JPS59211579A - アモルフアス合金の表面処理法 - Google Patents
アモルフアス合金の表面処理法Info
- Publication number
- JPS59211579A JPS59211579A JP58084505A JP8450583A JPS59211579A JP S59211579 A JPS59211579 A JP S59211579A JP 58084505 A JP58084505 A JP 58084505A JP 8450583 A JP8450583 A JP 8450583A JP S59211579 A JPS59211579 A JP S59211579A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- amorphous alloy
- film
- coating
- phosphoric acid
- acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
- G11B5/722—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction containing an anticorrosive material
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/90—Magnetic feature
Landscapes
- Soft Magnetic Materials (AREA)
- Chemical Treatment Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はアモルファス合金の表面をクロム酸。
リン酸及び弗素化合物を含む酸性水溶液で処理し、表面
に絶縁性、耐食性更に表面性状変化による磁性の経時劣
化防止性能の優れた皮膜を形成させる方法に関するもの
である。
に絶縁性、耐食性更に表面性状変化による磁性の経時劣
化防止性能の優れた皮膜を形成させる方法に関するもの
である。
ここでアモルファス合金とは原子配列が液体のようにラ
ンダムな構造をもつ金属で溶融金属を冷却基板上で超急
冷することによって製造することができる。金属成分と
してはＦｅ ＋ Ｃｏ ｒ Ｎｉの総和が原子濃度で７
０〜８８％、Ｂが７〜２５チ残シにｓｌ、 Ｐ、ｃを含
むもので場合によシＣｒ ＋ Ｍｏ ｔＮｂ 、 Ｖを
５％以下加えることができる。
ンダムな構造をもつ金属で溶融金属を冷却基板上で超急
冷することによって製造することができる。金属成分と
してはＦｅ ＋ Ｃｏ ｒ Ｎｉの総和が原子濃度で７
０〜８８％、Ｂが７〜２５チ残シにｓｌ、 Ｐ、ｃを含
むもので場合によシＣｒ ＋ Ｍｏ ｔＮｂ 、 Ｖを
５％以下加えることができる。
アモルファス合金は製造方法がこのように単純であるこ
と、性質が結晶材料に比べてすぐれている点が多いこと
によ・って実用的に注目されている材料である。特に磁
気特性に関しては一方向性けい素鋼板に比べて鉄損値が
桁違いに低いこと、・り−マロイよシ高い透磁率を示す
こと、フェライトよシ磁束密度が高いことなど現用材料
に比べて多くの優れた性質を有している。
と、性質が結晶材料に比べてすぐれている点が多いこと
によ・って実用的に注目されている材料である。特に磁
気特性に関しては一方向性けい素鋼板に比べて鉄損値が
桁違いに低いこと、・り−マロイよシ高い透磁率を示す
こと、フェライトよシ磁束密度が高いことなど現用材料
に比べて多くの優れた性質を有している。
アモルファス合金を磁気材料に用いる場合には、渦電流
による鉄損の低下をおさえるだめに表面に。
による鉄損の低下をおさえるだめに表面に。
絶縁皮膜を被覆することが好ましい。しかし皮膜が形成
されるとアモルファス合金が板厚が薄く、表面が粗いた
めにもともと低埴占積率をさらに大巾に低下させるおそ
れがある。したがって絶縁皮膜は緻密でできるだけ薄い
膜厚であることが好ましい。
されるとアモルファス合金が板厚が薄く、表面が粗いた
めにもともと低埴占積率をさらに大巾に低下させるおそ
れがある。したがって絶縁皮膜は緻密でできるだけ薄い
膜厚であることが好ましい。
一方アモルファス合金で磁束密度の良好な磁性材料は通
常クロムが含まれておらず耐食性に問題があっだ。表面
に何ら処理が施こされていないものは室内に１０日〜１
ケ月程度放置すると表面に点状の赤錆が発生する。錆が
発生すれば当然のことながら錆になった部分の磁性の低
下と板厚の部分的増加によって占積率が低下するので錆
の発生はどうしてもおさえることが必要である。クロム
を添加すれば耐食性は向上するが磁束密度が低下し特に
巻鉄心では問題があった。
常クロムが含まれておらず耐食性に問題があっだ。表面
に何ら処理が施こされていないものは室内に１０日〜１
ケ月程度放置すると表面に点状の赤錆が発生する。錆が
発生すれば当然のことながら錆になった部分の磁性の低
下と板厚の部分的増加によって占積率が低下するので錆
の発生はどうしてもおさえることが必要である。クロム
を添加すれば耐食性は向上するが磁束密度が低下し特に
巻鉄心では問題があった。
以上のような背景をもとに本発明者らはアモルファス合
金表面にきわめて薄膜で絶縁性、耐食性のよい皮膜を形
成させる方法につきｒｌｉ々検討した結果以下に述べる
方法により良好な皮膜形成が行なわれることを見い出し
た。
金表面にきわめて薄膜で絶縁性、耐食性のよい皮膜を形
成させる方法につきｒｌｉ々検討した結果以下に述べる
方法により良好な皮膜形成が行なわれることを見い出し
た。
アモルファス合金薄板の表面には溶融金属が超急冷され
て凝固する過程で生成する金属の酸化物皮膜が存在して
いる。特にＳｉＯ２を含むこの酸化物皮膜は薄くて緻密
であシ、水及び水溶液をはじく性質をもっており、表面
処理に用いる通常の酸性溶液（ｐｔｌ Ｑ、 ５〜５）
では、なかなかぬれ性よく均一に被覆することができな
い。
て凝固する過程で生成する金属の酸化物皮膜が存在して
いる。特にＳｉＯ２を含むこの酸化物皮膜は薄くて緻密
であシ、水及び水溶液をはじく性質をもっており、表面
処理に用いる通常の酸性溶液（ｐｔｌ Ｑ、 ５〜５）
では、なかなかぬれ性よく均一に被覆することができな
い。
本発明者らは種々検討した結果、弗素化合物とリン酸を
含む酸性水溶液で処理すると、たとえその濃度が低くと
もＰＨ０，５〜３の範囲でよくぬれ。
含む酸性水溶液で処理すると、たとえその濃度が低くと
もＰＨ０，５〜３の範囲でよくぬれ。
均一な被覆が行なえることを見い出しだ。これは弗素化
合物が酸性溶液中で弗化水素酸に％ｌ’Ｆ ＩＷｆｌｌ
しアモルファス表面の緻密な酸化皮膜を一部溶解してぬ
れ性が向上するものと考えられる。しかしアモルファス
合金を溶解しすぎると皮膜形成の点から好ましくないの
で弗素化合物として一定の濃度範囲以内におさえること
が必要である。
合物が酸性溶液中で弗化水素酸に％ｌ’Ｆ ＩＷｆｌｌ
しアモルファス表面の緻密な酸化皮膜を一部溶解してぬ
れ性が向上するものと考えられる。しかしアモルファス
合金を溶解しすぎると皮膜形成の点から好ましくないの
で弗素化合物として一定の濃度範囲以内におさえること
が必要である。
弗素化合物としては酸性で弗化水素酸に解離するもので
あればよいが、弗化水素酸以外に弗化水素酸の金属ない
しアンモニウム塩として例えば弗化カリウム、弗化ナト
リウム、弗化リチウム、弗化アンモニウム、弗化カルシ
ウムなどあるいは珪弗化水素酸、ホウ弗化水素酸、チタ
ン弗化水素酸及びその金属ないしアンモニウム塩として
珪弗化カリウム、珪弗化ナトリウム、ホウ弗化アンモニ
ウム、チタン弗化カリウム等を用いることができる。
あればよいが、弗化水素酸以外に弗化水素酸の金属ない
しアンモニウム塩として例えば弗化カリウム、弗化ナト
リウム、弗化リチウム、弗化アンモニウム、弗化カルシ
ウムなどあるいは珪弗化水素酸、ホウ弗化水素酸、チタ
ン弗化水素酸及びその金属ないしアンモニウム塩として
珪弗化カリウム、珪弗化ナトリウム、ホウ弗化アンモニ
ウム、チタン弗化カリウム等を用いることができる。
弗素化合物の好ましい添加範囲としては、弗素として０
．０１〜０．１グラム当量／Ａ、ｐＨとして０．５〜３
であシ、これはリン酸によって調整できる。
．０１〜０．１グラム当量／Ａ、ｐＨとして０．５〜３
であシ、これはリン酸によって調整できる。
寸だクロム酸としては６価クロムとして０．０１グラム
イオン／１以上あればよい。
イオン／１以上あればよい。
このように酸性の弗素化合物溶液で酸化皮膜のごく表面
をわずかにエツチングしながら被覆を行なうわけである
が処理液中のクロム酸イオンは皮膜形成過程でリン酸と
反応してリン酸クロム及びクロム水和酸化物の皮膜を形
成する。
をわずかにエツチングしながら被覆を行なうわけである
が処理液中のクロム酸イオンは皮膜形成過程でリン酸と
反応してリン酸クロム及びクロム水和酸化物の皮膜を形
成する。
好ましい濃度範囲としてはＣｒ畦として０．０１〜２グ
ラムイオン／ｌであシ、耐食性及び酸性弗素化合物即ち
解離弗化水素酸による過度のエツチング防止の点からは
６価クロムイオンが存在していた方がよいが、皮膜の乾
燥、皮膜の吸湿性、耐溶媒性からは６価以下の特に３価
クロムが多い方が望ましい。好ましい範囲としては６価
クロムとして０．０１〜０．５グラムイオン／ ｔ Ｓ
残りが３価のクロムイオンである。これはクロム酸に適
当量還元剤を加えて調整する。
ラムイオン／ｌであシ、耐食性及び酸性弗素化合物即ち
解離弗化水素酸による過度のエツチング防止の点からは
６価クロムイオンが存在していた方がよいが、皮膜の乾
燥、皮膜の吸湿性、耐溶媒性からは６価以下の特に３価
クロムが多い方が望ましい。好ましい範囲としては６価
クロムとして０．０１〜０．５グラムイオン／ ｔ Ｓ
残りが３価のクロムイオンである。これはクロム酸に適
当量還元剤を加えて調整する。
リン酸はＰｌｌを調整する作用、６価のクロムを還元し
て３価のクロムを生成させる際にクロムと一種の錯体を
形成して処理液を安定に保つ作用をもつ。また非晶質金
属表面の成分と反応してリン酸塩の皮膜を形成する作用
をなす。もしもリン酸を添加しない場合には、６価クロ
ムが還元される際に液に沈殿を生じたりグル化したりす
る。リン酸としては第１リン酸、第２リン酸、第３リン
酸のいずれも用いることができるが、場合によシ金棺の
塩としても添加することができる。
て３価のクロムを生成させる際にクロムと一種の錯体を
形成して処理液を安定に保つ作用をもつ。また非晶質金
属表面の成分と反応してリン酸塩の皮膜を形成する作用
をなす。もしもリン酸を添加しない場合には、６価クロ
ムが還元される際に液に沈殿を生じたりグル化したりす
る。リン酸としては第１リン酸、第２リン酸、第３リン
酸のいずれも用いることができるが、場合によシ金棺の
塩としても添加することができる。
例えば第１リン酸（Ｈ２Ｐｏ４″″）のアルミニウム。
マグネシウムの塩、第２リン酸（ＨＰＯ４−）のアンモ
ニウム、マグネシウム、マンガン塩＋ 第３ ’） ン
酸（ｐｏ４−− ）のアルミニウム、亜鉛塩等を用いる
ことができる。即ちこれらの塩は酸性水溶液中で第１．
第２あるいは第３リン酸イオンとして解Ｆｉ１ｔしてい
る。
ニウム、マグネシウム、マンガン塩＋ 第３ ’） ン
酸（ｐｏ４−− ）のアルミニウム、亜鉛塩等を用いる
ことができる。即ちこれらの塩は酸性水溶液中で第１．
第２あるいは第３リン酸イオンとして解Ｆｉ１ｔしてい
る。
上記の処理液を用いてアモルファス合金表向に皮膜を形
成させる方法としては、処理液を噴霧するか或は滴下す
るか又は処理液に浸漬するかしたあとロールで絞って熱
風乾燥する方法、あるいは塗布ロールに処理液をのせて
転写させながらアモルファス合金表面に塗布し熱風乾燥
させる方法、あるいはまた細いスリットから処理液を帯
状に流しながらそのまま熱風乾燥させる等の方法をとる
ことができる。乾燥した処理皮膜は通常１５０〜２５０
℃の強制焼付けを短時間性なうことによってよＦ）Ｒ密
に、下地アモルファス合金とよシ強固に密着し、絶縁性
、耐食性の優れた皮膜とすることができるものである。
成させる方法としては、処理液を噴霧するか或は滴下す
るか又は処理液に浸漬するかしたあとロールで絞って熱
風乾燥する方法、あるいは塗布ロールに処理液をのせて
転写させながらアモルファス合金表面に塗布し熱風乾燥
させる方法、あるいはまた細いスリットから処理液を帯
状に流しながらそのまま熱風乾燥させる等の方法をとる
ことができる。乾燥した処理皮膜は通常１５０〜２５０
℃の強制焼付けを短時間性なうことによってよＦ）Ｒ密
に、下地アモルファス合金とよシ強固に密着し、絶縁性
、耐食性の優れた皮膜とすることができるものである。
処理皮膜の１蒔厚としてはｏ、ｏｏｉ〜０．２μ好まし
くは０．０１〜０．１μで、特に磁性材料として耐食性
、絶縁性の優れた皮膜を形成させることができる。０．
００１μ未満では耐食性、絶縁性で充分な効果かえられ
ず、０．２μを超える膜厚では耐食性、絶縁性では十分
であるが磁性材料としての占積率が低下し鉄損の増加も
問題になシ始める。即ち本発明の処理によシえられた皮
膜０．００１〜０．２μの性能としては耐食性として室
内放置３ケ月発錆なし、絶縁性として３Ω−ｃｒｎ２／
枚以上、占積率の低下１チ以内、鉄損の増加３％以内の
ものかえられる。
くは０．０１〜０．１μで、特に磁性材料として耐食性
、絶縁性の優れた皮膜を形成させることができる。０．
００１μ未満では耐食性、絶縁性で充分な効果かえられ
ず、０．２μを超える膜厚では耐食性、絶縁性では十分
であるが磁性材料としての占積率が低下し鉄損の増加も
問題になシ始める。即ち本発明の処理によシえられた皮
膜０．００１〜０．２μの性能としては耐食性として室
内放置３ケ月発錆なし、絶縁性として３Ω−ｃｒｎ２／
枚以上、占積率の低下１チ以内、鉄損の増加３％以内の
ものかえられる。
なお占積率は皮膜の付着量が多くなるほど悪くなる傾向
にあるが、鉄損は皮膜に張力がかかればその劣化をおさ
えることができるし、逆に向上させることも可能である
。但し一般的には鉄損も膜厚の増加と共に劣化する方向
にある。
にあるが、鉄損は皮膜に張力がかかればその劣化をおさ
えることができるし、逆に向上させることも可能である
。但し一般的には鉄損も膜厚の増加と共に劣化する方向
にある。
上記の性能の他に特に本発明の処理の利点として、皮膜
処理による磁性の経時変化を抑えることができることが
ある。即ち無処理のアモルファス合金は室内に放置して
おいても多湿時期には発錆しやすく、錆が発生すると占
積率、鉄撰共に劣化するし、またトランスに成型後絶縁
油に浸０テすると合金表面の一部が油に腐食されて鉄損
値がかなり増加することがある。これに対して本発明の
処理を行なったものではこのような腐食がなく占積率、
鉄損値の劣化がないことも大きな特徴である。
処理による磁性の経時変化を抑えることができることが
ある。即ち無処理のアモルファス合金は室内に放置して
おいても多湿時期には発錆しやすく、錆が発生すると占
積率、鉄撰共に劣化するし、またトランスに成型後絶縁
油に浸０テすると合金表面の一部が油に腐食されて鉄損
値がかなり増加することがある。これに対して本発明の
処理を行なったものではこのような腐食がなく占積率、
鉄損値の劣化がないことも大きな特徴である。
本発明の処理は特にアモルファス合金を磁性材料として
使用する場合に効果を示すが、その他の用途に使用する
場合にも耐食性を向上させる目的で用いることができる
。まだ本発明の方法は高速処理、例えばアモルファス合
金箔製造のライン内で処理液を噴鰐しロールで絞って熱
風乾燥することも可能である。
使用する場合に効果を示すが、その他の用途に使用する
場合にも耐食性を向上させる目的で用いることができる
。まだ本発明の方法は高速処理、例えばアモルファス合
金箔製造のライン内で処理液を噴鰐しロールで絞って熱
風乾燥することも可能である。
以下実施例をあげて本発明を具体的に一説明する。
実施例１
以下の組成のアモルファス合金薄板を製造した。
Ｆｅ ８０．５ ％ ＋ Ｂ １２％、Ｓｉ６．５％、
Ｃ１，０％。
Ｃ１，０％。
板厚３０±２μ、板巾５０ Ｗｒｒｎにの合金薄板のス
トリップを以下の条件で処理を行なった。処理ラインの
スピードは２０ ｍ７分としだ。
トリップを以下の条件で処理を行なった。処理ラインの
スピードは２０ ｍ７分としだ。
処理浴：無水クロム酸１０Ｉｌ／ｌ（６価クロムイオン
約０．１ダラムイオン／ ｔ ） 、ｖ ン酸ｓ ｇ
７ ｔ（リン酸イオン約０．１グラムイオン／ｌ）、珪
弗化カリウム２．２ 、ｌｉｔ ／ ｔ （弗素として
約０．０６グラムａ 眉、’ ／ ｌ ） 、クロム酸
の還元剤として６価クロムイオンを理論上約３０％還元
するものとしてエチレングリコール０．５４９／ｌを加
えて調整したものを用いた。浴温は５０℃とした。
約０．１ダラムイオン／ ｔ ） 、ｖ ン酸ｓ ｇ
７ ｔ（リン酸イオン約０．１グラムイオン／ｌ）、珪
弗化カリウム２．２ 、ｌｉｔ ／ ｔ （弗素として
約０．０６グラムａ 眉、’ ／ ｌ ） 、クロム酸
の還元剤として６価クロムイオンを理論上約３０％還元
するものとしてエチレングリコール０．５４９／ｌを加
えて調整したものを用いた。浴温は５０℃とした。
処理二上記処理浴をアモルファス合金薄板のストリップ
表面に噴霧し余分の液はゴムロールで絞って加熱乾燥し
た。
表面に噴霧し余分の液はゴムロールで絞って加熱乾燥し
た。
加熱乾燥：２５０℃（雰囲気）２秒間。
この処理によりえられた皮膜の膜厚は０．０’５２十０
．００５μであった。
．００５μであった。
実施例２
実施例１で用いたアモルファス合金薄板を同様のライン
で処理を行なった。処理ラインスピードは５０ｍ／分
とした。
で処理を行なった。処理ラインスピードは５０ｍ／分
とした。
処理浴：無水クロム酸５０ｊ９／ｌ（６価クロムイオン
約０．５グラムイオン／ｌ）、重リン酸アルミニウム２
ｓ ９／ｌｚ リン酸５９／ｌ Ｃリン酸イオン約
０．２９グラムイオン／ｌ）、弗化水素酸ｏ、４Ｉｌ／
ｌ（弗素として約０．０２グラム当量／１）からなる浴
を用いた。
約０．５グラムイオン／ｌ）、重リン酸アルミニウム２
ｓ ９／ｌｚ リン酸５９／ｌ Ｃリン酸イオン約
０．２９グラムイオン／ｌ）、弗化水素酸ｏ、４Ｉｌ／
ｌ（弗素として約０．０２グラム当量／１）からなる浴
を用いた。
処理法二上記処理浴中にアモルファス合金薄板のストリ
ップを浸漬しゴムロールで絞って加熱乾燥した。加熱乾
燥：２５０ｔｌ：（雰囲気）１．５秒。
ップを浸漬しゴムロールで絞って加熱乾燥した。加熱乾
燥：２５０ｔｌ：（雰囲気）１．５秒。
処理によシえられた皮膜の厚みは０．１２±０．０１μ
であった。
であった。
表１ アモルファス合金薄板の特性
＊湿度９８チ、温度４９℃の湿憫箱に入れ６時間放置し
たのち表面状態を観、察する。
たのち表面状態を観、察する。
錦周波数５０Ｈ１，ｆａ束密度１．３Ｔｅｓｌａにおけ
る鉄損値。
る鉄損値。
Ｗａ ｔ ｔ ７ｋｇ。
表１は本発明の実施例の処理によシ得られた材料と比較
例（実施例１の未処理材）の特性値を示しだもので本発
明の処理によシ絶縁抵抗値、耐食性が良く、しかも鉄損
値の経時変化のほとんどないものかえられている。これ
に対し比較例の未処理材は絶縁抵抗値が低く耐食性が不
十分で、鉄損値もかなシ経時変化することが認められる
。
例（実施例１の未処理材）の特性値を示しだもので本発
明の処理によシ絶縁抵抗値、耐食性が良く、しかも鉄損
値の経時変化のほとんどないものかえられている。これ
に対し比較例の未処理材は絶縁抵抗値が低く耐食性が不
十分で、鉄損値もかなシ経時変化することが認められる
。
以上詳述した如く、本発明によればアモルファス合雀表
面に、絶縁性、耐食性、更に表向性状変化による磁性の
経時劣化防止性能の１つ９れた皮膜を形成させることが
できるので、本発明は＃業上碑益するところが極めて犬
である。
面に、絶縁性、耐食性、更に表向性状変化による磁性の
経時劣化防止性能の１つ９れた皮膜を形成させることが
できるので、本発明は＃業上碑益するところが極めて犬
である。
手続補市書 （自発）
昭和５８年１１月２１日
特許庁長官 若 杉 和 夫 殿
１、 事件の表示
昭和５８年特許願第０８４５０５号
２ 発明の名称
アモルファス合金の表面処理法
３、補止をする者
事件との関係 特許出願人
東ふハ都千代＋＋１区大手町二丁「１６番３号（６（ｉ
５）新１１本製鐵株式會社 代表者 武 １） 豊 ６、補１１．の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 ７ 補正の内容 （１）明細書９頁１〜４行「また本発明の方法番ま・・
・・・・・・熱風乾燥することも可能である。」を肖り
除する。
５）新１１本製鐵株式會社 代表者 武 １） 豊 ６、補１１．の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 ７ 補正の内容 （１）明細書９頁１〜４行「また本発明の方法番ま・・
・・・・・・熱風乾燥することも可能である。」を肖り
除する。
Claims (1)
- アモルファス合金表面にクロム酸、リン酸及び弗素化合
物を含む酸性水溶液の適当量を塗布し、乾燥焼きっけを
行ないクロムとリン酸化合物を主体とする皮膜を形成さ
せることを特徴とするアモルファス合金の表面処理法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58084505A JPS6044394B2 (ja) | 1983-05-14 | 1983-05-14 | アモルフアス合金の表面処理法 |
| US06/609,140 US4497850A (en) | 1983-05-14 | 1984-05-11 | Method for surface treatment of a magnetic amorphous alloy |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58084505A JPS6044394B2 (ja) | 1983-05-14 | 1983-05-14 | アモルフアス合金の表面処理法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59211579A true JPS59211579A (ja) | 1984-11-30 |
| JPS6044394B2 JPS6044394B2 (ja) | 1985-10-03 |
Family
ID=13832496
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58084505A Expired JPS6044394B2 (ja) | 1983-05-14 | 1983-05-14 | アモルフアス合金の表面処理法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4497850A (ja) |
| JP (1) | JPS6044394B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60262977A (ja) * | 1984-06-08 | 1985-12-26 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | 鉄系非晶質合金の耐食化方法 |
| JPS63103098A (ja) * | 1986-10-20 | 1988-05-07 | Nippon Steel Corp | 非晶質合金材料の表面処理方法 |
Families Citing this family (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4960043A (en) * | 1989-06-07 | 1990-10-02 | Nabisco Brands, Inc. | Extruder and continuous mixer arrangement for producing an at least partially baked product having a cookie-like crumb structure |
| US4984514A (en) * | 1989-06-07 | 1991-01-15 | Nabisco Brands, Inc. | Extruder apparatus for producing an at least partially baked product having a cookie-like crumb structure including a post extrusion microwave device |
| US4949628A (en) * | 1989-06-07 | 1990-08-21 | Nabisco Brands, Inc. | Extruder and continuous mixer arrangement for producing an at least partially baked product having a cookie-like crumb structure, the extruder including a microwave applicator |
| US4999208A (en) * | 1989-06-07 | 1991-03-12 | Nabisco Brands, Inc. | Extrusion baking of cookies having liposome encapsulated ingredients |
| US4979434A (en) * | 1989-06-07 | 1990-12-25 | Nabisco Brands, Inc. | Extruder apparatus for producing an at least partially baked product having a cookie-like crumb structure |
| US5079012A (en) * | 1989-06-07 | 1992-01-07 | Nabisco Brands, Inc. | Shelf stable cookie product containing heat and shear sensitive additives and method of making |
| US5071668A (en) * | 1989-06-07 | 1991-12-10 | Nabisco Brands, Inc. | Extrusion baking of cookies containing heat and shear sensitive additives |
| US5015489A (en) * | 1989-06-07 | 1991-05-14 | Nabisco Brands, Inc. | Production of cookies with extrusion and post extrusion baking |
| US5124161A (en) * | 1989-06-07 | 1992-06-23 | Nabisco Brands, Inc. | Filled, microwave expandable snack food product and method and apparatus for its production |
| US4957041A (en) * | 1989-06-07 | 1990-09-18 | Nabisco Brands, Inc. | Extruder apparatus for producing an at least partially baked product having a cookie-like crumb structure including a post-extrusion radio frequency device |
| US5015490A (en) * | 1989-06-07 | 1991-05-14 | Nabisco Brands, Inc. | Production of extruded baked products without oil separation |
| US5077074A (en) * | 1989-06-07 | 1991-12-31 | Nabisco Brands, Inc. | Preparation of cookie products involving extrusion heating and wire cutting |
| US5015488A (en) * | 1989-06-07 | 1991-05-14 | Nabisco Brands, Inc. | Cookie production with extrusion heat treatment and post extrusion mixing and baking |
| US5030468A (en) * | 1989-06-07 | 1991-07-09 | Nabisco Brands, Inc. | Production of leavened products using high temperature mixing |
| US4957042A (en) * | 1989-06-07 | 1990-09-18 | Nabisco Brands, Inc. | Extruder and continuous mixer arrangement for producing an at least partially baked product having a cookie-like crumb structure including a post-extrusion microwave device |
| US4938127A (en) * | 1989-06-07 | 1990-07-03 | Nabisco Brands, Inc. | Extruder and continuous mixer arrangement for producing an at least partially baked product having a cookie-like crumb structure including a post-extrusion radio frequency device |
| US5980873A (en) * | 1997-07-07 | 1999-11-09 | Kapral; Ales M. | Additive for cosmetics and other topically applied materials |
| US5902573A (en) * | 1997-07-07 | 1999-05-11 | Kapral; Ales M. | Keratin softening technique and apparatus |
| US6190419B1 (en) * | 1997-07-07 | 2001-02-20 | Ales M. Kapral | Method of washing garments utilizing fluoric acid |
| DE102008008781A1 (de) * | 2008-02-12 | 2009-08-20 | Thyssenkrupp Electrical Steel Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines kornorientierten Elektrobands |
| DE102010054509A1 (de) * | 2010-12-14 | 2012-06-14 | Thyssenkrupp Electrical Steel Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines kornorientierten Elektrobands |
| CN108597845B (zh) * | 2018-05-14 | 2024-04-16 | 宜兴紫鑫电子新材料有限公司 | 一种软磁合金磁环带体表面处理方法及处理装置 |
| CN114737195A (zh) * | 2022-04-19 | 2022-07-12 | 青岛云路先进材料技术股份有限公司 | 一种非晶合金带材表面清洗方法及非晶合金带材 |
-
1983
- 1983-05-14 JP JP58084505A patent/JPS6044394B2/ja not_active Expired
-
1984
- 1984-05-11 US US06/609,140 patent/US4497850A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60262977A (ja) * | 1984-06-08 | 1985-12-26 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | 鉄系非晶質合金の耐食化方法 |
| JPS63103098A (ja) * | 1986-10-20 | 1988-05-07 | Nippon Steel Corp | 非晶質合金材料の表面処理方法 |
| JPH0430474B2 (ja) * | 1986-10-20 | 1992-05-21 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6044394B2 (ja) | 1985-10-03 |
| US4497850A (en) | 1985-02-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS59211579A (ja) | アモルフアス合金の表面処理法 | |
| EP1903125B1 (en) | Grain-oriented electromagnetic steel sheet having chromium-free insulation coating and insulation coating agent therefor | |
| JP5194641B2 (ja) | 方向性電磁鋼板用絶縁被膜処理液および絶縁被膜付方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| GB2167324A (en) | Grain-oriented electrical steel sheet having a low watt loss and method for producing same | |
| JP2000169972A (ja) | クロムを含まない方向性電磁鋼板用表面処理剤及びそれを用いた方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| JPS6039160B2 (ja) | 絶縁性、耐食性の優れた磁性アモルフアス合金材料 | |
| JP4264362B2 (ja) | クロムを含まない方向性電磁鋼板用絶縁皮膜剤及びクロムを含まない絶縁皮膜を有する方向性電磁鋼板 | |
| RU2758423C1 (ru) | Жидкость для получения изолирующего покрытия, текстурированный лист из электротехнической стали с нанесенным изолирующим покрытием и способ его производства | |
| US4362782A (en) | Low temperature cure interlaminar coating | |
| JPS60255980A (ja) | 電気鋼の絶縁性被覆組成物 | |
| JPH07228977A (ja) | 方向性電磁鋼板の絶縁被覆剤、絶縁被膜形成方法及び方向性電磁鋼板 | |
| SE450496B (sv) | Komposition for att bilda en icke ledande glasfilm pa ytor av orienterat kisellegerat stal samt sett att framstella kompositionen | |
| EP4273277A1 (en) | Grain-oriented electromagnetic steel sheet production method and annealing separator used for same | |
| JP7222450B1 (ja) | 前処理液および絶縁被膜付き電磁鋼板の製造方法 | |
| WO2023139847A1 (ja) | 前処理液および絶縁被膜付き電磁鋼板の製造方法 | |
| JP7311075B1 (ja) | 前処理液および絶縁被膜付き電磁鋼板の製造方法 | |
| JPS58197804A (ja) | 非晶質磁性材料の層間絶縁皮膜形成方法 | |
| WO2023188594A1 (ja) | 前処理液および絶縁被膜付き電磁鋼板の製造方法 | |
| JP2637405B2 (ja) | 絶縁被膜を有する防錆電磁鋼板 | |
| JPH0337723B2 (ja) | ||
| JPS60228684A (ja) | 非晶質磁性鋼帯の焼鈍方法 | |
| JP3527008B2 (ja) | 低鉄損一方向性電磁鋼板およびその製造方法 | |
| CN117343557A (zh) | 涂料、具有该涂料形成的涂层的取向硅钢板及其制造方法 | |
| JPS6039760B2 (ja) | アモルフアス合金の表面処理法 | |
| JPH07278830A (ja) | 低鉄損一方向性電磁鋼板の製造方法 |