JPS59181280A - ペネム化合物および該化合物を含有する医薬組成物 - Google Patents
ペネム化合物および該化合物を含有する医薬組成物Info
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- JPS59181280A JPS59181280A JP59058084A JP5808484A JPS59181280A JP S59181280 A JPS59181280 A JP S59181280A JP 59058084 A JP59058084 A JP 59058084A JP 5808484 A JP5808484 A JP 5808484A JP S59181280 A JPS59181280 A JP S59181280A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D499/00—Heterocyclic compounds containing 4-thia-1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. penicillins, penems; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D499/88—Compounds with a double bond between positions 2 and 3 and a carbon atom having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. an ester or nitrile radical, directly attached in position 2
-
- A—HUMAN NECESSITIES
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- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
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- A61P31/04—Antibacterial agents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は次の一般式で示されるラセミ体または光学的に
活性な形の新規な6−(ヒドロキシアルキル)−2−(
脂環式アルキルチオ)ベネム類およびその医薬的に受容
できる塩類ならびにエステル類に関する。
活性な形の新規な6−(ヒドロキシアルキル)−2−(
脂環式アルキルチオ)ベネム類およびその医薬的に受容
できる塩類ならびにエステル類に関する。
〔式中、Gはヒドロキシ低級アルキルである:Qは次式
の基 (A) CB)である; R1はカルボキシ、カルバミル、シアノ、ヒドロキシ、
アミノ、低級アルキルチオ、フッ素、低級アルコキシ、
低級アルカノイルオキシまたは置換低級アルキル【ここ
で、該置換基はイミダゾリル(このイミダゾリルは下記
に定義される基Rで置換されていてもよい)、アミノ、
モノ−またはジー低級アルキルアミノ、ウレイド、セミ
カルバジド、ヒドロキシ、シアノ、ハロゲン、低級アル
コキシ、カルバミルオキシ、カルボキシ、カルバミル、
低級アルキルカルボニル、スルホ、スルファミル、低級
アルキルスルホニル、低級アルコキシスルホニル、低級
アルコキシカルボニル、ヒドロキシ低級アルキルカルボ
ニルまたはヒドロキシ低級アルキルスルホニルである。
の基 (A) CB)である; R1はカルボキシ、カルバミル、シアノ、ヒドロキシ、
アミノ、低級アルキルチオ、フッ素、低級アルコキシ、
低級アルカノイルオキシまたは置換低級アルキル【ここ
で、該置換基はイミダゾリル(このイミダゾリルは下記
に定義される基Rで置換されていてもよい)、アミノ、
モノ−またはジー低級アルキルアミノ、ウレイド、セミ
カルバジド、ヒドロキシ、シアノ、ハロゲン、低級アル
コキシ、カルバミルオキシ、カルボキシ、カルバミル、
低級アルキルカルボニル、スルホ、スルファミル、低級
アルキルスルホニル、低級アルコキシスルホニル、低級
アルコキシカルボニル、ヒドロキシ低級アルキルカルボ
ニルまたはヒドロキシ低級アルキルスルホニルである。
lである;ただし、R1がチッ素原子または、ペネム環
の第2位に結合した硫黄原子のいずれかに隣接する炭素
原子に結合しており、それによって、基Qが側鎖1 (CH)n−に結合する場合、このR1はヒドロキシ、
アミノまたはフッ素であることはできない;Rは水素、
低級アルキル、アミン低級アルキル、モノ−およびジー
低級−アルキルアミノ低級アルキル、カルボキシ低級ア
ルキル、スルホアルキル、ヒドロキシアルキル、シアン
、ヒドロキシ、アミン、モノ−およびジー低級アルキル
アミノ、アルキルスルホネート、スルファミル、ハロゲ
ノ、ヒドロキシイミノ低級アルキル、低級アルコキシイ
ミノ−低級アルキノペカルボキシ、カルバミル、モノ−
またはジー低級アルキルカルバミル、ニトロ、カルバミ
ルオキシ、ウレイド、ウレイド低級アルキル、またはカ
ルバミルヒドラゾ低級アルキルである; R2およびR3はそれぞれ別個に、水素、低級アルキル
、アミン低級アルキル、モノ−およびジー低級アルキル
アミノ低級アルキル、カルボキシ低級アルキノペカルボ
キシ、ヒドロキシ低級アルキル、シアン、オキソ、カル
バミル、モノー低級アルキルカルバミルおよびジー低級
アルキルカルバミルからなる群から選択される: R4はR2およびR3について列挙した基類、スルホ低
級アルキル、ヒドロキシ、アミノ、モノ−およびジー低
級アルキルアミノ、低級アルキルスルホネート、スルフ
ァミル、ハロゲノ、ヒドロキシイミノ低級アルキルヒド
ロキシルイミノ、低級アルキルイミノおよび低級アルコ
キシイミノ低級アルキルからなる群から選択される;X
は0..5’、 SO2、NR2(例えば、NH)また
はNC0R2(ここで、R2は前記に定義したと3りの
ものである)である: mおよびルは1〜4である: pは1または2である; qは1.2または3である。〕 好ましいR1置換基は置換低級アルキル、例えば、ヒド
ロキシメチルまたはアミノメチルである。
の第2位に結合した硫黄原子のいずれかに隣接する炭素
原子に結合しており、それによって、基Qが側鎖1 (CH)n−に結合する場合、このR1はヒドロキシ、
アミノまたはフッ素であることはできない;Rは水素、
低級アルキル、アミン低級アルキル、モノ−およびジー
低級−アルキルアミノ低級アルキル、カルボキシ低級ア
ルキル、スルホアルキル、ヒドロキシアルキル、シアン
、ヒドロキシ、アミン、モノ−およびジー低級アルキル
アミノ、アルキルスルホネート、スルファミル、ハロゲ
ノ、ヒドロキシイミノ低級アルキル、低級アルコキシイ
ミノ−低級アルキノペカルボキシ、カルバミル、モノ−
またはジー低級アルキルカルバミル、ニトロ、カルバミ
ルオキシ、ウレイド、ウレイド低級アルキル、またはカ
ルバミルヒドラゾ低級アルキルである; R2およびR3はそれぞれ別個に、水素、低級アルキル
、アミン低級アルキル、モノ−およびジー低級アルキル
アミノ低級アルキル、カルボキシ低級アルキノペカルボ
キシ、ヒドロキシ低級アルキル、シアン、オキソ、カル
バミル、モノー低級アルキルカルバミルおよびジー低級
アルキルカルバミルからなる群から選択される: R4はR2およびR3について列挙した基類、スルホ低
級アルキル、ヒドロキシ、アミノ、モノ−およびジー低
級アルキルアミノ、低級アルキルスルホネート、スルフ
ァミル、ハロゲノ、ヒドロキシイミノ低級アルキルヒド
ロキシルイミノ、低級アルキルイミノおよび低級アルコ
キシイミノ低級アルキルからなる群から選択される;X
は0..5’、 SO2、NR2(例えば、NH)また
はNC0R2(ここで、R2は前記に定義したと3りの
ものである)である: mおよびルは1〜4である: pは1または2である; qは1.2または3である。〕 好ましいR1置換基は置換低級アルキル、例えば、ヒド
ロキシメチルまたはアミノメチルである。
好ましいR2およびR8は水素およびオキソから選択さ
れる。
れる。
好ましいR4は水素、アミノ、ヒドロキシ、オキソおよ
びカルボキシから選択される。
びカルボキシから選択される。
好ましい式Iの化合物はルが2〜4のものであり、最も
好丑しい化合物はルが2のものである。
好丑しい化合物はルが2のものである。
また、式中のQが基(B)であり、p 7b”−1であ
り、R2、R3およびR4が水素であり、X−b″−N
COR2であり、とのR2はアミノまたは低級アルキル
アミノである化合物が好ましい。
り、R2、R3およびR4が水素であり、X−b″−N
COR2であり、とのR2はアミノまたは低級アルキル
アミノである化合物が好ましい。
Gは好ましくは、1−ヒドロキシエチルである。
本明細書で使用される”低級アルキル”という用語は、
炭素原子を1〜6個有するアルキル基を意味する。例え
ば、メチル、エチル、プロピル、ブチノヘインチル、ヘ
キシルおよびこれらの対応する分枝鎖異性体類などであ
る。同様に、゛低級アルコキシ”という用語は炭素原子
を1〜6個有する直鎖または分枝側アルコキシ基を意味
する。
炭素原子を1〜6個有するアルキル基を意味する。例え
ば、メチル、エチル、プロピル、ブチノヘインチル、ヘ
キシルおよびこれらの対応する分枝鎖異性体類などであ
る。同様に、゛低級アルコキシ”という用語は炭素原子
を1〜6個有する直鎖または分枝側アルコキシ基を意味
する。
例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、およヒフト
ギシなどである。”低級アルカノイルオキシ”という用
語は炭素原子を1〜6個有する直鎖捷たは分枝鎖アルカ
ノイルオキシ基を意味する。
ギシなどである。”低級アルカノイルオキシ”という用
語は炭素原子を1〜6個有する直鎖捷たは分枝鎖アルカ
ノイルオキシ基を意味する。
例えば、アセトキシ、プロピオノキシ、ブチロキク、イ
ンブチルオキシおよびインブチルオキシなどである。”
オキソ”という用語は結合している炭素原子と共にカル
ボニル基を形成する二重結合性酸素原子をさす。
ンブチルオキシおよびインブチルオキシなどである。”
オキソ”という用語は結合している炭素原子と共にカル
ボニル基を形成する二重結合性酸素原子をさす。
本発明の化合物類は多数の不斉炭素原子を有する。例え
ば、次の部分構造式Hに示される、第5位、第6位およ
び多分、2′位〜5′位の炭素原子が不斉炭素原子とな
る。また、Gがヒドロキシメチル以外のヒドロキシ低級
アルキルである場合、ヒドロキシ基が結合している炭素
原子も不斉炭素原子でおる。
ば、次の部分構造式Hに示される、第5位、第6位およ
び多分、2′位〜5′位の炭素原子が不斉炭素原子とな
る。また、Gがヒドロキシメチル以外のヒドロキシ低級
アルキルである場合、ヒドロキシ基が結合している炭素
原子も不斉炭素原子でおる。
Gが1−ヒドロキシエチルである場合、本発明の化合物
類は前記の不斉炭素原子のところで、5R,6S、8R
または5R,6R,8R立体配置を有することが好まし
い。本発明のこのようカ化合物の前記配置のうち好まし
い絶対配置は5R。
類は前記の不斉炭素原子のところで、5R,6S、8R
または5R,6R,8R立体配置を有することが好まし
い。本発明のこのようカ化合物の前記配置のうち好まし
い絶対配置は5R。
6S、8Rである。
弐Iの化合物は式■で示されるような2′〜5′位に不
斉炭素原子を有する。
斉炭素原子を有する。
本発明は立体特異形およびこのような立体異性体の混合
物の双方の形の式■の化合物を包含する。
物の双方の形の式■の化合物を包含する。
本明細書で使用される“医薬的に受容できる塩類“とい
う用語は好ましくは、アルカリ金属塩類(例えば、ナト
リウムおよびカリウム塩類);アルカリ土類金属塩類(
カルシウム、マグネシウムおよびアルミニウム塩類);
脂肪族、環式脂肪族、(環式脂肪族)脂肪族または芳香
脂肪族1級、2級または3級モノ、ジまたはポリアミン
類若しくは複素環式塩基類のような様々な好適な有機ア
ミン類から生成されたアミン塩類(例えば、トリエチル
アミン、2−ヒドロキシエチルアミン、ジー(2−ヒド
ロキシエチル)アミン、トリー(2−ヒドロキシエチル
)アミン、4−アミノ安息香酸−2−ジエチルアミノエ
チルエステル、1−エチルピペリジン、ビシクロヘキシ
ルアミン、N、N’−ジベンジルエチレンジアミン、ピ
リジン、コリジン、キノリン、プロ力イン、ジベンジル
アミン、1−エフエナミンおよびN−アルキルビ被リジ
ンから誘導された塩類):または、塩酸、臭化水素酸、
沃化水素酸、リン酸または硫酸のような無機酸から生成
された酸付加塩づ頁;あるいは、トリフルオロ酢酸、ハ
ラ−トルエンスルホン酸、マレイン酸、酢酸、クエン酸
、シュウ酸、コ・・り酸、安息香酸、酒石酸、フマル酸
、マンデル酸、アスコルビン酸およびリンゴ酸のような
有機カルボン酸またはスルホン酸から生成された酸付加
塩類を意味する。
う用語は好ましくは、アルカリ金属塩類(例えば、ナト
リウムおよびカリウム塩類);アルカリ土類金属塩類(
カルシウム、マグネシウムおよびアルミニウム塩類);
脂肪族、環式脂肪族、(環式脂肪族)脂肪族または芳香
脂肪族1級、2級または3級モノ、ジまたはポリアミン
類若しくは複素環式塩基類のような様々な好適な有機ア
ミン類から生成されたアミン塩類(例えば、トリエチル
アミン、2−ヒドロキシエチルアミン、ジー(2−ヒド
ロキシエチル)アミン、トリー(2−ヒドロキシエチル
)アミン、4−アミノ安息香酸−2−ジエチルアミノエ
チルエステル、1−エチルピペリジン、ビシクロヘキシ
ルアミン、N、N’−ジベンジルエチレンジアミン、ピ
リジン、コリジン、キノリン、プロ力イン、ジベンジル
アミン、1−エフエナミンおよびN−アルキルビ被リジ
ンから誘導された塩類):または、塩酸、臭化水素酸、
沃化水素酸、リン酸または硫酸のような無機酸から生成
された酸付加塩づ頁;あるいは、トリフルオロ酢酸、ハ
ラ−トルエンスルホン酸、マレイン酸、酢酸、クエン酸
、シュウ酸、コ・・り酸、安息香酸、酒石酸、フマル酸
、マンデル酸、アスコルビン酸およびリンゴ酸のような
有機カルボン酸またはスルホン酸から生成された酸付加
塩類を意味する。
8−カルボキシル基および塩基性基(例えば、R1基が
アミンである)または基Q(特に、チッ素原子を2個含
有する基Qを有する本発明の化合物類は分子内塩、即ち
、双性イオンを生成できる。
アミンである)または基Q(特に、チッ素原子を2個含
有する基Qを有する本発明の化合物類は分子内塩、即ち
、双性イオンを生成できる。
“医薬的に受容できる工夫チル類”とは、生理学的に分
解可能なエステル類、即ち、ペニシリン、セファロスポ
リンおよびベネム分野で公知の、体内で容易に分解され
て元の遊離酸になる代謝可能ナエステル類を意味する。
解可能なエステル類、即ち、ペニシリン、セファロスポ
リンおよびベネム分野で公知の、体内で容易に分解され
て元の遊離酸になる代謝可能ナエステル類を意味する。
このようなエステル類を生成する塩類は例えば、インダ
ニル、フタリジル、メトキシメチル、グリシルオキシメ
チル、フェニルグリシルオキシメチル、チェニルグリシ
0ルオキシメチル、アセトキシメチルおよびピバロイル
オキシメチルなどである。
ニル、フタリジル、メトキシメチル、グリシルオキシメ
チル、フェニルグリシルオキシメチル、チェニルグリシ
0ルオキシメチル、アセトキシメチルおよびピバロイル
オキシメチルなどである。
標準的な微生物学的効力検定法で試験した場合、本発明
の化合物類は表皮ブドウ球菌、および枯草菌のようなダ
ラム陽性菌ならびに大腸菌およびサルモネラ属菌のよう
なダラム陰性菌に対して活性である。更に、本発明の化
合物類はペニシリナーゼおよびセファロスポリナーゼの
ようなβ−ラクタマーゼを産生ずる微生物類に対して活
性を示す。
の化合物類は表皮ブドウ球菌、および枯草菌のようなダ
ラム陽性菌ならびに大腸菌およびサルモネラ属菌のよう
なダラム陰性菌に対して活性である。更に、本発明の化
合物類はペニシリナーゼおよびセファロスポリナーゼの
ようなβ−ラクタマーゼを産生ずる微生物類に対して活
性を示す。
例えば、0.081μに寥の試験濃度で、黄色ブドウ球
菌76010501の産生するこれらの1臀素に対して
活性を示した。大腸菌71120101TEM−1(β
−ラクタマーゼ産生微生物)に対して試験した場合、本
発明の化合物類は0.500μυ箇で活性を示した。
菌76010501の産生するこれらの1臀素に対して
活性を示した。大腸菌71120101TEM−1(β
−ラクタマーゼ産生微生物)に対して試験した場合、本
発明の化合物類は0.500μυ箇で活性を示した。
本発明の化合物類およびその代謝産物は不快臭をほとん
どあるいは全く有しない。
どあるいは全く有しない。
本発明の化合物類は抗菌剤として、経口、非経口、局所
および経皮投与用に容易に製剤化できる。
および経皮投与用に容易に製剤化できる。
従って、本発明は、本発明の化合物と製剤用担体からな
る医薬組成物を提供する。このような医薬組成物におい
て、本発明の化合物類は単独の活性抗菌剤として、また
は、他の抗菌剤および/または酵素阻害剤と共に併用で
きる。
る医薬組成物を提供する。このような医薬組成物におい
て、本発明の化合物類は単独の活性抗菌剤として、また
は、他の抗菌剤および/または酵素阻害剤と共に併用で
きる。
経口投与の場合、本発明の化合物類は典型的には、錠剤
、カプセル剤、エリキシル剤などの剤形に製剤化される
。非経口投与の場合、溶液または懸濁液に製剤化できる
。
、カプセル剤、エリキシル剤などの剤形に製剤化される
。非経口投与の場合、溶液または懸濁液に製剤化できる
。
投与される本発明の化合物の投与量は、患者の年令、体
重、投与方法、予防捷たは治療すべき細菌感染の程度な
らびに投与される特定化合物の効力などのような様々な
因子を考慮して担当医が判断して決められる。典型的な
1日あたりの投与量は約1〜250mg/に9、好まし
くは約5〜20mg/qの範囲内であり、これを多数回
にわけて投与する。
重、投与方法、予防捷たは治療すべき細菌感染の程度な
らびに投与される特定化合物の効力などのような様々な
因子を考慮して担当医が判断して決められる。典型的な
1日あたりの投与量は約1〜250mg/に9、好まし
くは約5〜20mg/qの範囲内であり、これを多数回
にわけて投与する。
例えば、好適な生理学的に受容できる担体またけ希釈剤
と共に活性成分を例えば、125.250または500
■のような適当量含有する投与単位で投与する。
と共に活性成分を例えば、125.250または500
■のような適当量含有する投与単位で投与する。
本発明の別の目的は前記の式Iの化合物そのエステルま
たは塩の製造方法を提供することである。
たは塩の製造方法を提供することである。
この方法は、
A)次式([((L)、W (6) )■(α)
、U
It(Cb)
(成虫Gは前記に定義したとおりのものである)の化合
物に基 −(CH)rL−Q (式中、Q% ルおよびR1は前記に定義したとおりの
ものである)を常法により一!i人することによって式
Iの化合物を製造する;または、B)一般式■ (式中、Gは前記に定義したとおりのものであり、Rは
有磯基である)の化合物を一般式X■1 H&−(CH) n−Q X1l(式中
、Q、 rL!6よびR1は前記に定義したとおりのも
のである)の化合物またはその反応性誘導体と反応させ
る(ここで、基Rは交換される基R′ CCH)n Q とは異なる基である);またはC)
一般式XI C=O H (式中、G、n、RトおよびQは前記に定義したとおり
のものであり、Zは酸素または硫黄である)の化合物を
三価の有機リン化合物の存在下で分子内に環化させる:
または D)少なくとも1つのR1がシアノまたはフッ素である
式■の化合物を製造する場合、式■の化合物中でR1を
示す少なくとも1個のヒドロキシ基をシアノまたはフッ
素基に転化する; ことからなることを特徴とする。
物に基 −(CH)rL−Q (式中、Q% ルおよびR1は前記に定義したとおりの
ものである)を常法により一!i人することによって式
Iの化合物を製造する;または、B)一般式■ (式中、Gは前記に定義したとおりのものであり、Rは
有磯基である)の化合物を一般式X■1 H&−(CH) n−Q X1l(式中
、Q、 rL!6よびR1は前記に定義したとおりのも
のである)の化合物またはその反応性誘導体と反応させ
る(ここで、基Rは交換される基R′ CCH)n Q とは異なる基である);またはC)
一般式XI C=O H (式中、G、n、RトおよびQは前記に定義したとおり
のものであり、Zは酸素または硫黄である)の化合物を
三価の有機リン化合物の存在下で分子内に環化させる:
または D)少なくとも1つのR1がシアノまたはフッ素である
式■の化合物を製造する場合、式■の化合物中でR1を
示す少なくとも1個のヒドロキシ基をシアノまたはフッ
素基に転化する; ことからなることを特徴とする。
方法A、B、CまたはDにおいて、必要ならば、官能基
は全て保護して窓く。
は全て保護して窓く。
方法A、 B、 CまたはDにつづけて、所望の立体異
性体を分離する前または分離した後に、保護基を除去し
、そして、生成された式Iのにネム化合物を遊離酸とし
て、医薬的に受容できる塩またはエステルとして単離す
る。
性体を分離する前または分離した後に、保護基を除去し
、そして、生成された式Iのにネム化合物を遊離酸とし
て、医薬的に受容できる塩またはエステルとして単離す
る。
方法A
互変異性体〔■(a)、■(b)〕の式■の化合物への
転化は好丑しくけ、欧州特許出、願第88111615
゜7号明細書に開示された転化方法と同様な方法を使用
して行なう。即ち、 (1)式Xの化合物と反応はぜる。
転化は好丑しくけ、欧州特許出、願第88111615
゜7号明細書に開示された転化方法と同様な方法を使用
して行なう。即ち、 (1)式Xの化合物と反応はぜる。
I
(式中、Q、R’およびnけ前記に定義したとおりのも
のである;Zlは反応条件下で除去される基、例えば、
活性化ヒドロキシ、ハロゲン、CH35O2−0−1O
−P” (C6Ha )3またはcp3SOs−基であ
る。好適なハロゲンは塩素、臭素および沃素である。) この反応はテトラヒドロフランのような有機溶剤中で不
活性雰囲気中で、例えば−5℃〜30℃の範囲内の温度
で行なうことが好ましい。この反応は一般的に、塩基ま
たは酸受容体、例えば、無機炭酸塩の存在下で行なわれ
る。また、この反応は一般的に1〜3時間以内に終了す
る。
のである;Zlは反応条件下で除去される基、例えば、
活性化ヒドロキシ、ハロゲン、CH35O2−0−1O
−P” (C6Ha )3またはcp3SOs−基であ
る。好適なハロゲンは塩素、臭素および沃素である。) この反応はテトラヒドロフランのような有機溶剤中で不
活性雰囲気中で、例えば−5℃〜30℃の範囲内の温度
で行なうことが好ましい。この反応は一般的に、塩基ま
たは酸受容体、例えば、無機炭酸塩の存在下で行なわれ
る。また、この反応は一般的に1〜3時間以内に終了す
る。
(II)次式X′の1,2−エポキシ化合物と反応させ
る。
る。
(式中、QおよびR1は前記に定義したと君りものであ
る; n/は0〜2である。) この反応は、4ネム環の第2位に結合した硫黄原子から
2番目の炭素原子に結合したR1基がヒドロキシル基で
ある式Iの化合物、即ち、次の部分構造式 を有する化合物を製造するのに使用できる。
る; n/は0〜2である。) この反応は、4ネム環の第2位に結合した硫黄原子から
2番目の炭素原子に結合したR1基がヒドロキシル基で
ある式Iの化合物、即ち、次の部分構造式 を有する化合物を製造するのに使用できる。
このような反応は互変異性体と式X′の化合物を室温ま
たは室温付近の温度で、通常は、ジメチルホルムアミド
のような適当な不活性溶剤中で混合することによって実
施できる。
たは室温付近の温度で、通常は、ジメチルホルムアミド
のような適当な不活性溶剤中で混合することによって実
施できる。
方法B
スルホキシド置換を含むこの方法は、例えば、ジクロル
メタンまたはT II Fのような不活性溶剤中で実施
できる。反応温度は通常、0℃〜−70℃の範囲内であ
る。
メタンまたはT II Fのような不活性溶剤中で実施
できる。反応温度は通常、0℃〜−70℃の範囲内であ
る。
チオール化合物X■自体を使用する場合、この反応は一
般的に、ジイソプロピルエチルアミンまたはトリエチル
アミンのような有機塩基または水酸化カリウム若しくは
ナトリウムメトキシドのような無機塩基などの塩基の存
在下で行なわれる。
般的に、ジイソプロピルエチルアミンまたはトリエチル
アミンのような有機塩基または水酸化カリウム若しくは
ナトリウムメトキシドのような無機塩基などの塩基の存
在下で行なわれる。
別法として、反応性誘導体、例えば、アルカリ金属塩、
好ましくは、ナトリウムまたはカリウム塩を使用できる
。
好ましくは、ナトリウムまたはカリウム塩を使用できる
。
弐■のスルホキシドは式M′の化合物
(式中、GおよびRは前記に定義したとおりのものであ
る)を緩和な酸化剤(例えば、ぜルオキシ安息香酸)で
、不活性溶剤(例えば、ジクロルメタン)中で、−30
℃〜20℃の範囲内の温度(例えば、0℃〜5℃)で処
理することによって製造できる。
る)を緩和な酸化剤(例えば、ぜルオキシ安息香酸)で
、不活性溶剤(例えば、ジクロルメタン)中で、−30
℃〜20℃の範囲内の温度(例えば、0℃〜5℃)で処
理することによって製造できる。
式X′の化合物は欧州特許出願明細書公報第18662
号に開示された方法または本明細書に開示された方法に
よって製造できる。
号に開示された方法または本明細書に開示された方法に
よって製造できる。
方法C
式X■の化合物を環化することからなるこの方法は欧州
特許出願公報第58817号に開示された方法と同様な
方法により実施できる。
特許出願公報第58817号に開示された方法と同様な
方法により実施できる。
この方法は通常、トルエン、ベンゼンのような芳香族炭
化水素類;ジエチルエーテル、ジプロピルエーテルのよ
うな脂肪族ニーデル類;ジオキサンのような環状エーテ
ル類;テトラヒドロフラン;および、塩化メチレンおよ
びクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類のような
不活性溶剤中で実施例 一般的に、この環化反応は20℃〜80℃、通常は40
℃〜60℃の範囲内の温度で、6〜24時間にわたって
行なわれる。
化水素類;ジエチルエーテル、ジプロピルエーテルのよ
うな脂肪族ニーデル類;ジオキサンのような環状エーテ
ル類;テトラヒドロフラン;および、塩化メチレンおよ
びクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類のような
不活性溶剤中で実施例 一般的に、この環化反応は20℃〜80℃、通常は40
℃〜60℃の範囲内の温度で、6〜24時間にわたって
行なわれる。
好適な三価の有機リン化合物は環式および/または脂環
式トリアルキルホスファイト類、トリアリールホスファ
イト類および混合アリールアルキルホスファイト類また
はホスホルアミド類などである。好ましい三価の有機リ
ン化合物はトリアルキルホスファイトであり、最も好ま
しい化合物はトリエチルホスファイトである。
式トリアルキルホスファイト類、トリアリールホスファ
イト類および混合アリールアルキルホスファイト類また
はホスホルアミド類などである。好ましい三価の有機リ
ン化合物はトリアルキルホスファイトであり、最も好ま
しい化合物はトリエチルホスファイトである。
方法り
この方法は、ヒドロキシアルキル基のヒドロキシをフッ
素またはシアノで置換する当分野で公知の方法によって
実施できる。
素またはシアノで置換する当分野で公知の方法によって
実施できる。
好適な一般的方法は、ヒドロキシ側鎖をジアルキルアジ
ドカルボキシレートCDAC)およびトリフェニルホス
フィン(TPP)と反応させ、ヒドロキシを除去可能な
基に転化し、次いで、フッ素またはシアノアニオンで置
換できる。例えば、塩化メチレンのような適当な不活性
溶剤中の好適な保護波ネム溶液を一30℃〜−10℃、
好ましくは、−20℃に冷却しながらDACおよびTP
P反応化合物に添加できる。次いで、フッ素またはシア
ンイオン源を添加できる。例えば、シアン化ナトリウム
またはカリウム若しくは、ジフェノキシシアノホスフィ
ンあるいは、フッ化水素のピリジン溶液を添加できる。
ドカルボキシレートCDAC)およびトリフェニルホス
フィン(TPP)と反応させ、ヒドロキシを除去可能な
基に転化し、次いで、フッ素またはシアノアニオンで置
換できる。例えば、塩化メチレンのような適当な不活性
溶剤中の好適な保護波ネム溶液を一30℃〜−10℃、
好ましくは、−20℃に冷却しながらDACおよびTP
P反応化合物に添加できる。次いで、フッ素またはシア
ンイオン源を添加できる。例えば、シアン化ナトリウム
またはカリウム若しくは、ジフェノキシシアノホスフィ
ンあるいは、フッ化水素のピリジン溶液を添加できる。
別法として、例えば、通常、無機塩基(例えば、炭酸カ
ルシウム)の存在下で、適当な保護ペネムを三フッ化ジ
アルキルアミノ硫黄、好ましくは、三フッ化ジエチルア
ミノ硫黄と反応させ、ヒドロキシをフッ素に変換できる
。
ルシウム)の存在下で、適当な保護ペネムを三フッ化ジ
アルキルアミノ硫黄、好ましくは、三フッ化ジエチルア
ミノ硫黄と反応させ、ヒドロキシをフッ素に変換できる
。
一般的に、本発明の方法では、式〔■(σ)、[(b)
l)、XlよびX[11の化合物および方法りの出発ペ
ネムのカルボキシル基はそれぞれの方法で保護されてい
る。例えば、方法Aのアルキル化方法では式Iの対応化
合物のカルボキシ保護誘導体を得、その後、脱保護され
る。前記化合物のアゼチジン環の第3位に結合したヒド
ロキシアルキルのヒドロキシ基もまた都合よく保護され
る。
l)、XlよびX[11の化合物および方法りの出発ペ
ネムのカルボキシル基はそれぞれの方法で保護されてい
る。例えば、方法Aのアルキル化方法では式Iの対応化
合物のカルボキシ保護誘導体を得、その後、脱保護され
る。前記化合物のアゼチジン環の第3位に結合したヒド
ロキシアルキルのヒドロキシ基もまた都合よく保護され
る。
本発明の方法で使用される好適なヒドロキシ保護基はβ
−ラクタムで前記のような目的に都合よ〈使用され、そ
して、犠鉛元素を使用する方法またはその他の常法によ
って容易に除去できるような塩類である。好ましいヒド
ロキシ保護基はトリクロロエトキシカルボニル、ジメチ
ルトリブチルシリル、トリメチルシリルオキシカルボニ
ルおよびトリメチルシリルである。トリメチルシリルは
特に好ましい保護基であり、これは、緩和な酸水溶液、
例えば、酢酸水溶液で処理することによって除去できる
。
−ラクタムで前記のような目的に都合よ〈使用され、そ
して、犠鉛元素を使用する方法またはその他の常法によ
って容易に除去できるような塩類である。好ましいヒド
ロキシ保護基はトリクロロエトキシカルボニル、ジメチ
ルトリブチルシリル、トリメチルシリルオキシカルボニ
ルおよびトリメチルシリルである。トリメチルシリルは
特に好ましい保護基であり、これは、緩和な酸水溶液、
例えば、酢酸水溶液で処理することによって除去できる
。
好適なカルボキシ保護基はペネム化合物について常用さ
れており、また、Kネム分子中に存在する他の官能基と
反応することなく常用の条件下で除去することのアきる
ような基である。例えば、脂Uj族、p−ニトロベンジ
ルぢよびトリクロロエチルなどである。好ましいカルボ
キシ1呆獲基はアリルである。
れており、また、Kネム分子中に存在する他の官能基と
反応することなく常用の条件下で除去することのアきる
ような基である。例えば、脂Uj族、p−ニトロベンジ
ルぢよびトリクロロエチルなどである。好ましいカルボ
キシ1呆獲基はアリルである。
保護カルボキシ基から保護基を除去することは保護基の
本体に応じて選定される常法により実施できる。好まし
い保護基であるアリル基を除去する場合、これは一般的
に塩基の存在下で接触条件下で行なうことができる。好
まし〜くは、欧州特許出願公報第0018668号に開
示された方法を使用して行なう。従って、アリル基は好
ましくは、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルまた
は塩化メチレンのような適当な中性溶剤を使用し、アル
カリ金属アルキルカルボキシレート、好tL<は2−エ
チルヘキサン酸カリウムまたはナトリウム(これはアル
カリ金属ペネム塩、好ましくは、ナトリウムはカリウム
4ネム塩を直接生成する)またはカルボン酸、好ましく
は、2−エチルヘキサン酸(これはペネムの遊離酸を生
成する)をパラジウム化合物とトリフェニルホスフィン
の混合物を触媒として用いて除去する。
本体に応じて選定される常法により実施できる。好まし
い保護基であるアリル基を除去する場合、これは一般的
に塩基の存在下で接触条件下で行なうことができる。好
まし〜くは、欧州特許出願公報第0018668号に開
示された方法を使用して行なう。従って、アリル基は好
ましくは、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルまた
は塩化メチレンのような適当な中性溶剤を使用し、アル
カリ金属アルキルカルボキシレート、好tL<は2−エ
チルヘキサン酸カリウムまたはナトリウム(これはアル
カリ金属ペネム塩、好ましくは、ナトリウムはカリウム
4ネム塩を直接生成する)またはカルボン酸、好ましく
は、2−エチルヘキサン酸(これはペネムの遊離酸を生
成する)をパラジウム化合物とトリフェニルホスフィン
の混合物を触媒として用いて除去する。
生成物が双性イオンの場合、アリル基の除去には触媒と
緩和親核試薬(例えは、ll2Qまたはアルコール)だ
けが用いられる。
緩和親核試薬(例えは、ll2Qまたはアルコール)だ
けが用いられる。
前記の塩類およびエステル類の製造は、ペニシリン類、
セファロスポリン類および被ネム類のようなβ−ラクタ
ム類の塩を製造するための常法により行なうことができ
る。塩は前記のようにアリル基の脱保護の際、または、
例えば、F1?’J酸を適当なカルボン酸のアルカリ金
(−チ塩j貝のような金属化合物類で、若しくは、アン
モニアあるいは]74当な有機アミンで処理することに
よって製造“できる。
セファロスポリン類および被ネム類のようなβ−ラクタ
ム類の塩を製造するための常法により行なうことができ
る。塩は前記のようにアリル基の脱保護の際、または、
例えば、F1?’J酸を適当なカルボン酸のアルカリ金
(−チ塩j貝のような金属化合物類で、若しくは、アン
モニアあるいは]74当な有機アミンで処理することに
よって製造“できる。
好ましくは、化学a論的量の、またに1、イヴくわずか
に過剰喰の塩形成剤を使用する。化合物の酸付加塩は通
常の方法で得られる。例えば、式Iの化合物を酸または
適当なアニオン交換試薬で処理するととKよって得られ
る。双性イオンは酸付加塩のような塩を等電点まで中和
すること釦よって生成させることができる。エステル類
はぜニジリン類およびセファロスポリン類の対応するエ
ステル類の製造に用いられる方法と同様な方法により製
造できる。
に過剰喰の塩形成剤を使用する。化合物の酸付加塩は通
常の方法で得られる。例えば、式Iの化合物を酸または
適当なアニオン交換試薬で処理するととKよって得られ
る。双性イオンは酸付加塩のような塩を等電点まで中和
すること釦よって生成させることができる。エステル類
はぜニジリン類およびセファロスポリン類の対応するエ
ステル類の製造に用いられる方法と同様な方法により製
造できる。
塩類は通常の方法で遊離のカルボキシ化合物に転化させ
ることができる。
ることができる。
本発明の化合物類はラセミ体混合物として調製すること
ができる。例えば、出発化合物がラセミ体混合物である
場合、5R,68,8R化合物はそのエナンチオマー(
@像異性体)、1(IJち、5s。
ができる。例えば、出発化合物がラセミ体混合物である
場合、5R,68,8R化合物はそのエナンチオマー(
@像異性体)、1(IJち、5s。
6E、BS化合物との等景況合物として生成される。所
望により、この二種類の′rナンチオマーは常法により
分離させることができる。例えば、(−)−ブルシンま
たは(十)−および(−)−エフェドリンのような光学
的に活性なアミン化合物から誘導された塩類のような光
学的に活性な塩類の分別結晶はより分離させることがで
きる。
望により、この二種類の′rナンチオマーは常法により
分離させることができる。例えば、(−)−ブルシンま
たは(十)−および(−)−エフェドリンのような光学
的に活性なアミン化合物から誘導された塩類のような光
学的に活性な塩類の分別結晶はより分離させることがで
きる。
別法として、反応工程中で光学的に活性な出発物質を使
用することによって光学的に活性な形の化合物類を製造
することもできる。
用することによって光学的に活性な形の化合物類を製造
することもできる。
前記の方法で使用される出発物質は当業者に公仰であり
、また、標準的な方法により製造することもできる。
、また、標準的な方法により製造することもできる。
R″がシアンまたはハロゲンのような基で置換された低
級アルキルである式Iの化合物類は次式X■の化合物か
ら製造できる。
級アルキルである式Iの化合物類は次式X■の化合物か
ら製造できる。
R″
―
L−0−CCH)n−Q XI(式中、R“
はヒドロキシ低級アルキルであり、nおよびQは前記に
定義したとおりのものであり、また、Lはヒドロキシ保
穫基である。)R″基のヒドロキシは、例えば、室温の
乾燥ピリジン中で塩化メシルと反応させることによって
メシル化される。次いで、このメシル基は適当なシアノ
オたけハロゲン含有試薬、例えば、シアン化す) II
ウムまたはフッ化水素と反応させることによって置換で
きる。次いで、この保穫酸素を脱保訟し、そして、置換
または、適当なZ基へ官能基化させることができる。例
えば、R“基を前記のようにして塩化メシルと反応させ
ることによってメシル化させることができ、または、−
・ロゲン化水素と反応させることによってノ・ロゲン化
物に転化させることができる。
はヒドロキシ低級アルキルであり、nおよびQは前記に
定義したとおりのものであり、また、Lはヒドロキシ保
穫基である。)R″基のヒドロキシは、例えば、室温の
乾燥ピリジン中で塩化メシルと反応させることによって
メシル化される。次いで、このメシル基は適当なシアノ
オたけハロゲン含有試薬、例えば、シアン化す) II
ウムまたはフッ化水素と反応させることによって置換で
きる。次いで、この保穫酸素を脱保訟し、そして、置換
または、適当なZ基へ官能基化させることができる。例
えば、R“基を前記のようにして塩化メシルと反応させ
ることによってメシル化させることができ、または、−
・ロゲン化水素と反応させることによってノ・ロゲン化
物に転化させることができる。
式〔■(α)、II (b) )の互変異性化合物は欧
州特許出願公報第88111615.7号に開示された
方法により製造できる。
州特許出願公報第88111615.7号に開示された
方法により製造できる。
適当な製造方法を下記に説明する。便宜上、5B、6S
、SR立体配置で6−(1−ヒドロキシエチル)置換体
化合物の製造について説明する。
、SR立体配置で6−(1−ヒドロキシエチル)置換体
化合物の製造について説明する。
しかし、言うまでもなく、同じ方法により他の立体配置
を有する化合物、第6位に他のヒドロキシアルキル置換
基を有する化合物、ならびにアIJ )し以外のカルボ
キシ保護基を有する化合物も製造できる。
を有する化合物、第6位に他のヒドロキシアルキル置換
基を有する化合物、ならびにアIJ )し以外のカルボ
キシ保護基を有する化合物も製造できる。
この方法で好ましい態様のものは次の工程からなる。
(cz) 次式XX
(式中、R3は硫黄保護基、例えば、トリノ二二ルメチ
ル基である)の7ゼチジノンを次式XXI1 WC&C−0CH2CH=CH2XXI(式中、Wは脱
離基、例えばヨウ素または臭素である)のα−置換アル
キルアセテートと反応させ、次式XX■ この反応は酸受容体の存在下で15〜30℃で行なうこ
とができる。好1しくは、この反応はアセトニトリル中
で、酸受容体として炭酸セシウムまたは水酸化テトラア
ルキルアンモニラムラ使用して行なわれる。
ル基である)の7ゼチジノンを次式XXI1 WC&C−0CH2CH=CH2XXI(式中、Wは脱
離基、例えばヨウ素または臭素である)のα−置換アル
キルアセテートと反応させ、次式XX■ この反応は酸受容体の存在下で15〜30℃で行なうこ
とができる。好1しくは、この反応はアセトニトリル中
で、酸受容体として炭酸セシウムまたは水酸化テトラア
ルキルアンモニラムラ使用して行なわれる。
(b) 式XX■の化合物を化学量論的に過剰量の亜
鉛元素で、テトラヒドロフランのような適当な有機溶剤
中の塩酸中で15〜25℃で処理し、次式の化合物を生
成する。
鉛元素で、テトラヒドロフランのような適当な有機溶剤
中の塩酸中で15〜25℃で処理し、次式の化合物を生
成する。
(C) 式XX■の化合物をビス−トリメチルシリル
アセトアミドと反応させることによって第5位のヒドロ
キシ基をトリメチルシリル基で保護する。この反応は好
適には、ジメチルホルムアミドのような溶剤中で0〜8
0℃で行なわれる。
アセトアミドと反応させることによって第5位のヒドロ
キシ基をトリメチルシリル基で保護する。この反応は好
適には、ジメチルホルムアミドのような溶剤中で0〜8
0℃で行なわれる。
(力 得られた保護化合物を次式XXIVS =C(Y
)2 XXIV(式中、Yはハロゲン、ナ
フチルオキシまたはイミダゾリルのような脱離基である
)のチオカルボニル化合物と、一般的に、前記の工程で
使用された溶剤と同じ溶剤を使用し、10℃〜45℃の
範囲内の温度で反応させ、次式XXv (式中、Prはトリメチルシリルであり、また、Yは前
記に定義したとおりのものである)の化合物を生成する
。
)2 XXIV(式中、Yはハロゲン、ナ
フチルオキシまたはイミダゾリルのような脱離基である
)のチオカルボニル化合物と、一般的に、前記の工程で
使用された溶剤と同じ溶剤を使用し、10℃〜45℃の
範囲内の温度で反応させ、次式XXv (式中、Prはトリメチルシリルであり、また、Yは前
記に定義したとおりのものである)の化合物を生成する
。
(g) 式XXVの化合物を等モル量のリチウムジイ
ソプロピルアミドのような強塩基で処理し、式〔■((
L)、[(6))の化合物を生成する。一般的に、この
反応は、テトラヒドロフランのような無水の不活性有機
溶剤中で、塩基を式XXVの化合物の溶剤溶液に添加し
ながら行なわれる。代表的な反応温度は一50℃〜−1
00℃であり、また、反応は一般的に5分間〜24時間
以内に終了する。
ソプロピルアミドのような強塩基で処理し、式〔■((
L)、[(6))の化合物を生成する。一般的に、この
反応は、テトラヒドロフランのような無水の不活性有機
溶剤中で、塩基を式XXVの化合物の溶剤溶液に添加し
ながら行なわれる。代表的な反応温度は一50℃〜−1
00℃であり、また、反応は一般的に5分間〜24時間
以内に終了する。
式XIの化合物は欧州特許出願公報第58817号に開
示された方法により製造でき′る。例えば、次式 (式中、G% ”%およびQは前記に定義したとおりの
ものである)の化合物を次式 (式中、P、は前記に定義したとおりのカルホキ保護基
である)の酸の反応性誘導体(例えば、塩化物)と反応
させる。この反応は通常、普通のアシル化条件、即ち不
活性溶剤中で、有機塩基、好ましくは、8級アミンの存
在下で行なわれる。
示された方法により製造でき′る。例えば、次式 (式中、G% ”%およびQは前記に定義したとおりの
ものである)の化合物を次式 (式中、P、は前記に定義したとおりのカルホキ保護基
である)の酸の反応性誘導体(例えば、塩化物)と反応
させる。この反応は通常、普通のアシル化条件、即ち不
活性溶剤中で、有機塩基、好ましくは、8級アミンの存
在下で行なわれる。
基Qは例えば次のような基である。
5
CONH。
本発明の化合物類のうちの代表例は次の式で示される化
合物類を含む。
合物類を含む。
〔式中、−Y−Qは
H
■
(J:Hs
(?H
CH。
ならびに、これらのナトリウムまたはカリウム塩若しく
は代謝可能なエステル類である;構造式中の米記号はR
XSまたはR若しくはS配置の鏡像中心を示す。〕 1L (A) %化メチレン30ゴ、および塩化メチレン10
麻中のジイソプロピルエチルアミン0.88m1に0℃
で1−エトキシ−1−〔2−メチルスルホニルオキ’i
−8−(4−N−メチルカルバモイル−ピペラジン− 0、7 5gを溶解させた。次いで、得られた混合物に
、C5R,68.8R)−2−チオール−6−(1−ヒ
ドロキシエチル)−2ネムー3−カルボン酸アリルおよ
びC5R,6S,SR)−2−チオ7−6−(1−ヒド
ロキシエチル)ベネム−3−カルボン酸アリル1gをテ
トラヒドロフラン10反にとかして作った溶液、水10
m123よび重炭酸ナトリウム0.3gを添加した。薄
層クロマトグラフ(メタノール/塩化メチレン、1:9
)で出発物質の不存在が確認されるまで室温で撹拌した
。
は代謝可能なエステル類である;構造式中の米記号はR
XSまたはR若しくはS配置の鏡像中心を示す。〕 1L (A) %化メチレン30ゴ、および塩化メチレン10
麻中のジイソプロピルエチルアミン0.88m1に0℃
で1−エトキシ−1−〔2−メチルスルホニルオキ’i
−8−(4−N−メチルカルバモイル−ピペラジン− 0、7 5gを溶解させた。次いで、得られた混合物に
、C5R,68.8R)−2−チオール−6−(1−ヒ
ドロキシエチル)−2ネムー3−カルボン酸アリルおよ
びC5R,6S,SR)−2−チオ7−6−(1−ヒド
ロキシエチル)ベネム−3−カルボン酸アリル1gをテ
トラヒドロフラン10反にとかして作った溶液、水10
m123よび重炭酸ナトリウム0.3gを添加した。薄
層クロマトグラフ(メタノール/塩化メチレン、1:9
)で出発物質の不存在が確認されるまで室温で撹拌した
。
真空中で溶剤を蒸発させ、得られた残留物を水と塩化メ
チレンの二層に分離させた。有機層を硫酸マグネシウム
で乾燥させ、そして、真空中で溶剤を蒸発させた。得ら
れた残留物をシリカゲルにより25%酢酸エチル/塩化
メチレンから100%酢酸 チルで傾斜溶離し精製した
。5R,68。
チレンの二層に分離させた。有機層を硫酸マグネシウム
で乾燥させ、そして、真空中で溶剤を蒸発させた。得ら
れた残留物をシリカゲルにより25%酢酸エチル/塩化
メチレンから100%酢酸 チルで傾斜溶離し精製した
。5R,68。
8R,2(R,S)−6−(1−ヒドロキシエチル)−
2−(1−(エトキシ−1−エトキシ)−メチル−2−
C4−N−メチル−ピペラジン−1−イル)エチルコチ
オ−被ネムー8ーカルボン酸アリルが得られた。
2−(1−(エトキシ−1−エトキシ)−メチル−2−
C4−N−メチル−ピペラジン−1−イル)エチルコチ
オ−被ネムー8ーカルボン酸アリルが得られた。
(B)工程(A)の生成物174■を水/テトラヒドロ
フラン(1:1)混液10m/に溶解し、次いで、p−
トルエンスルホン酸の5%水溶液でpH値を8にあわせ
た。この混合物を1、5時間静置し、真空中で溶剤を蒸
発させ、得られた残留物を重炭酸ナトリウムの5%水溶
液と塩化メチレンとの二層に分離させた。有機層を蒸発
させ、5R,6S。
フラン(1:1)混液10m/に溶解し、次いで、p−
トルエンスルホン酸の5%水溶液でpH値を8にあわせ
た。この混合物を1、5時間静置し、真空中で溶剤を蒸
発させ、得られた残留物を重炭酸ナトリウムの5%水溶
液と塩化メチレンとの二層に分離させた。有機層を蒸発
させ、5R,6S。
8R.2’<R,S)−6−<1−ヒドロキシエチル)
− 2 − ( 2’−ヒドロキシメチル−2’−
( 4 −N−メチル力ルバモイルービ被ラジンー1−
イル)エチルクチオーベネム−3−カルボン酸アリルを
得た。
− 2 − ( 2’−ヒドロキシメチル−2’−
( 4 −N−メチル力ルバモイルービ被ラジンー1−
イル)エチルクチオーベネム−3−カルボン酸アリルを
得た。
<C>アルゴン雰囲気下で、工程Bのアリルエステル生
成物を塩化メチレン10dに再溶解させ、トリフェニル
ホスフィン25m9、2−エチルヘキサン酸45■およ
びPdO試薬10m9を添加した。薄層クロマトグラフ
(展開溶媒=5%メタノール/塩化メチレン)によって
反応の終結が確認されるまで、この混合物を放置した。
成物を塩化メチレン10dに再溶解させ、トリフェニル
ホスフィン25m9、2−エチルヘキサン酸45■およ
びPdO試薬10m9を添加した。薄層クロマトグラフ
(展開溶媒=5%メタノール/塩化メチレン)によって
反応の終結が確認されるまで、この混合物を放置した。
得られた生成物を水( 2 X 1 07nl)で抽出
し、次いで水層を塩化メチレン(3xlOml)で洗浄
した。水層を凍結乾燥し、粗生成物を得た。この生成物
を逆相カラムクロマトグラフ(25gシリカゲル:溶離
剤は水)で精製することにより標記の化合物を得た。
し、次いで水層を塩化メチレン(3xlOml)で洗浄
した。水層を凍結乾燥し、粗生成物を得た。この生成物
を逆相カラムクロマトグラフ(25gシリカゲル:溶離
剤は水)で精製することにより標記の化合物を得た。
(A)5℃でC5B,6S,SR)−2−エチルチオ−
6−(1−ヒドロキシエチル)Kネムー3−カルボン酸
アリル2gを塩化メチレン80mに溶解させ、炭酸カル
シウム2g次いで、m−過安息香酸1.1.9の塩化メ
チレン(20m/)溶液を添加した。20分間経過後、
反応混合物を水100プで抽出し、二層に分離し、そし
て、有機層を蒸発させ、<5R,6S、8R)−2−エ
チルスルフイニ/L/−6−(1−ヒドロキシエチル)
セネムー8−カルボン酸アリルを得た。
6−(1−ヒドロキシエチル)Kネムー3−カルボン酸
アリル2gを塩化メチレン80mに溶解させ、炭酸カル
シウム2g次いで、m−過安息香酸1.1.9の塩化メ
チレン(20m/)溶液を添加した。20分間経過後、
反応混合物を水100プで抽出し、二層に分離し、そし
て、有機層を蒸発させ、<5R,6S、8R)−2−エ
チルスルフイニ/L/−6−(1−ヒドロキシエチル)
セネムー8−カルボン酸アリルを得た。
(J3)工程Aの生成物50011gをテトラヒドロフ
ラン4dと水2dからなる混液に溶解させ、重炭酸ナト
リウム100叩、次いで、1−エトキシ−1−(2−メ
ルカプト−8−(4”N−メチルカルバモイル−ピペラ
ジン−イル)プロポキシエタンの生成物700ダを添加
し、そして、1時間放置した。得られた混合物を塩化メ
チレンと水との二層に分離させ、塩化メチレンを蒸発さ
せ、そして、得られた残留物をシリカゲルカラムで塩化
メチレン/テトラヒドロフラン(1:1)混液を溶離剤
として使用することによって精製し、5R,6P;。
ラン4dと水2dからなる混液に溶解させ、重炭酸ナト
リウム100叩、次いで、1−エトキシ−1−(2−メ
ルカプト−8−(4”N−メチルカルバモイル−ピペラ
ジン−イル)プロポキシエタンの生成物700ダを添加
し、そして、1時間放置した。得られた混合物を塩化メ
チレンと水との二層に分離させ、塩化メチレンを蒸発さ
せ、そして、得られた残留物をシリカゲルカラムで塩化
メチレン/テトラヒドロフラン(1:1)混液を溶離剤
として使用することによって精製し、5R,6P;。
8R,2,CR,5)−2−C1−(エトキシ−1−エ
トキシ)−メチル−2−C4−N−メチルカルバモイル
−ピペラジン−1−イル)−6−(ヒドロキシエチル)
ペネム−3−カルボン酸アリルを得た。
トキシ)−メチル−2−C4−N−メチルカルバモイル
−ピペラジン−1−イル)−6−(ヒドロキシエチル)
ペネム−3−カルボン酸アリルを得た。
<C>得られたアリルエステルを実施例1の工程Bおよ
びCで述べた方法により処理し、析記の化合物を得た。
びCで述べた方法により処理し、析記の化合物を得た。
前記の方法により、適当な出発物質を使用し、次式の化
合物を得た。
合物を得た。
次の実施例において、活性成分は5B、68゜8R,2
CR,5)−6−<1−ヒドロキシエチル) −2−[
2’−ヒドロキシメチル−2’−(4−N−メチルカル
バモイルーピ波うジンー1−イル)−エチル]チオーイ
ネムー3−カルボン酸または等量の、その医薬的に受容
できる塙またはエステル、若しくは、等量の、前記式I
の他の化合物である。
CR,5)−6−<1−ヒドロキシエチル) −2−[
2’−ヒドロキシメチル−2’−(4−N−メチルカル
バモイルーピ波うジンー1−イル)−エチル]チオーイ
ネムー3−カルボン酸または等量の、その医薬的に受容
できる塙またはエステル、若しくは、等量の、前記式I
の他の化合物である。
注射溶液
活性成分 100 500メチル
パラベン 1.8 1.8プロピ
ルパラベン 0.2 0.2亜硫酸
ナトリウム 8.2 a2EDT
A2ナトリウム 0.1 0.1硫酸ナ
トリウム 2.6 2.6全量1
.0ゴ 全階1.0ゴ 調製方法 1、パラベンをしき水(全量の85%ンに65〜70℃
に溶解させる。
パラベン 1.8 1.8プロピ
ルパラベン 0.2 0.2亜硫酸
ナトリウム 8.2 a2EDT
A2ナトリウム 0.1 0.1硫酸ナ
トリウム 2.6 2.6全量1
.0ゴ 全階1.0ゴ 調製方法 1、パラベンをしき水(全量の85%ンに65〜70℃
に溶解させる。
2.25.85℃にまで冷却する。亜硫酸す) lラム
、EDTA2ナトリウムおよび硫酸ナトリウムを添加し
、溶解させる。
、EDTA2ナトリウムおよび硫酸ナトリウムを添加し
、溶解させる。
3、活性成分を添加し、そして、溶解させる。
4、注射用蒸留水を添加し、全量にする。
5、この溶液を0.22μのメンプランを通して痙過し
、そして、適当な容器に充てんする。
、そして、適当な容器に充てんする。
6、この容器をオートクレーブで最終的に滅菌する。
活性成分 0.5 1.0この粉末の溶
解用として、注射用滅菌蒸留水または注射用静菌水を特
徴する 特許出願人 シエリング・コーポレーション′−″
・7i 代 理 人 弁理士 湯 浅 恭 三i5.:し−・
二」 (外4名) −セイス アメリカ合衆国ニューシャーシ ー州07456リングウツド・エツ ジウッド・ロード13
解用として、注射用滅菌蒸留水または注射用静菌水を特
徴する 特許出願人 シエリング・コーポレーション′−″
・7i 代 理 人 弁理士 湯 浅 恭 三i5.:し−・
二」 (外4名) −セイス アメリカ合衆国ニューシャーシ ー州07456リングウツド・エツ ジウッド・ロード13
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)次式で示される化合物、またはその医薬的に受容
できる塩類またはエステル類。 7?】 〔式中、Gはヒドロキシ低級アルキルである;Qは次式
の基 (,4) CB)でめる: R1はカルボキシ、カルバミル、シアノ、ヒドロキシ、
アミノ、低級アルキルチオ、フッ素、低級アルコキシ、
低級アルカノイルオキシまだは置換低級アルキル(ここ
で、該置換基はイミダゾリル(このイミダゾリルは下記
に定義される基Rで置換されていてもよい)、アミノ、
モノ−またはジー低級アルキルアミノ、ウレイド、セミ
カルバジド、ヒドロキシ、シアノ、ハロゲン、低級アル
コキシ、カルバミルオキシ、カルボキシ、カルバミル、
低級アルキルカルボニル、スルホ、スルファミル、低級
アルキルスルホニル、低級つ′ルコキシスルホニノペ低
級アルコキシカルボニル、ヒドロキシ低級アルキルカル
ボニルまたはヒドロキシ低級アルキルスルホニルである
。)である:ただし、R1がチッ素原子貰たけ、ベネム
環の第2位に結合した硫黄原子のいずれかに隣接する炭
素原子に結合しており、それによって、基Qが側鎖1 −CCH)rL−に結合する場合、このR1はヒドロキ
シ、アミノまたはフッ素であることはできない;Rは水
素、低級アルキル、アミノ低級アルキル、モノーおよび
ジー低級−アルキルアミノ低級アルキル、カルボキシ低
級アルキル、スルホアルキノベヒドロキシアルキル、シ
アン、ヒドロキシ、アミノ、モノ−およびジー低級アル
キルアミノ、アルキルスルホネート、スルファミル、ハ
ロゲノ、ヒドロキシイミノ低級アルキル、低級アルコキ
シイミノ−低級アルキル、カルボキシ、カルバミ/L/
。 モノ−またはジー低級アルキルカルバミル、ニトロ、カ
ルバミルオキシ、ウレイド、ウレイド低級アルキル、ま
たはカルバミルヒドラゾ低級アルキルである; R1およびR8はそれぞれ別個に、水素、低級アルキル
、アミノ低級アルキル、モノ−およびジー低級アルキル
アミノ低級アルキル、カルボキシ低級アルキル、カルボ
キシ、ヒドロキシ低級アルキル、シアノ、オキソ、カル
バミル、モノー低級アルキルカルバミルおよびジー低級
アルキルカルバミルからなる群から選択される; R4はR2およびR8について列挙した塩類、スルホ低
級アルキル、ヒドロキシ、アミノ、モノ−gよびジー低
級アルキルアミノ、低級アルキルスルホネート、スルフ
ァミル、ハロゲノ、ヒドロキシイミノ低級アルキルヒド
ロキシルイミノ、低級アルキルイミノおよび低級アルコ
キシイミノ低級アルキルからなる群から8択される;X
はo、 5Xso2、N&(例えは、Nli )寸たは
NC0R2(ここで、R2は前記に定義したとおりのも
のである)である; mおよびルは1〜4である; pは1または2である; qは1.2または3である。〕 (2)Gが1−ヒドロキシエチルであり、立体配置が5
R,6,S’、8Rであることを特徴とする特徴請求の
範囲第1項記載の化合物。 (8) R’が特許請求の範囲第1項に記載された置
換低級アルキル基である特許請求の範囲第1項才たけ2
項記載の化合物。 (4) R”がヒドロキシメチルまたはアミノメチル
である特許請求の範囲第3項記載の化合物。 (5)Qが基(B〕であり、pが1であり、R2、R3
およびR4が水素であり、そして、Xが−NCR2(こ
こで、R2はアミノまたは低級アルキルアミノである)
である特許請求の範囲第1〜4項のいずれかに記載の化
合物。 (6)医薬的に受容可能な担体または賦形剤と共に、特
許請求の範囲第1〜5項のいずれかに記載の化合物を含
有することからなる医薬組成物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US478620 | 1983-03-25 | ||
US06/478,620 US4614738A (en) | 1983-03-25 | 1983-03-25 | 2-(N-heterocycloaliphaticthio)penems |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59181280A true JPS59181280A (ja) | 1984-10-15 |
Family
ID=23900669
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59058084A Pending JPS59181280A (ja) | 1983-03-25 | 1984-03-26 | ペネム化合物および該化合物を含有する医薬組成物 |
Country Status (14)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4614738A (ja) |
EP (1) | EP0123650B1 (ja) |
JP (1) | JPS59181280A (ja) |
AT (1) | ATE30426T1 (ja) |
AU (1) | AU571206B2 (ja) |
DE (1) | DE3466991D1 (ja) |
DK (1) | DK167384A (ja) |
GR (1) | GR81856B (ja) |
HU (1) | HU193429B (ja) |
IL (1) | IL71339A0 (ja) |
NZ (1) | NZ207632A (ja) |
PH (1) | PH20231A (ja) |
PT (1) | PT78315B (ja) |
ZA (1) | ZA842225B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60120881A (ja) * | 1983-10-14 | 1985-06-28 | フアイザ−・インコ−ポレ−テツド | 2−アザシクロアルキルチオペネム誘導体 |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4411906A (en) * | 1981-11-25 | 1983-10-25 | Schering Corporation | (5R,6S,8R)-6-(1-Hydroxyethyl)-2-(2-fluoroethylthio)-penem-3-carboxylates |
DK141784A (da) * | 1983-03-14 | 1984-09-15 | Schering Corp | Penemforbindelser, fremgangsmaader til deres fremstilling samt farmaceutiske praeparater indeholdende disse |
ZA841781B (en) * | 1983-03-14 | 1985-07-31 | Schering Corp | Penim compounds,methods for their preparation and pharmaceutical compositions containing them |
US4772597A (en) * | 1983-10-14 | 1988-09-20 | Pfizer Inc. | 2-azacycloalkylthiopenem derivatives |
GB8509181D0 (en) * | 1985-04-10 | 1985-05-15 | Erba Farmitalia | Penem derivatives |
US4739047A (en) * | 1985-10-17 | 1988-04-19 | Pfizer Inc. | Intermediates for 2-(1-oxo-3-thiolanyl)-2-penem antibiotics |
US4992543A (en) * | 1988-10-19 | 1991-02-12 | Pfizer Inc. | Penem derivatives |
US4895940A (en) * | 1988-10-19 | 1990-01-23 | Pfizer Inc. | Process for the preparation of penems |
US5191075A (en) * | 1988-10-19 | 1993-03-02 | Pfizer Inc | Process for the preparation of penems |
FI104822B (fi) * | 1992-09-09 | 2000-04-14 | Sankyo Co | Menetelmä karbapeneemi- ja peneemiyhdisteiden valmistamiseksi |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4301074A (en) * | 1977-11-17 | 1981-11-17 | Merck & Co., Inc. | 6-(1'-Hydroxyethyl)-2-substituted-pen-2-em-3-carboxylic acid |
US4168314A (en) * | 1977-11-17 | 1979-09-18 | Merck & Co., Inc. | 6-(1'-Hydroxyethyl)-2-aminoethylthio-pen-2-em-3-carboxylic acid |
US4423055A (en) * | 1979-08-01 | 1983-12-27 | Schering Corporation | 6-Substituted-hydrocarbon-2-(substituted-thio)penem-3-carboxylic acids |
JPS57176988A (en) * | 1981-04-09 | 1982-10-30 | Sankyo Co Ltd | Penam-3-carboxylic acid derivative and its preparation |
DE3277696D1 (en) * | 1981-07-15 | 1987-12-23 | Sumitomo Pharma | Carboxylic beta-lactam compounds and the preparation thereof |
US4435412A (en) * | 1982-11-29 | 1984-03-06 | Schering Corporation | 5R,6S,8R-2-(1-Methyl-2-imidazolylmethylthio)-6-(1-hydroxyethyl)penem-3-carboxylic acid |
DK141784A (da) * | 1983-03-14 | 1984-09-15 | Schering Corp | Penemforbindelser, fremgangsmaader til deres fremstilling samt farmaceutiske praeparater indeholdende disse |
US4595539A (en) * | 1983-06-10 | 1986-06-17 | Pfizer Inc. | Preparation of penem derivatives and azetidinone intermediates |
GR82153B (ja) * | 1983-06-10 | 1984-12-13 | Pfizer | |
US4559333A (en) * | 1984-03-01 | 1985-12-17 | Schering Corporation | Hydrazone substituted penems |
-
1983
- 1983-03-25 US US06/478,620 patent/US4614738A/en not_active Expired - Fee Related
-
1984
- 1984-03-25 IL IL71339A patent/IL71339A0/xx unknown
- 1984-03-26 HU HU841200A patent/HU193429B/hu unknown
- 1984-03-26 GR GR74222A patent/GR81856B/el unknown
- 1984-03-26 ZA ZA842225A patent/ZA842225B/xx unknown
- 1984-03-26 JP JP59058084A patent/JPS59181280A/ja active Pending
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- 1984-03-26 DK DK167384A patent/DK167384A/da not_active IP Right Cessation
- 1984-03-26 AU AU26106/84A patent/AU571206B2/en not_active Expired - Fee Related
- 1984-03-26 PH PH30440A patent/PH20231A/en unknown
- 1984-03-26 NZ NZ207632A patent/NZ207632A/en unknown
- 1984-03-26 AT AT84810146T patent/ATE30426T1/de not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60120881A (ja) * | 1983-10-14 | 1985-06-28 | フアイザ−・インコ−ポレ−テツド | 2−アザシクロアルキルチオペネム誘導体 |
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---|---|
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ZA842225B (en) | 1984-11-28 |
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AU571206B2 (en) | 1988-04-14 |
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PH20231A (en) | 1986-11-10 |
GR81856B (ja) | 1984-12-12 |
PT78315B (en) | 1986-08-08 |
HU193429B (en) | 1987-10-28 |
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DK167384A (da) | 1984-09-26 |
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