JPS5924083B2 - 二酸化塩素−塩素水溶液の製法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は二酸化塩素及び塩素のガス混合物から二酸化
塩素−塩素水溶液の製法に関する。

漂白操作、代表的こはセルロース繊維材料パルプの漂白
ζこ使用する二酸化塩素は一般に下式％式％ による酸媒体中の塩化物による塩素酸塩の還元を含む、
多くの異る方法によって生成される。

普通二酸化塩素の生成は硫酸または他の強無機酸を含む
酸媒体中アルカリ金属塩化物によるアルカリ金属塩素酸
塩の還元から成る。

アルカリ金属がナトリウムの場合のこの方法では反応は
式％式％ によって表わされる。

別法は塩酸中でアルカリ金属塩素酸塩を塩酸中で還元す
ることから成り、塩酸は反応剤と酸媒体との両者を提供
する。

この方法はアルカリ金属がナトリウムの場合式 ％式％ によって表わされる。

従ってこれらの方法で製造された二酸化塩素ガスは塩素
との混合物として得られる。

二酸化塩素ガスは高分圧では爆発性をもつことに鑑みて
、二酸化塩素と塩素との混合物ガス混合物は通常不活性
ガス例えば空気及び（または）スチームで希釈するのが
普通である。

スチームによる希釈は反応器を減圧下に保ち、反応混合
物を沸点に維持することによって達成できる。

代表的な方法はカナダ特許第８２５，０８４号、８２６
．５７７号及び９１３，３２８号に記載されている。

二酸化塩素は代表的な漂白プラント手順、ＤｃＥＤＥＤ
またはＣＤＥＤＥＤにおけるような漂白操作に対して水
溶液として使用される。

上記手順において、Ｄは二酸化塩素溶液での漂白、ＤＣ
は水溶液中の有効塩素の少くとも５０％を二酸化塩素が
与える二酸化塩素と塩素との水溶液による漂白、ＣＤは
水溶液中の有効塩素の５０％未満を二酸化塩素が与える
二酸化塩素と塩素との水溶液による漂白、Ｅは水酸化ナ
トリウム水溶液による力性抽出を表わす。

二酸化塩素発生器から生ずるガス混合物を処理する一慣
用の方法は該ガス混合物を水と接触させて全二酸化塩素
と若干の塩素とを吸収させ、残存塩素を別個に回収する
ことから成る。

分離した塩素はこれを次に別に水に吸収させる。

これらの溶液を第１漂白工程において使用するために所
望の相対割合の二酸化塩素と塩素とを含有する二酸化塩
素−塩素溶液が得られるように後で合併する。

二酸化塩素と塩素とは共にわずかにしか水に溶けないか
ら、これら漂白用薬剤を漂白プラントに加えるためには
大量の水を添加することを必要とし、この後者の水は流
出液として処理するか、或は流出物のない製造系におい
ては蒸発しなければならない。

先行技術によるこの吸収操作においては、ガス混合物と
接触させ、塩素を溶解する水は代表的には約１０℃未満
に冷却しなければならない。

一方策１漂白工程で使用する二酸化塩素−塩素水溶液は
効果的な漂白を行うためには加温しなければならない。

こうして漂白プラントに供給される漂白用勲すと共に使
用される搬送体である水の体積が多ければ多い程、エネ
ルギーの所要量は多くなる。

この発明においては漂白プラントで使用する二酸化塩素
と塩素とを搬送する水の体積が著しく減少し、その結果
、スチーム及び動力の所要量、生成物貯蔵装置、流出液
体積、水の使用量及び資本投下において著しい節減にな
る。

この発明（こおいては二酸化塩素と塩素との混合物はこ
れを水と接触させて二酸化塩素を全部と一部の塩素とを
溶解させて残留ガス中の塩素の分圧を最机のガス混合物
に比べて増大させ、前記第１ガス−液接触工程で生成し
た二酸化塩素−塩素水溶液と上記による増大した分圧の
塩素ガス流とを接触させて塩素を上記水溶液中に溶解さ
せ、それによって二酸化塩素−塩素水溶液中の塩素の濃
度を増大させる。

この発明を更に添付図面により例示しながら説明する。

第１図の実施態様こついてまず述べると、二酸化塩素、
塩素、スチーム及び不活性ガス代表的には空気のガス混
合物は線１０により第１ガス−液接触塔１２に供給され
る。

線１０のガス混合物はカナダ特許第８２５，０８４号図
び８２６，５７７号及び９１３，３２８号明細書に記載
の方法によって反応器を大気圧より低い圧力に保ちなが
ら反応媒体の沸点で二酸化塩素及び塩素を発生させるこ
とによって生成する。

空気を反応器中に流入させて反応器中の絶対圧を代表的
には１００〜２５０ＭＨ，！ｉｌζこ制御し、二酸化塩
素、塩素、スチーム及び空気のガス混合物を反応器から
流出沓せる。

このガス混合物を冷却して少くとも一部のスチームを凝
縮させ、第１ガス−液接触塔１２中の水性媒体の温度上
昇を制御する。

第１ガス−液接触塔１２は緊密な向流ガス−液接触を達
成する任意の慣用のタイプの第１ガス−液接触帯域１４
を含む。

第１ガス−液接触帯域１４は二酸化塩素発生器と同じ大
気圧未満の圧力に維持する。

カス混合物は第１ガス−液接触帯域１４を通って上昇し
て二酸化塩素−塩素水溶液と向流的に接触する。

この後者の水溶液は第１カス−液接触帯域１４の頂部に
おいて第１ガス−液接触塔１２に線１６により供給され
る氷が上記帯域１４を降流する間に帯域１４の上部段階
中で二酸化塩素と塩素とを溶解することにより得られる
。

水は慣用の方法、代表的にはスプレーノズルを通して線
１６Ｇこより塔１２（こ供給される。

水は代表的Ｏこは約１０℃未満の温度例えば約５℃の温
度である。

帯域１４の下部でガス混合物と接触する二酸化塩素−塩
素水溶液はガス混合物から二酸化塩素を溶解し、同時に
塩素を放出する。

同時にガス混合物からの水の蒸気の凝縮が起り、溶液の
温度が上昇し、二酸化塩素及び塩素の分圧が温度上昇に
対応して増大する。

この温度上昇は代表的には約３°Ｃ〜６°Ｃで、線１０
によってガス混合物に供給されるスチームの量Ｏこよっ
て決定され、上記温度上昇は二酸化塩素発生器から流出
するガス混合物が第１ガス−液接触塔１２への通過前に
該ガス混合物からスチームが凝縮する程度によって決定
される。

水溶液相へ二酸化塩素の溶解及び該相から塩素の放出は
下記の現象により生起する。

接触帯域１４は大気圧未満の圧力で運転され、二酸化塩
素は凝縮した水の蒸気及び存在する水性相によって塩素
より迅速に溶解されるから、凝縮した水の蒸気及び存在
する水性相中へ蒸気相から二酸化塩素が吸収除去される
と、蒸気相中の塩素の分圧が増大する。

従って、第１ガス−液接触帯域１４を上昇してゆくと、
塩素溶解質量速度は塩素分圧の増大のために増太し、一
方二酸塩素溶解質量速度は減少する。

従って帯域１４のある高さにおいて、塩素蒸気は液相と
平衡になり、従ってこの高さより下の所では塩素は水性
相から脱離され、二酸化塩素は上記平衡点より高いとこ
ろでは理論平衡値よりも塩素分圧が低いために水性相に
溶解する。

第４図は第１ガス−液接触帯域１４を上昇してゆく時の
二酸化塩素と塩素との両者の分圧及び濃度の変化を示す
。

このグラフ及び先に詳細に記述したところかられかるよ
うに、水性相中の二酸化塩素の濃度は高さが高くなるに
つれて減少し、それに平行してカス相における二酸化塩
素の分圧も同様に減少する。

これに反して水性相中の塩素濃度はガス相と水性相とが
平衡するところまでガス相中の塩素の分圧の増大に平行
して帯域１４の高さが上方にゆくにつれて水性相中の素
水濃度は増大する。

この平行点より上方では塩素の分圧及び濃度は共に低下
する。

第１ガス−液接触帯域１４での向流接触により生成し、
線１７により第１カス−液接触塔１２を去る二酸化塩素
−塩素水溶液は二酸化塩素濃度の優勢な状態及び溶液の
温度及び糸上の圧力の下での水溶液中の塩素の溶解度に
相当する濃度で溶解塩素を含有する。

第１ガス−液接触帯域１４においては線１０により供給
されるガス混合物の実質上全二酸化塩素含量はガス混合
物から溶解し、線１７中の二酸化塩素溶液中に存在する
ことになる。

線１７の水溶液中に存在する二酸化塩素の濃度は線１６
中の水の流速及び線１０中のカス混合物の流速に依存す
る。

第１ガス−液接触塔１２の頂部から線１８により流出す
る二酸化塩素を含まない塩素及び空気の含ガス混合物は
コンプレッサー１９に通され、ここで線１０中の最初の
カス混合物中の塩素分圧に比して塩素分圧が増大される
。

慣用の構造のコンプレッサー１９は第１ガス−液接触帯
域１４及び二酸化塩素発生器を所望の大気圧未満の圧力
に維持するのに役立つ。

従ってコンプレッサー１９の下流側のガス混合物の絶対
圧は第１ガス−液接触帯域１４の大気圧未満の圧力より
高く、好適には大気圧に相当する。

圧縮された塩素は線２０により圧縮されたガス混合物を
冷却するために冷却器２２に送られる。

コンプレッサーがスチームエジェクターの形をとらない
ならば、第１ガス−液接触塔１２を去るガス混合物の温
度、コンプレッサー１９の上流側及び下流側の相対圧及
び最終溶液に所望される二酸化塩素及び塩素の絶対濃度
に応じて冷却器を省略することができる。

コンプレツーの上流側と下流側との間の圧力の変化を最
小に維持するように圧力差と温度とのパラメータバラン
スさせることが好ましい。

このような冷却を行う場合、第２ガス−液接触帯域２８
の運転温度を上記二酸化塩素優勢な濃度における塩素水
和物の生成温度より高く維持するものとする。

塩素放出線２４が線２０中の所望割合の塩素を系から放
出するため（こ設けられる。

塩素の放出は普通一般に行われている条件の下で、及び
最終二酸化塩素−塩素水溶液中に所望される二酸化塩素
濃度下で線１７中の二酸化塩素−塩素溶液に溶解できな
い全塩素の部分を除去するのに使用される。

線２４によって放出される塩素の割合は線１０中のガス
混合物の全塩素の少割合、代表的には１０体積％より少
い量にすぎない。

このようにして放出された塩素はｆｌｌｊこ水に溶解し
、後でこの発明の実施態様の操作によって製造される最
後二酸化塩素−塩素水溶液と合併され、それによって放
出された塩素は生成水溶液中に存在する。

線２４中での塩素放出はまた系から空気を除去するのに
も役立つ。

或はまた、放出した塩素はこれを第１及び第２力性抽出
工程で使用する水酸化ナトリウム溶液中に吸収させ、塩
素分を漂白プラントに導入し、付加的な水の導入を避け
ることができる。

更に別の方法は放出した塩素を水酸化ナトリウム溶液に
吸収し、こうして生成した次亜塩素酸塩を第１漂白工程
へ供給してもよい。

また、その他の方法は放出した塩素を水素と反応させ、
生成した塩化水素を二酸化塩素発生器のようなパルプ工
場における他の壕所で使用してもよい。

線２４で塩素を放出する代りに、例えば並列に運転して
いる二酸化塩素発生器からの別の圧さく塩素を線２０中
の塩素−空気ガス混合物中に供給してもよい。

残りの圧さくした塩素を線２５によって、緊密なガスー
液向流接触を可能となす任意の便宜な構造の第２ガス−
液接触帯域２８を含有する第２ガス−液接触塔２６の下
端に供給する。

第２ガス−液接触帯域の圧力はコンプレッサー１９の下
流側の圧力に相当する圧力、代表的には大気圧である。

線２５中の塩素ガスの温度は線１７中の二酸化塩素水溶
液中の温度と実質上同じ温度すなわち約７℃であるのが
好適である。

線１７中の二酸化塩素−塩素水溶液は第２ガス−液接触
塔２６の頂部に送られ、線２５により供給される塩素と
接触する。

二酸化塩素−塩素水溶液が第２ガス−液接触帯域２８を
通って下降すると、該水溶液は塩素−空気の上昇流と向
流接触する。

塩素は第１ガス−液接触帯域１４中より第２ガス−液接
触帯域２８中では高分圧をもつから、塩素ｔｔｉ上記上
記水溶液上って吸収され、若干の二酸化塩素は脱離され
る。

得られた塩素富化二酸化塩素−塩素水溶液は線３０（こ
より第２ガス−液接触塔２６から取り出される。

水溶液Ｏこ溶解された塩素の増加した濃度は上記水溶中
の最初の塩素濃度、接触帯域１２及び２８中の塩素の分
圧の差、接触帯域２８の温度、ガス相と水性相の相対流
速及び接触帯域２８の高さζこ依存する。

これらのパラメータを制御することによって線３０の溶
液中で塩素及び二酸化塩素の溶解度の限度までの塩素対
二酸化塩素の任意の相対的割合を達成できる。

第２ガス−液接触帯域２８から生ずる二酸化塩素、塩素
及び空気のガス混合物は線３２により第１ガス−液接触
基１２にリサイクルされ、二酸化塩素と塩素との相対的
割合が線３２における二酸化塩素と塩素との相対的割合
の値と同じ第１ガス−液接触帯域１４における高さに相
当する第１ガス−液接触帯域１４の高さｈｏこおいて第
１ガス−液接触基１２に供給し、その結果第１ガス−液
接触帯域１４へ線３２中のガス混合物の導入はその点に
おける接触帯域１４に存在するガス相−液相平衡に実質
上悪影響を与えることはない。

線３２中のガス混合物の一部或は全部を第３図に示すよ
うに二酸化塩素発生器にリサイクルしてもよい。

この場合においては線３２に含有される空気は二酸化塩
素発生器の不活性ガス所要量の少くとも一部を与える。

塩素が放出されない場合従って空気が線２４により系か
ら放出されない場合、線３２中のガス混合物は系に空気
の蓄積されるのを阻止するために二酸化塩素発生器ヘリ
サイクルすることが必要である。

この場合、空気は閉環系中を循環し、漏洩分を補供する
以外に外部からの供給を必要としない。

線３２中のガス混合物を全部二酸化塩素発生器ヘリサイ
クルし、塩素−空気を線２４により放出する場合には、
線２４によって放出した空気を補充するのに必要なだけ
の程度の量の外部の空気の導入が必要である。

線２５中の塩素の全部を第２ガス−液接触基２６に通す
必要がない場合には、線２５における塩素の一部を二酸
化塩素発生器ヘリサイクルして二酸化塩素に対する付加
的な希釈剤として作用させる。

このような塩素リサイクルは代表的には線３２中の二酸
化塩素、塩素及び空気のガス混合物の全部または一部を
二酸化塩素発生器ヘリサイクルするのと結合して行うと
よい。

或は線２５中の塩素ガスの一部を線３２中のガス混合物
の場合のように第１ガス−液接触帯域１４にリサイクル
してもよい。

第１ガス−液接触帯域１４を１個の連続したガス−液接
触帯として説明した。

そしてこのようＱこそれを運転するのが好適であるが、
しかし所望によりこの第１ガス−液接触帯域１４を高さ
ｈで分割して２つの部分に分離してもよい。

従ってこの発明のこの実施態様０こおいては、二酸化塩
素−塩水溶液が線１０によって供給される最初のガス混
合物から生成され、単にガスを水に吸収させることによ
って得られるのより一層高割合の塩素を含有する。

第１図に記載の系は線２４で塩素を放出する場合は別と
して、物質収支がバランスしているから線３０の二酸化
塩素−塩素水溶液は線１０における最初のガス混合物の
全部の二酸化塩素及び線１０における最初のガス混合物
の全部の塩素、但し線２４により放出した量だけ少い塩
素を含有する。

線１８の塩素ガスの大部分または全部が別の水性媒体で
はなく線１７の二酸化塩素−塩素水溶液（こ吸収される
から、代表的には第１漂白工程で使用するための漂白プ
ラントへの線３０中の水溶液の供給液は上記第１漂白工
程へ二酸化塩素及び塩素漂白剤を搬送する水の量を著し
く減少させ、それによって取扱う流出液の体積を減少さ
せ、また漂白プラント中で使用前のガス吸収用に要する
冷却水の体積及び漂白プラントで使用前の加熱を要する
水溶液の体積を減少させる。

第１図の実施態様においては、線１７の二酸化塩素−塩
素水溶液は全部塩素吸収のためＱこ第２ガス−液接触基
２６に送られて、漂白プラントの第１漂白工程で使用す
るのに好適な塩素富化二酸化塩素−塩素化溶液を線３０
において生ずる。

このような操作は、実質上塩素を含まない二酸化塩素製
造可能な別の二酸化塩素製造操作が使用される場合、或
はＣＤＥＤＥＤまたはＤｃＥＤＥＤ漂白手順の第２及び
第３漂白工程で使用するための低塩素濃度をもつ二酸化
塩素水溶液を造るために多数のこのような操作を使用す
る場合に使用することを意図するものである。

線１７の二酸化塩素−塩素水溶液が上記第２及び第３漂
白工程で使用する二酸化塩素溶液において許容できる塩
素濃度をもつ場合には、漂白プラントの二酸化塩素全要
求量を製造する１個の二酸化塩素発生器を使用すること
が可能であり、線１７の二酸化塩素−塩素水溶液の一部
を第２及び第３漂白工程へ直接送給し、線１７の残余の
水溶液を塩素富化のために第２ガス−液接触基２６に供
給し、線３０の塩素富化二酸化塩素−塩素水溶液を第１
漂白工程で使用することが可能である。

しかし線１７の二酸化塩素−塩素水溶液中の塩素濃度が
漂白プラントの上記後段階の漂白工程で使用するのに許
容できる濃度よりも高い場合には、これらの漂白工程で
要求される割合の二酸化塩素−塩素水溶液中こなるまで
塩素脱離操作を行って塩素濃度を低下させる。

このような塩素脱離操作を第２図の実施態様に説明する
。

この実施態様においては第１図に示す参照番号と同じ事
項については同じ参照番号をもって呼ぶものとする。

この実施態様では第３ガス−液接触基３３を付加的に含
み、第１ガス−液接触基１２から回収した線１７の二酸
化塩素−塩素水溶液は第２ガス−液接触基２６と第３ガ
ス−液接触基３３とに分割さ札上記第２塔２６には線３
４により、上記第３塔３３には線３６（こより送給され
る。

第３ガス−液接触基３３は緊密なガスー液向流接触を可
能となす慣用の構造の第３ガス−液接触帯域３８を含む
。

二酸化塩素−塩素水溶液が第３ガス−液接触帯域３８を
通して下降すると、線４０により第３ガス−液接触基３
３に供給される空気または他の不活性ガスの上昇流と向
流接触する。

二酸化塩素及び塩素の両者共に空気によって水溶液から
脱離され、従って二酸化塩素、塩素及び空気のガス混合
物が線４２により第３ガス−液接触基３３の頂部から除
去される。

線３６の水溶液中の二酸化塩素の量は塩素の量よりかな
り多いから、第３ガス−液接触帯域３８で二酸化塩素と
塩素との両者を脱離することは水性相の二酸化塩素と塩
素との両者の絶対濃度の低下効果をもち、線４４０こよ
り第３ガス−液接触基３３の底部を去る少割合の溶解塩
素を含有するに過ぎない二酸化塩素水溶液を生じ、該水
溶液中の塩素の割合は不活性ガス量、第３−ガスー液接
触帯滅３８の運転温度、線４４の水溶液中の所望の二酸
化塩素濃度、線３６の水溶液中の二酸化塩素及び塩素の
最初の濃度及び第３ガス−液接触帯域３８の高さに依存
する。

第３ガス−液接触帯域３８はできるだけ低い温度、好適
には約１０℃未満の温度で運転するのが好適であり、同
時に第３ガス−液接触帯域３８は第１ガス−液接触帯域
１４の温度より高い温度で運転することが肝要である。

線４２の二酸化塩素、塩素存び不活性ガスのガス混合物
を第１ガス−液接触帯域１４に高さｈ２のところで送給
するために第１ガス−液接触帯域１２にリサイクルする
。

上記高さｈ２は二酸化塩素と塩素との相対割合が線４２
のガス混合物の二部ヒ塩素と塩素との相対割合値と同じ
値をもつ第１ガス−液接触帯域１４における高さに相当
する。

同様に、線３２のガス混合物を、線４２の送給位置より
上で、且つ二酸化塩素と塩素との相対割合が線３２のガ
ス混合物中の二酸化塩素と塩素との相対割合値と同じ値
をもつ第１ガス−液接触帯域１４における高さに相当す
る高さｈｌのところで第１ガス−液接触帯域１４に送給
するために第１ガス−液接触帯域基１２ζこリサイクル
する。

線３２及び線４２のガス混合物を第１ガス−液接触帯域
１４に導入しても該接触帯域１４Ｉこおいてそれぞれの
導入点で存在するガス相−液相の平衡に悪影響を与える
ことはない。

第１図の実施態様と同じように、第１ガス−液接触帯域
１４はこれを１個のガス−液接触帯域として説明したが
、第１カス−液接触帯域１４を高さｈｌ及び高さｈ２で
分割して３個の区域に分けることも可能である。

しかし、図に説明したように、１個の連続したガス−液
接触帯域を備えることが好ましい。

こうして第２図の実施態様では線３０において塩素が富
化した二酸化塩素−塩素水溶液を生じ。

線４４においては塩素が減少した二酸化塩素−塩素水溶
液を生じ、これらの水溶液を合併すれば線２４によって
系から放出された塩素だけ少いが、線１０中に含有され
る全二酸化塩素及び塩素を含有する。

線３０及び４４中の２つの溶液中の薬剤の濃度は上に検
討した種々のパラメータの適当な選択によって、及びそ
れぞれ第２ガス−液接触基２８へ線３４により送給する
、及び第３ガス−液接触基３３へ線３６により送給する
線１７の二酸化塩素−塩素水溶液の割合を変えることに
よって制御することができる。

線３０の塩素富化二酸化塩素−塩素水溶液は漂白プラン
トの第１工程における漂白溶液を得るのに使用でき、一
方、線４４の塩素が減少した二酸化塩素−塩素水溶液は
漂白プラントの第２及び第３漂白工程における漂白溶液
を得るのに使用できる。

線３０及び４４の水溶液中において漂白プラントへ二酸
化塩素及び塩素を搬送する水の体積は漂白プラントへ上
記漂白用薬剤を供給するのに普通使用される水の体積よ
り著しく少いから慣用の操作に比較して上に一層詳細瘉
こ論述したようにかなりの経済的利益が得られるのであ
る。

線２４により代表される塩素の放出は線３４の二酸化塩
素−塩素の割合の水溶液への塩素の限定された溶解度の
ためにこの実施態様においては必要である。

この放出した塩素を別個に水に溶解し、これを線３０の
塩素富化二酸化塩素−塩素水溶液と後で合併しても全体
の水の所要量を著しく増大するものではなく、この全体
の水の所要量は線１８の全塩素を第１漂白工程へ送給す
るために線１７の二酸化塩素溶液の少くとも一部と合併
する前に別個に水に溶解する先行技術の配列よりも顕著
な節減をなすものである。

第１図の実施態様に関連して述べたように、線３２の二
酸化塩素、塩素及び空気のガス混合物は第１ガス−液接
触基１２でなく二酸化塩素発生器ヘリサイクルしてもよ
い。

第３図の実施態様はこのような操作を説明するものであ
る。

この図においても第１図及び第２に特定した類似の事項
を使用する場合には同じ参照番号を採用した。

第３図の実施態様においては、線３２の二酸化塩素、塩
素及び空気のガス混合物を線２４によって放出した空気
または漏洩によって失われた空気を補充するために線５
０ζこよって供給される付加的な空気で補充後線４８ｔ
こより二酸化塩素発生器へ供給する。

反応薬剤を二酸化塩素発生器４６へ線５２により送給し
、固体副生物を線５４により除く。

線５２中の反応薬剤は塩素酸すｔ−ＩＪウム、還元剤及
び酸を含み、線５４の固体副生物は酸の陰イオンのナト
リウム塩である。

前述のカナダ特許第８２５．０８４号、８２６，５７７
号または９１３．３２８号に概説する操作の一つを二酸
化塩素発生器４６において使用できる。

二酸化塩素、塩素、スチーム及び空気のカス混合物を線
５６によってコンデンサー５８４こ通し、ここでスチー
ムを必要な程度にガス混合物から凝縮させる。

得られた混合物は線１０により第１ガス−液接触基１２
に送給される。

例 第１ガス−液接触基１２中１８０７／ｇ１Ｈｇの圧力の
第１図に示す装置を設置した５３．１９ＭＨ，９の二酸
化塩素、２９．２９５ＭＨ，９の塩素を含有する二酸化
塩素、塩素、スチーム、空気の混合物を線１０により１
０理論段階を備えた第１ガス−液接触帯域１４の底部に
送給する。

水を線１６により約５°Ｃの温度で第１ガス−液接触基
１２へ送給し、約１［／ｌ（ｇｐｌ）の二酸化塩素及び
約２４ｇ／ｌの塩素を含有する水溶液を線１７により回
収する。

線１８により第１ガス−液接触基１２から取り出した塩
素及び空気をより高い圧力のものに圧さくし、次いで圧
さくしたガスを第２ガス−液接触基２６の底部に送給し
た。

線１７の二酸化塩素−塩素水溶液を第２ガス−液接触基
２６の頂部に送給し、圧さくしたガスと向流接触させた
。

約１０Ｅｌ／ｌの二酸化塩素と約７ ｇ／ｌの塩素とを
含有する水溶液を線３０中で回収した。

従ってこの発明は二酸化塩素及び塩素の所望の濃度をも
つ二酸化塩素−塩素水溶液を与え、且つ漂白プラントへ
送給する漂白操作Ｑこおけろ水性媒体の体積を顕著に減
少できる多用性、融通性ある方法を提供するものである
。

この発明の範囲内で改変が可能である。

【図面の簡単な説明】 第１図はこの発明の１実施態様のフローシートであり、
第２図はこの発明の第２の実施態様のフローシートであ
り、第３図は第２図の実施態様の改変形である。 第４図は第１図ないし第３図の実施態様において使用す
る第１接触塔における二酸化塩素及び塩素の分圧及び濃
度を説明するグラフである。 図中：１２・・・・・・第１ガス−液接触基、１４・・
・・・・第１ガス−液接触帯域、１９・・・・・・コン
プレッサー、２２・・・・・・冷却器、２４・・・・・
・塩素放出線、２６・・・・・・第２ガス−液接触基、
２８・・・・・・第２ガス−液接触帯域、３３・・・・
・・第３ガス−液接触基、３８・・・・・・第３ガス−
液接触帯域、４６・・・・・・二酸化塩素発生器、５８
・・・・・・コンデンサー。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 二酸化塩素と塩素とのガス混合物を水と接触させて
   その全部の二酸化塩素と一部の塩素とを該ガス混合物か
   ら溶解することによって該ガス混合物から二酸化塩素−
   塩素水溶液を製造する方法において、第１ガス−液接触
   帯域番こおける上記水との接触から回収した塩素ガスの
   分圧を上記ガス混合物中の塩素の分圧を越る値に増大さ
   せ、水との接触により生成した二酸化塩素−塩素水溶液
   を増大した分圧の塩素とを第２ガス−溶接触帯域瘉こお
   いて接触させて水溶液中の溶解塩素の濃度を増大させる
   ことを特徴とする方法。 ２ 二酸化塩素発生帯域からの二酸化塩素と塩素とのカ
   ス混合物がスチーム及び不活性ガスをも含み、水との接
   触操作を大気圧より低い圧力の第１ガス−嵌接触媒帯域
   中で向流的に行って、スチームを凝縮させ、水との接触
   から生じ、且つ第１ガス−液接触帯域から取出した塩素
   −不活性カスのガス混合物の塩素分圧を、該ガス混合物
   を圧さくすることによって二酸化塩素、塩素、スチーム
   及び不活性ガスの最初の混合物中の分圧を越える値に増
   大させて、大気圧に等しいか或はそれ以下の圧力の塩素
   −不活性第２ガス混合物となし、第１ガス−液接触帯域
   において生成した二酸化塩素−塩素水溶液を塩素−不活
   性第２カス混合物と第２ガス−液接触帯域で向流的Ｏこ
   接触させて二酸化塩素−塩素水溶液中に塩素を溶解させ
   る、特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３ 不活性ガス、未溶解塩素及び第２ガス−液接触帯域
   での接触中に除去された二酸化塩素含有残存ガスを第２
   ガス−液接触帯域から第１ガス−液接触帯域ヘリサイク
   ルするか、あるいは前記残存ガスを、第１ガス−液接触
   帯域へ送給される二酸化塩素、塩素、スチーム及び不活
   性ガスのガス混合物を生成する二酸化塩素発生帯域ヘリ
   サイクルする、特許請求の範囲第２項記載の方法。 ４ 塩素−不活性ガス第２ガス混合物の一部を二酸化塩
   素発生帯域へ送給する、特許請求の範囲第２項記載の旋
   流 ５ 塩素−不活性ガス第２ガス混合物と第１ガス−液接
   触帯域から第２ガス−液接触帯域へ送る二酸化塩素−塩
   素水溶液とが実質上同じ温度である、特許請求の範囲第
   ２項ないし第４項のいずれかに記載の方法。 ６ 第１ガス−液接触帯域と第２ガス−液接触帯域とが
   約１０°Ｃ未満の温度をもつ、特許請求の範囲第２項な
   いし第５項のいずれかに記載の方流７ 二酸化塩素発生
   帯域からの二酸化塩素、塩素、スチーム及び不活性ガス
   のガス混合物を水と接触させてその全部の二酸化塩素と
   一部の塩素とを該ガス混合物から溶解することによって
   該ガス混合物から二酸化塩素−塩素水溶液を製造する方
   法において、第１ガス−液接触帯域における上記水との
   接触から回収した塩素ガスの分圧を上記ガス混合物中の
   塩素の分圧を越る値に増大させ、第１ガス−液接触帯域
   からの二酸化塩素−塩素水溶液の一部だけを第２ガス−
   液接触帯域において増大した分圧の塩素を含む塩素−不
   活性ガスー第２ガス混合物と向流接触させて水溶液中の
   溶解塩素の濃度を増大させ、上記水溶液の残余は第３ガ
   ス−液接触帯域において不活性カスと第１カス−液接触
   帯域に入る水の温度より高い温度で向流接触させて溶解
   塩素濃度の減少した二酸化塩素水溶液を生成させ、不活
   性ガス及び水溶液から除かれた二酸化塩素及び塩素を含
   有する第３ガス−液接触帯域からの残存ガスを第１ガス
   −液接触帯域にリサイクルすることを特徴とする方法。 ８ 第３カス−液接触帯域の温度が約１０℃未満で、第
   １ガス−液接触帯域へ送給される水の温度より約３℃な
   いし約６°Ｃ高い、特許請求の範囲第７項記載の方法。