JPS59185796A - Conductor roll for electroplating - Google Patents
Conductor roll for electroplatingInfo
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- JPS59185796A JPS59185796A JP5917483A JP5917483A JPS59185796A JP S59185796 A JPS59185796 A JP S59185796A JP 5917483 A JP5917483 A JP 5917483A JP 5917483 A JP5917483 A JP 5917483A JP S59185796 A JPS59185796 A JP S59185796A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、電気メッキに用いるコンダクタ−ロールに関
するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a conductor roll used for electroplating.
コンダクタ−ロールは、電気メツキラインにおいて、被
メッキ材に接触して原材の電位を零に保つために設置さ
れるもので、従来前記ロール表面は良電導体金属により
構成されてお逆、ラインの稼動中は前記ロール表面の一
部又は全部はメッキ液に浸漬されている。A conductor roll is installed in an electroplating line to contact the material to be plated and keep the potential of the raw material at zero. Conventionally, the surface of the roll was made of a metal with good conductivity. During operation, part or all of the roll surface is immersed in the plating solution.
次に、銅帯に錫をメッキする電気ぶシきメッキ2イン用
コンダクタ−ロールを例にとって説明する。Next, a conductor roll for 2-in electroplating, in which a copper strip is plated with tin, will be explained as an example.
従来、電気ぶりきメッキ用コンダクターロールハ、コン
タクタ−ロールのロール基体にクロムを°メッキしてロ
ール表面がRa 2.s〜3.5μm程度の粗度に研摩
されて使用されている。ところが、前記電気ぶシきメツ
キラインのブレーク−セクションの腐食性の高いハロゲ
ンメッキ液等によって前記ロールの表面が腐食され、か
つ前記表面は銅帯表面との接触によって摩耗されて第1
図に示す如く粗度は次第に低下する。このようにロール
表面が腐食されたりして粗度低下をきたすと、ロール表
面に錫が電着したり、異物が付着しやすくなり、第2図
に示す如くデンソが次第に多く発生するようになる。Conventionally, the roll base of conductor rolls and contactor rolls for electroplating is plated with chromium to improve the Ra of the roll surface. It is used after being polished to a roughness of about 3.5 μm. However, the surface of the roll is corroded by the highly corrosive halogen plating solution in the break section of the electric plating line, and the surface is abraded by contact with the surface of the copper strip.
As shown in the figure, the roughness gradually decreases. When the roll surface is corroded and its roughness deteriorates in this way, it becomes easy for tin to be electrodeposited on the roll surface and foreign matter to adhere to it, and as shown in Figure 2, more and more densities occur. .
次ニ、前記デンソ発生のメカニズムを説明する。Next, the mechanism of the generation of denso will be explained.
一般に使用されているクロムをメッキしたコンダクタ−
ロールを例にとって説明すると、前記ロールは使用開始
後しばらくするとクロムメッキ層が゛メッキ液に浸食さ
れ、銅帯との接触によシ摩耗されて薄くなって、第3図
に示す如くロール基体/の外周の良導体であるクロムメ
ッキ層3に細かい亀裂ないしピンホールSが生成し、そ
の部分3にメッキ液が浸透して錫7は電位が零であるロ
ール基体/に電着し、この電着銅7は次第に亀裂ないし
ピンホールs内において成長し、終にはクロムメッキ層
30表面上に隆起して目視できるに至りデンツタと呼ば
れる突起物となる。Commonly used chrome plated conductors
Taking a roll as an example, the chromium plating layer of the roll is eroded by the plating solution and becomes thin due to contact with the copper strip after a while after the start of use, and as shown in FIG. Fine cracks or pinholes S are formed in the chrome plating layer 3, which is a good conductor, on the outer periphery of the chrome plating layer 3, and the plating solution penetrates into the part 3, and the tin 7 is electrodeposited on the roll base plate whose potential is zero. The copper 7 gradually grows in the cracks or pinholes s, and eventually rises on the surface of the chrome plating layer 30 and becomes visible, forming protrusions called dents.
このデンツタは第2図に示す如く、ロール使用日時の経
過と共に多発するようになシ、錫メッキの表面疵の原因
となシ、製品歩出υを悪化させるので、前記クロムメッ
キコンダクタ−ロールの寿命は約3〜グ週にすぎないと
いう欠点がある。As shown in Fig. 2, these dents occur frequently as the roll usage time progresses, and they cause surface flaws in the tin plating and worsen the product yield, so the chrome plated conductor roll is The disadvantage is that it has a lifespan of only about 3-4 weeks.
本発明は、前記コンダクタ−ロールの寿命が短□かいと
いう欠点を解決したコンダクタ−ロールを提供すること
を目的とするものであって、本発明の特許請求の範囲記
載のコンダク〉゛\フロール提供することによって、本
発明の目的を達成することができる。An object of the present invention is to provide a conductor roll that solves the shortcoming of the conductor roll having a short life span, and the present invention provides a conductor roll as described in the claims of the present invention. By doing so, the object of the present invention can be achieved.
次に本発明の詳細な説明する。Next, the present invention will be explained in detail.
本発明者らは、電気錫メツキラインのプレーターセクシ
ョンにおいてコンダクタ−ロールに発生するデンソを減
少させるためには、次の2点に留意する必要があると考
えた。The present inventors believed that the following two points should be kept in mind in order to reduce the densities generated in the conductor roll in the plater section of the electric tinning line.
(イ) ロール表面の状態を、錫が電着しにくく、また
たとえ錫が電着したとしても電着銅がはがれ易いように
構成する。(a) The roll surface is configured so that tin is difficult to electrodeposit, and even if tin is electrodeposited, the electrodeposited copper is easily peeled off.
(ロ) ロール表面の活性な面積あるいは通電面積を小
さくする。(b) Reduce the active area or current-carrying area of the roll surface.
すなわち、ロール表面を局所的に見た場合、ロール表面
に金属が露出している部分である電気的に活性な表面は
被メッキ材とは常時は接触しておらず、接触はロールの
/回転中/回の短い時間だけであり、しかも接触してい
るようであっても電気的には接触していないこともl)
、この部分に錫が電着しやすい。従ってこの活性な部分
が大きくなると、ここにデンソが発生する確率が大きく
なる。しかしコンダクタ−ロールの機能上通電面積はマ
クロ的に見である程度必要である。従って小さな通電部
分がロール表面に均一に数多く分散している形状が望ま
れる。一方、ロールの回転は200R,P、Mであるの
で、20日間には約soo万回以上も被メツキ鋼帯に見
掛は上接触するため、ロール表面状態を正しく維持する
には充分な耐久性が要求される。In other words, when looking at the roll surface locally, the electrically active surface, which is the part of the roll surface where metal is exposed, is not in constant contact with the material to be plated; It is only for a short period of time, and even if it appears that they are in contact, they may not be in electrical contact.l)
, tin is likely to be electrodeposited on this part. Therefore, as this active area becomes larger, the probability that denso will occur there increases. However, from a macroscopic point of view, a certain amount of current-carrying area is necessary for the function of the conductor roll. Therefore, it is desirable to have a shape in which a large number of small energized portions are uniformly distributed on the roll surface. On the other hand, since the roll rotation is 200R, P, M, it will apparently contact the steel strip to be plated more than 10,000 times in 20 days, so it has sufficient durability to maintain the correct roll surface condition. sexuality is required.
上記の諸要求を達成するには、次のようなコンダクタ−
ロールにすればよいと、本発明者らは考えた。すなわち
、コンダクタ−ロールの形状9強度の源となるロール基
体の表面外周に細かい凹凸を形成した後、良電導体よシ
なる耐摩耗性被覆を施したロール素地に、さらに細かい
凹凸を付与した後、不良電導体層を形成し、その後前記
不良電導体層の表面を研摩することにより前記良電導体
の凸部頂上面を露出させ、前記良電導体の凹部には前記
不良電導体層を残存せしめたコンダクタ−ロールとする
。To achieve the above requirements, conductors such as:
The inventors thought that it would be sufficient to make it into a roll. In other words, after forming fine irregularities on the outer periphery of the roll base, which is the source of conductor roll shape 9 strength, further fine irregularities are added to the roll base coated with a wear-resistant coating such as a good conductor. , forming a bad conductor layer, and then polishing the surface of the bad conductor layer to expose the top surface of the convex part of the good conductor, leaving the bad conductor layer in the concave part of the good conductor; It is made into a solid conductor roll.
前記ロール素地は、良電導体よシなるロール基体自体の
ロール素地であってもよい。The roll material may be the roll material of the roll base itself, which is made of a good electrical conductor.
このコンダクタ−ロールにおいては、完成ロールのほぼ
全表面に亘る不良電導体面は前記(イ)項の要件を満た
して摩耗に耐え、良電導体の凸部頂上面は有効な活性な
面となって前記(ロ)項の要件を満たし、有効なコンダ
クタ−ロールを構成するノテ、本発明を完成するに至っ
た。In this conductor roll, the poor conductor surface covering almost the entire surface of the completed roll satisfies the requirements in item (a) above and resists wear, and the top surface of the convex portion of the good conductor becomes an effective active surface. We have now completed the present invention, which satisfies the requirements of item (b) above and constitutes an effective conductor roll.
本発明を図面について説明する。The invention will be explained with reference to the drawings.
第4を図は、銅帯//と本発明のコンダクタ−ロールと
が接触している部分の拡大断面図である。コンダクタ−
ロールの形状2強関の源となるロール基体/の表面外周
に細かい凹凸を形成した後、良電導体/3によシ被覆さ
れロール素地が構成される。The fourth figure is an enlarged sectional view of the portion where the copper strip// and the conductor roll of the present invention are in contact. conductor
After forming fine irregularities on the outer periphery of the roll base (2), which is the source of the roll shape, the roll base (2) is coated with a good conductor (3) to form a roll base.
前記ロール素地の表面にRao、7〜7μm程度の粗度
の細かい凹凸が粗研摩により付与された後、前記粗研基
面全体に不良電導体層isが形成される。After coarsely polishing the surface of the roll base to have fine irregularities with a roughness of about 7 to 7 μm, a defective conductor layer is formed on the entire coarsely polished base surface.
次に前記不良電導体層/左の表面を研摩し、前記良電導
体/3の凸部頂上面/7が露出するに至らしめる。Next, the left surface of the poor electrical conductor layer/3 is polished to expose the top surface/7 of the convex portion of the good electrical conductor/3.
このとき不良電導体層15は良電導体/3の四部に残存
した状態にある。従って鋼帯//は不良電導体層/よの
研摩面と凸部頂上面/りに支持される。At this time, the defective conductor layer 15 remains in four parts of the good conductor/3. Therefore, the steel strip is supported by the polished surface of the defective conductor layer and the top surface of the convex portion.
ロール表面の耐摩耗性不良電導体層/!rの面は、錫の
電着を防ぎ、またたとえ錫が電着したとしても電着銅は
容易に剥離する。この部分の錫の剥離性は隣接している
電気的に活性な凸部先端面/りの剥離性よシもよいので
、原画/7に電着した錫が成長してデンソとなる以前に
容易に剥離してしま・う。さらに前記活性な表面17は
前述の加工の手順で明らかな如く狭小な表面/7がロー
ル面上に平均して多数散在し、面積が小さいので電着銅
がデンソに成長することはない。前記狭小で活性な表面
/りは銅帯//と接触して通電するので摩耗されるはず
であるが、該表面/7をとシまいている不良導体層/左
が鋼帯//と接触して不良導体層/Sの耐摩耗性が活性
な表面/7を摩耗から保護する。またこのように活性な
多数の狭小な表面lりがロール全面に均一に散在してい
るととにより、従来鋼帯//がメッキ槽を通過中に局部
的に発生していたアークスポットを少くし、ロール面の
電蝕も少くすることができる。Poor abrasion-resistant conductor layer on roll surface/! The r surface prevents tin from being electrodeposited, and even if tin is electrodeposited, the electrodeposited copper is easily peeled off. The peelability of the tin in this area is better than that of the tip surface of the adjacent electrically active protrusion, so it is easy to remove the tin electrodeposited on the original image 7 before it grows and becomes a denso. It may peel off. Furthermore, as is clear from the processing procedure described above, the active surface 17 has a large number of narrow surfaces /7 scattered on the roll surface on average and has a small area, so that the electrodeposited copper does not grow in a dense manner. The narrow active surface /7 should be worn out because it is in contact with the copper strip // and conducts electricity, but the poor conductor layer / left side that closes the surface /7 is in contact with the steel strip //. The wear resistance of the poor conductor layer /S protects the active surface /7 from wear. In addition, the large number of active narrow surface cracks uniformly scattered over the entire surface of the roll reduces the arc spots that conventionally occur locally while the steel strip passes through the plating bath. Also, electrolytic corrosion on the roll surface can be reduced.
次に、本発明の実施例を示す。Next, examples of the present invention will be shown.
実施例
コンダクタ−ロールの源となるロール基体表面に、耐摩
耗性、耐食性に優れた33%程度のwc。Example: The roll base surface, which is the source of the conductor roll, has a wc of about 33%, which has excellent wear resistance and corrosion resistance.
グ0%程度のNi、//%程度のCr+残部Feよシな
る合金を溶して厚さ7ms程度に被覆し、このロール表
面をRa2.&〜3.Sμm程度の粗度に粗研摩して、
細かい凹凸をつけた。この凹凸表面全体の薄い電気の不
良導体層による被覆及びその後の加工は、次の2つの方
法によった。An alloy consisting of approximately 0% Ni, //% Cr, and the balance Fe is melted and coated to a thickness of approximately 7 ms, and the roll surface is coated with a Ra2. &~3. Roughly polished to a roughness of Sμm,
Added fine irregularities. The following two methods were used to cover the entire uneven surface with a thin electrically poor conductor layer and to process it thereafter.
Aロール:ロール表面の粗研摩した合金被覆を加熱して
、表面全体に厚さ数μm−数10μmの酸化被膜を形成
し、次にこれを研摩して表面に直径2〜3μm以下の細
かい金属面が多数点在露出したロールとした。A roll: The roughly polished alloy coating on the roll surface is heated to form an oxide film with a thickness of several μm to several tens of μm on the entire surface, and then this is polished to coat the surface with a fine metal with a diameter of 2 to 3 μm or less. The roll was made with many exposed surfaces.
Bロール:主成分力Sクロム酸化物よシなるセラミック
スを、溶融状態においてロール表面の粗研摩した合金被
覆上に薄くコーティングし、その復原コーティング面を
研摩し、研摩表面に前記合金の細かい金属面が多数点在
露出したロールとした。B-roll: Ceramics such as main component S chromium oxide are thinly coated on the roughly polished alloy coating on the roll surface in a molten state, the restored coated surface is polished, and the fine metal surface of the alloy is applied to the polished surface. The roll was exposed with many dots.
上記A、Bロールをハロゲン式電気錫メツキラインに装
着して実用に供したところ、従来のクロムメッキロール
は前述の如く3〜l/、週間で取替えなければならなか
ったのに対して、A、Bロールは使用開始後aケ月以上
を経過した現在も充分に使用可能な状態を維持している
。When the above A and B rolls were attached to a halogen electric tinning line and put into practical use, the conventional chrome plating rolls had to be replaced every 3 to 1 weeks as mentioned above, whereas A, The B-roll is still in a fully usable condition even after more than a month has passed since it was first used.
A、Bロールは共に、表面のうち電気的に活性でない部
分は金属の酸化物(Aロールでは合金の酸化物、Bロー
ルではセラミックス)であるため、素地の合金とは金属
結合に近い状態で強固に結合していると考えられる。従
ってこれら酸化物は、薄い所では7μm以下、厚い所で
も数μmと非常に薄いが、ロール稼動中の振動、銅帯の
接触による外力にも充分耐えていると推定できる。For both A and B rolls, the part of the surface that is not electrically active is metal oxide (alloy oxide for A roll, ceramic for B roll), so it is in a state close to metallic bond with the base alloy. It is thought that they are strongly connected. Therefore, although these oxides are extremely thin, with a thickness of 7 μm or less and a thickness of several μm, it can be assumed that they are sufficiently resistant to vibrations during roll operation and external forces caused by contact with the copper strip.
なお、セラミックスを含め金属の酸化物はそれ自体は不
良電導体であるが、完全に酸化していないで金属のまま
に近い状態のものもその中には含まれると考えられるの
で、マクロ的に見れば完全に不良電導体であるとは言い
切れない。しかし活性度は純金属よシは低いし、電着錫
の剥離性が良いことは実験的に確認されている。Although oxides of metals, including ceramics, are themselves poor conductors, it is thought that some of them are not completely oxidized and are close to remaining metals, so from a macroscopic perspective, If you look at it, it cannot be said that it is a completely bad conductor. However, the activity is lower than that of pure metals, and it has been experimentally confirmed that electrodeposited tin has good removability.
以上の如く、本発明の電気メッキ用コンダクタ−ロール
は、錫メツキラインに供用されると寿命が長いばかシで
なく、メッキ表面のデンソおよびアークスポットが少〈
なシ製品品質が向上し、コンダクタ−ロールの取替のラ
インストリップも少くなシ錫メツキライン用として甚だ
有効である。As described above, when the conductor roll for electroplating of the present invention is used in a tin plating line, it has a long service life and has fewer densities and arc spots on the plating surface.
The product quality is improved, and there are fewer line strips to replace the conductor roll, making it extremely effective for tin plating lines.
本発明のロールは錫メツキライン用に限定されることな
く、他金属メツキライン用コンダクタ−ロールにも適用
することができる。The roll of the present invention is not limited to use in tin plating lines, but can also be applied to conductor rolls for other metal plating lines.
第1図は従来のコンダクタ−ロール表面のRa粗度の変
化とロール使用開始後の日時との関係を示す図、第2図
は従来のコンダクタ−ロールのデンソ発生回数とロール
使用開始後の日時との関係を示す図、第3図は従来のク
ロムメッキロールの腐食とデンソの関係説明図、第グ図
は本発明のコンダクタ−ロールが銅帯と接触している部
分の拡大断面図である。
l・・・ロール基体、3・・・クロムメッキ層、!・・
・亀裂ないしピンホール、7・・・電着錫、?・・・デ
ンソ、l/・・・鋼帯、/3・・・良電導体、15・・
・不良電導体層、17・・・凸部頂上面で活性な表面。
特許出願人 川崎製鉄株式会社
代理人 弁理士 村 1) 政 治Figure 1 is a diagram showing the relationship between the change in Ra roughness on the surface of a conventional conductor roll and the date and time after the roll started to be used, and Figure 2 is a diagram showing the relationship between the number of denso occurrences of a conventional conductor roll and the date and time after the roll started to be used. Figure 3 is an explanatory diagram of the relationship between corrosion of a conventional chrome-plated roll and Denso, and Figure 3 is an enlarged sectional view of the part where the conductor roll of the present invention is in contact with the copper strip. . l...roll base, 3...chrome plating layer,!・・・
・Cracks or pinholes, 7...Electrodeposited tin? ...Denso, l/...steel strip, /3...good conductor, 15...
- Defective conductor layer, 17... active surface on the top surface of the convex portion. Patent applicant Kawasaki Steel Co., Ltd. agent Patent attorney Mura 1) Politics
Claims (1)
体よシなるロール素地の表面に細かい凹凸を付与した後
、さらに該表面全体に薄い不良電導体層を形成し、次に
該不良電導体層の表面を研摩して、前記良電導体の凸部
頂上面を露出させ、前記良電導体の凹部には不良電導体
層を残存せしめてなることを特徴とする電気メッキ用コ
ンダクタ−ロール。 2、特許請求の範囲第1項記載のロールにおいて、ロー
ル素地は、ロール基体表面に細かい凹凸を形成した後、
さらに良電導体よシなる耐摩耗性被覆を施したロール素
地であることを特徴とするロール。 3、 %許請求の範囲第1項記載のロールにおいて、
ロール素地は、良電導体よシなるロール基体自体のロー
ル素地であることを特徴とするロール。 4、特許請求の範囲第1項または第2項記載のロールに
おいて、ロール素地の良電導体はロール基体表面に溶射
されてなる35%程度のWC,yo%程度のNi、//
%程度のCr、残部Fe よシなる合金であることを
特徴とするロール。 5、特許請求の範囲第1項ないし第4項のいずれかに記
載のロールにおいて、良電導体に付与される細かい凹凸
は粗研摩によシ付与されるRa o、7〜7μmの粗度
であることを特徴とするロール。 6、特許請求の範囲第1項、第2項、第4項のいずれか
に記載のロールにおいて、前記凹凸がある表面全体に形
成される薄い不良電導体は、前記ロール素地の表面に溶
射されてなる合金が加熱されることにより前記合金の表
面に生成する酸化皮膜であることを特徴とするロール。 7、%許請求の範囲第1項ないし第3項のいずれかに記
載のロールにおいて、前記凹凸がある表面全体に形成さ
れる薄い不良電導体は、主成分がクロム酸化物よりなる
セラミックスを溶融状態において、前記凹凸があるロー
ル表面に薄くコーティングされたものであることを特徴
とするロール。[Claims] 1. A conductor roll for electroplating, in which fine irregularities are provided on the surface of a roll base made of a good conductor, and then a thin poor conductor layer is formed on the entire surface, Next, the surface of the bad conductor layer is polished to expose the top surface of the convex portion of the good conductor, and the bad conductor layer is left in the concave portion of the good conductor. Conductor roll for plating. 2. In the roll according to claim 1, the roll base is formed by forming fine irregularities on the surface of the roll base, and then
The roll is further characterized in that the roll material is coated with a wear-resistant coating that is a good conductor. 3. In the roll described in claim 1,
A roll characterized in that the roll material is the roll material of the roll base itself, which is a good electrical conductor. 4. In the roll according to claim 1 or 2, the good conductor of the roll base material is about 35% WC, about yo% Ni, which is thermally sprayed on the roll base surface.
% of Cr and the balance of Fe. 5. In the roll according to any one of claims 1 to 4, the fine irregularities imparted to the good conductor have a roughness Ra o of 7 to 7 μm, which is imparted by rough polishing. A role characterized by certain things. 6. In the roll according to any one of claims 1, 2, and 4, the thin defective conductor formed on the entire uneven surface is thermally sprayed on the surface of the roll base. An oxide film is formed on the surface of the alloy when the alloy is heated. 7.% Allowance In the roll according to any one of claims 1 to 3, the thin defective conductor formed on the entire uneven surface is formed by melting ceramics whose main component is chromium oxide. A roll characterized in that the uneven surface of the roll is thinly coated.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5917483A JPS59185796A (en) | 1983-04-06 | 1983-04-06 | Conductor roll for electroplating |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5917483A JPS59185796A (en) | 1983-04-06 | 1983-04-06 | Conductor roll for electroplating |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59185796A true JPS59185796A (en) | 1984-10-22 |
JPS626756B2 JPS626756B2 (en) | 1987-02-13 |
Family
ID=13105756
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5917483A Granted JPS59185796A (en) | 1983-04-06 | 1983-04-06 | Conductor roll for electroplating |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59185796A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002088461A (en) * | 2000-09-14 | 2002-03-27 | Kawasaki Steel Corp | Corrosion resisting roll |
JP2013079424A (en) * | 2011-10-04 | 2013-05-02 | Jfe Steel Corp | Method of surface-treating cold-rolled steel sheet |
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JPS5343632A (en) * | 1976-10-04 | 1978-04-19 | Toyo Kohan Co Ltd | Method of preventing arc spot |
-
1983
- 1983-04-06 JP JP5917483A patent/JPS59185796A/en active Granted
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS626756B2 (en) | 1987-02-13 |
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