JPS59225165A - ジメチルヘキサメチレンイミンの製造方法 - Google Patents
ジメチルヘキサメチレンイミンの製造方法Info
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- JPS59225165A JPS59225165A JP10032383A JP10032383A JPS59225165A JP S59225165 A JPS59225165 A JP S59225165A JP 10032383 A JP10032383 A JP 10032383A JP 10032383 A JP10032383 A JP 10032383A JP S59225165 A JPS59225165 A JP S59225165A
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- Japan
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- catalyst
- hydrogenation
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- dimethylhexamethylenediamine
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ジメチルアジポニトリル(以下DMADNと
略す)を液相水添[7、次いで環化反応を行い高収率、
高選択率でジメチルへキサメチレンイミン(以下DMH
M Iと略す)を製造する方法に関するものである。
略す)を液相水添[7、次いで環化反応を行い高収率、
高選択率でジメチルへキサメチレンイミン(以下DMH
M Iと略す)を製造する方法に関するものである。
DMHM Iは、農薬、医薬の出発原料として有用であ
るほか、ゴムの加、硫促進剤、添加剤、合成樹脂め改質
剤、繊維の潤滑剤、静電防止剤、きらに金属の防食剤な
どの原料として広汎な用途を有する重要な物質である。
るほか、ゴムの加、硫促進剤、添加剤、合成樹脂め改質
剤、繊維の潤滑剤、静電防止剤、きらに金属の防食剤な
どの原料として広汎な用途を有する重要な物質である。
DMADNからDMHMIを製造する従来技術としては
、 DMADNをラネーニッケルの存在下で水添し、水
添で得ら扛たジメチルへキサメチレンジアミン(以ドD
MHMDと略す)を蒸留で取出し、次に触媒にアルミナ
を用いアンモニアの存在下、品温でDMHMDからDM
HMIを製造する方法。(Tetrahedrenle
tter、 1970 P−3791〜4 〕が提案さ
れているが、この製法の水添反応に関しては、詳細な説
明がなく単にラネーニッケルを用い水添を行うと記載さ
れているだけであシ詳細な製法は分らないが、反応収率
はDMI−I M Dで56%、D M Hへ4工で9
%と低い欠点がある。環化反応においては精製D M
I−1b4 Dを用いているため、水添液を分離砧製す
るための精製設備が必要である。又、反応収率が71%
と低く、かつアンモニアを用い高温で反応するため工采
的製造設備が複雑になるという欠点を有しており、工業
的な製造方法としては十分なものとはいいがたい。
、 DMADNをラネーニッケルの存在下で水添し、水
添で得ら扛たジメチルへキサメチレンジアミン(以ドD
MHMDと略す)を蒸留で取出し、次に触媒にアルミナ
を用いアンモニアの存在下、品温でDMHMDからDM
HMIを製造する方法。(Tetrahedrenle
tter、 1970 P−3791〜4 〕が提案さ
れているが、この製法の水添反応に関しては、詳細な説
明がなく単にラネーニッケルを用い水添を行うと記載さ
れているだけであシ詳細な製法は分らないが、反応収率
はDMI−I M Dで56%、D M Hへ4工で9
%と低い欠点がある。環化反応においては精製D M
I−1b4 Dを用いているため、水添液を分離砧製す
るための精製設備が必要である。又、反応収率が71%
と低く、かつアンモニアを用い高温で反応するため工采
的製造設備が複雑になるという欠点を有しており、工業
的な製造方法としては十分なものとはいいがたい。
なお、DMHMDからDMH’M Iを製造する従来j
支術は、前述した1例のみであるが、]) M HM
Iと類似の骨格をもつイミンの製造法は種々報告をれて
いる。−]えば既存の方法で製造した精製へキサメチv
ン、)アミンを原料として、(1)ニッケル及ヒコバル
ト触媒を用い水及び有機溶媒の件イE下、生成物を除去
しながら行うヘキサメチレンイミンを製造する方法〔特
開昭51−1’05087号公Yし、米国特許第429
0946号明細書等〕、(2)水素の存仕下で行う(1
)と同僚の製造法〔特開昭51−43779号公報、特
開昭51−63184号公報、米L−@ ’iヶ許第1
481398号明細書〕等が提案てれている。しかしな
がら、環化反応において(1)の製造法は反応液中のジ
アミン濃度を30重量2以下、生成物の濃度を10重景
%以下にし、更に、生成物を溶媒と共沸で抜き出す操作
が必要と式れている。したがって、反応液中のジアミン
及び生成物の濃度の上限を規定することVこより反応器
の容積効率が低下する。又、溶媒と共沸で生成物を抜き
だすため用役コストが増加し、工業的には溶媒のロスが
発生する。これに加え装置が+λ雑になるという欠点を
有している。
支術は、前述した1例のみであるが、]) M HM
Iと類似の骨格をもつイミンの製造法は種々報告をれて
いる。−]えば既存の方法で製造した精製へキサメチv
ン、)アミンを原料として、(1)ニッケル及ヒコバル
ト触媒を用い水及び有機溶媒の件イE下、生成物を除去
しながら行うヘキサメチレンイミンを製造する方法〔特
開昭51−1’05087号公Yし、米国特許第429
0946号明細書等〕、(2)水素の存仕下で行う(1
)と同僚の製造法〔特開昭51−43779号公報、特
開昭51−63184号公報、米L−@ ’iヶ許第1
481398号明細書〕等が提案てれている。しかしな
がら、環化反応において(1)の製造法は反応液中のジ
アミン濃度を30重量2以下、生成物の濃度を10重景
%以下にし、更に、生成物を溶媒と共沸で抜き出す操作
が必要と式れている。したがって、反応液中のジアミン
及び生成物の濃度の上限を規定することVこより反応器
の容積効率が低下する。又、溶媒と共沸で生成物を抜き
だすため用役コストが増加し、工業的には溶媒のロスが
発生する。これに加え装置が+λ雑になるという欠点を
有している。
(2)の製造法は(1)の製造法の欠点に加え、水素を
用いることによシ、水素の製造設備の設置を必要とする
という経済上の負担のほか、危険性が増大するという欠
点を有している。又、これらの製造法は精製てれたジア
ミンを用いているため、既存の方法でジアミンを合成し
た後、精製する必要があるため精製設備の設置を必渋と
するという経済上の負担が増加するという欠点を有して
いる。
用いることによシ、水素の製造設備の設置を必要とする
という経済上の負担のほか、危険性が増大するという欠
点を有している。又、これらの製造法は精製てれたジア
ミンを用いているため、既存の方法でジアミンを合成し
た後、精製する必要があるため精製設備の設置を必渋と
するという経済上の負担が増加するという欠点を有して
いる。
又、一般に7負環のイミン(例えばヘキサメチレンイミ
ン)を製造する場合、例えば、ヘキサメチレンジアミン
からヘキサメチレンイミンを製造する場合、加熱するの
みではへキサメチレノイミンの収率は極めて低く大部分
は樹脂状物であったとの報告がある〔日本化学雑誌第8
2;を、1701貞(19614!+1ミ)〕。これは
へキサメメチンジアミンの脱アンモニア反応が同時に分
子間においても起り、2量体およびそれ以−ヒの、49
ジアミンの生成を容易にするほか、生成したヘキサメ
チレンイミンとへキサメチレンジアミンの脱アンモニア
反応生成物が生成するため、ヘキサメチレンイミンの収
率が低下すると考えられていた。これらの副生物の生成
反応を抑制する目的でヘキサメチレンジアミンの上限濃
度を規定し1、生成したヘキサメチレンイミンを系外に
除去しながら反応するとい9前述の改良技術(11(2
1の方法が提案されている。又、ε−カプロラクタムを
接触水素化してヘキサメチレンイミンを製造する方法が
あるが、この場合においても生成したヘキサメチレンイ
ミンが副反応を起はない様に反応系外へ抜き出すことが
必要であることが述べられている。
ン)を製造する場合、例えば、ヘキサメチレンジアミン
からヘキサメチレンイミンを製造する場合、加熱するの
みではへキサメチレノイミンの収率は極めて低く大部分
は樹脂状物であったとの報告がある〔日本化学雑誌第8
2;を、1701貞(19614!+1ミ)〕。これは
へキサメメチンジアミンの脱アンモニア反応が同時に分
子間においても起り、2量体およびそれ以−ヒの、49
ジアミンの生成を容易にするほか、生成したヘキサメ
チレンイミンとへキサメチレンジアミンの脱アンモニア
反応生成物が生成するため、ヘキサメチレンイミンの収
率が低下すると考えられていた。これらの副生物の生成
反応を抑制する目的でヘキサメチレンジアミンの上限濃
度を規定し1、生成したヘキサメチレンイミンを系外に
除去しながら反応するとい9前述の改良技術(11(2
1の方法が提案されている。又、ε−カプロラクタムを
接触水素化してヘキサメチレンイミンを製造する方法が
あるが、この場合においても生成したヘキサメチレンイ
ミンが副反応を起はない様に反応系外へ抜き出すことが
必要であることが述べられている。
このように、従来7員環イミンの製造技術としては、反
応系に高濃度のイミンが存在することがないように、随
時イミンを反応系外に抜き出すことが必須であると考え
られていた。
応系に高濃度のイミンが存在することがないように、随
時イミンを反応系外に抜き出すことが必須であると考え
られていた。
本発明者らは、従来の製造方法における4■々の欠点を
克服し、工業的に容易に実施しつる方法を開発すべく鋭
意研究を重ねた結果、水添反応液にニッケル触媒を加え
、7IO熱するのみで、極めて高収率で容易にD M
)i M Iを製造しうることを見出した。
克服し、工業的に容易に実施しつる方法を開発すべく鋭
意研究を重ねた結果、水添反応液にニッケル触媒を加え
、7IO熱するのみで、極めて高収率で容易にD M
)i M Iを製造しうることを見出した。
すなわち、D M HM Dからl)i警iHMIを合
成する反応全実施したところ、従来技術とは異なりコバ
ルト触媒では反応が進ますニッケル触媒を用いた時のみ
収率よ(DMHMIが得られた。又、水添反応液からD
MHMD’(r取り出すことなく、生成物であるD M
H,M Iを反応系外へ抜き出さずして反応全行なった
ところおどろくべきことにDMHMIが高収率で得られ
たのである。これは従来の7員環イミンの製造技術から
考えられなかったことである。
成する反応全実施したところ、従来技術とは異なりコバ
ルト触媒では反応が進ますニッケル触媒を用いた時のみ
収率よ(DMHMIが得られた。又、水添反応液からD
MHMD’(r取り出すことなく、生成物であるD M
H,M Iを反応系外へ抜き出さずして反応全行なった
ところおどろくべきことにDMHMIが高収率で得られ
たのである。これは従来の7員環イミンの製造技術から
考えられなかったことである。
本発明は以上に述べIC知見に基づいてなされたもので
あり、水添反応液を直接環化反応することができるので
D M I−I M Dを精製する工程が削除でき、安
全上問題のある氷水やアンモニアを用いることなく、溶
媒や生成物である1)へ・IIIMJ(r−反応系から
蒸発除去する必要が/χい/こめ低用役コストで、しか
も簡略化でれた設備てI)M LI M 1合−極め−
C晶収率で得られる工業的にイT 4:11なI) M
HiV Iを製造する方法葡提供すること・2目的とす
るものである。
あり、水添反応液を直接環化反応することができるので
D M I−I M Dを精製する工程が削除でき、安
全上問題のある氷水やアンモニアを用いることなく、溶
媒や生成物である1)へ・IIIMJ(r−反応系から
蒸発除去する必要が/χい/こめ低用役コストで、しか
も簡略化でれた設備てI)M LI M 1合−極め−
C晶収率で得られる工業的にイT 4:11なI) M
HiV Iを製造する方法葡提供すること・2目的とす
るものである。
上記目的を達成した本発明のl1iHLIIを裏造する
方法は、ジメチルアジポニトリルをニッケル触媒の存在
下でl■相水添してジメチルへキナメチレンジアミンを
帛−む反応液を得、ついで反応液、反応液の処理液又(
・よ反応、・仮から分離されン〆こツメチルへキサメチ
レンジアミンにニッケルi3“11媒を加え加熱して環
化反応させるジメチルへキサメチレンイミンの製造方法
でろ5る。
方法は、ジメチルアジポニトリルをニッケル触媒の存在
下でl■相水添してジメチルへキナメチレンジアミンを
帛−む反応液を得、ついで反応液、反応液の処理液又(
・よ反応、・仮から分離されン〆こツメチルへキサメチ
レンジアミンにニッケルi3“11媒を加え加熱して環
化反応させるジメチルへキサメチレンイミンの製造方法
でろ5る。
以上、更に詳しく本発明を説明−j−る。
本発明の水添反応に用いられる水f奈融媒については、
ニッケル触媒、コバルト触媒、そ0曲水添触媒が用いら
れ乙が、環化反応と同一、D11′!!媒を用いること
が望ましいので、好ましくはニッケル触媒であり、よシ
好ましくはラネーニッケル触媒である。
ニッケル触媒、コバルト触媒、そ0曲水添触媒が用いら
れ乙が、環化反応と同一、D11′!!媒を用いること
が望ましいので、好ましくはニッケル触媒であり、よシ
好ましくはラネーニッケル触媒である。
水添触媒量としては、仕込みD M A、 D Hに対
して重量比で0.0O5以上用いればよく、0.005
以下では反応が進まない。触媒の上限としては制限がな
いが、触媒コスト、及び1η拌上からおのずと制限され
る。
して重量比で0.0O5以上用いればよく、0.005
以下では反応が進まない。触媒の上限としては制限がな
いが、触媒コスト、及び1η拌上からおのずと制限され
る。
水添反応の仕込み故組成としては、DMADN及び触媒
のみでよいが、アンモニア、有機溶媒、水及びアルカリ
の助触媒等が含まれてもよい。しかしながら、助触媒の
分離、アンモニア及び有機溶媒の除去を行なわなければ
ならずそのため、簡略化でれた装置、低用役コストで1
むこと全本発明のプロセス上の利点の1つとすることか
ら、不利である。したがって、実賞的に無溶媒、無助触
媒で水添を行9ことが好ましい。
のみでよいが、アンモニア、有機溶媒、水及びアルカリ
の助触媒等が含まれてもよい。しかしながら、助触媒の
分離、アンモニア及び有機溶媒の除去を行なわなければ
ならずそのため、簡略化でれた装置、低用役コストで1
むこと全本発明のプロセス上の利点の1つとすることか
ら、不利である。したがって、実賞的に無溶媒、無助触
媒で水添を行9ことが好ましい。
水添反応温度としては80℃〜160℃の範囲で行うこ
とが好ましい。80℃以下では反応が十分に進ますDM
ADNが残存する。160℃以上で反応を行うと水添反
応液を直接環化するJAj合において収率の低下が起る
。
とが好ましい。80℃以下では反応が十分に進ますDM
ADNが残存する。160℃以上で反応を行うと水添反
応液を直接環化するJAj合において収率の低下が起る
。
水添の反応圧力としては、触媒量及び反応温度にもよる
が通常20に9/crn2G以上あればよい。20Kg
/cm”G以下の場合反応が十分進まない。
が通常20に9/crn2G以上あればよい。20Kg
/cm”G以下の場合反応が十分進まない。
水添反応時間としては、触媒量、反応温度、反応圧力に
よって決まるが則常1時間以上あればよい。
よって決まるが則常1時間以上あればよい。
水添反応液の主成分としてはD M HM Dであり、
他にDMIiMI 、水、副生物のアンモニア、触媒が
言まれている。
他にDMIiMI 、水、副生物のアンモニア、触媒が
言まれている。
本発明は前述の水添反応液を処理することなく直接環化
することができる。当然のことながら反応液中の溶媒ま
たは触媒を分離した反応処理液、または反応を夜から分
離して得られたDM)−IMDf:用いて環イヒ反応を
行ってもよいが、反応液を精製する設備が必貿になるの
で、反応欣ヲ処理せずして環化反応を行う方が好ましい
。
することができる。当然のことながら反応液中の溶媒ま
たは触媒を分離した反応処理液、または反応を夜から分
離して得られたDM)−IMDf:用いて環イヒ反応を
行ってもよいが、反応液を精製する設備が必貿になるの
で、反応欣ヲ処理せずして環化反応を行う方が好ましい
。
本発明の環化反応において、触媒はニッケル触媒を用い
ることが必要である。ニッケル触媒としては例えばラネ
ーニッケル、還元ニッケル、漆原ニッケルなどであり、
種々の製法のものが゛用いられる。もちろんこれらの金
属が担体に保持された触媒も使用される。芙施例で示す
ようにこれらの触媒のうちラネーニッケルを用いること
が好ましい。
ることが必要である。ニッケル触媒としては例えばラネ
ーニッケル、還元ニッケル、漆原ニッケルなどであり、
種々の製法のものが゛用いられる。もちろんこれらの金
属が担体に保持された触媒も使用される。芙施例で示す
ようにこれらの触媒のうちラネーニッケルを用いること
が好ましい。
本発明に用いる環化反応の触媒量としては、反応液の攪
拌が十分性なわれる範囲内で、好ましくはジメチルへキ
サメチレンジアミンに対して重量比で0.01以上0.
5以下である。0.01以下の場合、反応が十分進まず
、0.5以上では触媒コストが増加するため好ましくな
い。
拌が十分性なわれる範囲内で、好ましくはジメチルへキ
サメチレンジアミンに対して重量比で0.01以上0.
5以下である。0.01以下の場合、反応が十分進まず
、0.5以上では触媒コストが増加するため好ましくな
い。
本発明の環化反応の仕込み液組成としては、原料であろ
水添反応液、反応液の処理敵又CコDMIハ山と、ニッ
ケル触媒のみでよいが、この地に水及び有機溶媒(例え
ば脂肪族アルコール類、脂環族アルコール類、脂肋族炭
化ナト、脂環族炭化水素、芳香族炭化水素、沸点60℃
以上の脂肪族エーテル、芳香族アルキルエーテル、3級
アミンなど)が含まれてもよい。仕込み液中のD M
H・MDの濃度としでは40重量%以上が好ましく、3
0重針%以下では反応器の容積効率が低下する。六叉び
有機溶媒の量としては、本発明の利点の1つである一反
応器の容積効率が向上するということから実質的に熱溶
媒で行うことがより好ましい。
水添反応液、反応液の処理敵又CコDMIハ山と、ニッ
ケル触媒のみでよいが、この地に水及び有機溶媒(例え
ば脂肪族アルコール類、脂環族アルコール類、脂肋族炭
化ナト、脂環族炭化水素、芳香族炭化水素、沸点60℃
以上の脂肪族エーテル、芳香族アルキルエーテル、3級
アミンなど)が含まれてもよい。仕込み液中のD M
H・MDの濃度としでは40重量%以上が好ましく、3
0重針%以下では反応器の容積効率が低下する。六叉び
有機溶媒の量としては、本発明の利点の1つである一反
応器の容積効率が向上するということから実質的に熱溶
媒で行うことがより好ましい。
本発明の環化反市温度とし、てれ[、ioo℃以上23
0℃以下の範囲で行うことが好寸し7い、 10(I以
下の揚台、反応が十分進行せず230℃以上では収率が
低下する。
0℃以下の範囲で行うことが好寸し7い、 10(I以
下の揚台、反応が十分進行せず230℃以上では収率が
低下する。
本発り3の疹化反応時間と[7ては、融媒の使用量及び
反応温度によって決まるが、)LA ’r信3o分以上
あれば反応が完rする。
反応温度によって決まるが、)LA ’r信3o分以上
あれば反応が完rする。
玖ζ化反応液からI) M LiへうIを得る方法とし
て、1ず触媒を分離し、常法例えば蒸留塔で精留分離す
ることで高純度のDMI(MIが得られる。
て、1ず触媒を分離し、常法例えば蒸留塔で精留分離す
ることで高純度のDMI(MIが得られる。
本発明の最大の第1」点は、水んミ反応液をイn製する
ことlく水添反応液を直接環化反応することができる。
ことlく水添反応液を直接環化反応することができる。
父、I) M )] M Dの濃度を高濃度にすること
ができ、反応時において生成物であるDM HM I
f反工6系外に抜き出すことなく環化反応が行なえるこ
とである。環化反応の従来技術の1つであるヘキサメチ
レンジアミンからヘキサメチレンイミンへの反応におい
ては、ジアミンを高濃度にし、イミンを抜き出さずし7
て反応を行なうとほとんどへキサメチレンイミンを得る
ことはできないが、例えば後述する実施例1と実施例5
から明らかの様に本発明は生成物を反応系外へ抜き出し
て行う反応となんら変ることなく同等、もしくはそれ以
上の反応成績でDMHMIを得ることができる。
ができ、反応時において生成物であるDM HM I
f反工6系外に抜き出すことなく環化反応が行なえるこ
とである。環化反応の従来技術の1つであるヘキサメチ
レンジアミンからヘキサメチレンイミンへの反応におい
ては、ジアミンを高濃度にし、イミンを抜き出さずし7
て反応を行なうとほとんどへキサメチレンイミンを得る
ことはできないが、例えば後述する実施例1と実施例5
から明らかの様に本発明は生成物を反応系外へ抜き出し
て行う反応となんら変ることなく同等、もしくはそれ以
上の反応成績でDMHMIを得ることができる。
本発明の適用により、1)水添反応液を直接環化反応す
ることができるので水添反応液の精製設備が削除でき、
操作が単純化される。2)反応液中のDMHMDの#厩
を高濃度にすることができるので反応器の容積効率が向
上する。3)環化反応において、生成物を反応系外に抜
き出す必要がないため用役コストが少なくてすむ。4)
3)と同様のことから構成される装置で製造することが
できる。
ることができるので水添反応液の精製設備が削除でき、
操作が単純化される。2)反応液中のDMHMDの#厩
を高濃度にすることができるので反応器の容積効率が向
上する。3)環化反応において、生成物を反応系外に抜
き出す必要がないため用役コストが少なくてすむ。4)
3)と同様のことから構成される装置で製造することが
できる。
5)環化反応において、アンモニア及び水素を会費とし
ないことから操業の安全性が向上する。6)反応収率が
向上する。などの効果がもたらされた。−次に、実施列
を挙げて本発明を史に詳しく6明する。
ないことから操業の安全性が向上する。6)反応収率が
向上する。などの効果がもたらされた。−次に、実施列
を挙げて本発明を史に詳しく6明する。
実施例1
圧力計、安全弁、ガス抜き弁、ガス供絽弁及び攪拌機付
ステンレス製の内容積100威のオートクレーブ(以下
単にオートクレーブと略す)Vこ、市販のラネーニッケ
ル廿金(Ni :A、l :Fe % 諺比−50:
49.5 : 0.5 )をNa0I−1で展開した俊
水洗して得られたラネーニッケル触媒の水スラIJ−1
,Or(う不−ニソケル0.2?、水0゜82)とD1
〜IAIJN 201を仕込んだ仮オートクレーブ内の
空ン(を取そυ窒素、次いで水素でIfi換し、水素ゲ
35縁/cm2G才で導入した。(尚、水素ガスは15
0 K9 /1yrr2Gに光領されたボンベより、定
圧弁を経由して反応圧力が一定になる様に供給される。
ステンレス製の内容積100威のオートクレーブ(以下
単にオートクレーブと略す)Vこ、市販のラネーニッケ
ル廿金(Ni :A、l :Fe % 諺比−50:
49.5 : 0.5 )をNa0I−1で展開した俊
水洗して得られたラネーニッケル触媒の水スラIJ−1
,Or(う不−ニソケル0.2?、水0゜82)とD1
〜IAIJN 201を仕込んだ仮オートクレーブ内の
空ン(を取そυ窒素、次いで水素でIfi換し、水素ゲ
35縁/cm2G才で導入した。(尚、水素ガスは15
0 K9 /1yrr2Gに光領されたボンベより、定
圧弁を経由して反応圧力が一定になる様に供給される。
)次Vこヒーターで加直〜して昇温し、同1時に撹拌機
によって反応器内を回転数1000T’tPMで撹拌し
た。昇温開始後約20分で設定温度120℃に到達した
ので反応開始とした。
によって反応器内を回転数1000T’tPMで撹拌し
た。昇温開始後約20分で設定温度120℃に到達した
ので反応開始とした。
反応中は温度、圧力を保持する様にルー帯しながら水糸
を行なつ/こ。反応開始俊2時間性過しだ時点で水素の
供給を停止し反応器を冷却した。次に反応器内を窒素置
換したのち、反応液の重量測定及び一部抜き出し分析し
たところ反応成績はDMADNの転化率で10’0%、
D M )f M Dの選択率で75.7%、DMHM
Iの選−a率で22.5%であった。次に水添触媒と同
一のラネーニッケル触媒の水スラリー2.32(ラネー
ニッケル0゜8y、水1.s y )を反応器Q′こ添
加し、谷、前向を窒累j薩侠したのちに昇温し、同時に
撹拌を開始した。設定温度180℃に達してから2時間
反応した。冷却後反応液を分析したところ反応成績は]
)MADN、4準でD M HM Iの反応収率ば93
.1%であった。D MHM L)は検出されなかった
。
を行なつ/こ。反応開始俊2時間性過しだ時点で水素の
供給を停止し反応器を冷却した。次に反応器内を窒素置
換したのち、反応液の重量測定及び一部抜き出し分析し
たところ反応成績はDMADNの転化率で10’0%、
D M )f M Dの選択率で75.7%、DMHM
Iの選−a率で22.5%であった。次に水添触媒と同
一のラネーニッケル触媒の水スラリー2.32(ラネー
ニッケル0゜8y、水1.s y )を反応器Q′こ添
加し、谷、前向を窒累j薩侠したのちに昇温し、同時に
撹拌を開始した。設定温度180℃に達してから2時間
反応した。冷却後反応液を分析したところ反応成績は]
)MADN、4準でD M HM Iの反応収率ば93
.1%であった。D MHM L)は検出されなかった
。
実施例2
実施例1と同−装置及び同一の水糸反応条件で得られ7
C水添反応液にラネーニッケル5.Of、水10s’を
加え、反応器内を窒素置換したのち実施例1と同様にし
て環化反応を行なった。反応成績としては、DMADN
基準でDMHMIの反応収率は93.9%、DM)(M
Dは検出されなかった。
C水添反応液にラネーニッケル5.Of、水10s’を
加え、反応器内を窒素置換したのち実施例1と同様にし
て環化反応を行なった。反応成績としては、DMADN
基準でDMHMIの反応収率は93.9%、DM)(M
Dは検出されなかった。
実施例3
実施例1と同−装置及び同一の水添反応条件で得られた
水添反応液にラネーニッケルの水スラリー4g′(ラネ
ーニッケル21.水2り)とn−ヘキサノール102を
加え、反応器内を窒素置換したのち実施例1と同様にし
て環化反応を行なった。
水添反応液にラネーニッケルの水スラリー4g′(ラネ
ーニッケル21.水2り)とn−ヘキサノール102を
加え、反応器内を窒素置換したのち実施例1と同様にし
て環化反応を行なった。
反応成績としては、1) M A D N基準でDi\
(I−I M Iの反応収率は92゜7%、DMHMD
Fi検出されなかった。
(I−I M Iの反応収率は92゜7%、DMHMD
Fi検出されなかった。
実施例4
実施例1と同一の装置に市販の安定型還元ニッケル0.
52、DMADN 205’を仕込み実施例1と同様に
し7て反応を開始した。反応温度(・よ150℃、反応
時間は4時間とした。反応終了後、反応r;J内を窒素
置換した後、反応液の重量測定及び一部抜き出し分析し
たところ、反応成績はD M A 、D Nの転化率で
100%、DMllMHの選択率で70.4%、l)M
HM Iの選択率で27.7%であった。次に安定型
還元ニッケル1.51を反応器に加え窒素置換した後反
応温度190℃で実施l+lJlと同様にして環化反応
を行なった。反応成績としては、11 M A D N
基準でDMHMIの反応収率は84.2%、DMHM
Dは検出略れなかった。
52、DMADN 205’を仕込み実施例1と同様に
し7て反応を開始した。反応温度(・よ150℃、反応
時間は4時間とした。反応終了後、反応r;J内を窒素
置換した後、反応液の重量測定及び一部抜き出し分析し
たところ、反応成績はD M A 、D Nの転化率で
100%、DMllMHの選択率で70.4%、l)M
HM Iの選択率で27.7%であった。次に安定型
還元ニッケル1.51を反応器に加え窒素置換した後反
応温度190℃で実施l+lJlと同様にして環化反応
を行なった。反応成績としては、11 M A D N
基準でDMHMIの反応収率は84.2%、DMHM
Dは検出略れなかった。
実施例5
実施例1と同一条件で5パツチ水添を行い、まとめて精
製を行なった。精製方法は、まず濾紙で触媒を分離し、
次に蒸留塔で精留した。水、DMHMI 、 DMHM
Dの順で留出し99.8%以上の1)円(MD f:倚
た。このT)Ml−] M Dを用いて次に述べる方法
で環化反応を行なった。100m/!の三ロフラスコに
攪拌装置、滴下ロート、留出用ビグロカラムを取り付け
た反応装置に精製して得られたDMHMD20y、ラネ
ーニッケル5,82、水20.07を仕込み装置内を窒
素置換し、120℃に温度設定した油浴に浸1攪拌を始
め反応を開始した。反応開始後水及びDMHMIが共沸
で留出し、留出液は水を主成分とする水層とD M H
M Iを主成分とする有機層に分離する。この留出敢を
デカンタ−で分離し、水層のみ反応装置内にもどしなが
ら反応を6時間行なった。反応成績はD M HM D
の転化率で100%、DMHMIの選択率で89.2%
であった。
製を行なった。精製方法は、まず濾紙で触媒を分離し、
次に蒸留塔で精留した。水、DMHMI 、 DMHM
Dの順で留出し99.8%以上の1)円(MD f:倚
た。このT)Ml−] M Dを用いて次に述べる方法
で環化反応を行なった。100m/!の三ロフラスコに
攪拌装置、滴下ロート、留出用ビグロカラムを取り付け
た反応装置に精製して得られたDMHMD20y、ラネ
ーニッケル5,82、水20.07を仕込み装置内を窒
素置換し、120℃に温度設定した油浴に浸1攪拌を始
め反応を開始した。反応開始後水及びDMHMIが共沸
で留出し、留出液は水を主成分とする水層とD M H
M Iを主成分とする有機層に分離する。この留出敢を
デカンタ−で分離し、水層のみ反応装置内にもどしなが
ら反応を6時間行なった。反応成績はD M HM D
の転化率で100%、DMHMIの選択率で89.2%
であった。
実施例6
実施例1と同一の装置に漆原ニッケル2.07、実施例
5で用いた同一(7) DMTIMD 2(+、Or
、水8.02を仕込み窒λ置換しプこのち、実施例1と
同様にして環化反応を行なった。反応成績はl) M
IIM Dの転化率は100%で、]) M )lへI
Iの選択率は85.0%であった。
5で用いた同一(7) DMTIMD 2(+、Or
、水8.02を仕込み窒λ置換しプこのち、実施例1と
同様にして環化反応を行なった。反応成績はl) M
IIM Dの転化率は100%で、]) M )lへI
Iの選択率は85.0%であった。
実施例7
実施例1と同−装置及び同一の水添反応条件で得られた
水龜反応敢を50の濾紙で触媒を分離し、触媒を分離し
た水添反応液を水4jRと同一の反応器に仕込む。次に
ラネーニッケル触媒の水スラリー2.3 f (ラネー
−ソケル0.8 r、水t、s v )を添加し反応器
内を窒素置換したのち実施例1と同様にして環化反応を
行なった。反応成績と[2ては、DMADN恭準で1)
八・I HM Iの反応収量は93゜o%21)Δ4
HM Dは検出されなかった。
水龜反応敢を50の濾紙で触媒を分離し、触媒を分離し
た水添反応液を水4jRと同一の反応器に仕込む。次に
ラネーニッケル触媒の水スラリー2.3 f (ラネー
−ソケル0.8 r、水t、s v )を添加し反応器
内を窒素置換したのち実施例1と同様にして環化反応を
行なった。反応成績と[2ては、DMADN恭準で1)
八・I HM Iの反応収量は93゜o%21)Δ4
HM Dは検出されなかった。
比較例1
実施例1と同一の装置にラネーコバルト触媒の水スラリ
ー42(ラネーコバルト2.02、水2,0り)と実施
例5で用いたDMI−IMD 20りを仕込み窒素置換
した後、実施例1と同様にして環化反応を行なった。反
応成績は、 DM、、)]、MDの転化率は14.1%
でDMHMIは微量生成していただけであった。
ー42(ラネーコバルト2.02、水2,0り)と実施
例5で用いたDMI−IMD 20りを仕込み窒素置換
した後、実施例1と同様にして環化反応を行なった。反
応成績は、 DM、、)]、MDの転化率は14.1%
でDMHMIは微量生成していただけであった。
比較例2
実施例5と同一の反応装置にラネーニッケル2.91、
水30.(1,ヘキサメチレンジアミ710.Ofを仕
込み実施例5と同様にして反応を行なった。
水30.(1,ヘキサメチレンジアミ710.Ofを仕
込み実施例5と同様にして反応を行なった。
反応成績はへキサメチレンジアミンの転化率は94%、
ヘキサメチレンイミンの選択率i1ニア0.1Xであっ
た。
ヘキサメチレンイミンの選択率i1ニア0.1Xであっ
た。
特許出願人 旭化成工業株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ■、 ジメチルアジポニトリルを水添融媒の存在下で液
相水添してジメチルへキサメチレンジアミンを含む反応
液を得、ついで反応液、反応液の処理液又は反応液から
分離されたジメチルへキサメチレンジアミンにニッケル
か媒を加え加熱して環化反応させることを特徴とするジ
メチルへキサメチレンイミンの製造方法 Z 反応液にニッケルj仕媒をカロえ加熱環化させる特
許請求の範囲第1項記載の方法 ま 環化反応に用いるニッケル触媒が、う不一ニッケル
触媒である特許請求の範囲第1項記載の方法 屯 環化反応に用いる触媒量が、ツメチルへキサメチレ
ンジアミンに対して重相、比で0.01以上0.5以下
である特許請求の範囲第1項記載の方法
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10032383A JPS59225165A (ja) | 1983-06-07 | 1983-06-07 | ジメチルヘキサメチレンイミンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10032383A JPS59225165A (ja) | 1983-06-07 | 1983-06-07 | ジメチルヘキサメチレンイミンの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59225165A true JPS59225165A (ja) | 1984-12-18 |
Family
ID=14270965
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10032383A Pending JPS59225165A (ja) | 1983-06-07 | 1983-06-07 | ジメチルヘキサメチレンイミンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59225165A (ja) |
-
1983
- 1983-06-07 JP JP10032383A patent/JPS59225165A/ja active Pending
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