JPS59171026A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS59171026A JPS59171026A JP58044133A JP4413383A JPS59171026A JP S59171026 A JPS59171026 A JP S59171026A JP 58044133 A JP58044133 A JP 58044133A JP 4413383 A JP4413383 A JP 4413383A JP S59171026 A JPS59171026 A JP S59171026A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- protective film
- film
- magnetic recording
- sputtering
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
- G11B5/725—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction containing a lubricant, e.g. organic compounds
Landscapes
- Lubricants (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、磁気ディスク、磁気テープ、磁気カード、磁
気ドラム等の磁気記録媒体に係り、特に蒸着薄膜型磁気
記録媒体の保護膜に関するものである。
気ドラム等の磁気記録媒体に係り、特に蒸着薄膜型磁気
記録媒体の保護膜に関するものである。
従来、磁気記録層としては、γ−Ｆｅ２Ｏ３、Ｃｏをド
ーブしたγ−Ｆｅ２Ｏ３、Ｆｅ３Ｏ４、ＣｒＯ２あるい
は強磁性体合金等の微小粉末磁性材料を塩化ビニル−酢
酸ビニル共重合体、スチレンブタジエン共重合体、エポ
キシ樹脂等の有機バインダ中に分散させ、非磁性体基板
上に塗布、乾燥させる塗布型のものが広く使用されてい
る。近年高密度記録への要求の高まりと共にスパッタリ
ング、真空蒸着、プラズマＣＶＤ、イオンブレーティン
グ等の方法により形成される蒸着型磁性薄膜はバインダ
を使用しないいわゆる非バインダ型の磁気記録層として
実用化への努力が種々行なわれている。しかしながら、
これらは従来の塗布型のものに比較して走行中にヘッド
との接触により磁気記録層が剥離したり、傷ついたりす
る欠点を有している。
ーブしたγ−Ｆｅ２Ｏ３、Ｆｅ３Ｏ４、ＣｒＯ２あるい
は強磁性体合金等の微小粉末磁性材料を塩化ビニル−酢
酸ビニル共重合体、スチレンブタジエン共重合体、エポ
キシ樹脂等の有機バインダ中に分散させ、非磁性体基板
上に塗布、乾燥させる塗布型のものが広く使用されてい
る。近年高密度記録への要求の高まりと共にスパッタリ
ング、真空蒸着、プラズマＣＶＤ、イオンブレーティン
グ等の方法により形成される蒸着型磁性薄膜はバインダ
を使用しないいわゆる非バインダ型の磁気記録層として
実用化への努力が種々行なわれている。しかしながら、
これらは従来の塗布型のものに比較して走行中にヘッド
との接触により磁気記録層が剥離したり、傷ついたりす
る欠点を有している。
上記の欠点を改良するために、特開昭５２−１５３７０
７には、非バインダ型磁気記録層上に高分子材料を塗布
することにより被覆する方法が開示されている。また特
開昭５５−８８７０４には界面活性剤を塗布により設け
る方法が述べられている。これらの方法は湿式法である
ため、膜厚数百Å以下の超薄膜を作業性よく均一な膜厚
に形成することが困難である。また溶剤蒸気が多量に発
生し、公害の恐れがあり、さらに防爆等のため附帯設備
を必要とする。
７には、非バインダ型磁気記録層上に高分子材料を塗布
することにより被覆する方法が開示されている。また特
開昭５５−８８７０４には界面活性剤を塗布により設け
る方法が述べられている。これらの方法は湿式法である
ため、膜厚数百Å以下の超薄膜を作業性よく均一な膜厚
に形成することが困難である。また溶剤蒸気が多量に発
生し、公害の恐れがあり、さらに防爆等のため附帯設備
を必要とする。
上記の欠点を改良するために真空蒸着法、プラズマ重合
法で保護膜を形成する方法が提案されているが、いまだ
に十分な特性をもつものは得られていない。
法で保護膜を形成する方法が提案されているが、いまだ
に十分な特性をもつものは得られていない。
本発明の目的は、上記の欠点を改良した新規な磁気記録
媒体を提供することにある。
媒体を提供することにある。
即ち、本発明は、非磁性体基板上に磁気記録層として磁
性蒸着薄膜を設けてなる磁気記録媒体の、前記磁性蒸着
薄膜表面に不活性ガスと窒素ないし窒素系化合物ガスと
の混合ガス中でスパッタリングにより有機保護膜が設け
られた磁気記録媒体を提供するものである。
性蒸着薄膜を設けてなる磁気記録媒体の、前記磁性蒸着
薄膜表面に不活性ガスと窒素ないし窒素系化合物ガスと
の混合ガス中でスパッタリングにより有機保護膜が設け
られた磁気記録媒体を提供するものである。
以下、本発明で使用する材料、装置、作業条件などにつ
いて説明する。
いて説明する。
本発明におけるスパッタリングは、直流、低周波、高周
波（ＲＦ）、マイクロ波などのグロー放電によるスパッ
タ、イオンビームスパッタ等の公知の方法が可能であり
特に平行電極型ＲＦスパッタ、マグネトロン型ＲＦスパ
ッタ法が適している。ＲＦスパッタの場合放電電力は０
．０１〜５０Ｗ／ｃｍ２の範囲でスパッタでき、とくに
０．１〜２０Ｗ／ｃｍ２の範囲が望ましい。ガスの圧力
はグロー放電が生じる範囲ならいずれでもよいが１０−
４〜１Ｔｏｒｒの範囲が望ましい。
波（ＲＦ）、マイクロ波などのグロー放電によるスパッ
タ、イオンビームスパッタ等の公知の方法が可能であり
特に平行電極型ＲＦスパッタ、マグネトロン型ＲＦスパ
ッタ法が適している。ＲＦスパッタの場合放電電力は０
．０１〜５０Ｗ／ｃｍ２の範囲でスパッタでき、とくに
０．１〜２０Ｗ／ｃｍ２の範囲が望ましい。ガスの圧力
はグロー放電が生じる範囲ならいずれでもよいが１０−
４〜１Ｔｏｒｒの範囲が望ましい。
本発明で使用する不活性ガスとしてはＨｅ、Ｎｅ、Ａｒ
、Ｋｒ、Ｘｅ等のいずれか又は２種以上の混合でも良い
。窒素ないし窒素化合物としては、窒素、アンモニア、
ニトロメタン、ニトロエタン、１−ニトロプロパン、２
−ニトロプロパン、１−ニトロブタン等の脂肪族ニトロ
化合物、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、モノ
エタノールアミン、ジエタノールアミン、アクリロニト
リル等のシアン化合物、ヘキサメチレンジアミン、エチ
ルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、アセト
ニトリル、ピリジン及びその誘導体、アルデヒドコリジ
ン、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸
エステル、一酸化窒素、二酸化窒素等のいずれか又は２
種以上の混合でもよい。また、これらにＯ２、Ｈ２等の
第３のガスを加えたもの、空気等を用いてもよい。
、Ｋｒ、Ｘｅ等のいずれか又は２種以上の混合でも良い
。窒素ないし窒素化合物としては、窒素、アンモニア、
ニトロメタン、ニトロエタン、１−ニトロプロパン、２
−ニトロプロパン、１−ニトロブタン等の脂肪族ニトロ
化合物、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、モノ
エタノールアミン、ジエタノールアミン、アクリロニト
リル等のシアン化合物、ヘキサメチレンジアミン、エチ
ルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、アセト
ニトリル、ピリジン及びその誘導体、アルデヒドコリジ
ン、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸
エステル、一酸化窒素、二酸化窒素等のいずれか又は２
種以上の混合でもよい。また、これらにＯ２、Ｈ２等の
第３のガスを加えたもの、空気等を用いてもよい。
本発明における有機保護膜とは、有機保護膜の素材をス
パッタリングして生成する有機物であり、有機保護膜の
素材とはスパッタリング可能な有機高分子のことである
。
パッタリングして生成する有機物であり、有機保護膜の
素材とはスパッタリング可能な有機高分子のことである
。
上記のスパッタリング可能な有機高分子のうち好ましい
ものは、脂肪族ポリアミド、芳香族ポリアミド、ポリベ
ンゾイミダゾール、ポリイミダゾピロロン、ポリウレタ
ン、ボリイミド、ポリアミドイミド、ポリフェニレンサ
ルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリ安息香酸
エステル、ポリオキサジアゾール、ポリベンゾチアゾー
ル、ポリキノキサリン、ポリスルホン、ポリフェニレン
ポリエステル、メラミン、フェノール、エポキシ、シリ
コーンポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリ
デンなどであるがこれに限定されるものではない。また
有機高分子とアルミナ、シリ力、二硫化モリブテン、窒
化ホウ素カーボンなどの無機物、金、アルミ、鋼などの
金層との混合物でもよい。なお形成された保護膜の化学
構造はターゲットの化学構造と異なることが多いがとく
に差しつけえない。
ものは、脂肪族ポリアミド、芳香族ポリアミド、ポリベ
ンゾイミダゾール、ポリイミダゾピロロン、ポリウレタ
ン、ボリイミド、ポリアミドイミド、ポリフェニレンサ
ルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリ安息香酸
エステル、ポリオキサジアゾール、ポリベンゾチアゾー
ル、ポリキノキサリン、ポリスルホン、ポリフェニレン
ポリエステル、メラミン、フェノール、エポキシ、シリ
コーンポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリ
デンなどであるがこれに限定されるものではない。また
有機高分子とアルミナ、シリ力、二硫化モリブテン、窒
化ホウ素カーボンなどの無機物、金、アルミ、鋼などの
金層との混合物でもよい。なお形成された保護膜の化学
構造はターゲットの化学構造と異なることが多いがとく
に差しつけえない。
上記のスパッタリングによって形成される保護膜の厚さ
は、保護膜としての膜面強度、滑り性などの特性が良好
であれば特に限定されるものではないが、少量であれば
あるほど好ましい。
は、保護膜としての膜面強度、滑り性などの特性が良好
であれば特に限定されるものではないが、少量であれば
あるほど好ましい。
さらに本発明に使用される非磁性基板としては、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリ
塩化ビニル、三酢酸セルロース、ポリカーボネートのよ
うな非金属基板、アルミニウム、ステンレススチール、
黄銅のような金属基板のいずれでもよい。
チレンテレフタレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリ
塩化ビニル、三酢酸セルロース、ポリカーボネートのよ
うな非金属基板、アルミニウム、ステンレススチール、
黄銅のような金属基板のいずれでもよい。
さらに上記の基板上に蒸着、メッキ等の方法により金属
膜を形成せしめたもの、接着剤等を塗布したものも本発
明の磁気記録層としてよい。
膜を形成せしめたもの、接着剤等を塗布したものも本発
明の磁気記録層としてよい。
以上磁気記録層として磁性蒸着薄膜を用いた場合を主に
述べたが、磁気記録層としてメッキおよび塗布法で形成
した場合についても顕著な効果が得られる。
述べたが、磁気記録層としてメッキおよび塗布法で形成
した場合についても顕著な効果が得られる。
以下、実施例により本発明を説明する。
実施例１
２５μ厚のポリエチレンテレフタレートフィルム基板上
に、約３００Åのコバルト金属膜を蒸着した磁気記録層
上に、アルゴンガスとＮ２ガスの混合ガス、ヘリウムガ
スとＮＨ３ガスの混合ガス中で有機保護膜素材を１３．
５６ＭＨｚの高周波放電を用いてスパッタリングし有機
保護膜を形成した。
に、約３００Åのコバルト金属膜を蒸着した磁気記録層
上に、アルゴンガスとＮ２ガスの混合ガス、ヘリウムガ
スとＮＨ３ガスの混合ガス中で有機保護膜素材を１３．
５６ＭＨｚの高周波放電を用いてスパッタリングし有機
保護膜を形成した。
この場合混合ガスの圧力を１０ｍＴｏｒｒとし、電力を
１．０Ｗ／ｃｍ２とした。有機保護膜素材として、脂肪
族ポリアミド（宇部興産製ＵＢＥナイロン）、芳香族ポ
リアミド（日東電工製Ａフィルム）、エポキシ（チバガ
イギ製アラルダイトＢ）、ポリイミド（デュポン製カプ
トン）を用いた。
１．０Ｗ／ｃｍ２とした。有機保護膜素材として、脂肪
族ポリアミド（宇部興産製ＵＢＥナイロン）、芳香族ポ
リアミド（日東電工製Ａフィルム）、エポキシ（チバガ
イギ製アラルダイトＢ）、ポリイミド（デュポン製カプ
トン）を用いた。
スパッタリングによって５００Åの厚さの保護膜を形成
し、回転ロール試験によって保護膜の強度を測定した。
し、回転ロール試験によって保護膜の強度を測定した。
すなわち２０φの回転ロールに９０℃の巻角、２０ｇの
張力で押しつけ、回転ロールを５００／６γｐｍで回転
させ、保護膜が破壊すると磁性薄膜が接触し摩擦係数が
増加することから、摩擦係数が増加する回転時間を保護
膜の寿命とした。回転ロール試験の結果を第１図に示し
たが、Ｈｅ／ＮＨ３比が３０／７０〜９９／１の場合に
はＨｅのみの場合に比して顕著な特性の向上が認められ
る。
張力で押しつけ、回転ロールを５００／６γｐｍで回転
させ、保護膜が破壊すると磁性薄膜が接触し摩擦係数が
増加することから、摩擦係数が増加する回転時間を保護
膜の寿命とした。回転ロール試験の結果を第１図に示し
たが、Ｈｅ／ＮＨ３比が３０／７０〜９９／１の場合に
はＨｅのみの場合に比して顕著な特性の向上が認められ
る。
実施例２
２ｍｍ厚のアルミ板をアルマイト処理・加工した基板上
に磁気記録層として約２０００Åのγ−Ｆｅ２Ｏ３をス
パッタおよび熱処理して形成した磁気ディスク上に、ア
ルゴンとＮ２の混合ガス中で、実施例と同様に有機保護
膜を形成した。
に磁気記録層として約２０００Åのγ−Ｆｅ２Ｏ３をス
パッタおよび熱処理して形成した磁気ディスク上に、ア
ルゴンとＮ２の混合ガス中で、実施例と同様に有機保護
膜を形成した。
スパッタリングによって４００Åの厚さの保護膜を形成
し、球面摺動試験によって保護膜の強度を測定した。す
なわちディスクの周速を１０ｍ／としサファイヤの摺動
子に１０ｇの荷重を加え、保護膜と接触させたまま回転
させ、保護膜が摩耗によってなくなり動摩擦が急激に大
きくなるまでの回転数を求めた。球面摺動試験の結果を
第２図に示したが、Ａｒ／Ｎ２比が３０／７０〜９９／
１の場合にはＡｒのみの場合に比して顕著な特性の向上
が認められる。
し、球面摺動試験によって保護膜の強度を測定した。す
なわちディスクの周速を１０ｍ／としサファイヤの摺動
子に１０ｇの荷重を加え、保護膜と接触させたまま回転
させ、保護膜が摩耗によってなくなり動摩擦が急激に大
きくなるまでの回転数を求めた。球面摺動試験の結果を
第２図に示したが、Ａｒ／Ｎ２比が３０／７０〜９９／
１の場合にはＡｒのみの場合に比して顕著な特性の向上
が認められる。
以上説明したように、本発明は不活性ガスと窒素ないし
窒素化合物ガスとの混合ガス中でのスパッタリングによ
って、耐摩耗性にすぐれ長期的に良好な潤滑効果を発揮
する有機保護膜を有する磁気記録媒体を得るものである
。
窒素化合物ガスとの混合ガス中でのスパッタリングによ
って、耐摩耗性にすぐれ長期的に良好な潤滑効果を発揮
する有機保護膜を有する磁気記録媒体を得るものである
。
第１図は回転ロール試験強度とＨｅ／ＮＨ３比の検討結
果、第２図は球面摺動強度とＡｒ／Ｎ２比の検討結果で
ある。 １・・・脂肪族ポリアミド ２・・・芳香族ポリアミド ３・・・エポキシ ４・・・ポリイミド
果、第２図は球面摺動強度とＡｒ／Ｎ２比の検討結果で
ある。 １・・・脂肪族ポリアミド ２・・・芳香族ポリアミド ３・・・エポキシ ４・・・ポリイミド
Claims (1)
- 不活性ガスと窒素ないし窒素化合物ガスとの混合ガス中
でスパッタリングにより有機保護膜が設けられたことを
特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58044133A JPS59171026A (ja) | 1983-03-18 | 1983-03-18 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58044133A JPS59171026A (ja) | 1983-03-18 | 1983-03-18 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59171026A true JPS59171026A (ja) | 1984-09-27 |
Family
ID=12683123
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58044133A Pending JPS59171026A (ja) | 1983-03-18 | 1983-03-18 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59171026A (ja) |
-
1983
- 1983-03-18 JP JP58044133A patent/JPS59171026A/ja active Pending
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