JPS59211572A - 金合金の被膜形成方法 - Google Patents
金合金の被膜形成方法Info
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- JPS59211572A JPS59211572A JP8645683A JP8645683A JPS59211572A JP S59211572 A JPS59211572 A JP S59211572A JP 8645683 A JP8645683 A JP 8645683A JP 8645683 A JP8645683 A JP 8645683A JP S59211572 A JPS59211572 A JP S59211572A
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- Japan
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- gold alloy
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/0015—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterized by the colour of the layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
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- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、金合金の被膜形成方法、特に安定した色調の
金色系被膜を基質（二形成させる実用性の後れた方法ｆ
二関する。
金色系被膜を基質（二形成させる実用性の後れた方法ｆ
二関する。
従来、時計、装身具あるいは装飾品などの表向（＝金色
の、いわゆる金メッキを施すことは広く竹われているが
、実質的には金合金のメッキであって、湿式法−二おい
ても乾式法においても、安定した金色の色調のメッキ層
を形成させることは困難であった。最近では乾式法が一
般に採用され、真空蒸看やイオンブレーティング法によ
り合金系の金メッキがなされている。これらの方法では
、いずれも装置内において、２個の加熱用ボートが用い
られ、合金成分としての金と他の金属、例えばチタンや
コバルトなどを、それぞれ別個のポートに入れ、別々に
加熱蒸発させて基質への金合金被膜形成が行われている
。２個のボートの７１０熱は、それぞれ別個（二行われ
、各金属の所望蒸気圧な得るように溶融温度は調節され
る。その加熱手段は抵抗２１１１熱及び電子ビームが有
利に採用され、２個のボート＆、例えばＴ１は電子ビー
ムにより、Ａｕに抵抗加熱（二よって加熱してもよいし
、両金属をそれぞれ′電子ビームにより別個に加熱する
こともできる。しかし、従来のこのような二元蒸発によ
る基板への金色被膜の形成は、真空度とそれぞれの金属
加熱の厳密なコントロールが要求され、両金属の蒸気圧
の僅かな変動で色調が容易に変るという欠点があった。
の、いわゆる金メッキを施すことは広く竹われているが
、実質的には金合金のメッキであって、湿式法−二おい
ても乾式法においても、安定した金色の色調のメッキ層
を形成させることは困難であった。最近では乾式法が一
般に採用され、真空蒸看やイオンブレーティング法によ
り合金系の金メッキがなされている。これらの方法では
、いずれも装置内において、２個の加熱用ボートが用い
られ、合金成分としての金と他の金属、例えばチタンや
コバルトなどを、それぞれ別個のポートに入れ、別々に
加熱蒸発させて基質への金合金被膜形成が行われている
。２個のボートの７１０熱は、それぞれ別個（二行われ
、各金属の所望蒸気圧な得るように溶融温度は調節され
る。その加熱手段は抵抗２１１１熱及び電子ビームが有
利に採用され、２個のボート＆、例えばＴ１は電子ビー
ムにより、Ａｕに抵抗加熱（二よって加熱してもよいし
、両金属をそれぞれ′電子ビームにより別個に加熱する
こともできる。しかし、従来のこのような二元蒸発によ
る基板への金色被膜の形成は、真空度とそれぞれの金属
加熱の厳密なコントロールが要求され、両金属の蒸気圧
の僅かな変動で色調が容易に変るという欠点があった。
本発明者らは、金合金の安定した色調の被膜を基板に形
成させる乾式金メツキ法について研究を催ねた結果、所
望の色調の金合金被膜を形成させる望ましい方法を見出
した。
成させる乾式金メツキ法について研究を催ねた結果、所
望の色調の金合金被膜を形成させる望ましい方法を見出
した。
本発明の１」的は、基板上に所望の金色系の色コの金合
金被膜を容易に形成させる新規な方法を彷供するにある
。また、本発明の他の目的は、所望色調の一定した金合
金被膜形成物を工業的に安定かつ有利に提供することに
ある。そのｒｌ１２の本発明の目的及び優れた効果は以
下の記１代から一層明らかとなるであろう。
金被膜を容易に形成させる新規な方法を彷供するにある
。また、本発明の他の目的は、所望色調の一定した金合
金被膜形成物を工業的に安定かつ有利に提供することに
ある。そのｒｌ１２の本発明の目的及び優れた効果は以
下の記１代から一層明らかとなるであろう。
すなわち、本発明は、金とニッケル、コバルト。
パラジウム並びにクロムより成る群からＪ′ｊＩ択され
る金属との合金を約１０００〜１５００℃の渦１丈に加
熱し、その上方に保持された基板との間に゛市川を印加
して真空条件下にイオンブレーティングする金合金の被
膜形成方法を提供する。
る金属との合金を約１０００〜１５００℃の渦１丈に加
熱し、その上方に保持された基板との間に゛市川を印加
して真空条件下にイオンブレーティングする金合金の被
膜形成方法を提供する。
本発明の方法は、従来イオンブレーティングの蒸発源と
しては到底考えられず、また試みられたことのない金合
金を用いることが特徴的であり、用いられる金合金は、
ニッケル、コバルト、パラジウム及びクロムから選択さ
れる少くとも１種の金属と金との合金であって、その色
調を変化させるような実質的量の他の金属類が含まれる
ものは本発明（二おいては採用できない。本発明におい
ては、金と上記金属類の１種との合金が有利（二用いら
れるが、金と上記金属類の２種以上との合金をイ吏用し
うることはもらろんである。
しては到底考えられず、また試みられたことのない金合
金を用いることが特徴的であり、用いられる金合金は、
ニッケル、コバルト、パラジウム及びクロムから選択さ
れる少くとも１種の金属と金との合金であって、その色
調を変化させるような実質的量の他の金属類が含まれる
ものは本発明（二おいては採用できない。本発明におい
ては、金と上記金属類の１種との合金が有利（二用いら
れるが、金と上記金属類の２種以上との合金をイ吏用し
うることはもらろんである。
本発明方法に用いられるイオンブレーティングにおいて
は、従来９．ＩＪられた各種イオンブレーティング方法
、例えば、直流イオンブレーティング装置、多陰極イオ
ンブレーティング装置あるいは高置θ支励起イオンブレ
ーティングの装置等を用いる］方法は有利に採用でき、
μ空槽中でグロー放電を起し一〇プラズマ頭域を形成さ
せる金属被膜形成法が包含される。
は、従来９．ＩＪられた各種イオンブレーティング方法
、例えば、直流イオンブレーティング装置、多陰極イオ
ンブレーティング装置あるいは高置θ支励起イオンブレ
ーティングの装置等を用いる］方法は有利に採用でき、
μ空槽中でグロー放電を起し一〇プラズマ頭域を形成さ
せる金属被膜形成法が包含される。
本発明の方法においては、あらかじめ、所望の色調の金
合金をｉｌ＃ ＋ｊ、Ｊし、これをボートに入れてイオ
ンブレーティングすること（二より、基板の表面に、Ｌ
記金合金の色調と実質的に同じ色調の合金と皮１１（膜
形成させることができるので極めて有利である。合金類
の色調は、Ａｕ−Ｎｉ、 Ａｕ−Ｃｏ、 Ａｕ−Ｐｄ及
びＡｕ−０ｒの各組合せによって、それぞれの構成割合
が同じ場合にも微妙な差異があり、構成割合の変化によ
って色調は連続的（二変動する。しかし、金メツキ色調
を与える（二は、どの１１１１合せ合金の場合にも金を
主要構成ト戊分とすることが実質的（二屯安であり、例
えば１０〜９９東：１ｒ％の金成分を含有する合金類が
好ましく用いられる。また、例えばパラジウムは金と合
金にされるとき、金のゴールド色にピンク系のニュアン
スを付Ｅｊ−’ｆるなど、他の金属もそれぞれ特異の感
覚色を付与することができるので、金に対し、２種以上
の金属の選択とそれぞれの含有量（二より、所望の合金
色調を創作することができる。しかし、金合金形成用添
加金属類であるＮｉ、Ｇｏ、Ｐｄ 及びＯｒは、いずれ
の場合（二も合金中に１〜１０屯量％稈度存在させるこ
とが好ましく、２種以上を併用する場合には、それらの
合計ｌが上記範囲内となるようにすることが望ましい。
合金をｉｌ＃ ＋ｊ、Ｊし、これをボートに入れてイオ
ンブレーティングすること（二より、基板の表面に、Ｌ
記金合金の色調と実質的に同じ色調の合金と皮１１（膜
形成させることができるので極めて有利である。合金類
の色調は、Ａｕ−Ｎｉ、 Ａｕ−Ｃｏ、 Ａｕ−Ｐｄ及
びＡｕ−０ｒの各組合せによって、それぞれの構成割合
が同じ場合にも微妙な差異があり、構成割合の変化によ
って色調は連続的（二変動する。しかし、金メツキ色調
を与える（二は、どの１１１１合せ合金の場合にも金を
主要構成ト戊分とすることが実質的（二屯安であり、例
えば１０〜９９東：１ｒ％の金成分を含有する合金類が
好ましく用いられる。また、例えばパラジウムは金と合
金にされるとき、金のゴールド色にピンク系のニュアン
スを付Ｅｊ−’ｆるなど、他の金属もそれぞれ特異の感
覚色を付与することができるので、金に対し、２種以上
の金属の選択とそれぞれの含有量（二より、所望の合金
色調を創作することができる。しかし、金合金形成用添
加金属類であるＮｉ、Ｇｏ、Ｐｄ 及びＯｒは、いずれ
の場合（二も合金中に１〜１０屯量％稈度存在させるこ
とが好ましく、２種以上を併用する場合には、それらの
合計ｌが上記範囲内となるようにすることが望ましい。
添加金属が１％禾満の場合には、添加金属の色調が反映
されず、実質的に金そのものになってしまい、また１０
％を超えると金合金の色調から逸脱するので好ましくな
い。
されず、実質的に金そのものになってしまい、また１０
％を超えると金合金の色調から逸脱するので好ましくな
い。
本発明の方法（二おいては、このように金合金をあらか
じめ調製してイオンプレーディングに適用される。本発
明の金合金の被膜形成方法は、上記合金をボートに入れ
、イオンブレーティング装置内に１６いて、装置直向を
例えば１０〜１０ Ｔｏｒｒ程度の不活性ガス含有礪
空条件下（二保ち、被膜を形成させる基板と合金との間
に、例えば０．５〜ＩＫＶの市川を印ｉＪＤし、ボート
中の合金を１０００〜１５００℃のｔ品度（二加熱する
ことにより行われ、基板表面に合金と実質的に同じ合金
液；換を容易に形成させることができる。金合金の蒸発
速度は、２個以上のボートを使用する場合と異なり、本
質的な制約はないが、形成される被膜の質やその外ＭＭ
による商品価値等から、例えば５０〜５００Ａ／ ８ｅ
Ｑ稈ＩＷが有利であり、真空度と合金加熱温度が、所望
蒸発速度及び好ましい被膜外観を得るため（＝、それぞ
れ組合せ選択される。
じめ調製してイオンプレーディングに適用される。本発
明の金合金の被膜形成方法は、上記合金をボートに入れ
、イオンブレーティング装置内に１６いて、装置直向を
例えば１０〜１０ Ｔｏｒｒ程度の不活性ガス含有礪
空条件下（二保ち、被膜を形成させる基板と合金との間
に、例えば０．５〜ＩＫＶの市川を印ｉＪＤし、ボート
中の合金を１０００〜１５００℃のｔ品度（二加熱する
ことにより行われ、基板表面に合金と実質的に同じ合金
液；換を容易に形成させることができる。金合金の蒸発
速度は、２個以上のボートを使用する場合と異なり、本
質的な制約はないが、形成される被膜の質やその外ＭＭ
による商品価値等から、例えば５０〜５００Ａ／ ８ｅ
Ｑ稈ＩＷが有利であり、真空度と合金加熱温度が、所望
蒸発速度及び好ましい被膜外観を得るため（＝、それぞ
れ組合せ選択される。
通常、金合金の被ｊ換は、実用上０，２〜１μ程度の厚
さに形成される。本発明（二おいては、基板表面（二所
定厚さの金合金被膜を形成させるの（二必要な金合金の
はよりρ藺の金合金をボートに入れ、イオンブレーティ
ングすることが好ましく、所要鼠をボートに入れて完全
に蒸発させるときは、最終的な合金組成の変動に基く色
調変化を招くので、イオンブレーティング終了時点で、
ボート中の合金は仕込量の少くとも５％、好ましくは１
０％、さらに好ましくは２０％が残存するようＣ二操作
することが望ましい。
さに形成される。本発明（二おいては、基板表面（二所
定厚さの金合金被膜を形成させるの（二必要な金合金の
はよりρ藺の金合金をボートに入れ、イオンブレーティ
ングすることが好ましく、所要鼠をボートに入れて完全
に蒸発させるときは、最終的な合金組成の変動に基く色
調変化を招くので、イオンブレーティング終了時点で、
ボート中の合金は仕込量の少くとも５％、好ましくは１
０％、さらに好ましくは２０％が残存するようＣ二操作
することが望ましい。
このようなイオンブレーティングによる金合金の被膜を
形成させる基板は、時計、装身具などは通常金属であっ
て、その金属材料の表面をよく洗浄して直接被膜を形成
させることができるが、被膜の接着強度をさらに同上さ
せるために、素材とは別の金属を表面（二あらかじめ被
覆し、あるいは金属材料の表面を酸化処理あるいは窒化
処理などして、−１１４強固な金合金被膜を形成させる
ことができる。−万、例えばガラスの如き非導′市性材
料に本発明の方法を適用する場合には、その材料表面に
桿′市性何料の彼攪を施さねばならない。
形成させる基板は、時計、装身具などは通常金属であっ
て、その金属材料の表面をよく洗浄して直接被膜を形成
させることができるが、被膜の接着強度をさらに同上さ
せるために、素材とは別の金属を表面（二あらかじめ被
覆し、あるいは金属材料の表面を酸化処理あるいは窒化
処理などして、−１１４強固な金合金被膜を形成させる
ことができる。−万、例えばガラスの如き非導′市性材
料に本発明の方法を適用する場合には、その材料表面に
桿′市性何料の彼攪を施さねばならない。
本発明の方法は、従来実施されたことのない金合金を蒸
発源として用い、この組成と実質的に同一の組成の彼覆
層を形成させることができ、従って調製された金合金の
色調と実質的に同じ色調の破膜を容易Ｃ二得ることがで
きるので極めて好都合であり、一定した色調の被膜が安
定に得られる点でその王道的価イ１９は非常に高い。
発源として用い、この組成と実質的に同一の組成の彼覆
層を形成させることができ、従って調製された金合金の
色調と実質的に同じ色調の破膜を容易Ｃ二得ることがで
きるので極めて好都合であり、一定した色調の被膜が安
定に得られる点でその王道的価イ１９は非常に高い。
次に、添付図面【二より本発明の方法をさらに具体的に
説明−「る。
説明−「る。
弔１図は、本発明の方法を実施する１例を説明するため
の概要図で、本発明の方法に有利Ｃ二用いられる１直流
イオンプンーテイング装置の例であり、真空槽１の中に
カソード電極を兼ねた基板ホルダー ２ Ｉ及びこれに
対向して下側Ｃ二加熱手段を備えた蒸発源ボート６が配
備され、両者は直流電源４に連結されている。基板ホル
ダー２には、金合金の被膜形成用基板５が保持され、ボ
ート６はＩＪＩ］熱電源熱電上６所望の温１焚（二加熱
されるようＣニコントロールされる。
の概要図で、本発明の方法に有利Ｃ二用いられる１直流
イオンプンーテイング装置の例であり、真空槽１の中に
カソード電極を兼ねた基板ホルダー ２ Ｉ及びこれに
対向して下側Ｃ二加熱手段を備えた蒸発源ボート６が配
備され、両者は直流電源４に連結されている。基板ホル
ダー２には、金合金の被膜形成用基板５が保持され、ボ
ート６はＩＪＩ］熱電源熱電上６所望の温１焚（二加熱
されるようＣニコントロールされる。
このような装置を用いてイオンブレーティングを行うに
は、まず基板をよく洗浄してホルダー２（二取り付け、
ボート６には所望の金合金の所定蹟を入れ、排気ロアよ
り排気して真空槽１内は２×１０ Ｔｏｒｒ以下の真
空状態にされる。次いで通窮ガス導入バルブ８よりアル
ゴンガスヲＪ４人して５ ｘ １０−５Ｔｏｒｒ程度（
二し、ホルダー２に、例工ば１００−１０００Ｖの直流
電圧を印加し、基板にボンバードを行ってから、さらに
アルゴンガスを導入して１０−２〜１０−３Ｔｏｒｒ程
ＩＷの真空度とし、ボート６中の金合金を抵抗加熱電源
６（二より１３００℃以上に昇温溶融させることにより
、金合金イオンを基板に衝突させ、その被膜が形成され
る。
は、まず基板をよく洗浄してホルダー２（二取り付け、
ボート６には所望の金合金の所定蹟を入れ、排気ロアよ
り排気して真空槽１内は２×１０ Ｔｏｒｒ以下の真
空状態にされる。次いで通窮ガス導入バルブ８よりアル
ゴンガスヲＪ４人して５ ｘ １０−５Ｔｏｒｒ程度（
二し、ホルダー２に、例工ば１００−１０００Ｖの直流
電圧を印加し、基板にボンバードを行ってから、さらに
アルゴンガスを導入して１０−２〜１０−３Ｔｏｒｒ程
ＩＷの真空度とし、ボート６中の金合金を抵抗加熱電源
６（二より１３００℃以上に昇温溶融させることにより
、金合金イオンを基板に衝突させ、その被膜が形成され
る。
次に、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。
実）他側１
上記直流イオンブレーティング装置を用い、Ａｕ：Ｎｉ
が！’ＪＥ、 ＋ｌｊ比９５：５の金合金を調製して、
そのＩＯＮをボート（二人れ、基板としてＢｓ材にＮｉ
メッキした時計ケース（下側表面積約２０ｃｒ７Ｉ）を
用いた。基板メはメッキすべき表面をメチルアルコール
及びアセトンで順次洗浄し、ホルダーに取り付けた。装
置の真空イ曹を２ Ｘ １０ ’ｒｏｒｒに排気し、
Ａｒガスを導入して５ Ｘ １０ Ｔｏｒｒとしたの
ち、基板じＬＯＯＯＶの直流電圧を印加してボンバード
を行った。次いで、さらにＡｒ ガスを導入して槽内を
３ Ｘ １０ ’ｒｏｒｒに調整し、ボード内の金合
金を約１５００℃Ｃ７］０然して金合金の蒸発速１ｙを
約５ ＯＡ／ ｓｅａ Ｃ−ｒ ｙトロールし、約３分
イオンブレーティングを行った。形成された被膜の厚み
は０．４５μであった。
が！’ＪＥ、 ＋ｌｊ比９５：５の金合金を調製して、
そのＩＯＮをボート（二人れ、基板としてＢｓ材にＮｉ
メッキした時計ケース（下側表面積約２０ｃｒ７Ｉ）を
用いた。基板メはメッキすべき表面をメチルアルコール
及びアセトンで順次洗浄し、ホルダーに取り付けた。装
置の真空イ曹を２ Ｘ １０ ’ｒｏｒｒに排気し、
Ａｒガスを導入して５ Ｘ １０ Ｔｏｒｒとしたの
ち、基板じＬＯＯＯＶの直流電圧を印加してボンバード
を行った。次いで、さらにＡｒ ガスを導入して槽内を
３ Ｘ １０ ’ｒｏｒｒに調整し、ボード内の金合
金を約１５００℃Ｃ７］０然して金合金の蒸発速１ｙを
約５ ＯＡ／ ｓｅａ Ｃ−ｒ ｙトロールし、約３分
イオンブレーティングを行った。形成された被膜の厚み
は０．４５μであった。
このようにして基板をとりかえて１ｌｌ１次杓１００個
の基板に被１換形成を行ったのち、同じ金合倹７ｙをボ
ート中のｆＪ３ｙの残留金合欲（二追加して同様にイオ
ンブレーティングを行った。はじめの金合金被膜と最後
の同被膜は実′６的に同一の意味のある金色で、いずれ
も美しい金メッキｆｌｙｌであり、耐食性、耐１≠耗性
も充分満足しうるものであった。
の基板に被１換形成を行ったのち、同じ金合倹７ｙをボ
ート中のｆＪ３ｙの残留金合欲（二追加して同様にイオ
ンブレーティングを行った。はじめの金合金被膜と最後
の同被膜は実′６的に同一の意味のある金色で、いずれ
も美しい金メッキｆｌｙｌであり、耐食性、耐１≠耗性
も充分満足しうるものであった。
実施例
実施例１と同じ装置を用い、同様に操作して、第１表中
に示す各欅金合金乞各種）と板にイオンブレーティング
した。各金合金の基板上への形成被膜厚は、いずれも約
０．４５μであった。
に示す各欅金合金乞各種）と板にイオンブレーティング
した。各金合金の基板上への形成被膜厚は、いずれも約
０．４５μであった。
得られた各金合金被膜について叫食性試験及び耐厚耗性
試験を行い、それらの結果を第１表に併記した。耐食性
は、人エフ’ｌ１ｍ （Ｎａ１ｌ ９．９ Ｌ 尿素１
．７，９．乳酸１．７１１． ’Ｎａ Ｓ Ｏ，８Ｆ／
及びＮＨＯＨ４ ０，２ｇを水に溶解して螢容量を１）に調製した水溶液
）を用いる人工汗浸漬試験法により、また、１１吋ＩＹ
托性は、スガ試験機株式会社製の摩耗試ｌ＠１幾（ＮＶ
Ｓ−１８０−１，１７１Ｚ０７）による方法で測定した
。それらの評価は、いずれも、概略伏のような基準によ
るものである。
試験を行い、それらの結果を第１表に併記した。耐食性
は、人エフ’ｌ１ｍ （Ｎａ１ｌ ９．９ Ｌ 尿素１
．７，９．乳酸１．７１１． ’Ｎａ Ｓ Ｏ，８Ｆ／
及びＮＨＯＨ４ ０，２ｇを水に溶解して螢容量を１）に調製した水溶液
）を用いる人工汗浸漬試験法により、また、１１吋ＩＹ
托性は、スガ試験機株式会社製の摩耗試ｌ＠１幾（ＮＶ
Ｓ−１８０−１，１７１Ｚ０７）による方法で測定した
。それらの評価は、いずれも、概略伏のような基準によ
るものである。
◎・・・非′帛′によい ○・・・ややよい△・・・
や・や悪い Ｘ・・・悪 い上記の結果から明らか
なように、金合金被膜の耐摩耗性及び耐食性は充分満足
いくものであり、被ＩＩλ色調も工業的に安定した金合
金特有の色合いを形成させることかできた。
や・や悪い Ｘ・・・悪 い上記の結果から明らか
なように、金合金被膜の耐摩耗性及び耐食性は充分満足
いくものであり、被ＩＩλ色調も工業的に安定した金合
金特有の色合いを形成させることかできた。
また、実施例２〜５の各側において、実施＠ｌと同様に
、ポート内の残留金合金に、これと同一の金合金を補給
しても同一の色調が得られることが確められた。
、ポート内の残留金合金に、これと同一の金合金を補給
しても同一の色調が得られることが確められた。
第１図は、本発明の詳細な説明するための直流イオンブ
レーティング装置に係る概略図である。 図中の符号１はμ空槽、２は基板ホルダー、６は蒸発源
ポート、４は直流電源である。 特許出願人 シチズン時計株式会社
レーティング装置に係る概略図である。 図中の符号１はμ空槽、２は基板ホルダー、６は蒸発源
ポート、４は直流電源である。 特許出願人 シチズン時計株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、金とニッケル、コバルト、パラジウム並ヒ（ニクロ
ムより成る群から選択される金属との合金を約１０００
〜１５００℃の温度に加熱し、その上方（−保持された
基板を陰極とし、電圧を印加して真空条件下でイオンブ
レーティングすることを特徴とする金合金の被膜形成方
法。 ２、金合金の仕込穢の少くとも５％を残留させるように
イオンブレーティングを行う特許請求の屹ＩＩＨ第１項
記載の方法。 ３、 イオンブレーティングを行う真空条件がアルゴン
雰囲気中１０〜ＩＱ Ｔｏｒｒである特許請求の範囲
第１項記載の方法。 ４、印加重圧が１００ｖ〜ＩＫＶである特許請求の範囲
第１項記載の方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8645683A JPS59211572A (ja) | 1983-05-17 | 1983-05-17 | 金合金の被膜形成方法 |
| GB08409031A GB2138027B (en) | 1983-04-12 | 1984-04-06 | A process for plating an article with a gold-based alloy and an alloy therefor |
| DE19843413663 DE3413663A1 (de) | 1983-04-12 | 1984-04-11 | Legierung und verfahren zum vergolden |
| CH185684A CH667963GA3 (ja) | 1983-04-12 | 1984-04-12 | |
| FR848405804A FR2544334B1 (fr) | 1983-04-12 | 1984-04-12 | Procede pour plaquer un article decoratif avec un alliage a base d'or et alliage pour la mise en oeuvre de ce procede |
| HK814/87A HK81487A (en) | 1983-04-12 | 1987-11-05 | A process for plating an article with a gold-based alloy |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8645683A JPS59211572A (ja) | 1983-05-17 | 1983-05-17 | 金合金の被膜形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59211572A true JPS59211572A (ja) | 1984-11-30 |
Family
ID=13887441
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8645683A Pending JPS59211572A (ja) | 1983-04-12 | 1983-05-17 | 金合金の被膜形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59211572A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003082452A (ja) * | 2001-09-13 | 2003-03-19 | Citizen Watch Co Ltd | 装飾用金色被膜 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5165036A (ja) * | 1974-12-03 | 1976-06-05 | Seiko Instr & Electronics | Sutenresubuhinnikinbarisuruhoho |
| JPS5352713A (en) * | 1976-10-20 | 1978-05-13 | Kasen Nozuru Seisakushiyo Kk | Manufacture of nozzle for synthtic fiber spinning |
| JPS5485126A (en) * | 1977-12-20 | 1979-07-06 | Seiko Epson Corp | Electronic wristwatch |
| JPS5819366A (ja) * | 1981-07-28 | 1983-02-04 | Osaka Soda Co Ltd | 無機質塗料組成物 |
-
1983
- 1983-05-17 JP JP8645683A patent/JPS59211572A/ja active Pending
Patent Citations (4)
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