JPS59174543A - Crystallizable glass solder with low thermal expansion rate - Google Patents

Crystallizable glass solder with low thermal expansion rate

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JPS59174543A
JPS59174543A JP1322984A JP1322984A JPS59174543A JP S59174543 A JPS59174543 A JP S59174543A JP 1322984 A JP1322984 A JP 1322984A JP 1322984 A JP1322984 A JP 1322984A JP S59174543 A JPS59174543 A JP S59174543A
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glass
solder
welding
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C8/00Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C03C8/24Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions, i.e. for use as seals between dissimilar materials, e.g. glass and metal; Glass solders

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、部分的に結晶化するガラスはんだに係わり、
このガラスはんだは粉末の形態で、石英ガラス、透明な
h−石英混晶含有ガラスセラミックス及び不透明なh+
 IJチア輝石含有ガラスセラミックスのような温度領
域20〜500 ℃で−5〜+33・10−7 ・K暑
のp8IIり張車を有する物質並びに例えば20〜30
0℃の領域内で33・10−7 ・に−’  のα値を
有するDURAN50型のボウケイ酸ガラスの、融合応
力の小さい機械的に強固な結合に適する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to partially crystallized glass solder,
This glass solder is available in powder form for quartz glass, transparent h-quartz mixed crystal-containing glass ceramics and opaque h+
-5 to +33.10-7 in the temperature range of 20 to 500 °C, such as IJ pyroxene-containing glass ceramics, and materials with p8II tension of K heat, such as 20 to 30
Suitable for mechanically strong bonding of DURAN 50 type borosilicate glass having an alpha value of 33.10-7.-' in the 0° C. range with low fusion stress.

ガラスはんだ(glass 5older)  の組成
は、50〜90重舞チのti2o −AQ205−5i
o2  系ノh−石英混晶相と、無水ホウ酸(B203
)、−酸化鉛(pbo)、酸化ナトリウム(Na20)
、酸化カリウム(F20)フッ素(F2)などのh−石
英混晶格子内に組込まれない成分から成る10〜50%
のガラス相と、更に核剤としての4重量%以下の量の酸
化チタン(Tj02)  とから成る。
The composition of glass solder is 50 to 90 layers of ti2o-AQ205-5i.
o2-based h-quartz mixed crystal phase and boric anhydride (B203
), -lead oxide (pbo), sodium oxide (Na20)
, 10-50% consisting of components not incorporated into the h-quartz mixed crystal lattice, such as potassium oxide (F20), fluorine (F2), etc.
The glass phase further comprises titanium oxide (Tj02) in an amount of up to 4% by weight as a nucleating agent.

更に、この溶着用ガラスは混晶を形成する酸化マグネシ
ウム(Mgo)  及び酸化コパル1−(Co□)を2
tIjまで含有し得る。上記のような融合(溶着)(f
usion、 soldering)の結合力が技術的
に有用であるための前提条件として、B2O3含量が少
なくとも3重量%、好ましくは5,0重量−以上である
ことが既に提示されている。
Furthermore, this welding glass contains magnesium oxide (Mgo) and copal oxide 1-(Co□) which form mixed crystals.
It can contain up to tIj. Fusion (welding) (f
It has already been proposed that a B2O3 content of at least 3% by weight, preferably 5.0% by weight or more, is a prerequisite for the bond strength of the bonding process (soldering) to be technically useful.

ガラス相部分の存在によって、モル比t、i2o:AF
、205:  8102  =  1:  1 : 2
を有し、即ち11、86 LM %のLi2Oと40.
46重叶チのAQ2o3と47.68重−険チのsio
、、とから成り、1420〜1300℃での融合プロセ
スの間に著しく結晶化の傾向にある純粋なh−石英混晶
含有組成が良好に安定化され、その結果ガラスはんだは
、均質なガラス状態で溶融され得、また加工してガラス
粉末とされ得る。
Due to the presence of the glass phase part, the molar ratio t, i2o:AF
, 205: 8102 = 1: 1: 2
i.e. 11,86 LM % Li2O and 40.
AQ2o3 of 46-layered and sio of 47.68-layered
, , and the pure h-quartz mixed crystal-containing composition, which tends to crystallize significantly during the fusion process at 1420-1300 °C, is well stabilized, so that the glass solder has a homogeneous glass state. It can be melted and processed into glass powder.

溶着のために、100μmよりも細かい好ましくは20
μmよりも細かい微粒化が適当であると実証された。ガ
ラスはんだ粉末は、ペーストの形態でかまたは厚み10
〜250μm、好ましくは25〜100 ttmのスク
リーン印刷層として溶着プロセスに適用される。
For welding, finer than 100 μm, preferably 20
It has been demonstrated that atomization finer than μm is appropriate. The glass solder powder can be used in the form of a paste or with a thickness of 10
It is applied in the welding process as a screen printed layer of ~250 μm, preferably 25-100 ttm.

溶着プロセスは次の諸段階を含む。ニ ー ペーストの溶剤の蒸発、 −h−石英混晶相の核形成、 −焼結乃至溶着及びLi2O−AQ205−5io2系
のh−石英混晶相晶出。
The welding process includes the following steps. Evaporation of the solvent of the paste, -nucleation of the h-quartz mixed crystal phase, -sintering or welding and crystallization of the h-quartz mixed crystal phase of the Li2O-AQ205-5io2 system.

溶剤の蒸発は、500℃より低温での加熱プロセスの間
に実現する。核形成及び結晶化は550℃から850℃
の間で生起する。ホウケイ酸ガラスの場合は650℃を
上回る、また石英ガラス及びガラスセラミックスの場合
は780℃を上回る温度を比較的長時間維持することが
溶着乃至焼結に有用である。
Evaporation of the solvent is achieved during the heating process at temperatures below 500°C. Nucleation and crystallization from 550℃ to 850℃
occurs between. It is useful for welding or sintering to maintain temperatures above 650° C. for borosilicate glass and above 780° C. for quartz glass and glass ceramics for a relatively long period of time.

例えばZE)”tODURなどの透明なh−石英混晶含
有ガラスセラミックスの溶着に特有のプログラムが二通
り存在する。
There are two programs specific to the welding of transparent h-quartz-containing glass-ceramics, such as ZE)"tODUR.

プログラム ■: 2 K/Tia     10 K/1nia−一−→
600℃ −→ZT。
Program ■: 2 K/Tia 10 K/1nia-1-→
600℃ −→ZT.

(ZT−室温) プログラム ■: 4.8 K/h     10 K/h−−一一600
0G−−−−→zT ホウケイ酸ガラスの溶着には、プログラムIが適当であ
ると実証された。: 炉      24乙輪 ZT −4500℃      680℃ 1時間継続
2V−炉 m−→450℃−−・→ZT 850℃より低い温度で実現する、透明なガラスセラミ
ックスのための融合プロセスの場合、溶着を加圧下に実
施することが有利である。500、        g
/c++!以上の圧力が溶着の唾械的強度を著しく高め
ろことが判明した。加圧は、外的な荷重によっても、ま
た中空体の場合には真空の適用によっても達成され得る
(ZT-room temperature) Program ■: 4.8 K/h 10 K/h--11 600
0G---→zT Program I has been demonstrated to be suitable for welding borosilicate glasses. : Furnace 24 Otowa ZT -4500°C 680°C 1 hour duration 2V-Furnace m-→450°C--→ZT For fusion processes for transparent glass-ceramics realized at temperatures lower than 850°C, welding is It is advantageous to carry out under pressure. 500, g
/c++! It has been found that the above pressure significantly increases the mechanical strength of the weld. Pressurization can be achieved both by external loads and, in the case of hollow bodies, by the application of a vacuum.

溶着プロセスは、900℃を越える温度ではh−石英混
晶がリチア輝石に転化するので、900℃より低い温度
で実施されなければならない。
The welding process must be carried out at temperatures below 900°C, since at temperatures above 900°C the h-quartz mixed crystals convert to spodumene.

ホウケイ酸ガラスの機械的に強固な結合にも、加圧下の
溶着が適当であると実証された。
Welding under pressure has also been demonstrated to be suitable for mechanically strong bonding of borosilicate glasses.

各場合のガラスはんだの結合力の評価は、曲げ応力によ
って破壊に至るまで荷重を与えられるL字形の融合試料
によって実施される。その結果、適当なガラスはんだに
関して得られる強度の値は10〜24 N /mrs、
2である。
Evaluation of the bonding strength of the glass solder in each case is carried out with L-shaped fused specimens loaded to failure by bending stress. As a result, the strength values obtained for suitable glass solders are 10-24 N/mrs,
It is 2.

ガラスはんだ層並びに融合相手に生じ得る応力は、拡散
応力(diffusion 5tress  )及び7
才たは゛融合応力(fuaion stresg  )
から成る。
The stresses that can occur in the glass solder layer and the fusion partner are diffusion stress and 7
``Fusion stress''
Consists of.

拡散応力は、ガラスはんだと融合相手との間におけるイ
オン交換によって現出する。拡散応力の大きさ並びに応
力層の厚みは、知られているように、両結合相手の様々
な化学ポテンシャルと、温度と、拡散時間とに従属する
。拡散時間が長過ぎなければ(単位は時間)、iooμ
m以上のガラスはんだ層の場合、拡散応力プロフィール
はガラスはんだの層厚に無関係である。
Diffusion stress is developed by ion exchange between the glass solder and the fusion partner. The magnitude of the diffusion stress as well as the thickness of the stress layer depends, as is known, on the various chemical potentials of the two binding partners, the temperature and the diffusion time. If the diffusion time is not too long (unit: time), iooμ
For glass solder layers larger than m, the diffusion stress profile is independent of the glass solder layer thickness.

融合応力の大きさは、融合相手の融合領域の熱膨張率と
、緩慢な冷却の際にガラスはんだのTg湿温度ほぼ同一
視され得る6転移温度”とによって測定される。
The magnitude of the fusion stress is measured by the coefficient of thermal expansion of the fusion region of the fusion partner and the 6 transition temperature, which can be approximately equated to the Tg wet temperature of the glass solder upon slow cooling.

一拡散応力は通常、(例えばプログラムIによる)数時
間の短い焼戻し後の拡散層が数μm(5〜10μm)の
厚みしか有しないため容易に測定され得る。この薄い拡
散層に生じる応力は、大抵融合応力よりも大きい。従っ
て拡散層の応力は拡散応力と見做され得る。
The diffusion stress can be easily measured since the diffusion layer usually has a thickness of only a few μm (5-10 μm) after a short tempering of a few hours (for example according to Program I). The stress that develops in this thin diffusion layer is often greater than the fusion stress. Therefore, the stress in the diffusion layer can be regarded as diffusion stress.

表1のガラスはんだ1はプログラムIによる焼戻しの際
ZERODURの表層に層厚30μmにおいて2’50
0 nm / am乃至83N/ynm2の圧縮残留応
力を発生する。こ、のような融合応力に対抗する拡散圧
縮応力は、融合の機械的強度を高めるので融合相手の表
層に発生することが望ましい。
Glass solder 1 in Table 1 was applied to the surface layer of ZERODUR during tempering according to program I with a layer thickness of 30 μm.
A compressive residual stress of 0 nm/am to 83 N/ynm2 is generated. It is desirable that the diffused compressive stress, which opposes the fusion stress, be generated on the surface layer of the fusion partner because it increases the mechanical strength of the fusion.

融合応力は、拡散応力の存在下に間接的にしか測定され
得ない。この定量のために、融合相手(例えばZERO
DUR)の、1闘の厚みを有する2個の試料がその両側
にガラスはんだ層を具備し得る。2個の試料の一方は厚
み10071mのガラスはんだ層を、他方は厚み200
μmのガラスはんだ層を各々その両側に具備し、プログ
ラムIに従って焼戻される。拡散応力について考慮する
ことによって、融合応力として、100μm試料の場合
は40 nm/ am1200μm試料の場合は80・
nm/amの圧縮応力が1朋の幅全体にわたって寛出さ
れる。ガラスはんだの厚みと融合相手(ZERODUR
)の厚みが等しければ、前記の事実から融合応力は20
0nm/am乃至6.7N/、、2となる。
Fusion stress can only be measured indirectly in the presence of diffusion stress. For this quantification, a fusion partner (e.g. ZERO
DUR), two specimens with a thickness of one inch may be provided with glass solder layers on both sides thereof. One of the two samples had a glass solder layer with a thickness of 10071 m, and the other had a thickness of 200 m.
Each is provided with a .mu.m glass solder layer on both sides and tempered according to program I. By considering the diffusion stress, the fused stress is 40 nm/am for a 100 μm sample and 80 nm/am for a 1200 μm sample.
A compressive stress of nm/am is relieved over the entire width of 1 mm. Glass solder thickness and fusion partner (ZERODUR
) are equal, the fusion stress is 20 from the above fact.
0 nm/am to 6.7 N/, 2.

溶着時に生じる応力の温度従属性は、例えば望遠鏡用ミ
ラーなどの光学的適用では非常に重要である。
The temperature dependence of the stresses generated during welding is of great importance in optical applications, such as for example telescope mirrors.

融合相手(ZF、RODUR)内部の応力の温度従属性
を、ガラスはんだ1〜4.6及び8について潟1図に示
す。第2a図は、これを調べるための測定試料を示す。
The temperature dependence of the stress inside the fusion partner (ZF, RODUR) is shown in Figure 1 for glass solders 1-4.6 and 8. FIG. 2a shows a measurement sample for investigating this.

lxlOxlOmm大のZERODUR小片1はその両
側において、厚み60〜80μmのガラスはんだ層3を
介して0.5X10χ10闘犬の2個のZERODUR
小片と溶着されており、符号4は測定方向を示している
ZERODUR small piece 1 of lxlOxlOmm size is connected with two ZERODUR pieces of 0.5x10x10 fighting dog on both sides through a glass solder layer 3 with a thickness of 60-80μm.
It is welded to a small piece, and reference numeral 4 indicates the measurement direction.

ガラスはんだの評価及び選択において重要なのは、次の
諸点である。: 1、融合の間における十分確実な結晶化。ガラスはんだ
はガラス状態に製造され得る。
The following points are important in evaluating and selecting glass solder. : 1. Fully reliable crystallization during fusion. Glass solder can be manufactured in a glass state.

2、ガラスセラミックス用及び石英ガラス用のガラスは
んだについては2.7に7m、ホウケイ酸ガラス用のガ
ラスはんだについては6に/minの加熱速度で行なわ
れる20μmより細かい粉末の示差熱分析(DTA)に
よって測定される、ガラスはんだの失透特性。ピーク最
高値、ピークの高さ及びピークの面積から、結晶化特性
についての定性的な情報が得られる。
2. Differential thermal analysis (DTA) of powders finer than 20 μm carried out at a heating rate of 2.7 m/min for glass solders for glass ceramics and quartz glass, and 6 m/min for glass solders for borosilicate glass. The devitrification properties of glass solder as measured by. The peak maximum value, peak height and peak area provide qualitative information about the crystallization properties.

3、  融合プロセス後の、結晶化したガラスはんだの
熱膨張率。これを調べるために、蒸留水で湿らせた20
μmより細かいガラス粉末を125×12×10mmの
棒に圧縮成形し、上記のプログラムIによって焼結させ
る。これによって、50・〜500℃の領域内で熱膨張
率が測定され、才だ試料の結晶相含量もX線を用いて測
定される。
3. Thermal expansion coefficient of crystallized glass solder after the fusion process. To test this, we moistened 20
Glass powder finer than .mu.m is compression molded into 125.times.12.times.10 mm bars and sintered according to Program I above. Thereby, the coefficient of thermal expansion is measured in the range from 50.degree. to 500.degree. C., and the crystal phase content of the sample is also measured using X-rays.

4、溶着の強度測定のためには、L字形試料を製造する
。垂直方向のアームを固定し、水平方向のアームに荷重
を与える。垂直アームと水平アームとを結合するガラス
はんだはION/**2よりも大きい、好ましくは15
N/mm2よりも大きい溶着強度を有するべきである。
4. To measure the strength of welding, manufacture L-shaped samples. Fix the vertical arm and apply a load to the horizontal arm. The glass solder joining the vertical and horizontal arms is larger than ION/**2, preferably 15
It should have a weld strength greater than N/mm2.

破壊は大抵の場合、ガラスはんだ層にではなく融合相手
に起こる。
Breakage most often occurs in the fusion partner rather than in the glass solder layer.

透明なガラスセラミックス用のガラスはんだの組成範囲
において、融合プロセスの間に主要結晶層として常にh
−石英混晶相が晶出するということは決定的な意味を有
し、該混晶相については負方向への著しい熱膨張を有す
ることが知られている。pboを比較的豊富に含むホウ
ケイ酸ガラス用ガラスはんだに関しては、付加的な未知
のpb −ケイ酸塩相が出現する。その際同時−こ生じ
る種々のガラス相の正の熱膨張により、この部分的に結
晶化するガラスはんだの熱膨張は負方向においても正方
向においても変更され得る。
In the composition range of glass solders for transparent glass ceramics, h is always used as the main crystalline layer during the fusion process.
- The crystallization of a quartz mixed crystal phase has a decisive meaning, and it is known that the mixed crystal phase has a significant thermal expansion in the negative direction. For glass solders for borosilicate glasses that are relatively rich in pbo, an additional unknown pb-silicate phase appears. Due to the simultaneous positive thermal expansion of the various glass phases, the thermal expansion of this partially crystallized glass solder can be varied both in the negative and in the positive direction.

最後に、h−石英混晶相を有する透明なガラスセラミッ
クス(ZERODUR)溶着用のガラスはんだとして適
当であるには、DTAのピーク最高値として測定される
壷高結晶化温度が低温で、700℃よりも低いことが必
須の前提条件である。
Finally, to be suitable as a glass solder for welding transparent glass ceramics with an h-quartz mixed crystal phase (ZERODUR), the pot high crystallization temperature, measured as the peak maximum value of DTA, must be as low as 700°C. is an essential prerequisite.

即ち、900℃を起える融合温度ではh−石英混晶相が
h+IJチア輝石に転化し、それによって融合相手は不
透明となり、またその熱膨張率は増大することになろう
That is, at a fusion temperature that occurs at 900° C., the h-quartz mixed crystal phase will convert to h+IJ chiapyroxene, thereby rendering the fusion partner opaque and increasing its coefficient of thermal expansion.

このことから、上記のガラスはんだが、同時に20〜5
00℃の温度領域内で約+6〜十40・10 ・K の
熱膨張率を有する石英ガラス及び不透明なh−リチア輝
石含有ガラスセラミックスのような物質の結合にも適す
ることが明らかである。
From this, it can be seen that the above glass solder has 20 to 5
It is clear that it is also suitable for bonding materials such as quartz glass and opaque h-spodumene-containing glass-ceramics which have a coefficient of thermal expansion of about +6 to 140.10 K in the temperature range of 00 DEG C.

後段に示す表1に、9個の組成例を掲げ、また表2には
表1に示されたガラスはんだの重要な諸特性値を示し、
これらの値は、ガラスセラミック用及び石英ガラス用の
ガラスはんだの適当な組成範囲を次のように特徴付ける
: 5102       35.77−43.71   
重量%Al2O,30,34−36,50重量%Ls2
o       8.89−10.QO重量%B2O5
8,00−10,00重量% pbo          o   −i5.oo  
 重t%Na2O0−1,00重t% に20        0  −0.65  重4′I
C%F           O−0,10重量%Mg
0         0  −2.00  重量%Tl
O20−4,00重量% B2O3+ PbO+ Na20 +    8 、5
0−25 、00  重量%に20 + F + T1
02 −7 表3には、20〜300℃の領域内で33・100に−
1のα値を有するホウケイ酸ガラス用の、部分的に結晶
化するガラスはんだの組成例10〜17を示す。表4に
は、前記ガラスはんだの重要な緒特性値を示す。これら
のガラスはんだについて、好ましい組成範囲は次のとお
りである。:8102     23.85−28.7
0  重−隆%Al2O520,25−24,30重量
%Li2.0     5.90− 7.00  重量
%B2O510−00−20,00重量%PbO12,
50−36,00重量% に20      0  − 1.50  重t%Ti
O24,0重t% MgOO−3,50重量% Coo      O−2,00重量%B2O3+ P
bO+      40.00−50.00  it%
に20+ T i 02 第3図及び第4図は、ガラスはんだ12.14とホウケ
イ酸ガラスDURAN50とから成る五層状溶着試料に
関して、0〜600℃の加熱−融合プロセス及びそれに
続く室温への冷却の間に中央のD50型ガラスの試料ζ
こおいて得られる融合応力をnm / e m で示す
Table 1 shown below lists nine composition examples, and Table 2 shows important characteristic values of the glass solder shown in Table 1.
These values characterize the suitable composition range of glass solders for glass ceramics and quartz glass as follows: 5102 35.77-43.71
wt% Al2O, 30, 34-36, 50 wt% Ls2
o 8.89-10. QO weight% B2O5
8,00-10,00% by weight pbo o -i5. oo
weight t% Na2O0-1,00 weight t% to 20 0 -0.65 weight 4'I
C%FO-0,10wt%Mg
0 0 -2.00 wt% Tl
O20-4,00% by weight B2O3+ PbO+ Na20 + 8,5
0-25,00 wt% to 20+F+T1
02 -7 Table 3 shows that -33.100 within the range of 20-300℃
1 shows composition examples 10 to 17 of partially crystallized glass solders for borosilicate glasses having an alpha value of 1. Table 4 shows important characteristic values of the glass solder. Preferred composition ranges for these glass solders are as follows. :8102 23.85-28.7
0 Weight% Al2O520,25-24,30wt%Li2.0 5.90-7.00wt%B2O510-00-20,00wt%PbO12,
50-36,00 wt% to 200-1.50 wt%Ti
O24,0 wt% MgOO-3,50 wt% Coo O-2,00 wt% B2O3+ P
bO+ 40.00-50.00 it%
20+ T i 02 Figures 3 and 4 show the heat-fusion process from 0 to 600°C followed by cooling to room temperature for a five-layer welded sample consisting of glass solder 12.14 and borosilicate glass DURAN50. D50 type glass sample ζ in the center between
The fused stress obtained here is expressed in nm/em.

前記融合試料の構造を、第2b図に示す。1χ10 X
 10mm0)3個(7)DURAN小片5はI X 
10χ10關の2個のガラスはんだ層6を介して融合さ
れている。第2b図では矢印4が、測定方向を示す。
The structure of the fused sample is shown in Figure 2b. 1χ10
10mm0) 3 pieces (7) DURAN small piece 5 is I
They are fused together via two glass solder layers 6 of 10x10. In FIG. 2b, arrow 4 indicates the measurement direction.

これらの図によれば、2個のガラスはんだはDURAN
50型のホウケイ酸ガラスの溶着に、最高溶着温度68
0℃で最も適する。
According to these figures, the two glass solders are DURAN
Maximum welding temperature 68 for welding type 50 borosilicate glass
Most suitable at 0°C.

本発明は更に転写フィルムに係わり、この、転写フィル
ムは該フィルム自体から他の物体上へと転移されるべき
媒体として上に説明したガラスはんだ層を有する。
The invention further relates to a transfer film having a glass solder layer as described above as a medium to be transferred from itself onto another object.

転写フィルムは、多くの分野で使用されている。Transfer films are used in many fields.

例えば゛、鉢、皿、及び他の食器類の装飾用の転写フィ
ルムが知られている。この転写フィルムはコーティング
された紙から成る台紙によって構成され、この台紙上に
は水i性の接着剤によって彩色された装飾図案が張付け
られている。食器類を装飾するには、フィルムを軟化さ
せ、デカルコマニアをはがし【食器へ張付け、焼付ける
For example, transfer films for decoration of pots, plates, and other tableware are known. This transfer film consists of a mount made of coated paper, on which a colored decorative pattern is pasted with a water-based adhesive. To decorate tableware, soften the film, peel off the decal, apply it to the tableware, and bake.

上記態様における本発明は、ガラスはんだ、結晶化する
ガラスはんだ、部分的に結晶化したガラスはんだ、ある
いはこれらの物質の混合物から成る層を、このガラスは
んだによって互いに溶着されるような物体上へ容易に転
移するのに有用である。即ちガラスはんだ層は、従来の
転写フィルムの“デカルコマニア”を構成する。
The invention in the above aspects provides for the ease of applying a layer of glass solder, crystallized glass solder, partially crystallized glass solder, or a mixture of these materials onto objects to be welded together by the glass solder. It is useful for metastasizing. That is, the glass solder layer constitutes the "decal mania" of the conventional transfer film.

ガラスはんだは、好ましくはスクリーン印刷法、オフセ
ット印刷法または組合されたスクリーン印刷/オフセッ
ト印刷法によって、通常コーティングされた紙から成る
台紙上に張付けられる。ガラスはんだ層の厚みは任意で
あり、好ましくは10〜250μmである。
The glass solder is preferably applied by screen printing, offset printing or a combined screen/offset printing process onto a backing, usually consisting of coated paper. The thickness of the glass solder layer is arbitrary, and preferably 10 to 250 μm.

好ましいガラスはんだは部分的に結晶化するガラスはん
だであり、このガラスはんだの結晶相は主としてh−石
英混晶75)ら成り、このガラスはんだは、酸化物−t
C景%で表わされた次の成分:S i 02     
 2.3.0−44.0  重量%Al2O3、20,
0−37,0重量%Li2O5,5−11,0重量% B2O33,0−20,0重量% PbOO−36,Ot 番1% Na2O0−1,0重量% に20         0  − 1.5  重量%
F         O−0,1重量%TiO20−4
,0重t% MgOO−3,5重gC% Coo       O−2゜0 重量%B2O3+P
bO+Na2O+  8.5−:5(1,0型針%に2
0 + F + ’rto2 を含有する。
A preferred glass solder is a partially crystallized glass solder, in which the crystalline phase of this glass solder consists primarily of h-quartz mixed crystals75), and this glass solder has an oxide-t
Next component expressed in C view%: S i 02
2.3.0-44.0 wt% Al2O3, 20,
0-37,0% by weight Li2O5, 5-11,0% by weight B2O3 3,0-20,0% by weight PbOO-36, Ot No. 1% Na2O0-1,0% by weight 20 0-1.5% by weight
F O-0,1 wt% TiO20-4
,0wt% MgOO-3,5wtgC% Coo O-2゜0wt%B2O3+P
bO+Na2O+ 8.5-:5 (2% for 1.0 type needle
Contains 0 + F + 'rto2.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は融合相手(ZERODUR)内部の応力の温度
従属性をガラスはんだ1〜4.6及び8について示すグ
ラフ、第2a図及び@2b図は2種類の測定用溶着試料
の構造を各々示す説明図、第3図及び第4図はガラスは
んだ12及び14とホウケイ酸ガラスとから成る5屑状
溶着試料において測定される融合応力を示すグラフであ
る。 1.2・−・−・・ZERODUR小片、3.6・・・
・・・ガラスはんだ層、 4・・・・・・測定方向、 5・・・・・・DURAN小片。 Figure 2Q Figure 2b 手続?i13 J、E円 昭和59匹3n/3日 特諮庁長官 若杉 和犬 殿 1、事f1の表示   昭和59年特許願第13229
月2、発明の名称   低熱膨黒率の結晶化するガラス
はんだ3、2ili正を゛りる者 事件との関係  特許出願人 名 称    シdット・グラスリ1ルク4、代 即 
人   東京都新宿区新宿1丁目1番14号 山田ビル
(郵便番号160)電話(+13 )  351! −
(1G236、補正により増加する発明の数 7、補正の対象   図面 8、補iIメ内容   正式図面を別紙の通り補充りる
。 (内容に変更なし)
Figure 1 is a graph showing the temperature dependence of the stress inside the fusion partner (ZERODUR) for glass solders 1-4.6 and 8. Figures 2a and 2b show the structures of two types of welded samples for measurement, respectively. The illustrations, FIGS. 3 and 4, are graphs showing the fusion stress measured in five-piece welded samples consisting of glass solders 12 and 14 and borosilicate glass. 1.2・-・-・ZERODUR small piece, 3.6・・・・・ZERODUR small piece
... Glass solder layer, 4 ... Measurement direction, 5 ... DURAN small piece. Figure 2Q Figure 2b Procedure? i13 J, Een Showa 59 Dogs 3n/3 Director General of the Special Advisory Agency Waken Wakasugi Tono 1, Indication of matter f1 1988 Patent Application No. 13229
July 2, Title of the invention: Crystallized glass solder with a low thermal expansion black rate 3, Relationship with the case of a person who exceeds the positive value Patent applicant name: Siddt Glass Reel 4, representative
Person Yamada Building, 1-1-14 Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo (zip code 160) Telephone (+13) 351! −
(1G236, Number of inventions increased by amendment 7, Subject of amendment Drawing 8, Supplement II contents Official drawings are added as shown in the attached sheet. (No change in contents)

Claims (1)

【特許請求の範囲】 (1)部分的に結晶化するガラスはんだであって、90
0℃より低い温度、好ましくは850℃より低い温度で
100μmより細かいガラス粉末から焼結された後に2
0〜500℃の領1       域内で−23,5〜
+34.3・10−70に−1の熱膨張率を有し、この
ガラスはんだの(IJtI熱速度2.7 K / tr
im乃至6に/−での)DTA−ピーク最高温度は71
0℃より低く、またその結晶相は主としてh−石英混晶
相から成り、更に該ガラスはんだは酸化物−重tSで表
わされた次の成分: (以1・宗白) 8f0223.0−44.0   重iチA1203 
    20.0−37.0   重量%Lj20  
     5.5−11.0   重量%B203  
    3.0−20.0   重量%Pb0    
    0 −36.0   重量−Na20    
  0 − 1.0   重量−に20       
0 − 1.5   重量%F          O
−0,1重量%TiQ20 − 4.0   重量% Mg0      0 − 3.り   重敞チcoo
        O−2,0重量%B2O5+ PbO
+Na2O+   8.5−50.0   重量%に2
0+F+TiO2 を含有することを特徴とするガラスはんだ。 (2)特に5io2−AQ2o5−Li20系の石英ガ
ラス並びに透明及び不透明のガラスセラミックスの溶着
に適し、焼結された結晶状態において、20〜500℃
の領域内で −23.5〜+26・10−7・に−1の
熱膨張率を有し、(加熱速度2.7に7mでの)DTA
−ピーク最高温度は700℃より低く、結晶相は筆とし
てh−石英混晶相から成り、更に酸化物−重t%で表わ
された次の成分=sio235.0−44.0  重量
%A12o3       30.0−37.0  重
−klLi20        8.5−11.0  
重量%B2e53.0−10.0  重量% PbOO−15,0重量% Np、2o         O−1,0重量%に20
        0 −0.65  重量%F    
      O−0,1重量%TiO20−4,Oを量
チ MgOO−2,0i4i% B2Q3+ pbo + Na 2Q+  8.5−2
5.0  重量イ5に20 + F + TiO2 を含有することを特徴とする特許請求の範囲第1項に記
載のガラスはんだ。 (3)焼結された結晶状態において、20〜500℃の
領域内で−5,3や10−7・に−1から−〇、7・1
0−7  @に−1を経て+13.3 @10−7 ・
に−1に至る熱膨張率を有し、DTA−ピーク最高温度
は687℃であり、結晶相は主としてh−石英混晶相か
ら成り、例えば透明なガラスセラミックス”ZEROD
UR”における融合応力は180〜210 nrrVc
rrLの圧縮応力であり、曲げ引張り強度は15N/i
+m’よりも大きく、弾性率は10,000〜20,0
0ON/mm、”であり、更に酸化物−重tチで表わさ
れた次の成分: (以1・°余白) sio243.71   東量チ Al2O335゜43   重量% Li2O10,17重量− 82058,95重量% Pb0    1.60   重量− Na20    0.04   重量%Fo、io  
 重所チ Tio2   4.00    重量−合計   10
4.00   重量% を含有することを特徴とする特許請求の範囲第1項また
は第2項に記載のガラスはんだ。 (1)特にDURAN  50型のホウケイ酸ガラスの
溶着に適し、最高680℃での焼結された結晶状態にお
いて、20〜400℃の領域内で11.9〜34.3・
10−7 ・に−1の熱膨張率を有し、(加熱速度6 
K 71mでの) DTA−ピーク最高温度は710℃
より低く、結晶相は主としてh−石英混晶相と幾分より
少ない喰の第二の結晶相から成り(2個のDTA−一−
り)、更に酸化物−重量%で表わされた次の成分: 5i02     23.00−29.00  重tチ
Al2O,20,00−25,00重fF%Li2O5
,90−7,00重量% 8203     10.00−20.00  重量%
PbO12,50−36,00重量膚 に20      0  − 1.50  重所チT+
02      4.00        重量%Mg
OO−3,50重量膚 Coo      O−2,00重量%B2O5+Pb
O+に20+  40.00−50.00  重量%’
rto2 を含有することを特徴とする特許請求の範囲第1項に記
載のガラスはんだ。 (5)特にガラスDURAN50の溶着に適し、焼結さ
れた結晶状態において、20〜400℃の領域内で18
.9〜29.4・ 10−7° ・に−1と変化する熱
膨張率を有し、5層状ガラスはんだ試料の融合応力は第
3図の曲線に対応し、このような溶着の曲げ引張り強さ
は15N/vprt”よりも大きく、更に酸化物−重量
%で表わされた次の成分: 5i()2   28.70   重量係Al2O32
4,30重膏チ Li2O7,00吃舞チ B2O520,00重量% pbo    14.00   重量・チTio24.
00   重量% NgO2,00重量% 合計  100.00   数量チ J          を含有することを特徴とする特
許請求の範囲第1項または第4項に記載のガラスはんだ
。 (6)溶着を溶着部1c++!当たり500g以上の圧
力下に実施することを特徴とする特許請求の範囲第1項
乃至第5項のいずれかに記載のガラスはんだの使用。 (力 中空体の溶着の際、真空を利用して圧力を発生す
ることを特徴とする特許請求の範囲第6項に記載の使用
。 (8)溶着な900℃より低い温度、好ましくは850
℃より低い温度で実施することを特徴とする特許請求の
範囲第1項、第2項、第3項、第6項乃至第7項のいず
れかに記載のガラスはんだの使用。 /9)  好ましくはコーティングされた紙から成る台
紙と、好ましくは水溶性の接着剤を用いて張付けられた
、他の物体へき転移されるべき材料層とによって構成さ
れる転写フィルムであって、前記の転移されるべき材料
はガラスはんだ、結晶化するガラスはんだ−、部分的に
結晶化したガラスはんだまたはこれらの物質の混合物で
あることを特徴とする転写フィルム。 (11上記のガラスはんだ、結晶化するガラスはんだ、
部分的に結晶化したガラスはんだまたはこれらの物質の
混合物がスクリーン印刷法、オフセット印刷法またはス
クリーン印刷/オフセット印刷組合せ法によって、所定
の厚みでフィルム上に張付けられていることを特徴とす
る特許請求の範囲第9項に記載のフィルムリ (1υ 上記の転移されるべき材料が部分的に結晶化す
るガラスはんだであり、この〕!ラスはんだの結晶相は
主としてh−石英混晶から成り、更に核ガラスはんだは
酸化物−重−t%で表わされた次の成分: 5io223.0−44.0  重量%Al2O320
,0,−37,0重曖チ1j20      5.5−
11.0  重量−n2o5     3.0−20.
0  重量%PbOO−36,0重量% Na2O0−1,0重量− に20      0  − 1.5  重量%F  
       O−0,1重tチTto2o   −4
,0重量% Mg0      0  − 3.5  重量%Coo
       O−2,0重惜膚B2O5+PbO+N
a2O+   8.5−50.0  重量−に2 Q+
F+T 102 を含有することを特徴とする特許請求の範囲第9項また
はsio項に記載のフィルム。
[Claims] (1) A glass solder that partially crystallizes,
2 after being sintered from glass powder finer than 100 μm at a temperature below 0°C, preferably below 850°C.
-23,5~ within the range 1 of 0~500℃
This glass solder has a thermal expansion coefficient of -1 to +34.3 10-70 (IJtI thermal rate 2.7 K/tr
im to 6/-) DTA-peak maximum temperature is 71
The temperature is lower than 0°C, and its crystal phase mainly consists of an h-quartz mixed crystal phase, and furthermore, the glass solder has the following components expressed as oxide-weight tS: (hereinafter referred to as 1 Sohaku) 8f0223.0- 44.0 Heavy A1203
20.0-37.0 Weight% Lj20
5.5-11.0 wt%B203
3.0-20.0 wt%Pb0
0 -36.0 Weight - Na20
0 - 1.0 Weight - 20
0 - 1.5 wt% FO
-0.1% by weight TiQ20 - 4.0% by weight Mg0 0 - 3. Chongchang Ji coo
O-2,0% by weight B2O5+ PbO
+Na2O+ 8.5-50.0 2 to weight%
A glass solder characterized by containing 0+F+TiO2. (2) Particularly suitable for welding 5io2-AQ2o5-Li20 series quartz glass and transparent and opaque glass ceramics, in the sintered crystalline state at 20-500℃
DTA (at heating rate 2.7 to 7 m) with a coefficient of thermal expansion of -1 to -23.5 to +26.10-7.
- the peak maximum temperature is lower than 700 °C, the crystalline phase consists of h-quartz mixed crystal phase as a brush, and the following components expressed in t% by weight of oxides = sio235.0-44.0 wt% A12o3 30.0-37.0 Heavy-klLi20 8.5-11.0
wt% B2e53.0-10.0 wt% PbOO-15,0 wt% Np, 2o O-1,0 wt% 20
0 -0.65 wt%F
O-0,1 wt% TiO20-4, O amount MgOO-2,0i4i% B2Q3+ pbo + Na 2Q+ 8.5-2
5.0 The glass solder according to claim 1, characterized in that it contains 20 + F + TiO2 in weight (a). (3) In the sintered crystalline state, from -1 to -〇, 7.1 to -5,3 and 10-7 in the range of 20 to 500℃.
0-7 @ +13.3 after -1 @10-7 ・
The DTA-peak maximum temperature is 687°C, and the crystal phase is mainly composed of h-quartz mixed crystal phase, such as the transparent glass ceramic "ZEROD".
The fusion stress at UR” is 180 to 210 nrrVc
The compressive stress is rrL, and the bending tensile strength is 15N/i
+m', the elastic modulus is 10,000 to 20,0
0ON/mm," and the following components expressed in oxide-weight: (hereinafter 1° margin) sio243.71 Toryochi Al2O335°43 wt% Li2O10,17 wt-82058,95 Weight% Pb0 1.60 Weight - Na20 0.04 Weight% Fo, io
Weight-total Tio2 4.00 Weight - Total 10
The glass solder according to claim 1 or 2, characterized in that the glass solder contains 4.00% by weight. (1) Particularly suitable for welding borosilicate glasses of type DURAN 50, in the sintered crystalline state at up to 680°C, in the range of 20-400°C, 11.9-34.3.
It has a coefficient of thermal expansion of -1 to 10-7 ・(heating rate 6
K at 71m) DTA-peak maximum temperature is 710℃
lower, the crystalline phase consists mainly of an h-quartz mixed crystal phase and a somewhat less abundant secondary crystalline phase (two DTA-1-
5i02 23.00-29.00% Al2O, 20,00-25,00% Li2O5
,90-7,00% by weight 8203 10.00-20.00% by weight
PbO12,50-36,00 weight skin 20 0 - 1.50 weight skin T+
02 4.00 Weight% Mg
OO-3,50wt SkinCoo O-2,00wt%B2O5+Pb
20+ to O+ 40.00-50.00 wt%'
The glass solder according to claim 1, characterized in that it contains rto2. (5) Particularly suitable for welding glass DURAN50, in the sintered crystalline state, within the range of 20 to 400 °C
.. The fusion stress of the five-layer glass solder sample, which has a thermal expansion coefficient varying from -1 to 9 to 29.4° and 10-7°, corresponds to the curve in Figure 3, and the bending tensile strength of such a weld is 5i()2 28.70 Weight factor Al2O32
4,30 Weight Li2O7,00 B2O520,00% by weight pbo 14.00 Weight Chi Tio24.
The glass solder according to claim 1 or 4, characterized in that it contains 00% by weight NgO2, 00% by weight in total 100.00% by weight. (6) Weld the welded part 1c++! Use of the glass solder according to any one of claims 1 to 5, characterized in that the glass solder is carried out under a pressure of 500 g or more per piece. (Force) The use according to claim 6, characterized in that when welding a hollow body, pressure is generated using a vacuum. (8) The welding temperature is lower than 900°C, preferably 850°C.
Use of the glass solder according to any one of claims 1, 2, 3, 6 and 7, characterized in that the glass solder is carried out at a temperature lower than °C. /9) A transfer film constituted by a mount, preferably consisting of coated paper, and a layer of material to be transferred to another object, applied preferably with a water-soluble adhesive, comprising: Transfer film, characterized in that the material to be transferred is a glass solder, a crystallized glass solder, a partially crystallized glass solder or a mixture of these substances. (11 The above glass solder, crystallized glass solder,
Claims characterized in that a partially crystallized glass solder or a mixture of these substances is applied to a film in a predetermined thickness by a screen printing method, an offset printing method or a combined screen printing/offset printing method. The range of film solder described in item 9 (1υ) is a glass solder in which the material to be transferred is partially crystallized, and the crystalline phase of this! lath solder mainly consists of h-quartz mixed crystal, and The core glass solder has the following components expressed in oxide-wt%: 5io223.0-44.0 wt% Al2O320
,0,-37,0 double ambiguity 1j20 5.5-
11.0 Weight-n2o5 3.0-20.
0 wt% PbOO-36,0 wt% Na2O0-1,0 wt-20 0-1.5 wt% F
O-0, 1 layer tchi Tto2o -4
,0% by weight Mg0 0 - 3.5% by weightCoo
O-2,0 heavy B2O5+PbO+N
a2O+ 8.5-50.0 Weight-2 Q+
The film according to claim 9 or sio, characterized in that it contains F+T 102 .
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