化した
後、無電解的にリン酸処理を行う方法が、また米国特許
US−A第3940321号明細書には硫酸水溶液中で
先ず陽極酸化した後、第2工程としてリン酸水溶液中で
陽極酸化を行う方法が記載されている。しかし、硫酸水
溶液中で陽極酸化して得られた酸化層はリン酸水溶液中
で処理すると再溶解が起こるので望ましくない。As another improvement step, an anodic oxidation treatment performed in two steps is known. 1 out of 2 process anodizing
The process is often anodizing in a sulfuric acid solution. For example, a treatment method in which the first anodic oxidation is performed in an aqueous sulfuric acid solution is described in, for example, British Patent GB-A 14
No. 10768 discloses a method of first anodizing in a sulfuric acid aqueous solution and then electrolessly treating with phosphoric acid, and US Pat. No. 3,940,321 discloses a method of first anodizing in a sulfuric acid aqueous solution. As the second step, a method of performing anodic oxidation in a phosphoric acid aqueous solution is described. However, the oxide layer obtained by anodizing in a sulfuric acid aqueous solution is not desirable because it is redissolved when treated in a phosphoric acid aqueous solution.
【0011】西ドイツ特許DE−A第3206470号
明細書に先ず硫酸水溶液中で陽極酸化した後、第2工程
としてホスホルオキソ、ホスホルフルオル、および/又
はホスホルオキソフルオルアニオンを有する水溶液中で
行う陽極酸化処理について記載されている。West German Patent DE-A 3206470 firstly anodizes in an aqueous solution of sulfuric acid, and then as a second step anodizing in an aqueous solution containing phosphoroxo, phosphorfluor and / or phosphoroxofluor anions. Is described.
【0012】2工程陽極酸化処理の内の1工程がリン酸
水溶液中で行う陽極酸化処理が知られている。ヨーロッ
パ特許EP−B第0007233号及び同000723
4号明細書には、先ず45%リン酸水溶液中で陽極酸化
処理し、ついで15%硫酸水溶液中で陽極酸化処理を行
っている。It is known that one of the two-step anodizing treatment is performed in a phosphoric acid aqueous solution. European Patents EP-B 0007233 and 000723
In No. 4, the anodizing treatment is first performed in a 45% phosphoric acid aqueous solution, and then the anodizing treatment is performed in a 15% sulfuric acid aqueous solution.
【0013】米国特許第4396470明細書には、第
1工程をリン酸328〜380g/リットルを含有する
水溶液中で、第2工程を硫酸20〜150g/リットル
及びリン酸250〜380g/リットルの混合水溶液中
で陽極酸化処理を行っている。In US Pat. No. 4,396,470, the first step is an aqueous solution containing 328 to 380 g / l phosphoric acid, and the second step is a mixture of 20 to 150 g / l sulfuric acid and 250 to 380 g / l phosphoric acid. Anodizing treatment is performed in an aqueous solution.
【0014】先に記載した通りリン酸水溶液中で行う陽
極酸化処理で生成する酸化皮膜はち密で、その上に陽極
酸化皮膜を設けるためには高電圧で陽極酸化処理を行う
必要があり、その上高電圧下の処理ではしばしば酸化皮
膜に不均一な部分を発生しその部分には印刷汚れが生ず
る。As described above, the oxide film formed by the anodizing treatment performed in the phosphoric acid aqueous solution is dense, and it is necessary to perform the anodizing treatment at a high voltage in order to form the anodizing film on it. In the process under the high and high voltage, a non-uniform portion is often formed on the oxide film, and a print stain is generated on the portion.
【0015】特に混合電解質水溶液中で陽極酸化処理す
ることは工程管理が複雑化し、プロセスに費用がかかる
ので好ましくない。特開昭60−56093号公報には
リン含有アニオンを有する電解質水溶液中で陽極酸化処
理し第2工程を硫酸水溶液中で陽極酸化処理を行う陽極
酸化処理について記載されている。この処理方法では第
1工程で処理中の電圧変動があり安定な工程といえな
い。In particular, anodizing treatment in a mixed electrolyte aqueous solution is not preferable because the process control becomes complicated and the process is expensive. Japanese Unexamined Patent Publication No. 60-56093 describes an anodizing treatment in which an anodizing treatment is carried out in an electrolyte aqueous solution having a phosphorus-containing anion and the second step is anodizing treatment in a sulfuric acid aqueous solution. This treatment method cannot be said to be a stable process because the voltage varies during the treatment in the first process.
【0016】以上の説明した通り、粗面化された印刷版
用アルミニウム支持体はその表面に例えば硫酸やリン酸
を使用する1工程あるいはそれ以上の工程からなる陽極
酸化処理をして陽極酸化層を設けて、非画像部の汚染及
び地汚れしないかつ表面の耐摩耗性や耐腐食性が一層向
上した表面とする陽極参加処理の種々の方法が提案され
てきたがまだ満足すべき処理方法とはいえず、特に安定
でかつ経済的に安価な処理方法が実現されることが望ま
れている。As described above, the surface of the roughened aluminum support for a printing plate is subjected to an anodic oxidation treatment, which comprises one or more steps using sulfuric acid or phosphoric acid, for example, and the surface thereof is subjected to an anodic oxidation layer. Various methods of anode participation treatment have been proposed to provide a surface that does not stain or stain the non-image area and has a surface with further improved abrasion resistance and corrosion resistance, but with a treatment method that is still satisfactory. However, it is desired to realize a treatment method that is particularly stable and economically inexpensive.
【0017】またオフセット印刷を行った時非画像部の
汚染及び地汚れしないためには従来は陽極酸化処理した
後さらに親水化処理を必要とした。この親水化処理には
陽極酸化層を有する粗面化されたアルミニウム支持体表
面をアルカリ金属珪酸塩の水溶液中に浸漬する方法や5
0〜300℃かつ90Torr以上の水蒸気雰囲気中で
「封孔処理」する方法等により親水化処理することが通
常であった。かかる付加的な後処理の必要がない平版印
刷版用支持体の表面処理は好ましい処理方法である。Further, in order to prevent the non-image area from being contaminated and scummed when the offset printing is performed, conventionally, it is necessary to further perform a hydrophilic treatment after the anodizing treatment. For this hydrophilic treatment, a method of immersing the surface of the roughened aluminum support having an anodized layer in an aqueous solution of an alkali metal silicate or 5
It was usual to carry out hydrophilic treatment by a method such as "sealing treatment" in a steam atmosphere of 0 to 300 ° C and 90 Torr or more. Surface treatment of the lithographic printing plate support which does not require such additional post-treatment is a preferred treatment method.
【0018】このように、付加的な親水化処理をしなく
ても、非画像部の汚染及び地汚れしない工程管理し易く
かつ安定で経済的な陽極酸化処理方法は従来まだ実現さ
れていない。As described above, a method of anodizing treatment which is easy to manage, stable, and economical without contamination and background stain of the non-image area without additional hydrophilic treatment has not yet been realized.
【0019】この陽極酸化処理方法はしかも1工程でか
つ安定に行える優れた陽極酸化処理方法であるが、硫酸
水溶液中での陽極酸化処理に比べて、高電圧で陽極酸化
処理を行う必要があり、低電圧処理化が望まれた。Although this anodizing method is an excellent anodizing method which can be performed in one step and stably, it needs to be anodized at a higher voltage than the anodizing method in a sulfuric acid aqueous solution. Therefore, low voltage processing was desired.
【0020】[0020]
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、オフ
セット印刷において非画像部の汚染及び地汚れしない支
持体とするために、粗面化されたアルミニウム支持体表
面をリン酸を電解質溶液とする場合のようにランニング
コストが高くない、しかも陽極酸化処理後に封孔処理の
ような付加的な親水化処理をする必要のない陽極酸化処
理層を形成することが可能な陽極酸化処理法を開発する
ことにある。SUMMARY OF THE INVENTION The object of the present invention is to provide a roughened aluminum support surface with phosphoric acid as an electrolyte solution in order to obtain a support which does not stain or stain the non-image area in offset printing. The development of an anodizing method that does not require high running cost as in the case of forming an anodizing layer that does not require additional hydrophilic treatment such as sealing after anodizing. To do.
【0021】同時にこの保水性に優れた陽極酸化層を有
する粗面化されたアルミニウム支持体表面は十分に厚い
酸化皮膜を有し、従って耐摩耗性やスクラッチ抵抗性を
有する陽極酸化処理法を開発することにある。At the same time, the surface of the roughened aluminum support having an anodized layer excellent in water retention has a sufficiently thick oxide film, and thus an anodizing treatment method having abrasion resistance and scratch resistance is developed. To do.
【0022】さらに本発明の目的は陽極酸化工程に要す
るランニングコストを一層引き下げ得る陽極酸化処理法
を開発することにある。A further object of the present invention is to develop an anodizing method which can further reduce the running cost required for the anodizing step.
【0023】[0023]
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記特性を
備えた陽極酸化皮膜を形成可能な陽極酸化処理の開発す
る課題に取り組んだ結果、アルミニウム又はアルミニウ
ム合金からなるシート状又はウエッブ状材料を、機械
的、化学的及び/又は電気化学的に粗面化処理した後、
シュウ酸水溶液中で陽極酸化処理を行うことを特徴とす
る平版印刷版用支持体の製造方法。As a result of working on the problem of developing an anodizing treatment capable of forming an anodized film having the above characteristics, the present inventors have succeeded in developing a sheet-shaped or web-shaped material made of aluminum or an aluminum alloy. Is mechanically, chemically and / or electrochemically roughened,
A method for producing a lithographic printing plate support, which comprises performing anodizing treatment in an aqueous oxalic acid solution.
【0024】好ましくは、アルミニウム又はアルミニウ
ム合金からなるシート状又はウエッブ状材料を、機械
的、化学的及び/又は電気化学的に粗面化処理した後、
(1)シュウ酸水溶液中にて、次いで(2)硫酸水溶液
中にて、二段階で陽極酸化処理を行うことを特徴とする
平版印刷版用支持体の製造方法によってこの課題を達成
し得た。Preferably, a sheet-shaped or web-shaped material made of aluminum or an aluminum alloy is mechanically, chemically and / or electrochemically roughened, and then,
This object can be achieved by a method for producing a lithographic printing plate support, which is characterized in that (1) an oxalic acid aqueous solution and then (2) a sulfuric acid aqueous solution are anodized in two steps. ..
【0025】本発明における印刷版用アルミニウム支持
体の陽極酸化処理にとくに有利な条件としては工業的に
はシュウ酸を1〜180g/リットル、アルミニウムイ
オンが0.1〜10g/リットルであることが望まし
い。液温は5〜70℃が好ましい。電流密度は2〜10
0A/dm2 が好ましく、商用交流をサイリスタで整流
したものが一般的に用いられる。処理の時間は3〜50
0秒間が好ましい。As conditions particularly advantageous for the anodizing treatment of the aluminum support for printing plates in the present invention, industrially, oxalic acid is 1 to 180 g / liter and aluminum ion is 0.1 to 10 g / liter. desirable. The liquid temperature is preferably 5 to 70 ° C. Current density is 2-10
0 A / dm 2 is preferable, and a commercial alternating current rectified by a thyristor is generally used. Processing time is 3 to 50
0 seconds is preferred.
【0026】本発明における印刷版用アルミニウム支持
体の2工程法の陽極酸化処理にとくに有利な条件として
は工業的には第1段階の処理液中のシュウ酸は1〜18
0g/リットル、アルミニウムイオンは0.1〜10g
/リットルであることが望ましく、第2段階の処理液中
の硫酸は5〜400g/リットル、アルミニウムイオン
が0.1〜10g/リットルであることが望ましい。As an especially advantageous condition for the two-step anodizing treatment of the aluminum support for a printing plate in the present invention, industrially, the oxalic acid in the treatment liquid in the first stage is 1-18.
0 g / liter, 0.1-10 g aluminum ion
It is desirable that the amount of sulfuric acid in the second stage treatment liquid is 5 to 400 g / liter, and the amount of aluminum ion is 0.1 to 10 g / liter.
【0027】本発明の陽極酸化処理に使用するシュウ
酸、硫酸及びアルミニウムイオン等からなる電解質成分
の濃度を最適濃度に保つため定期的にモニターして、連
続的に或いは不連続的にでもよいが電解質溶液を処理槽
内で、必要ならば外部の電解質溶液ストック槽との間に
循環させ電解質成分の濃度を最適濃度に保つことが望ま
しい。In order to keep the concentration of the electrolyte component such as oxalic acid, sulfuric acid and aluminum ion used for the anodizing treatment of the present invention at an optimum concentration, it may be monitored regularly and may be continuous or discontinuous. It is desirable to circulate the electrolyte solution in the treatment tank and, if necessary, to an external electrolyte solution stock tank to maintain the concentration of the electrolyte component at an optimum concentration.
【0028】本発明の方法で得られる陽極酸化皮膜の厚
みは、シュウ酸電解質溶液中の陽極酸化法においても、
シュウ酸電解質溶液中続いて硫酸電解質溶液中における
2工程陽極酸化法においても、硫酸を電解質溶液として
用いた場合に匹敵する程に厚い層が得られる。しかもこ
の陽極酸化皮膜はアルカリ性の溶液に対する抵抗性が強
く、耐摩耗性やスクラッチ抵抗性も強い。またこれらの
抵抗性はある値までは陽極酸化皮膜の厚みが厚くなる程
大きくなる。The thickness of the anodized film obtained by the method of the present invention can be determined by the anodizing method in an oxalic acid electrolyte solution.
Even in the two-step anodic oxidation method in an oxalic acid electrolyte solution and then in a sulfuric acid electrolyte solution, a layer as thick as that obtained when sulfuric acid is used as the electrolyte solution is obtained. Moreover, this anodic oxide film has a strong resistance to an alkaline solution, and also has a high wear resistance and a scratch resistance. In addition, these resistances increase up to a certain value as the thickness of the anodic oxide film increases.
【0029】シュウ酸電解質溶液中における陽極酸化に
は高い電圧と比較的長い処理時間を要したが、2工程法
では同じ陽極酸化皮膜量を得るにも、高い電圧を要する
シュウ酸電解質溶液中における陽極酸化の時間を短くで
き、それに続く硫酸電解質溶液中における陽極酸化には
低い電圧で陽極酸化処理ができ、2工程を合計した処理
時間も短くてよいので、エネルギー効率がよく、望まし
い方法である。A high voltage and a relatively long treatment time were required for anodic oxidation in the oxalic acid electrolyte solution, but in the two-step method, even when the same amount of anodized film was obtained, in the oxalic acid electrolyte solution, a high voltage was required. The anodizing time can be shortened, the subsequent anodizing in the sulfuric acid electrolyte solution can be anodizing at a low voltage, and the total processing time of the two steps can be shortened, which is energy-efficient and is a desirable method. ..
【0030】本発明の方法による陽極酸化法によって得
られた酸化皮膜を有する支持体では、付加的に親水化処
理しなくとも、オフセット印刷において非画像部の汚染
及び地汚れしない印刷版が得られる。With the support having an oxide film obtained by the anodic oxidation method according to the present invention, a printing plate that does not stain or stain the non-image area in offset printing can be obtained without additional hydrophilic treatment. ..
【0031】本発明に用いられるアルミニウム板として
は、純アルミニウムおよびアルミニウム合金板が含まれ
る。アルミニウム合金としては、種々のものが使用で
き、例えば珪素、鉄、銅、マンガン、マグネシウム、ク
ロム、亜鉛、ビスマス、ニッケルなどの金属とのアルミ
ニウム合金が用いられる。アルミニウム板は、シート状
であってもウエッブ状であってもよく、また材料の構成
の上から表面をアルミニウムとして、紙、プラスチック
あるいは他の金属などをラミネートしたものも用いるこ
とができる。アルミニウム板は、これが印刷版として印
刷機に装着された場合に、寸法の変化を生じないもので
なければならず、例えばアルミニウム単独の板の場合に
は、一般に0.1〜0.5mmの厚みのものが用いられ
る。The aluminum plate used in the present invention includes pure aluminum and aluminum alloy plate. Various aluminum alloys can be used, and for example, aluminum alloys with metals such as silicon, iron, copper, manganese, magnesium, chromium, zinc, bismuth, and nickel are used. The aluminum plate may be in the form of a sheet or a web, and it is also possible to use a laminate of paper, plastic, or another metal with the surface of the aluminum having aluminum as a material. The aluminum plate should not cause dimensional changes when it is mounted on a printing machine as a printing plate. For example, a plate made of aluminum alone generally has a thickness of 0.1 to 0.5 mm. What is used.
【0032】アルミニウム板の表面は粗面化処理に先だ
って必要に応じて表面の圧延油を除去するための脱脂処
理をおこなってもよい。アルミニウム板表面は、保水性
およびその上に塗設される感光性材料の層との密着性を
向上させるために粗面化される。粗面化する方法は既に
上記した方法、すなわち機械的な粗面化法、化学的粗面
化法、電気化学的粗面化法あるいはそれらを組み合わせ
た方法を用いることができる。The surface of the aluminum plate may be subjected to a degreasing treatment for removing the rolling oil on the surface, if necessary, prior to the roughening treatment. The surface of the aluminum plate is roughened in order to improve water retention and adhesion with a layer of a photosensitive material coated thereon. As the roughening method, the above-mentioned method, that is, the mechanical roughening method, the chemical roughening method, the electrochemical roughening method, or a method combining them can be used.
【0033】このように粗面化されたアルミニウム板
は、必要に応じてアルカリエッチング処理および中和処
理される。電気化学的粗面化方法を用いた場合には、り
ん酸、硫酸、クロム酸等を用いたデスマット処理を必要
に応じておこなうのが通常である。The aluminum plate thus roughened is subjected to alkali etching treatment and neutralization treatment, if necessary. When the electrochemical surface roughening method is used, it is usual to carry out desmutting treatment with phosphoric acid, sulfuric acid, chromic acid, etc., if necessary.
【0034】粗面化し、アルカリエッチング処理したア
ルミニウム板は表面の耐摩耗性や耐腐食性を向上するた
めに陽極酸化処理を施ごす。陽極酸化工程には通常は更
に表面を付加的に親水化処理する工程が続くのが通常で
あるが、本発明の工程においてはこの付加的な親水化処
理は不要である。しかしながら勿論かかる親水化処理を
行っても差し支えない。この付加的な親水化処理として
は、米国特許第2,714,066号および同第3,1
81,461号の各明細書に記されているようにアルカ
リ金属シリケート、例えば珪酸ナトリウムの水溶液で浸
漬などの方法により処理したり、米国特許第3,86
0,426号の明細書に記載されているように、水溶性
金属塩(例えば酢酸亜鉛など)を含む親水性セルロース
(例えばカルボキシメチルセルロースなど)の下塗層を
設けることもできる。The surface-roughened and alkali-etched aluminum plate is anodized in order to improve the wear resistance and corrosion resistance of the surface. The anodizing step is usually followed by a step of additionally hydrophilizing the surface, but in the step of the present invention, this additional hydrophilizing treatment is unnecessary. However, of course, such hydrophilic treatment may be performed. This additional hydrophilization treatment includes U.S. Pat. Nos. 2,714,066 and 3,1.
No. 81,461, by treatment with an alkali metal silicate, for example, by dipping in an aqueous solution of sodium silicate, as described in US Pat.
An undercoat layer of hydrophilic cellulose (eg, carboxymethyl cellulose, etc.) containing a water-soluble metal salt (eg, zinc acetate, etc.) can also be provided, as described in the specification of No. 0,426.
【0035】このようにして得られた平版印刷版支持体
の上には、PS版(Pre-sensitizedPlateの略称)の感
光層として従来より知られている感光層を設けて、感光
性平版印刷版を得ることができる。On the lithographic printing plate support thus obtained, a photosensitive layer conventionally known as a photosensitive layer of a PS plate (abbreviation of Pre-sensitized Plate) is provided to provide a photosensitive lithographic printing plate. Can be obtained.
【0036】これらの感光層の感光性組成物としては、
例えば(1)p−ジアゾフェニルアミンとパラホルムア
ルデヒドとの縮合物に代表されるジアゾ化合物で、水溶
性或いは水不溶性有機溶剤可溶性の、好ましくは水不溶
性有機溶剤可溶性のものが使用される。好ましいジアゾ
化合物の例としては、p−ジアゾジフェニルアミンとパ
ラホルムアルデヒドとの縮合物のフルオロカプリン酸塩
や5−ニトロオルトトルエンスルホン酸塩等がある。か
かるジアゾ化合物は単独でもレジストの作成に使用され
るがシェラックやヒドロキシエチルアクリレートを含む
共重合化合物等のバインダーと共に使用される。(2)
o−キノンジアジド化合物、特に好ましいものは、o−
ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル、o−ナフト
キノンジアジドカルボン酸エステル、o−ナフトキノン
ジアジドスルホン酸アミドなどが使用される。かかるo
−キノンジアジド化合物は単独でもレジストの作成に使
用されるがアルカリ可溶性樹脂、例えばノボラック型フ
ェノール樹脂等と混合して使用される。(3)感光性ア
ジド化合物、例えばアジド基が直接またはカルボニル基
またはスルホニル基を介して芳香族環に結合している芳
香族アジド化合物である。好ましい芳香族アジド化合物
としてはアジドフェニル、アジドスチリル、アジドベン
ザル及びアジドシンナモイルの如き基を1個またはそれ
以上含む化合物である。これら感光性アジド化合物もバ
インダーと共に使用される。好ましいバインダーはアル
カリ可溶性樹脂(例えばノボラック型フェノール樹脂や
ポリアクリル酸を含むビニル共重合体等)である。
(4)桂皮酸基を含む高分子化合物、例えば米国特許第
3,030,208号、同3,707,373号及び同
3,453,237号の各明細書に記載されているよう
なシンナミリデンマロン酸等の(2−プロピリデン)マ
ロン酸化合物と2官能性グリコール化合物とからの感光
性樹脂を主成分とする感光性樹脂等、が好適な感光性組
成物として挙げられる。The photosensitive composition for these photosensitive layers includes
For example, (1) a diazo compound represented by a condensate of p-diazophenylamine and paraformaldehyde, which is soluble in a water-soluble or water-insoluble organic solvent, preferably a water-insoluble organic solvent is used. Examples of preferable diazo compounds include fluorocapric acid salts of condensates of p-diazodiphenylamine and paraformaldehyde and 5-nitroorthotoluenesulfonic acid salts. Such a diazo compound is used alone to prepare a resist, but is also used with a binder such as a shellac or a copolymer compound containing hydroxyethyl acrylate. (2)
o-quinonediazide compounds, especially preferred are o-
Naphthoquinone diazide sulfonic acid ester, o-naphthoquinone diazide carboxylic acid ester, o-naphthoquinone diazide sulfonic acid amide and the like are used. Such o
The quinonediazide compound is used alone in the preparation of a resist, but it is used as a mixture with an alkali-soluble resin such as a novolac type phenol resin. (3) A photosensitive azide compound, for example, an aromatic azide compound in which an azido group is bonded to an aromatic ring directly or through a carbonyl group or a sulfonyl group. Preferred aromatic azide compounds are compounds containing one or more groups such as azidophenyl, azidostyryl, azidobenzal and azidocinnamoyl. These photosensitive azide compounds are also used together with the binder. A preferred binder is an alkali-soluble resin (for example, a novolac type phenol resin or a vinyl copolymer containing polyacrylic acid).
(4) Polymer compounds containing a cinnamic acid group, for example, thinner as described in US Pat. Nos. 3,030,208, 3,707,373 and 3,453,237. Suitable photosensitive compositions include, for example, a photosensitive resin containing a photosensitive resin composed of a (2-propylidene) malonic acid compound such as millidenmalonic acid and a bifunctional glycol compound as a main component.
【0037】これら感光性組成物を、必要により熱重合
防止剤、可塑剤や顔料と共に上記本発明の保水性に優れ
た陽極酸化層を有する粗面化されたアルミニウム支持体
の上に塗布して優れた平版印刷版を作成することが出
来、これを製版処理して得た平版印刷版は、非画像部の
汚染及び地汚れしない、且つ耐刷性が良い等の優れた性
能を有している。These photosensitive compositions are applied, optionally together with a thermal polymerization inhibitor, a plasticizer and a pigment, on the roughened aluminum support having an anodized layer of the present invention which is excellent in water retention. An excellent lithographic printing plate can be prepared, and the lithographic printing plate obtained by plate-making treatment thereof has excellent properties such as non-image area contamination and background stain resistance, and good printing durability. There is.
【0038】[0038]
[実施例1]JIS 1050アルミニウムシートをパ
ミス−水懸濁液を研磨剤として回転ナイロンブラシで表
面を砂目立てした。このときの表面粗さ(中心線平均粗
さ)は0.5μであった。水洗後、10%かせいソーダ
水溶液を70℃に温めた溶液中に浸漬して、アルミニウ
ム表面の溶解量が5g/m2 になるようにエッチングし
た。水洗後30%硝酸水溶液中に一分間浸漬し、0.7
%硝酸水溶液中で陽極時電圧23V、陰極時電圧12V
の矩形波交番波形を用いて、(特開昭52−77702
号公報の実施例に記載されている電流波形)160クー
ロン/dm2 の陽極時電気量で電解エッチングを行い、
30%硫酸の50℃溶液中に浸漬してデスマットした
後、水洗した。[Example 1] The surface of a JIS 1050 aluminum sheet was grained with a rotating nylon brush using a pumice-water suspension as an abrasive. The surface roughness (center line average roughness) at this time was 0.5 μm. After washing with water, a 10% caustic soda aqueous solution was immersed in a solution warmed to 70 ° C., and etching was performed so that the dissolution amount of the aluminum surface was 5 g / m 2 . After washing with water, immerse in 30% nitric acid aqueous solution for 1 minute, and
Voltage in anode aqueous solution of 23% at anode and voltage at cathode at 12V
The rectangular wave alternating waveform of Japanese Patent Application Laid-Open No. 52-77702
(Current waveforms described in the examples of the publication), electrolytic etching is carried out at an anode-time electric quantity of 160 coulomb / dm 2 .
It was immersed in a solution of 30% sulfuric acid at 50 ° C. for desmutting and then washed with water.
【0039】次に、表1に表示した条件でそれぞれ陽極
酸化皮膜重量が2.5g/m2 となるように、温度30
℃、電流密度2A/dm2 の直流を用いて陽極酸化して
アルミニウム基板(A)、アルミニウム基板(B)、ア
ルミニウム基板(C)及びアルミニウム基板(D)を得
た。Next, under the conditions shown in Table 1, the temperature was adjusted so that the weight of the anodic oxide film would be 2.5 g / m 2 respectively.
The aluminum substrate (A), the aluminum substrate (B), the aluminum substrate (C), and the aluminum substrate (D) were obtained by anodizing using a direct current of 2 ° C. and a current density of 2 A / dm 2 .
【0040】[0040]
【表1】 [Table 1]
【0041】次に下記感光液を乾燥後の塗布量が2.5
g/m2 となるように、それぞれのアルミニウム基板
(A)、(B)、(C)、(D)上に塗布し、感光層を
設けた。Next, the coating amount after drying the following photosensitive solution was 2.5.
It was coated on each of the aluminum substrates (A), (B), (C), and (D) so as to have g / m 2, and a photosensitive layer was provided.
【0042】 感光液 ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−ス ルホニルクロライドとピロガロール−アセト ン樹脂とのエステル化物(米国特許第3,6 35,709号の明細書に実施例1に記載さ れているもの) 0.90g クレゾールノボラック樹脂 2.00g 無水フタル酸 0.20g 2−(p−ブトキシフェニル)−4,6− ビス(トリコロルメチル)−S−トリアジン 0.02g 油溶性染料(CI42595) 0.03g エチレンクロライド 15g メチルセロソルブ 12g このようにして作られたPS版を真空枠中で透明ポジテ
ィブフイルムを通して1mの距離から3kwのメタルハ
ライドランプにより、50秒間露光を行った後、SiO
2 /Na2 Oのモル比が1.74の珪酸ナトリウムの
5.26%水溶液(pH=12.7)で現像した。Photosensitive Solution Esterification product of naphthoquinone-1,2-diazido-5-sulfonyl chloride and pyrogallol-acetone resin (described in Example 1 in the specification of US Pat. No. 3,635,709). 0.90 g cresol novolac resin 2.00 g phthalic anhydride 0.20 g 2- (p-butoxyphenyl) -4,6-bis (tricolorolmethyl) -S-triazine 0.02 g oil-soluble dye ( CI 42595) 0.03 g ethylene chloride 15 g methyl cellosolve 12 g The PS plate thus prepared was exposed through a transparent positive film in a vacuum frame at a distance of 1 m from a metal halide lamp of 3 kw for 50 seconds, and then exposed to SiO 2.
Development was carried out with a 5.26% aqueous solution of sodium silicate (pH = 12.7) having a molar ratio of 2 / Na 2 O of 1.74.
【0043】このように現像した後、下記の方法で非画
像部の汚染度を調べたところ、表2の結果を得た。また
オフセット印刷機にて耐スクラッチ性を調べた結果も同
時に示した。After developing in this way, the contamination degree of the non-image area was examined by the following method, and the results shown in Table 2 were obtained. In addition, the results of examining scratch resistance with an offset printing machine are also shown.
【0044】(1)非画像部汚染の評価方法 非画像部の反射光学濃度と感光層を塗布する直前の支持
体表面の反射光学濃度との差で判定。(1) Evaluation Method for Contamination of Non-Image Area Judgment was made by the difference between the reflection optical density of the non-image area and the reflection optical density of the surface of the support immediately before coating the photosensitive layer.
【0045】(2)耐スクラッチ性の評価方法 スガ試験機製摩耗試験機(NUS−ISO−1型)を用
いて非画像部をアルミナ研摩紙で350往復した後の非
画像部表面の程度で判定。(2) Method of evaluating scratch resistance Judgment was made by the degree of the surface of the non-image area after 350 cycles of the non-image area with alumina abrasive paper using an abrasion tester (NUS-ISO-1 type) manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. ..
【0046】[0046]
【表2】 [Table 2]
【0047】[0047]
【発明の効果】(1)耐スクラッチ性が向上した平版印
刷版用支持体が得られる。 (2)非画像部の汚染や地汚れが改善された平版印刷版
用支持体が得られる。(1) A lithographic printing plate support having improved scratch resistance can be obtained. (2) A lithographic printing plate support having improved non-image area contamination and background stain is obtained.
【0048】(3)リン酸を電解質溶液とする場合に比
べ電解電圧が低く、特にシュウ酸(2工程法)では第2
工程の電解電圧が一層低くてよいので電源が小規模のも
ので足りる。(3) The electrolysis voltage is lower than that in the case of using phosphoric acid as the electrolyte solution, and especially in the case of oxalic acid (two-step method),
Since the electrolysis voltage of the process may be lower, a small-scale power supply is sufficient.
【0049】(4)シュウ酸を電解質溶液とする場合1
工程法も2工程法も陽極酸化処理後に封孔処理のような
付加的な親水化処理をする必要がないので設備費がやす
くすむ。(4) When using oxalic acid as the electrolyte solution 1
Since neither the step method nor the two-step method requires additional hydrophilic treatment such as sealing treatment after the anodizing treatment, the facility cost can be reduced.
【0050】(5)シュウ酸を電解質溶液とする場合1
工程法も2工程法もリン酸を電解質溶液とする場合に比
べ陽極酸化皮膜の生成効率が大変良い。(5) When using oxalic acid as the electrolyte solution 1
In both the two-step method and the two-step method, the efficiency of forming the anodized film is very good as compared with the case of using phosphoric acid as the electrolyte solution.
Claims (2)
なるシート状又はウエッブ状材料を、機械的、化学的及
び/又は電気化学的に粗面化処理した後、シュウ酸水溶
液中で陽極酸化処理を行うことを特徴とする平版印刷版
用支持体の製造方法。1. A sheet-like or web-like material made of aluminum or aluminum alloy is mechanically, chemically and / or electrochemically roughened, and then anodized in an oxalic acid aqueous solution. A method for producing a characteristic lithographic printing plate support.
なるシート状又はウエッブ状材料を、機械的、化学的及
び/又は電気化学的に粗面化処理した後、(1)シュウ
酸水溶液中にて、次いで(2)硫酸水溶液中にて、二段
階で陽極酸化処理を行うことを特徴とする平版印刷版用
支持体の製造方法。2. A sheet-shaped or web-shaped material made of aluminum or an aluminum alloy is subjected to a mechanical, chemical and / or electrochemical surface roughening treatment, and then (1) in an aqueous oxalic acid solution, followed by ( 2) A method for producing a lithographic printing plate support, which comprises performing anodizing treatment in two steps in a sulfuric acid aqueous solution.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19730691A JPH0542783A (en) | 1991-06-05 | 1991-07-12 | Manufacture of support for lithographic printing form plate |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3-159901 | 1991-06-05 | ||
JP15990191 | 1991-06-05 | ||
JP19730691A JPH0542783A (en) | 1991-06-05 | 1991-07-12 | Manufacture of support for lithographic printing form plate |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JPH0542783A true JPH0542783A (en) | 1993-02-23 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19730691A Pending JPH0542783A (en) | 1991-06-05 | 1991-07-12 | Manufacture of support for lithographic printing form plate |
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JP (1) | JPH0542783A (en) |
-
1991
- 1991-07-12 JP JP19730691A patent/JPH0542783A/en active Pending
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