JPS59187132U - 分子線エピタキシヤル装置用基板加熱保持具 - Google Patents

分子線エピタキシヤル装置用基板加熱保持具

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Publication number
JPS59187132U
JPS59187132U JP8353583U JP8353583U JPS59187132U JP S59187132 U JPS59187132 U JP S59187132U JP 8353583 U JP8353583 U JP 8353583U JP 8353583 U JP8353583 U JP 8353583U JP S59187132 U JPS59187132 U JP S59187132U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
molecular beam
beam epitaxial
substrate heating
heating holder
epitaxial equipment
Prior art date
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Pending
Application number
JP8353583U
Other languages
English (en)
Inventor
和明 瀬川
琢二 園田
Original Assignee
三菱電機株式会社
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Publication date
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Priority to JP8353583U priority Critical patent/JPS59187132U/ja
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  • Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は従来の基板加熱保持具の一例を用いたMBE装
置の主要構成要素を模式的に示す図、第2図はこの考案
の一実施例の基板加熱保持具を用いたMBE装置の主要
構成要素を模式的に示す図である。 図において、41は基板保持板、42は保持板加熱台、
43は保持板加熱ヒータ、50は半導体基板である。−
なお、囚中同−符号はそれぞれ同一または相当部分を示
す。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 一方の主面上に分子線エピタキシャル層が形成される半
    導体基板の他方の主面が一方の表面上にはり付けられて
    上記半導体基板を保持する基板保”    持板、多角
    柱状体からなりその軸線を回転の中心線として回転する
    ことができかつ各側面上に上記基板保持板の他方の表面
    側が着脱可能なように取り付けられる保持板加熱台、お
    よdこの保持板加熱台の各側面部に設けられた保持板加
    熱ヒータを備えた分子線エピタキシャル装置用基板加熱
    保持
JP8353583U 1983-05-30 1983-05-30 分子線エピタキシヤル装置用基板加熱保持具 Pending JPS59187132U (ja)

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JP8353583U JPS59187132U (ja) 1983-05-30 1983-05-30 分子線エピタキシヤル装置用基板加熱保持具

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Publication Number Publication Date
JPS59187132U true JPS59187132U (ja) 1984-12-12

Family

ID=30213492

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