JPS59203773A - セラミツクスの焼成方法 - Google Patents
セラミツクスの焼成方法Info
- Publication number
- JPS59203773A JPS59203773A JP58077572A JP7757283A JPS59203773A JP S59203773 A JPS59203773 A JP S59203773A JP 58077572 A JP58077572 A JP 58077572A JP 7757283 A JP7757283 A JP 7757283A JP S59203773 A JPS59203773 A JP S59203773A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- raw material
- ceramic
- firing
- atmosphere
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Inorganic Insulating Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、Ｐｂ等蒸気圧の高い成分を含むセラミックス
の焼成方法に関するものである。
の焼成方法に関するものである。
例えばＰｂ等蒸気圧の高い成分を含むＰＬＺＴ ＋ｐＺ
Ｔ等のセラミックスの焼成において、焼成中にｐｂ等が
蒸発すると、セラミックスの成分が変化しく例えばＰＬ
ＺＴにおいてはその透明度が変化する）、所望の特性を
有するセラミックスが得られ表いという問題が発生する
。
Ｔ等のセラミックスの焼成において、焼成中にｐｂ等が
蒸発すると、セラミックスの成分が変化しく例えばＰＬ
ＺＴにおいてはその透明度が変化する）、所望の特性を
有するセラミックスが得られ表いという問題が発生する
。
このような問題点を解決するために、従来、例えばＰＬ
ＺＴでけｐｂｏを過剰に原料中に加えておくとともに、
焼成のための炉内にｐｂｏやＰｂＺｒＯ３等のｐｂｏの
蒸気を発生するような粉体を入れておく手法がとられて
いる。
ＺＴでけｐｂｏを過剰に原料中に加えておくとともに、
焼成のための炉内にｐｂｏやＰｂＺｒＯ３等のｐｂｏの
蒸気を発生するような粉体を入れておく手法がとられて
いる。
第１図は、このような従来の手法の一例を説明するだめ
の説明図である。この図において、１，２はいずれもル
ツボで、ここでは内部の金属酸化物（ｐｂｏ等）の蒸気
圧を一定に維持するために２個を二重にして使用してい
る。３はＰＬＺＴ等の原料、４、５．６はいずれも雰囲
気調整用のＰｂＺｒＯ３やｐｂｏ等の粉体で、原料５の
周囲、ルツボ１，２内に充填されている。原料３は、こ
のような状態で、所定の時間、例えば１２００°Ｃの温
度で焼成される。
の説明図である。この図において、１，２はいずれもル
ツボで、ここでは内部の金属酸化物（ｐｂｏ等）の蒸気
圧を一定に維持するために２個を二重にして使用してい
る。３はＰＬＺＴ等の原料、４、５．６はいずれも雰囲
気調整用のＰｂＺｒＯ３やｐｂｏ等の粉体で、原料５の
周囲、ルツボ１，２内に充填されている。原料３は、こ
のような状態で、所定の時間、例えば１２００°Ｃの温
度で焼成される。
このよ゛うな手法によれば、雰囲気調整用の粉体が多量
に必要であるうえに、各ルツボ１，２と設置台７との透
き間から金属酸化物の蒸気が逃げてしまい、蒸気圧を一
定に維持することが難かしく、また、再現性が悪いとい
う欠点がある。
に必要であるうえに、各ルツボ１，２と設置台７との透
き間から金属酸化物の蒸気が逃げてしまい、蒸気圧を一
定に維持することが難かしく、また、再現性が悪いとい
う欠点がある。
ことにおいて、本発明は従来の手法におけるこのような
欠点を解決するために外されたものである。
欠点を解決するために外されたものである。
本発明に係る方法は、容器内に焼成すべきセラミックス
原料を入れるとともにこれと直接接触しないように雰囲
気を調整する成分を含むガラスを設置し、このガラスを
高温下で溶融させ前記容器をシールするようにし、この
状態で所定の時間焼成するようにした点に特徴がある。
原料を入れるとともにこれと直接接触しないように雰囲
気を調整する成分を含むガラスを設置し、このガラスを
高温下で溶融させ前記容器をシールするようにし、この
状態で所定の時間焼成するようにした点に特徴がある。
第２図は本発明に係る方法を説明するための説明図であ
る。この図において、１はルツボ、４は雰囲気調整用の
例えばＰｂＺｒＯ３やｐｂｏ等の粉体、３はルツボ１内
であって、粉体４中に入れられた焼成すべきセラミック
ス原料の成形体（例えばＰＬＺＴやｐＺＴ）、８はセラ
ミックス材料３と直接接触し々いように設置した雰囲気
を調整する成分を含んだガラスで、例えばＰｂＯ，５ｉ
ｎ２系の鉛ガラスが用いられ、常温においては粉体、高
温において液体となる。８０は、ガラス８が原料３側に
しみ込むのを防止するための粉体で、例えばアルミナ、
ジルコニア等が用いられる。なお、この粉体は、ガラス
８の組成によっては必ずしも必要でない。
る。この図において、１はルツボ、４は雰囲気調整用の
例えばＰｂＺｒＯ３やｐｂｏ等の粉体、３はルツボ１内
であって、粉体４中に入れられた焼成すべきセラミック
ス原料の成形体（例えばＰＬＺＴやｐＺＴ）、８はセラ
ミックス材料３と直接接触し々いように設置した雰囲気
を調整する成分を含んだガラスで、例えばＰｂＯ，５ｉ
ｎ２系の鉛ガラスが用いられ、常温においては粉体、高
温において液体となる。８０は、ガラス８が原料３側に
しみ込むのを防止するための粉体で、例えばアルミナ、
ジルコニア等が用いられる。なお、この粉体は、ガラス
８の組成によっては必ずしも必要でない。
本発明は、原料３をルツボ１内に図示するように設置す
るとともに、雰囲気を調整する成分を含むガラスを原料
３に直接接触しないように設置し、加熱し、例えば１２
００°Ｃで３０時間〜４０時間焼成する。
るとともに、雰囲気を調整する成分を含むガラスを原料
３に直接接触しないように設置し、加熱し、例えば１２
００°Ｃで３０時間〜４０時間焼成する。
ここで、加熱温度が、ガラス８の融点（例えば５００〜
９００°Ｃ）以上となると、ガラス８は溶融し、液体と
なって、ルツボ１を完全にシールするとともに、雰囲気
を調整する作用を行なう（第２図はこの状態を示す）。
９００°Ｃ）以上となると、ガラス８は溶融し、液体と
なって、ルツボ１を完全にシールするとともに、雰囲気
を調整する作用を行なう（第２図はこの状態を示す）。
従って、焼成状態において、金属酸化物の蒸気が逃げる
ことはなく、蒸気圧を一定に維持することができる。な
お、この蒸気圧は、ガラス８の組成を変えることによっ
て（これにより溶融温度が変わる）、所定の値に制御す
ることができる。
ことはなく、蒸気圧を一定に維持することができる。な
お、この蒸気圧は、ガラス８の組成を変えることによっ
て（これにより溶融温度が変わる）、所定の値に制御す
ることができる。
なお、上記の説明では、ＰＬＺＴ又はＰＺＴ等、ｐｂを
含む原料の焼成を例にとって説明したが、本発明は、ｐ
ｂ以外に、他の蒸発しやすい成分を含む原料の焼成に広
く適用することができる。また、ここ（３） では、ルツボを使用したものであるが、他の容器、例え
ば石英アンプル等を用いてもよい。
含む原料の焼成を例にとって説明したが、本発明は、ｐ
ｂ以外に、他の蒸発しやすい成分を含む原料の焼成に広
く適用することができる。また、ここ（３） では、ルツボを使用したものであるが、他の容器、例え
ば石英アンプル等を用いてもよい。
以上説明したように、本発明は、ガラスの融点が一般的
にセラミ、クスの焼成温度よシ低い点に着目したもので
、本発明の方法によれば、焼成中に蒸気圧を一定に維持
することができ、良質のセラミ、クスを得ることができ
る。
にセラミ、クスの焼成温度よシ低い点に着目したもので
、本発明の方法によれば、焼成中に蒸気圧を一定に維持
することができ、良質のセラミ、クスを得ることができ
る。
第１図は従来の手法の一例を説明するための説明図、第
２図は本発明に係る手法を説明するための説明図である
。 １・・・ルツボ、３・・・セラミックス原料、８・・・
ガラス、４・・・粉体。 （４）
２図は本発明に係る手法を説明するための説明図である
。 １・・・ルツボ、３・・・セラミックス原料、８・・・
ガラス、４・・・粉体。 （４）
Claims (1)
- （１）容器内に焼成すべきセラミックス原料を入れると
ともに、これと直接接触しないように雰囲気を調整する
成分を含むガラスを設置し、このガラスを高温下で溶融
させ前記容器をシールするようにし、この状態で前記セ
ラミックスを焼成するようにしたセラミ、クスの焼成方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58077572A JPS59203773A (ja) | 1983-05-04 | 1983-05-04 | セラミツクスの焼成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58077572A JPS59203773A (ja) | 1983-05-04 | 1983-05-04 | セラミツクスの焼成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59203773A true JPS59203773A (ja) | 1984-11-17 |
| JPS613308B2 JPS613308B2 (ja) | 1986-01-31 |
Family
ID=13637718
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58077572A Granted JPS59203773A (ja) | 1983-05-04 | 1983-05-04 | セラミツクスの焼成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59203773A (ja) |
-
1983
- 1983-05-04 JP JP58077572A patent/JPS59203773A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS613308B2 (ja) | 1986-01-31 |
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