JPS59222573A - 金属被膜の形成方法 - Google Patents

金属被膜の形成方法

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Publication number
JPS59222573A
JPS59222573A JP9632183A JP9632183A JPS59222573A JP S59222573 A JPS59222573 A JP S59222573A JP 9632183 A JP9632183 A JP 9632183A JP 9632183 A JP9632183 A JP 9632183A JP S59222573 A JPS59222573 A JP S59222573A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
chromium
aluminum
alloy
metal
Prior art date
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Pending
Application number
JP9632183A
Other languages
English (en)
Inventor
Iwao Ishikawa
石川 巌夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP9632183A priority Critical patent/JPS59222573A/ja
Publication of JPS59222573A publication Critical patent/JPS59222573A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14Metallic material, boron or silicon
    • C23C14/18Metallic material, boron or silicon on other inorganic substrates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C26/00Coating not provided for in groups C23C2/00 - C23C24/00

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
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  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Electrodes Of Semiconductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はアルミニウムを用いた金属被膜の形成方法に関
するものである。
従来例の構成とその問題点 従来、アルミニウム膜の形成は、半導体、セラミック等
の固体上に直接、真空蒸着法又はスパッタ法等既知の方
法によって形成されていた。一方。
マイクロエレクトロニクスの進展により、微細な電極が
必要とされ、上述の方法によって形成したアルシミニウ
ム月莫を、フォj・リソグラフィー法によって蝕刻し、
微細電極を得る方法が行われている。
しかるにフォトリソグラフィー法においては、現像液等
の化学処理液に酸、アルカリ等の薬品が用いられており
、これ等がアルミニウム膜を侵かすという大きな欠点を
有していた。
発明の目的 本発明は、アルミニウムを構成材料の一つとして使用し
、なおかつ、酸、アルカリ土類金属皮膜の形成方法を提
供することを目的とするものである。
発明の構成 上記目的を達成するため本発明の金属皮膜の形成方法は
、クロムまたはクロム合金、!、たばそれらのいずれか
を主成分とする金属からなる皮膜上に、アルミニウム皮
膜を形成することを特徴としたものであり、これにより
、酸、アルカリ土類金属皮膜となるものである。
実施例の説明 以下本発明の一実施例について、図面を参照しながら説
明する。
第1図は本発明の方法によシ形成した金属被膜の断面図
であり、アルミニウム膜1と、固体基板2との間にクロ
ム又はニッケルクロム膜をはじめとするクロム合金膜も
しくはそれ等を主成分とする金属被膜3を介在さぜた構
造となっている。
次に、なぜアルミニウム膜1と固体基板2の間にクロム
膜又はニッケルクロム膜をはじめとするクロム合金膜も
しくは、それ等を主成分とする金属膜3を介在さすこと
により、酬アルカリ性、劇酸性の膜ができるかを説明す
る。
先ず、比較のために、アルミニウム膜を固体基板pLZ
T上に直接、真空蒸着法によって5000〜10,00
0人の厚さに形成したものをアルカリ性の液体に数分浸
漬した。浸漬後゛水洗し、乾燥後表面を観察すると、小
さな班点がi数存在し、それ等イ4を 一一アルミニウム膜が役されて、固体基板より剥離した
跡であることが判明した。
次に、第1図に示したように、pLZTからな°1  
     る固体基板2上にクロム膜3を500〜10
00への厚さに真空蒸着法によって形成した中に、同じ
方法(てより純度99.99%のアルミニウム膜1を′
5.000〜10.○○〇への厚さに形成する。そして
、これをアルカリ性の液体に数分浸漬後、水洗。
乾燥して表面を観察した。この本発明の方法による場合
は何の異常も認められなかった。更に、浸漬時間を数時
間追加したが、異常は発生しなかった。なぜこのように
なったかを明らかにするために、従来の方法と本発明に
よる方法とで新しく試料を作成して、表面から内部に向
かって、膜の元素分布を測定した。第2図は従来の方法
で形成したアルミニウム膜の元素分布であり、第3図は
本発明の方法によって形成したアルミニウム膜の元素分
布である。これ等の図で明らかなように、従来の方法で
形成したアルミニウム膜は、その表面附近が純粋なアル
ミニウムであり、そのためアルミニウム本来の性質によ
り、酸にもアルカリにも侵され易くなっている。一方7
本発明の方法により形成した金属皮膜は、その表面附近
において、純粋なアルミニウムでは無く、アルミニウム
膜1と固体基板2の間に介在させたクロム3の影響によ
り、クロム3のアルミニウム表面へ向かっての拡散に加
えて、固体基板2の構成物質である、pb、La、Zr
、Tiのアルミニウム表面に向かっての拡散が見られ、
合金が形成されている。以上の説明でも明らかなように
このアルミニウムの合金化により、それが本来持ってい
た、酸にも、アルカリにも弱い性質が改善されて、耐酸
性、 1lii′Iアルカリ性の強い金属被膜となった
ものである。
なお、上記実施例に記したクロム、アルミニウム膜厚お
よびそれ等の純度は、これ等に限定されることは無く、
用いる固体基板、用途に応じて任意に変えることができ
る。
又、上記実施例においては、アルミニウムと固体基板と
の間に介在させる金属としてクロムを用いだが、ニッケ
ルクロムやアルミニウムクロムをはじめとするクロム合
金もしくは、クロム又はクロl、合金いずれかを主成分
とする金属であっても同様の効果が得られることは言う
寸でもないことである3゜ すなわち、クロムの代りにニッケルクロム(N i: 
Ct =80 : 20 )を2000〜3000人の
厚さ付着させた場合には、第4図に示すよう((、クロ
ムがアルミニウム中に拡散し、合金化さitでいるので
、上記実施例と同様の効果かあることか分る。
又、上記実施例において固体基板としてI) L Z 
Tを用いたが、これに限定されるもので(d:無く、ク
ロムと必要な接着強度が保てるものであわは、金属、半
導体、セラミック等とのような固体でも良い。
発明の効果 以上の説明でも明らかなように、本発明は、固体基板上
にアルミニウム膜を形成する場合において、固体基板」
−にクロムもしくはクロム合金もしくは、それらのいず
れかを主成分とする金属被膜を形成し、さらにその上に
アルミニウム皮膜を形成する/ζめ、クロムもしくはク
ロム合金、もしくは、それらのいずれかを主成分とする
金属の成分および固体基板の成分がアルミニウム中に拡
散して、合金を形成するため、アルミニウム本来の]制
酸性、耐アルカリ性が改善され、その結果、アルミニラ
ムを構成材料の一つとして使用したにもかかわらず、耐
酸性、耐アルカリ性の良い金属被膜が得られ、耐薬品性
、低コスト電極として、産業上火き々利益をもたらすも
のである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の方法により形成した金属被膜の断面図
、第2図は従来方法のアルミニウム膜の表面から深さ方
向の元素分布を示す図、第3図および第4図はそれぞれ
本発明の方法によるアルミニウム膜の元素分布を示す図
である。 1・・・・・アルミニウム膜、2・・・・・・固体基板
、3・・・・・・クロム又はクロム合金又はそれらのい
ずれかを主成分とする金属被膜。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第2図 o 24 /)8 to 12/、3 (千り葛享体) 4図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. クロム寸たはクロム合金、またはそれらのいずれかを主
    成分とする金属からなる皮膜上に、アルミニウム皮膜を
    形成することを特徴とする金属被膜の形成方法。
JP9632183A 1983-05-30 1983-05-30 金属被膜の形成方法 Pending JPS59222573A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9632183A JPS59222573A (ja) 1983-05-30 1983-05-30 金属被膜の形成方法

Applications Claiming Priority (1)

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JP9632183A JPS59222573A (ja) 1983-05-30 1983-05-30 金属被膜の形成方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS59222573A true JPS59222573A (ja) 1984-12-14

Family

ID=14161745

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9632183A Pending JPS59222573A (ja) 1983-05-30 1983-05-30 金属被膜の形成方法

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JP (1) JPS59222573A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0196369A (ja) * 1987-10-08 1989-04-14 Kobe Steel Ltd 耐食性,加工性および耐熱性に優れたAl合金蒸着めっき材料,及びその製造方法
JPH01188666A (ja) * 1987-10-09 1989-07-27 Kobe Steel Ltd 積層型蒸着めっき鋼板

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0196369A (ja) * 1987-10-08 1989-04-14 Kobe Steel Ltd 耐食性,加工性および耐熱性に優れたAl合金蒸着めっき材料,及びその製造方法
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