JPS5925286A - 圧電式変位装置 - Google Patents

圧電式変位装置

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JPS5925286A
JPS5925286A JP58084263A JP8426383A JPS5925286A JP S5925286 A JPS5925286 A JP S5925286A JP 58084263 A JP58084263 A JP 58084263A JP 8426383 A JP8426383 A JP 8426383A JP S5925286 A JPS5925286 A JP S5925286A
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piezoelectric displacement
piezoelectric
pressure plate
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ライナ−・バウマン
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    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • H10N30/00Piezoelectric or electrostrictive devices
    • H10N30/80Constructional details
    • H10N30/88Mounts; Supports; Enclosures; Casings
    • H10N30/886Mechanical prestressing means, e.g. springs
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • H10N30/50Piezoelectric or electrostrictive devices having a stacked or multilayer structure
    • H10N30/503Piezoelectric or electrostrictive devices having a stacked or multilayer structure with non-rectangular cross-section orthogonal to the stacking direction, e.g. polygonal, circular
    • H10N30/505Annular cross-section

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  • General Electrical Machinery Utilizing Piezoelectricity, Electrostriction Or Magnetostriction (AREA)
  • Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
  • Micromachines (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、多数重ね合わせ/ζ圧電セラミック刊の円板
および各円板間に配置した電極を有する積層体から成る
圧電式変位装置に関する。この種の変位装置は光学装置
、電子顕微鏡、マイクロ技術、集積スイッチ回路製作、
精密弁、超音波技術等に使われる。特別な几]途として
り/グレーザ回転割の場合かあげられる。この場合圧電
式変位装置が共振子長調整器内に、或いはディーチル(
Ditber )  、’!fA動装置表装置使われる
このような変位装置は100μm iての変位量および
20000 b+を上回る変位力を有している必要があ
る。才だ、遠隔制御可能であって、不都合な振動のない
機械的変位を可能にする必要がある。この18合分解能
はl 0−9m  を−ト回り、感度は10−10mを
上回らねばならない。寸だ、高真空内での使用か可能で
あって、しかもこのような使用に際してはヒステリンス
現象もクリープ現象もなしに働かねばならない。変位速
度も10−3秒当り10μInを上回乙ことが要求され
る。変位量l/ノーパの使用はできるだけ省略する必要
があり、むしろ変位行程を電気信号に合わせて厳密に比
例させねばならない。
このような要求のすへてをみたす圧電式変位装置はこれ
まで知られてない。大きな変位量の場合に高い変位力を
得るためには従来例えば圧電式の33層積層駆動装置が
使われる。この公知の積層駆動装置の場合、圧電セラミ
ックの多くの円板が導電性のエポキ/ド接着剤によって
互いに結合されており、電極は接着剤中に埋め込まれ/
こ金属フィルムから成っている。このように構成さi−
した積層、駆動装置の場合、エポキンド接着剤の大きな
熱膨張の結果として熱(で関連して大きな付加的な変位
が生ずる。さらに、接着剤の性質自体著しく熱によって
左右され、接着剤がその部分的な塑性の結果機械的なヒ
ステリメスを有することに在る。さらに、接着剤はガス
を発生し、従って高真空内での使用には適さない。才だ
、圧電積層円板間の接着剤層の弾塑性特性の結果として
変位装置の変位行程、変位力、変位速度、感度、分解能
か著L <低下する。さらに、接着剤層は等質でなく、
従って振動振幅か大きい場合き裂するととがある。
本発明の目的は、高い変位力および大きな変位行程にも
かかわらず、クリープ現象およびヒステリノス現象を伴
わずに大きい分解能、感度、変位速度で温度とは無関係
に動作し、高や、突内ての使用にも適した圧電式変位装
置を提供することである。このような目的を、本発明は
特許請求の範囲第1項に記載の構成によって達成し7た
。特許請求の範囲第2項以下には本発明の具体的な実施
態様が示されている。
次に図面に示した実施例に従って本発明を詳述する 第1図によれは、圧電セラミック利の多数の円板とこれ
ら円板間に配置された電極12とから成る積層体が底板
14と加圧板16との間に配置されている。
圧電セラミック材の円板10および電極上2はいずれも
中央開口上8を有している。底板14は円筒壁20を有
し、この円筒壁20は積層体および加圧板16を包囲し
、外側にねじ山22が形成されている。加圧板上6は中
央開]コ18を土向きに貫通する管状突出部24を有し
ている。この管状突出部24の肩部26に突き棒28が
支えられており、この突き棒28はその下端部30が加
圧板T6から突出していて、丸く面取りされている。突
き棒28の上端部はねU ヒン32として構成されてい
て、底板14の穴34に係合しており、この場合底板]
、4は穴34の周辺部において厚さを著しく小さくされ
ている。突き棒28はナンド3Gによって管状突出部2
4内の肩部26に圧着されており、とれによって加圧板
16は積層体10.12を底板14へ圧着する。
以上のように鉢形のケー/ング14,20と、管状突出
部24を有する加圧板16と、突き棒28と、圧電積層
体10.12とから構成されている構造ユニットは独立
に扱える1つの構造ユニットをなし、この場合圧電積層
体10゜12は接着剤を使用することなく弾性的な、機
械的な予圧によって寸とめて保持されている。
電極12id圧電セラミツク利の円板10上へ蒸着され
、ス・ξツタリング又は焼付けを施され、中間に挿入さ
れる金属フィルムを介してか又は特別な形状加工によっ
て交互に結合されているケー/ング14,20および突
き棒28は小さな熱膨張係数の金属、例えはスーパー・
ア/バから製作されるならば有利である。これに対して
加圧板16は円板10と同じ圧電セラミノクイ」から製
作され、これによって圧電積層体の温度に関連した縦方
向の膨張か管状突出部24の相応の縦方向の膨張によっ
て補償される。
突き棒28ばその球形の端部30を介して2分割の二重
ダイアフラム円筒38上に支えられている。
この二重ダイアフラム円筒38は2つの回転対称形のト
;形縦断面の分割片40.42から成っており、この場
合E形縦断面の内3つのウェブが光学的接触をなしてい
て粘着力によって互いに保持される。幅の広い中央ウェ
ブ44゜44′とリング状の外側ウェブとの間の結合部
分かリンググイアフラム48,50を形成している。下
側の中央ウェブ44′の自由面上には誘電性の多層鏡5
2が配置されている。二重ダイアフラム円筒38はゼロ
デュール(Zerocl、ur )から製作されていて
、積層駆動装置によって平行に変位する郵相を構成して
おり、特にり/グレーザ回転hVcおける共振子長調整
器として使われる。
ねじキャップ54、即ちその内ねじ山を介して円筒状の
ケー/ング壁20の外ねし山22に係合して上側又は下
側の分割体40.42のリングフランツ5G上へ当て刊
けられるねしキャップ54によって、二重ダイアフラム
円筒38が突き棒28へ圧着される。
第2図Gで示す圧縮型の変位装置は、以上の第1図に示
す圧縮型の例に対して主として圧電積層体の構造冒さが
小さい点およびその結果として精確な熱膨張補償が行な
われない点で異なる。精確でない熱膨張補償が底板上4
用に適当な金属を選ぶことによって行なわれる。第2図
および第3図以下において第1図の実施例とほぼ同じ構
成部月については等しい符号て示さJl、機能的には同
じでも構造的に変更が加えられている構成部利について
はダノ/ユ記号かつケラれている。
第1図の場合ど異なって、第2図の実施例における加圧
板16は、底板14内の拡大された穴34′を貫通する
中央のねじピノ58を(+fiiえており、底部に球体
30’が嵌め込まれていて、この球体30′は二重ダイ
アフラム円筒38に支えられている。ねじピン581:
にはばねす)71−60が加減調節可能に配置されてい
て底板14上にばね作用をもって支えられている。圧電
積層体が相応のはね作用によって予圧される場合けばね
ナンド60がカウンタナツト62によって所定位置に位
置される。
第3図に示ず引張型の変位装置の場合、底板14と加圧
板16とがその位置を逆にされており、1つの引張棒6
4か配置されていて、その球形頭部66か二重ダイアフ
ラム円筒38の上側の分割体40′に係合している。こ
の上側の分割体40′はこのだめ相応のおう所68およ
び中央孔70を有している。引張棒64はその上部範囲
にねし山を有しており、とのねじ山に加圧板16の管状
突出部24内に支えられたねしスリーブ74がかみ合っ
ていて圧電積層体への予圧を調節することができる。こ
の場合ばね作用が二重ダイアフラム円筒38によってあ
たえらJIている。ねじスリーブ74はカウンタナツト
62によって固定されている。
この第3図の実施例の場合、底板14と加圧板16との
間に締付は固定された圧電積層体は独立した構成ユニッ
トではなく、むしろ二重ダイアフラム円筒38を介して
ばね作用のもとに積層体に予圧をあたえて集積構造体に
する必要がある。
第4図および第5図に示す引張型の変位装置は、第3図
の実施例に対して主として圧電積層体の構造高さが小さ
い点およびその結果として精確な熱膨張補償が行なわれ
ない点て異なる。
この場合、引張棒64用の金属を適当l/(選択するこ
とによって精確でない熱膨張補償を行なうことができる
。さらに、引張棒64の二股ヒンノ支持が設けられてい
る。
第4図によれば半球形の予圧ナツト74か加圧板16内
に相応の輪郭で形成されている中央おう所において支え
られ、引張棒64のねじ山かとの予圧ナツト74を貫通
している。予圧ナツト74は加圧板16を弾性的に圧電
積層体に締 め利け、この場合二重ダイアフラム円筒3
8自体がばね力をあたえる。予圧ナツト74はカウンタ
ナツト62によって位置固定されている。
第3図および第4図の実施例において二重ダイアフラム
円筒38の両方の分割体40’、42間の光学的接触部
が引張力を受けるのに対して、第5図に示す引張型の実
施例においては光学的接触部か圧縮力を受ける。
このため二重ダイアフラム円筒38の下側の分割体42
′に変更が加えられていて、直径方向て横孔76が形成
されている。この横孔76内には球形もしくは円筒形の
ナツト78が挿入されており、このナツト78−\」−
から引張棒64かねし適寸れている。この下側の分割体
42′に対して上側の分割体40′はプレートから成っ
ていて、光学的接触又は金拡散によって下側の分割体4
2′に不動に結合さt上でいる。
【図面の簡単な説明】
第1図は圧縮型の圧電式変位装置の縦断面図、第2図は
別の圧縮型の圧電式変位装置の縦断面図、第3図は引張
型の圧電式変位装置の縦断面図、第4図は別の引張型の
圧電式変位装置の縦断面図、第5図はさらに別の引張型
の圧電式変位装置の縦断面図である。 10 圧電セラミック材の円板、12 電極、■4 底
板、16 加圧板、18 中央穴、20 円筒壁、22
−ねし山、24・管状突出部、26 肩部、28 突き
棒、30 下端部、32 ねじヒ0/、34 穴、36
 ナツト、38 =ルダイアノラム円筒、40 、42
  分割体、44.44’・中央ウェブ、牛δ、50す
/グダイアフラム、52 多層鏡、54 ねじキA′ノ
ブ、56 リ/グフラノノ、58 ねし7ヒ0ン、60
 げねナツト、62 ツノウ/クナノト、64 引張棒
、66 球形類fτ13.68、掠う所、70−・中央
穴、74− T−11ナツト、76 横孔、78 円筒
ナノト 手続補正書(方式) 昭和58年9 月 6 日 4.1−許庁長官殿 1 事件の表示 昭和58年特許願第84263号2 
発明の名称 圧電式変位装置ぺ 3 補正をする者 車外との関係  特許出願人 名称    ハニーウェル・ゲゼルシャフト・ミツト・
ベシュレ/クテル・ハフラング 4復代理人 6 補正の対象

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 ■ 圧電式変位装置であって、多数重ね合わぜだ圧電セ
    ラミック材の円板および円板相互間に配置した電極を備
    えだ積層体から成っているものにおいて、積層体(10
    ,12)がゆるく重ね合わされていて、ばね郵相(60
    ゜38)によって機械的に締め付けられていることを特
    徴とする、圧電式変位装置。 2 電極(12)が圧電セラミック相の円板(10)間
    にゆるく挿入されている特許請求の範囲第1項に記載の
    圧電式変位装置。 3 電極(12)が特定の形状によって圧電セラミック
    材の円板(10)上に配置されている特許請求の範囲第
    1項に記載の圧電式変位装置。 4゜積層体(10,12)が底板(14)と加圧板(1
    6)との間に配置されており、積層体(10,12)は
    中央に貫通穴(18)を有していて、この貫通穴(18
    )に加圧板(16)の突出部(24)が嵌1っている特
    許請求の範囲第1項に記載の圧電式変位装置。 5 加圧板(16)が移動可能であって、ばね郵相(6
    0,38)によって底板(14)に向かって予圧されて
    いる特許請求の範囲第4項に記載の圧電式変位装置。 6 ばね郵相が1つの移動可能な機構(38)によって
    構成されていて、この機構(38)に加圧板(16)が
    支えられている特許請求の範囲第5項に記載の圧電式変
    位装置。 ■ 加圧板(16)が1つの球形体(30,66,78
    )を介して移動可能の機構(38)に支えられている特
    許請求の範囲第6項に記載の圧電式変位装置。 8 加圧板(16)の突出部が管状突出部(24)の形
    をなしており、この管状突出部(24)内にばね部材(
    38)に支えられた郵相(28)が保持されている特許
    請求の範囲第4項に記載の圧電式変位装置。 9 管状突出部(24)が積層体の圧電セラミック相の
    円板(10)と同じ圧電セラミック相から成っており、
    この管状突出部(24)に積層体に対して相対的な温度
    膨張が許容される特許請求の範囲第8項に記載の圧電式
    変位装置。 10  管状突出部(24)内に保持された部月(28
    )は移動可能の機構(38)によって圧縮負荷又は引張
    負荷を受ける特許請求の範囲第8項に記載の圧電式変位
    装置。 1〕−移動可能の機構(38)は二重ダイアフラム円筒
    から成っている特許請求の範囲第6項に記載の圧電式変
    位装置。 工2  二重ダイアフラム円筒(3δ)は2分割構造で
    あって、両方の分割体が互いに結合されている特許請求
    の範囲第11項に記載の圧電式変位装置。 ■3  二重グイアフラム円筒(38)はゼロデュール
    から成っており、両方の分割体が互いに光学的接触をな
    しているか又は金拡散法によって結合されている特許請
    求の範囲第12項に記載の圧電式変位装置。 14、  圧電セラミック相の円板(1o)並びに管状
    突出部(24〕付きの加圧板(16)の材料がヒステリ
    ンス現象およびクリープ現象のない利料である特許請求
    の範囲第1項〜第1δ項の内いずれか1項に記載の圧電
    式変位装置。 ■5  底板(14)並びに支持部材(28)が温度膨
    張係数の極めて小さなU’ KAから成っている特許請
    求の範囲第8項に記載の圧電式変位装置。 16  鉢形の底板(14)並びに引張棒(64)は選
    定された金属から成っていて、積層体に対して相対的な
    温度膨張を生ずる特許請求の範囲第8項に記載の圧電式
    変位装置。 17、  二重ダイアフラム円fs(38)がス−・ξ
    −・アンパのような金属から成っていて、両方の分割体
    は互いに締結されているか又は溶接されている特許請求
    の範囲第12項に記載の圧電式変位装置。
JP58084263A 1982-05-17 1983-05-16 圧電式変位装置 Granted JPS5925286A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3218576.6 1982-05-17
DE3218576A DE3218576C2 (de) 1982-05-17 1982-05-17 Piezoelektrisches Stellglied

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Publication Number Publication Date
JPS5925286A true JPS5925286A (ja) 1984-02-09
JPH0324792B2 JPH0324792B2 (ja) 1991-04-04

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ID=6163864

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EP (1) EP0094635B1 (ja)
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