JPS59174286A - 電子ビ−ム加工装置 - Google Patents
電子ビ−ム加工装置Info
- Publication number
- JPS59174286A JPS59174286A JP4867683A JP4867683A JPS59174286A JP S59174286 A JPS59174286 A JP S59174286A JP 4867683 A JP4867683 A JP 4867683A JP 4867683 A JP4867683 A JP 4867683A JP S59174286 A JPS59174286 A JP S59174286A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- chambers
- vacuum
- processing
- processing chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K15/00—Electron-beam welding or cutting
- B23K15/06—Electron-beam welding or cutting within a vacuum chamber
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Welding Or Cutting Using Electron Beams (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は複数個の加工チャンバを有する電子銃移動式電
子ビーム加工装置に関するものである。
子ビーム加工装置に関するものである。
加エテヤンバを複数個設置して、電子銃でビーム加工中
以外の加エテヤンバでは、被加工物の取付け、取外しが
できるようにした、いわゆる高能率に電子ビーム加工が
できるようにしたものは既に考案されているが、電子ビ
ーム加工は真空チャンバ内にて行なうので、上述のよう
、な装置においては、真空引きまで考慮した装置となる
と、例えば回転テーブル上例ビーム加工室を設けなけれ
ばならなくなシ、装置全体が複雑構成となシ、高価なも
のとなる欠点があった。
以外の加エテヤンバでは、被加工物の取付け、取外しが
できるようにした、いわゆる高能率に電子ビーム加工が
できるようにしたものは既に考案されているが、電子ビ
ーム加工は真空チャンバ内にて行なうので、上述のよう
、な装置においては、真空引きまで考慮した装置となる
と、例えば回転テーブル上例ビーム加工室を設けなけれ
ばならなくなシ、装置全体が複雑構成となシ、高価なも
のとなる欠点があった。
本発明は、前述の従来技術における欠点に鑑みなされ、
加工タクトの短縮を考慮した安価で簡素な装置を提供す
ることにある。
加工タクトの短縮を考慮した安価で簡素な装置を提供す
ることにある。
本発明は、複数個の加工チャンバ上をスライドし、電子
ビームを加工チャンバ内に進入させるオリフィスを穿設
したスライドプレートを設け、真空パルプの切換え操作
にょシ加工中のチャンバと他のチャンバを加工に必要な
真空度が得られるように構成したものであろう 以下、添付図に従って本発明の一実施例を詳述する。第
１図は電子ビーム加工装置の概略構成を示す平面図であ
ジ、第２図はその縦断側面図である。
ビームを加工チャンバ内に進入させるオリフィスを穿設
したスライドプレートを設け、真空パルプの切換え操作
にょシ加工中のチャンバと他のチャンバを加工に必要な
真空度が得られるように構成したものであろう 以下、添付図に従って本発明の一実施例を詳述する。第
１図は電子ビーム加工装置の概略構成を示す平面図であ
ジ、第２図はその縦断側面図である。
図中、１．１’は各々独立した加エテヤンノくであり、
加工チャンバ１，１′の各々には、被加工物Ａ。
加工チャンバ１，１′の各々には、被加工物Ａ。
Ｂを取付け、取外す際に開く扉２，２′が設けである。
また各チャンバ内には、被加工物Ａ、Ｂを載置、上方よ
りの電子ビームに対する被加工物Ａ、Ｂの位置を調節可
能なテーブル３Ａ、、３Ｂを有し、それを回転駆動す送
ためのテーブル回転駆動装置３゜３′が、そのチャンバ
１，１′の下部に設けである。
りの電子ビームに対する被加工物Ａ、Ｂの位置を調節可
能なテーブル３Ａ、、３Ｂを有し、それを回転駆動す送
ためのテーブル回転駆動装置３゜３′が、そのチャンバ
１，１′の下部に設けである。
４は電子銃で加工チャンバ１，１′の上部開口部１０゜
１０′を覆う如く取付けたスライドテーブル５の上面部
に設けである。電子銃４よりの電子ビームはスライドデ
ープル５に穿設したオリフィス１１よりチャンバ内に進
入される。各チャンバ１，１′とスライドテーブル５と
がスライド接触する、各加工チャンバ１．１′の上部開
口部１０．１０’の周縁には密封ゾール６．６′が設け
である。７，７′は各々のチャンバ１，１′と真空ポン
プ８を接続する真空配管途中に設けた真空バルブである
。また、９はチャンバと一体的に取付けられ、電子銃４
を載置したスライドテーブル５を矢印方向にスライド駆
動する駆動装置（シリンダー）である。
１０′を覆う如く取付けたスライドテーブル５の上面部
に設けである。電子銃４よりの電子ビームはスライドデ
ープル５に穿設したオリフィス１１よりチャンバ内に進
入される。各チャンバ１，１′とスライドテーブル５と
がスライド接触する、各加工チャンバ１．１′の上部開
口部１０．１０’の周縁には密封ゾール６．６′が設け
である。７，７′は各々のチャンバ１，１′と真空ポン
プ８を接続する真空配管途中に設けた真空バルブである
。また、９はチャンバと一体的に取付けられ、電子銃４
を載置したスライドテーブル５を矢印方向にスライド駆
動する駆動装置（シリンダー）である。
同図の如く構成された装置によると、まず、加工チャン
バ１内のテーブル３Ａ上に被加工物を載置し、扉２を閉
じた上で真空バルブ７を開き、真空ポンプ８を駆動する
ことにより真空引きを行なう。
バ１内のテーブル３Ａ上に被加工物を載置し、扉２を閉
じた上で真空バルブ７を開き、真空ポンプ８を駆動する
ことにより真空引きを行なう。
所定の真空圧とテーブル３Ａを回動し、電子銃よシ被加
工物に対する電子ビームの照射位置を確認した上で電子
ビームによる加工を開始する。
工物に対する電子ビームの照射位置を確認した上で電子
ビームによる加工を開始する。
一方、真空バルブ７′は閉じ状態とし、ｎ２′を開けて
、加工チャンバｌ′のテーブル上に被加工物を取付け、
扉２′を閉じたところで、前述と同様に真空バルブ７′
を開き、真空引きを行なう。
、加工チャンバｌ′のテーブル上に被加工物を取付け、
扉２′を閉じたところで、前述と同様に真空バルブ７′
を開き、真空引きを行なう。
このようにして、加工チャンバｌの加工が完了したら、
真空バルブ７を操作し、大気側に切換えてチャンバ１内
を大気とすると共に、スライド駆動装置−９を起動し、
電子銃４を加エテヤンバ１′の定位ｉｔでスライド移動
させる。そこで、加工チャンバ１′の真空圧と電子銃４
の定位置を確認して加工を開始する。
真空バルブ７を操作し、大気側に切換えてチャンバ１内
を大気とすると共に、スライド駆動装置−９を起動し、
電子銃４を加エテヤンバ１′の定位ｉｔでスライド移動
させる。そこで、加工チャンバ１′の真空圧と電子銃４
の定位置を確認して加工を開始する。
上記操作を交互に繰シ返えし行なえば、真空引きの時間
が短縮されて加工タクトも短いものとなる。このよう々
スライドプレート５が移動する構造であっても、加工チ
ャンバ１，１′はスライドプレート５と真空ゾール６．
６′によりシールされているので真空引きの途中でも電
子銃部の移動は可能である。なお、上述の実施例では加
工チャンバを２台設けた場合について述べたが、これに
限らず多数の加エテヤンバにも応用できるものである。
が短縮されて加工タクトも短いものとなる。このよう々
スライドプレート５が移動する構造であっても、加工チ
ャンバ１，１′はスライドプレート５と真空ゾール６．
６′によりシールされているので真空引きの途中でも電
子銃部の移動は可能である。なお、上述の実施例では加
工チャンバを２台設けた場合について述べたが、これに
限らず多数の加エテヤンバにも応用できるものである。
上述の実施例からも明らかなように本発明によれば、加
工タクトの低減が達成でき、しかもこの装置は構造が簡
単で、安価に製作することができる。また、ローダ、ア
ンローダ設備を取付け、ラインシステムに組込むことも
できる。
工タクトの低減が達成でき、しかもこの装置は構造が簡
単で、安価に製作することができる。また、ローダ、ア
ンローダ設備を取付け、ラインシステムに組込むことも
できる。
添付図は本発明の一実施例を説明するためのものであっ
て、第１図は電子ビーム加工装置の概略■、１′・−・
加エテヤンパ、２，２′・・・扉、３，３′・・・テー
ブル駆動装置、４・・・電子銃、５・・・スライドテー
ブル、６．６’・・・真空ソール、７．７’川Ｊ空パル
プ、８・・・真空ポンプ、９・・・スライド駆動装置。 代理人 弁理士 秋 本 正 実
て、第１図は電子ビーム加工装置の概略■、１′・−・
加エテヤンパ、２，２′・・・扉、３，３′・・・テー
ブル駆動装置、４・・・電子銃、５・・・スライドテー
ブル、６．６’・・・真空ソール、７．７’川Ｊ空パル
プ、８・・・真空ポンプ、９・・・スライド駆動装置。 代理人 弁理士 秋 本 正 実
Claims (1)
- 上部に電子ビームを進入させる開口部を有し、下部にワ
ークを載置し、電子ビームに対するワークの位置を調節
可能なテーブルを有する複数個の加工チャンバを並設し
、該複数個の加工チャンバの上部開口を覆い、電子銃を
載置し、該電子銃よシの電子ビームを加工チャンバ側に
導出するオリフィスを穿設したスライドテーブルを設け
、該スライドテーブルは、オリフィスの各加工チャンバ
の上部開口と一致する位置の間を、加工チャンバ上で摺
動可能であり、各加工チャンバの上部開口の周縁には密
封手段が設けてあり、各加工チャンバはそれぞれ真空バ
ルブを介して真空源に接続してあシ、該パルプの操作に
よシ加エチャンバ内が所要の真空度と大気圧とに切換可
能に構成しであることを特徴とする電子ビーム加工装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4867683A JPS59174286A (ja) | 1983-03-25 | 1983-03-25 | 電子ビ−ム加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4867683A JPS59174286A (ja) | 1983-03-25 | 1983-03-25 | 電子ビ−ム加工装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59174286A true JPS59174286A (ja) | 1984-10-02 |
Family
ID=12809918
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4867683A Pending JPS59174286A (ja) | 1983-03-25 | 1983-03-25 | 電子ビ−ム加工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59174286A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19603037C1 (de) * | 1996-01-29 | 1997-02-27 | Saechsische Elektronenstrahl G | Elektronenstrahl-Mehrkammeranlage |
| WO2010094801A1 (en) * | 2009-02-22 | 2010-08-26 | Mapper Lithography Ip B.V. | A method and arrangement for realizing a vacuum in a vacuum chamber |
| US9460954B2 (en) | 2009-02-22 | 2016-10-04 | Mapper Lithography Ip B.V. | Method of clamping a substrate and clamp preparation unit using capillary clamping force |
-
1983
- 1983-03-25 JP JP4867683A patent/JPS59174286A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19603037C1 (de) * | 1996-01-29 | 1997-02-27 | Saechsische Elektronenstrahl G | Elektronenstrahl-Mehrkammeranlage |
| WO2010094801A1 (en) * | 2009-02-22 | 2010-08-26 | Mapper Lithography Ip B.V. | A method and arrangement for realizing a vacuum in a vacuum chamber |
| CN102414775A (zh) * | 2009-02-22 | 2012-04-11 | 迈普尔平版印刷Ip有限公司 | 用于在真空腔中实现真空的方法和配置 |
| US8366423B2 (en) | 2009-02-22 | 2013-02-05 | Mapper Lithography Ip B.V. | Method and arrangement for realizing a vacuum in a vacuum chamber |
| US8857465B2 (en) | 2009-02-22 | 2014-10-14 | Mapper Lithography Ip B.V. | Method and system for realizing a vacuum in a vacuum chamber |
| US9460954B2 (en) | 2009-02-22 | 2016-10-04 | Mapper Lithography Ip B.V. | Method of clamping a substrate and clamp preparation unit using capillary clamping force |
| US10078274B2 (en) | 2009-02-22 | 2018-09-18 | Mapper Lithography Ip B.V. | Method and arrangement for handling and processing substrates |
| USRE49725E1 (en) | 2009-02-22 | 2023-11-14 | Asml Netherlands B.V. | Method and arrangement for handling and processing substrates |
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