JPS59200799A - 薄箔専用連続アルマイト処理装置 - Google Patents
薄箔専用連続アルマイト処理装置Info
- Publication number
- JPS59200799A JPS59200799A JP7558883A JP7558883A JPS59200799A JP S59200799 A JPS59200799 A JP S59200799A JP 7558883 A JP7558883 A JP 7558883A JP 7558883 A JP7558883 A JP 7558883A JP S59200799 A JPS59200799 A JP S59200799A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cathode
- foil
- alumite
- plates
- continuous
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Electrochemical Coating By Surface Reaction (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、薄箔専用連続アルマイト処理装置に関するも
のである。
のである。
第２図に示す如く、アルミニウムシミシ出し側（ｚ）
の陽ｈｉ、が１）中の陽極端消キ介してアルミニウム箔
（３）へ正の電位を付与する一方、アルミニウム箔巻き
取シ側の陰極槽（４）中に順に設けた複数個の陰極板（
ｓ＋入（５２）、 （ａｓ）へ負の電位を付与し、陰極
槽（４）中を通過するアルミニウム箔（６）と各陰極板
（５１）と（５２）又は建）との間で電気分解をはかる
ようにした連続アルマイト処理装置は、既に周知である
。
（３）へ正の電位を付与する一方、アルミニウム箔巻き
取シ側の陰極槽（４）中に順に設けた複数個の陰極板（
ｓ＋入（５２）、 （ａｓ）へ負の電位を付与し、陰極
槽（４）中を通過するアルミニウム箔（６）と各陰極板
（５１）と（５２）又は建）との間で電気分解をはかる
ようにした連続アルマイト処理装置は、既に周知である
。
しかしながら、第２図に示す従来の連続アルマイト処理
装置は、妨）、（５２）又は知）の各陰極板と陽極端子
（２）との間に電位差を付与するために設置する電源（
６）が１個であったために、これを薄手のアルミニウム
箔に使用するに際し、次の如き問題が生じた。
装置は、妨）、（５２）又は知）の各陰極板と陽極端子
（２）との間に電位差を付与するために設置する電源（
６）が１個であったために、これを薄手のアルミニウム
箔に使用するに際し、次の如き問題が生じた。
即ち、薄手のアルミニウム箔（以下薄箔という）を、第
２図の如き従来の装置でアルマイト処理すると、陽極槽
寄シの陰極板（５１）と陽極端子（２）との間のアルミ
ニウム箔部分に大部分の電流が流れ、陽極槽から離れた
アルミニウム箔部分になればなる程、流れる電流が小さ
くなるという問題である。
２図の如き従来の装置でアルマイト処理すると、陽極槽
寄シの陰極板（５１）と陽極端子（２）との間のアルミ
ニウム箔部分に大部分の電流が流れ、陽極槽から離れた
アルミニウム箔部分になればなる程、流れる電流が小さ
くなるという問題である。
πｍ程度の薄７？５を従来の装置でアルマイト処理する
場合には、陽極槽寄シのアルミニウム２１部分に不測の
電気集中による電解やけを生じ易く、その為にアルマイ
ト処理にあたっては計Ｘ電流密度も２５０Ａβ以下と低
めに設定しく電解灸Ｈ２Ｓｏ４ｉ １０ｗｔ％〜３瞳ｈ
ｚ１Ｈ３ＰＯ４、（ｃｏ○Ｈ）２０条件）する必ト処理
に適切な連続アルマイト処理装置を提供せんとした結果
、本発明に到達した。
場合には、陽極槽寄シのアルミニウム２１部分に不測の
電気集中による電解やけを生じ易く、その為にアルマイ
ト処理にあたっては計Ｘ電流密度も２５０Ａβ以下と低
めに設定しく電解灸Ｈ２Ｓｏ４ｉ １０ｗｔ％〜３瞳ｈ
ｚ１Ｈ３ＰＯ４、（ｃｏ○Ｈ）２０条件）する必ト処理
に適切な連続アルマイト処理装置を提供せんとした結果
、本発明に到達した。
巻き取シ側の陰極槽（４）中に１唄に設けた複数個の陰
極板（５１）、（５２）、い）へ負の電位を付与し、陰
極槽（４）中を通過するアルミニウム箔（３）と各陰極
板（５１）、（５２）又は（５３）との間で電気分解を
はかるようにした連続アルマイト処理装置において； 陽（互端子（２）と陰極板との間の電源（６）を、各陰
極板（５１）、（５２）、（財））毎に独立して設けた
ことを特徴とする、博箔専用連続アルマイト処胛装置を
提供するものである。
極板（５１）、（５２）、い）へ負の電位を付与し、陰
極槽（４）中を通過するアルミニウム箔（３）と各陰極
板（５１）、（５２）又は（５３）との間で電気分解を
はかるようにした連続アルマイト処理装置において； 陽（互端子（２）と陰極板との間の電源（６）を、各陰
極板（５１）、（５２）、（財））毎に独立して設けた
ことを特徴とする、博箔専用連続アルマイト処胛装置を
提供するものである。
図示例は、本発明に係る装置を構成するにあたり、陰極
槽（４）をも陰極板毎に分離して設け、陰極板と同数の
陰極槽（４１）、（４２）、■）を設けたものである。
槽（４）をも陰極板毎に分離して設け、陰極板と同数の
陰極槽（４１）、（４２）、■）を設けたものである。
かかる構成は、陰極槽相互間の相互作用をなくし、各槽
中の電解液の管理を容易にするという利点を発揮する。
中の電解液の管理を容易にするという利点を発揮する。
尚、陰極槽の分離設置は、アルマイト処理対象物が薄箔
の場合、ローラー（７）、（８）、（９）により容易に
曲折移行できるため、殆んど問題に々らないという利点
もある。
の場合、ローラー（７）、（８）、（９）により容易に
曲折移行できるため、殆んど問題に々らないという利点
もある。
図示例の本発明に係る装置によれば、厚み０３００〜０
．０５０だ肩程度の薄箔を対象とする場合で８つでも、
陽極端子（２）と各陰極板との間に流れる電流密度をい
ずれも５００ Ａ／７１ｆ前後に設定し、電解やけのな
いアルマイト処理が可能である。勿論、本発明に係る装
置により、２５ＯＡ／ｍ”以下の電流密度でアルマイト
処理することも可能であり、その際には、更に電解やけ
の危険性が小さくなることも当然である。
．０５０だ肩程度の薄箔を対象とする場合で８つでも、
陽極端子（２）と各陰極板との間に流れる電流密度をい
ずれも５００ Ａ／７１ｆ前後に設定し、電解やけのな
いアルマイト処理が可能である。勿論、本発明に係る装
置により、２５ＯＡ／ｍ”以下の電流密度でアルマイト
処理することも可能であり、その際には、更に電解やけ
の危険性が小さくなることも当然である。
以上の説明から明らかなり１１＜、本発明は、アルマイ
ト処理時の電流密度の許容範囲の大き々連続アルマイト
処理装置−いいかえれば、所望に応じて電流密度とアル
ミニウム箔の進行速度（アルミニウム箔の繰シ出し又は
巻き取シ速度）とを調整し、理論的には同一量の電気分
解を生起させているにもかかわらず、性状の異々る酸化
物皮膜の
ト処理時の電流密度の許容範囲の大き々連続アルマイト
処理装置−いいかえれば、所望に応じて電流密度とアル
ミニウム箔の進行速度（アルミニウム箔の繰シ出し又は
巻き取シ速度）とを調整し、理論的には同一量の電気分
解を生起させているにもかかわらず、性状の異々る酸化
物皮膜の
第１図は、本発明に係るアルマイト処理装置の、第２図
は従来のアルマイト処理装置の端面図である。 図中、１・・・・陰極槽、２・・・・陽極端子、３・・
・・アルミニウム箔、４．４１．４２．４３・・・・陰
極槽、５１，５２．５３・・・・陰極板、６・・・・・
電源、７．８．９・・・ローラー。 特許出願人 日木製箔株式会社 代理人弁理士井田完二
は従来のアルマイト処理装置の端面図である。 図中、１・・・・陰極槽、２・・・・陽極端子、３・・
・・アルミニウム箔、４．４１．４２．４３・・・・陰
極槽、５１，５２．５３・・・・陰極板、６・・・・・
電源、７．８．９・・・ローラー。 特許出願人 日木製箔株式会社 代理人弁理士井田完二
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ■ アルシミニウム箔繰り出し側の陽極槽中の陽極！ｆ
ｉ’Ａｊ子を介してアルミニウム箔へ正の電位を付与す
る一方、アルミニウム箔巻き取り側の陰極槽中に順に設
けた複数個の陰極板へ負の電位を付与し、陰極槽中を通
過するアルミニウム箔と各陰極板との間で電気分解をは
かるようにした連続アルマイト処理装置において； 陽極端子と＠極板との間の電源を、各陰極板毎に独立し
て設けたことを特徴とする、薄箔専用連続アルマイト処
理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7558883A JPS59200799A (ja) | 1983-04-27 | 1983-04-27 | 薄箔専用連続アルマイト処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7558883A JPS59200799A (ja) | 1983-04-27 | 1983-04-27 | 薄箔専用連続アルマイト処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59200799A true JPS59200799A (ja) | 1984-11-14 |
Family
ID=13580505
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7558883A Pending JPS59200799A (ja) | 1983-04-27 | 1983-04-27 | 薄箔専用連続アルマイト処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59200799A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5044937A (ja) * | 1973-08-13 | 1975-04-22 |
-
1983
- 1983-04-27 JP JP7558883A patent/JPS59200799A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5044937A (ja) * | 1973-08-13 | 1975-04-22 |
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