JPS59170876A - 高性能光学空間フイルタ−の製造 - Google Patents
高性能光学空間フイルタ−の製造Info
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- JPS59170876A JPS59170876A JP58252425A JP25242583A JPS59170876A JP S59170876 A JPS59170876 A JP S59170876A JP 58252425 A JP58252425 A JP 58252425A JP 25242583 A JP25242583 A JP 25242583A JP S59170876 A JPS59170876 A JP S59170876A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明は、光学的空間−ノイルターの製造に関し、更に
詳細には、ボ[]]グラノイー光学プロセッリーIQよ
りICフ41へンスクJ3よび「シー1−バーの検査に
使用されるフィルターの製造に関づる。 当業界に公知のように、光学的フーリエ変換は、]]じ
−レント光源を用いて被写体を照明し、レンズを用いて
被写体を無限遠に結像さυることによって行なうことが
できる61元の被゛り体情報のフーリエ変換は、レンズ
によって生じた焦点に位置した面で起こる。この方法に
にれば、被写体情報は、空間周波数容量に対応するよう
にフーリエ変換面に再分布されイ)0.被写体h(、超
小形電子回路の製造に用いられる)Jl−’?スク上に
存在4るにうなくり返し空間周波数成分である場合は、
光学的フーリエ変換は、光軸からの距離が空間周波数に
比例す−る規則的に間隔をおいて整列し、た光点からな
る3゜ フーリエ変換面内のこれらの点をそれぞれが不透明なブ
ロッキングフィルターく旧ockingfilter
)を置いた後逆変換を行なうと、生成−りる像は、元の
被写体についでの非反復情報のみを包含りる71例えば
、元のノ4トマスクまたはウェハーにおける非反復性欠
陥は、この空間フィルターを通過して再結像するが、反
復回路情報はこの空間フィルターを通過しない。この技
法(ま、複利な)、+ 1−マスクラウェハーにおける
中東な欠陥を一つさとめるだめの非常に強力な道具を提
供りる。しかしながら、正確なブ1]ツニ1ングフィル
ターを製造覆ることは、いくつかの連山(こより困難4
ぶ仕事で′あることが明らかになつ−(いる。 第一に、〕7rルタ〜にお(する必要な不透明領域の位
置と人ささは、公知の光学的原即に従って[「確に、i
1紳ザることができ、−]]ンビーL−ター牛成、たは
他の合成手法にJ、ってノイルターを製j^りることが
て゛さることが知られている。かがる技法は、例えば1
977年1月4日にWatkinsに交付された米国特
許第4,000,949号および1973年(3月12
日にト]einzらに交付された米国特占′[第3.7
38.7!12 ’731こJ二っている。しかしなが
らHe i flyらの′l’6γ[にJ3いて認めら
れるように、実際の光学系にJ3いC存在する収差やゆ
がみをフィルターの生成にa3いて一勘案しなければな
らない。それ故、光学系におけるゆがみや収差を注意深
く調整しなければならず、光学系を非7δに高価にしお
よび/または全般的な性能を理想的なものに較べて低下
させることになる。 他の方法には、不透明部分を増加させ/Jフィルターの
製造があり、1972年4月25EN、二、A、xel
rodに交イ」された米国特許第3 、6 !i 8
、420 ン−3,1976年8月3日にMinami
らに交付された米国性r(第3,972,616ぢお
J、び1974年2月5(二l 1.:1−(einz
らに交付された米国特許第3,790,280 尼に記
載されている。これらの技を人によつ−(IJA造され
たフィルターは改良された可転性と決定的でない線形を
とるという利点を石Jる。しかしながらこれらは、非反
復性または欠陥情報tこ対する全般的透過率が低いので
、被写体内の欠陥の検出能が低−トするという不利益を
右−する。更に、これらの単純な幾何フィルターは、不
透明な十字、X、π形くざび、および不透明な点を有す
るにたは点を持たないこれらとの変動または組合わけで
ある。これらの単純で一般的な幾何学の結果としてフィ
ルター(よ正確に(よ被写体情報t・菖よ合致しない。 このこと(こより、被写体の残存背損像が残ることにな
り、シグナル/ノイズ比をイバ下し、光学ブロセツ1ノ
ーの生産品の分析の自動化を一層困難にしでいる。 ?8ヨ番]三1の別法は、反復性またばl[欠陥被写体
情報に対応覆る光学的フーリエ変換面における実際の点
の位置を写真フィルムまたは感光板)−
詳細には、ボ[]]グラノイー光学プロセッリーIQよ
りICフ41へンスクJ3よび「シー1−バーの検査に
使用されるフィルターの製造に関づる。 当業界に公知のように、光学的フーリエ変換は、]]じ
−レント光源を用いて被写体を照明し、レンズを用いて
被写体を無限遠に結像さυることによって行なうことが
できる61元の被゛り体情報のフーリエ変換は、レンズ
によって生じた焦点に位置した面で起こる。この方法に
にれば、被写体情報は、空間周波数容量に対応するよう
にフーリエ変換面に再分布されイ)0.被写体h(、超
小形電子回路の製造に用いられる)Jl−’?スク上に
存在4るにうなくり返し空間周波数成分である場合は、
光学的フーリエ変換は、光軸からの距離が空間周波数に
比例す−る規則的に間隔をおいて整列し、た光点からな
る3゜ フーリエ変換面内のこれらの点をそれぞれが不透明なブ
ロッキングフィルターく旧ockingfilter
)を置いた後逆変換を行なうと、生成−りる像は、元の
被写体についでの非反復情報のみを包含りる71例えば
、元のノ4トマスクまたはウェハーにおける非反復性欠
陥は、この空間フィルターを通過して再結像するが、反
復回路情報はこの空間フィルターを通過しない。この技
法(ま、複利な)、+ 1−マスクラウェハーにおける
中東な欠陥を一つさとめるだめの非常に強力な道具を提
供りる。しかしながら、正確なブ1]ツニ1ングフィル
ターを製造覆ることは、いくつかの連山(こより困難4
ぶ仕事で′あることが明らかになつ−(いる。 第一に、〕7rルタ〜にお(する必要な不透明領域の位
置と人ささは、公知の光学的原即に従って[「確に、i
1紳ザることができ、−]]ンビーL−ター牛成、たは
他の合成手法にJ、ってノイルターを製j^りることが
て゛さることが知られている。かがる技法は、例えば1
977年1月4日にWatkinsに交付された米国特
許第4,000,949号および1973年(3月12
日にト]einzらに交付された米国特占′[第3.7
38.7!12 ’731こJ二っている。しかしなが
らHe i flyらの′l’6γ[にJ3いて認めら
れるように、実際の光学系にJ3いC存在する収差やゆ
がみをフィルターの生成にa3いて一勘案しなければな
らない。それ故、光学系におけるゆがみや収差を注意深
く調整しなければならず、光学系を非7δに高価にしお
よび/または全般的な性能を理想的なものに較べて低下
させることになる。 他の方法には、不透明部分を増加させ/Jフィルターの
製造があり、1972年4月25EN、二、A、xel
rodに交イ」された米国特許第3 、6 !i 8
、420 ン−3,1976年8月3日にMinami
らに交付された米国性r(第3,972,616ぢお
J、び1974年2月5(二l 1.:1−(einz
らに交付された米国特許第3,790,280 尼に記
載されている。これらの技を人によつ−(IJA造され
たフィルターは改良された可転性と決定的でない線形を
とるという利点を石Jる。しかしながらこれらは、非反
復性または欠陥情報tこ対する全般的透過率が低いので
、被写体内の欠陥の検出能が低−トするという不利益を
右−する。更に、これらの単純な幾何フィルターは、不
透明な十字、X、π形くざび、および不透明な点を有す
るにたは点を持たないこれらとの変動または組合わけで
ある。これらの単純で一般的な幾何学の結果としてフィ
ルター(よ正確に(よ被写体情報t・菖よ合致しない。 このこと(こより、被写体の残存背損像が残ることにな
り、シグナル/ノイズ比をイバ下し、光学ブロセツ1ノ
ーの生産品の分析の自動化を一層困難にしでいる。 ?8ヨ番]三1の別法は、反復性またばl[欠陥被写体
情報に対応覆る光学的フーリエ変換面における実際の点
の位置を写真フィルムまたは感光板)−
【こ記録するこ
とである。これは、変換面内にa31.Jる強度の代表
的動作範囲が1010以上の桁になること以外は、変換
面に存在覆゛る情報の正確イ〈模写が司能で゛あると思
われる。しかしながら、写真乳剤・1゛)他の感光性材
料は、代表的には単に103から104の動作範囲に限
定され−Cいる。この限定された動作範囲のために、フ
ーリエ変換面の全部の情報を正確に記録覆ることができ
ない。 それ故、上述の問題点を川遊Jる高性能光学空間フィル
ターを製造する技法が必要とされている。特に、かかる
技術によって製造されるフィルターは、光学プロセッサ
ーを被写体とじCの比較的敏感な性状を有づるフlAl
−マスクまたはウェハー内の欠陥を検出ししかもこれら
の欠陥を比較的高いシグナル/ノイズ比を有する状態で
単離し得るものにできな(プればならない。 本発明は、上述の写真法に基づいた高性能光学空間フィ
ルターを製造1)−る技法を提供する。 開示された方法によって製造される多世代(mu l
t i −generat i on )写真フィルタ
ーは、741へマスク、ウェハーまたは他の被写体のホ
ログラムを記録り−るのに適した光学ブし−1しツリー
内で使用される。プロセッサーには、被写体面内【こ配
設された被写体によって回折および/または反則された
後、レンズへと入るように被写体面に向けられた:】ヒ
ー!ノント光源がある。レンズは、′フーリエ変換面で
光を集光し、この光線を変換面の先のホログラフィ−記
録面へと向(Jる。 本発明の1態様によれば、フィルターの製造方法は、被
写体面にノオ]へマスクまたは他の被写体を置ぎ、フー
リエ変換面に第一の写真感光板または伯の光学記録装置
を置くことからなる。 感光板を、被写体面に向けられまたは反射した光源の光
線で、変換面内の最高強度のものだけに対して適正に感
光板を露光づるJ、うに定め!ご露出で露光伎る。次い
で感光板を処理()て、変換面に再度配設すると、被写
体のホ1」グラムは、光学フィルターどしC働く感光板
を通して記録される。処理後、ボログラl\を元の位置
に戻【ノて、光源から出た光を、元の対照光線に共役づ
る方向から当てる9、第一の光学フィルターを、−ノー
リ■−変換面の第二の写真感光板また(J記録装置と置
き換える。被写体どじで働くホ[コグラムにより、第二
の感光板は、ホログラム中に存在リーる最高強度に対し
て適正に露光される。 処理し終ったならば、第二の写真感光板は、以1す第二
世代フィルターと呼ばれるしのとし゛(用いるのに変換
面に戻してもよい。第二世代フィルターも、本発明に従
がい、第二世代フィルターを変換面に再設置づることに
よって製造ザることができる。被写体の第二のホ[1グ
ラムは、第二世代フィルターを通し℃記録される。処理
後、第二二のホログラムをホL」グンム面に仄し、第三
の写真感光板を、第二世代、ノイルターに代えて変換面
に設置する□、次いで、第二の感光板を、光源から発し
た光により、元の対照光線に共役する方向から第三のホ
1」ゲノムを通しく露出する。 多世代写真フィルターを用いて、被写体面内に配設され
たフォトマスク、つJバーまたは他の被写体の非周期的
欠陥を中MI Jるh払は、−1ヒーレン1−光線がフ
ォトマスクによって回折または反射されるようにこの光
線を)41−7スクに向けることからなる1、回折また
は反射しノ(光を、フーリエ変換面を形成づるように集
光さμる。上述の方法によって製造された光学空間−ノ
イルターを変換面に置いて、非周期的欠陥に対応づる光
だけがそこを通って結像面へ行くようにする。 従って、本発明の目的は、写真技術により光学プロセッ
サに使用する高性能光学空間ノイルターを製造づる方法
を提供することであり、製造されたフィルターが比較的
高い欠陥情報の透過率を右゛するJ、うにjlる方法を
提供づることであり、フィルターが用いられる光学プロ
セッサーが高いシグナル/ノイズ比をイーjするように
り一る方法を提供することであり、フッ1トマスク、つ
■バーまたは他の被写体中の非周期的欠陥を甲離づる方
法を提供リ−ることであり、製造された欠陥情報の自動
読み取りに適づる方法を提供づ−ること−て・ある。 仙の目的と利点とは、次の説明、添附の図面J3よび特
許請求の範囲から明らかになるぐあるう1゜ 第1図について説明すれば、当業界に公知の甲IKAな
光学ブ[1ヒッ]j−10を図式的に示している。適当
な光源(図示せず)からの平1j”1した二1ヒーレン
ト光線は、レンズ16がら1焦点距離の位置に置かれた
被写透明体14を通過J−る。被写体情報のフーリエ変
換は、焦点2oとレンズ16によっ′C形成されるフー
リエ変換面18に現われる。第二のレンズ22が変換面
18から1焦点距離の位置に配設され、24に位置する
像tこ逆変換づる。 第2図は、第1図のプロセツサーー−においで被写体1
4とし−C用いられる代表的なI C−) t l・マ
スクの写真を示=l−、第3図は、フーリエ変換面18
に現われるフAトマスクのフーリエ変換の写真でd5す
、これからツーり王変換の複雑さがわかる。写真フィル
ムや感光板おJ、び他の光学記録装置の動作範囲が限定
されているため、通常は被写体に存在する高反復性空間
周波数に対応する高強度領域だ()を正確に記録するこ
とができる1、露光時間を増してみれば、低強度領域を
記録することができるが、高強度領域は非常(4口過度
露光になる。 本発明警よ、変換面に用いられる光学空間ノイルターを
写真で構成し、しかb過剰露出なしく(総ての周波数を
記録する場合の問題を避ける方法を提供する。第4図に
ついては、単純なプロセッサー10に類似のホログラフ
ィ−光学プ[コ廿ツリ25が示しくある。平行化したコ
ヒー1ノン1〜光線26は、被写透明体27を通ってレ
ンズ28へと抜(Jるが、光線26は反射性被写体から
レンズ28へ反射されることもあることを認められるで
あろう1、被ち°体に関りる光学情報を包含“する回折
J3よび/または反射光はレンズ28を通過することに
より来光し−C11焦点距離を隔てた変換面30(こフ
ーリーL変換を形成づる。写真感光板を変換面30に置
いて、高強度領域だけを正確に露光りるように設定され
た露光パラメーターを用いて、被写透明体27を通過し
た−」ヒーレント光線26に露光づることによっC1ノ
イルターを写真的に製造する。標準的な写真現像を終え
ると、ネカが生成し、これを元の位置30に戻づ−と高
強度領域をブ日ツタまたは減衰させる。 次に被写体271.、=+じ−レント光線26を再度当
てる1、変換面30に置かれたフィルターを通過する情
報が、ホログラムの形(・、変換面30の先の位置に記
録される。これは、高分解能写真乳剤34のような記録
媒質に向けられしかも被写体光線と干渉し合う平行化し
た対照光線32の助(ノによって為される。 乳剤34を現像してホログラム34′ とした後、元の
位置へ戻し、第5図に関して、ホログラム34′ に、
元の対照光線32と共役する1、すなわI)同じ波面を
有しながら反対方向へ進行づるb91つの対照ビーム3
6を当(る。次に、小1コグラフイーを記録した被写体
光線26′ を、元の光路を正確に反転光線追跡し、変
換面30にフーリエ変換を形成し、被写体27の元の位
置に回折を制限した実像37を形成づる。(〕かしなが
ら、記録されたボログラム34′ は、被写体情報から
第一のフィルターによって減衰された情報を差し引いた
もので(:lを包含することに気付くであろう。 それ故、再生に当っては、ホログラム34′ によって
生成した変換面30でのフーリエ変換は、元の高強度部
分に対応する非常に減衰された領域を包含することにな
る。従って元の高強度は、完全には消滅してしまわない
までも、振幅が減衰または圧縮されてしまっている9゜ ボ1]グシム34′が、第5図に示づように、共役光線
36を当でることによって被写体として用いられるど、
フーリエ変換が再び変換面に生成(Jる3、第二のフィ
ルターを作成4−ることができ、丸の被写体情報の強度
範囲はホ【]グラム34′の生成に用いられた第一のフ
ィルターの減衰フッ・フタ−によって減少しでしまって
いるので、正確な写真を記録することができる1、処理
後、この[第二世代Jフィルターは、次に処狸をくり返
すことによって[第ニー世代−1フイルターを記録する
のに用いることができる。元の被写体27を、変操1f
ii30で写真によって製造した第二世代フィルターを
用いて二]ヒーレン1へ光線26を再度照らLノーU
、第二のホログラムを記録する。次にこの第ニーのボロ
グラムは、フーリエ変換において存在゛する最低張だけ
が前の2つのフィルターを通過lノだので、高張情報を
大いに減衰さ4!、中範囲強度を減衰さける。この第2
の小【コグンムを、次に変換面で第三のフィルターを記
録するのに用いる。 この工程は、変換面に43ける空間周波数容量に合致し
たフィルター上の所望な程度の不透明部分を得るまで必
要なだけくり返寸ことができる。しかしながら、経験上
からごえば、通常は、IGフォトマスクを検査するのに
は第1また(ま第三世代のフィルターだ(〕が必要とさ
れる。 −に連の技術の実施では、ホログラムd5よびフィルタ
ーの両方を、0゜514!iμで動作り62ワツトアル
ゴンレーザーを用いて、A’(lfa −Gavcar
t 8−56 41 X 5 ″ (10,2cmx
12.7cm)感光板上に記録し/、二が、適当な解
像度を有づる感光性材料であれば何でも用いることがで
いる。 勿論、正確へ露出時間は、レーザーの出力、光学系の効
率、用いる写真材料のタイプ、被ち゛体自体の性状およ
びホ[1グラムの効率によって変動づる。しかしながら
、一般には、代表的な)A1−マスク幾何模様と1述し
た写真感光板どレーザー源とを用いれば、経験から第一
世代ノイルターの露出は1から10ミリ秒の桁、第二世
代フィルターでは10から 100ミリ秒の桁であり、
第一、E IQ代ラフイルターは100ミリ秒から秒の
桁どなる。特定の系および用いる材料に必要な正確な露
出は、露出をブラクッ1へ−づることにより、五たは小
さな面積の検出器を用いて実際の照射部を測定cJるこ
とによって決定覆ることができる。7 勿論、上述の特定の写真感光様は、i」\11グラムJ
夕。1:び−ノイルター用の光学記録装h′の好ましい
例ひdi>るに過ぎないことを認識すべきである。 実際には、本発明は、ホ[1グラムa3よびフィルター
用の写真フィルムまたは感光板だG)でなく液晶光バル
ブ、ポッケルス読み取り光学変調器、熱「■塑↑4ノイ
ルム、伯の結晶竹材料またはホログラl\を記録しa3
よび/またはフィルターに必要な不透明部分を生成さけ
ることができる他の月利のような材料も用いて実施でき
る。 フィルター生成段階のいずれが(こおい(、フィルター
を高密度で′露出し過ぎ゛ると、〕−Iノ工変換成分に
対応づる過剰の密度が被写体情報から除かれることにな
り、適当なホログラムを得られない。後世代のフィルタ
ーを必要どするならば、この情報は写貞再〈トされた新
ノイルター世代用のフーリエ変換面には存在せず、ノイ
ルター内に広透過率領域を生じる1、この問題は、高強
度領域の露出を調整しく、生成するノイルターは、これ
らの領域にa3いて透過t、 7.: ]−ネルギーを
、除くことが所望な低強度情報に等しくするのに十分な
だ()、これらの領域を減衰させることによって回避し
青る。しかしながら、次に説明するような理由により、
製造された最後のフィルターは、不透明部分の最大密度
に対して露光し現像することが望ましいこともしばしば
ある。 勿論、本文においてフィルターを牛成りる情報源を指す
のに用いられる[被η′体」という1j((は、明らか
に実体をも包含づる1、シかしながら、本発明を定義す
る場合には、被写体は、実体のボログラムも包含覆るこ
とを理解づべきである。 かかる場合には、光学装置は、被写体面でのホログラム
に平行化した光線を向(ノることにょっ(、像面でのホ
1−1グラムから実像を再生する装置をも包含りる。結
像面を通過した像搬送光線は、1ノンズに向()られで
光線内に搬送された被写体情報のノーリド変換を形成4
る。次に、多1す代フィルターは、上述した通常の方法
C′構成される。例えば、かかる技術は、フィルターを
生成しながら、他の用途に利用し得る実物被写体が所望
イ【揚台に有用である。物体のホログラムは好都合なI
Ii’74J−作成して保存しておくことが−(き、次
いで′、フィルター製造用被写体として用いることがで
きる。 後述するように、これらのフィルターを反復性液′υ体
構造体に83ける非周期的欠陥情報を単離づ−るのに用
いる実際性と望ましさは、フィルターを製造りるのに用
いる被亙゛体が無欠陥である必要がないことによって大
いに促進されることに留意すべきである3、被写体から
の非周期的欠陥情報は、ノーリド変換面の特異点に局在
はゼづ゛、特定の欠陥に対応づ−る総ての空間周波数に
対応して広範囲に分イ5づる。このエネルギーは、通常
それ自体変換面にお(jる均一な背崇のもやどして現わ
れる。また、この技法て゛は、フィルター記録媒質の動
作範囲【、1但くなるの(・、適正な露出と作成される
山代数とにJ、って、この背崇のもやが記録されるのを
防止−づる。 再度第3図に関して説明づると、フーリJ−変換面に現
われる反復性の非欠陥被写体情報に対応する先の領域は
、面の暗部【こ比較して割合小面積である。従って、被
写体情報の効果的減辰のためには、変換面内のフィルタ
ー世代のいり゛れもが適正に再整列されることが重要て
′ある。 この重要性を減少Δ1!るには、フィルタ・−の各世代
を記録するのに用いる写真感光板また1、:、1: 、
1jjiの光学記録装置を、被写体情報に露出1](い
る間中、振1lillさせればよい。かかる振動によっ
−(生成した一フィルターの不透明部分が人さく fc
hす、このフィルターの使用に際し−Cの許容範囲が大
きくなる。フィルターの透明部分は比較的太さいので、
十分な欠陥情報がこのフィルターを通過する。 第6図と第7図は、上述の子世代写真フィルターを装造
するための装置の好ましい光学的レイアラ1〜を示しで
43す、「回折を制限したホログラノィ像の製造」とい
う名称でFIJSekらにより1982年2月12日(
=Iで出願され本出願人に譲渡された米国特許出願第3
48,461号に記載されている。(1983年8月1
8日出版のPCTl際公開第W 08310283福も
参照されたい)。 第6図の装置を用いれば、Icウェハーのような反則1
/[被写体用の正確で有効なブロッキングフィルターを
製造することができる。レーザー40は、]ヒーレント
光線42の発生源を具備覆る。好ましい具体例では、波
長が0.5145ミクロンの単一(辰動数で動作す゛る
アルゴンイオンレーザ−が用いられ、詳細にはCobe
rentRadiation Model CR−
61aserが用いられる。しかしながら、出力波長が
記録媒質と適合覆る一〇のC゛あればどのようなレーザ
ー源でもよく、ヘリウム−ネオン、クリプトン、ルビー
、ネオジミウムYAGまたはガラス、および金属蒸気1
ノーリ゛−があるが、これらに限定されない。内部が空
洞になったエラ1]ン(図示け−ず)は、1m以上の干
渉距離(coherence lcngl、h、)を有
するが、被写体光線と対照光線の光路長を等しくしてお
【プば、これは必要でない。 ビーム424;i、鏡M1どM2どによって系44に向
けられ、偏光ビーt−スプリッター48に入る前に偏光
角を連続的に調整りる 1/′2波ブlノー1〜46を
通過づる。しかしながら、この好ましい具体例では、エ
ネルギーを保存ししかも最大のたわみ外を可能とするた
めに偏光ビームスプリッティング法を用いているが、金
属フィルム、回折格子、誘電フィルムおよび小[Jグラ
ノイ=要素のような、入射ビームを2成分に分割するビ
ームスプリッティング法であればどん’tc ’bのC
・もよい。 ビームスプリッタ−48は、入射ビーム42を、入射ビ
ームの偏光角によって決定される強度を有する被写体ビ
ーム50と対照ビーム52に分割する。 次に、被写体ビーム;)0は、レンズ56J3よひ58
どビン小−ル60を右りるマスクとを配設し、ビーノ、
50を拡大、露光および平行化する装置に向Eノられる
。次いで、このビームは、選択的ビーム検出器とし′U
動く第二の偏光ビームスプリッタ−に2を通過する、1
これは次のJ:うにして行4Lわれる。この検出器(ビ
ームスプリッタ−62)【、X人つ−(くる光は、じ−
ムスプリッタ−48によって設定された偏光方向によっ
て通過する。次に、ビーl\50は、1/4波プレート
64を通過しく、ここで′直線偏光から円偏光に転換さ
れる。 次にビームは被写体66に当たり、反射して1/4波プ
レート中に戻り、ここで再び直交化した直線偏光へ戻る
。これによつCビームスプリッタ−62によって反射さ
れた被写体ビーム50をレンズ“68に向け−C1ここ
で70のホログラムを記録する装置の近傍に像を形成し
、レンズ68から1焦点距離の位置にあるフーリ1変換
面69で被写体情報を集光づる。好ましい具体例では、
レンズ68は対称性2重対であり、記録装置」二または
近傍の像形成づる被写体66は、倍率を1:1としてレ
ンズ68によって集められた情報を最大とMるようにし
ている。 第7図は、IC)A1−マスクのような透明被写体用の
フィルターを製造覆るのに用いられる被写体ビーム光学
系の別の配置を示している。 被写体ビーム50は、鏡M6およびM7によってビーム
スプリッタ−62の周囲を通って、鏡M8にJ:って被
写体72および1/2波プレート76を通過する。次い
で上述のように系を通って写真感光板70へ至る。 また第6図に関しては、ビームスプリッタ−48から発
生した対照ビーム52は、鏡M9←二J:って、レンズ
80と82およびピンホール84を右覆るマスクとから
なり、ビーム52を拡大、露光J5 、J、び平行化す
る装置に向(プられる。ビー1152は、拡大し、平行
化して、鏡M10へ向かう。ホ11グラム記録払では、
鏡MIOどMllとは、対照ビーム52を対照光路に沿
って写真感光板10に向りて、ここで、ビーム52は被
写体ビーム50と組合って感光板70を露光して、この
感光板70にホログラム88を形成させる。 ホログラム88を処理して元の位置に戻し、鏡MIOを
除いた後、鏡M12によっC対照ビーム52を共役光路
90に沿った共役方向からホログラム88に向(ブる。 次にホログラム88からの被写体情報を、レンズ68お
よびビームスプリッタ−62、続いて記録中の元の被写
体ビーム50と同じ光路を反メ」方向へと正確に反転光
線追跡づる。被写体66のヨ次冗像が、元の位置に形成
される。正確な反転光線追跡法により、レンズ68、ビ
ームスプリッタ−62などの光学要素によってもたらさ
れる光学的歪や収差は除去され、回折の制限された三次
元実像が得られる。 ノーリエ変換而69内に写真感光板または他の記録装置
を置き、上述の方法に従って感光板を露光し、処理する
ことにより、第6図d3よび第7図の装置を用いて、高
性能の空間フィルターを製造することができる。 更に、多量1代写真フィルターを用いれば、上述の装置
はI C〕7+1へマスクやウェハーにおける欠陥を検
出するための簡単で効果的でしかし明瞭な方法を提供す
る。一度、高反復性被写体情報を包含する被写体の他世
代フィルターを製造してしまった後℃、この被写体J、
たは同じ情報を包含する他の被写体を、第6図の66、
□J、たは第7図の72で示される位置に置く。次に、
このフィルターを変換面69に置いて、ホログラム88
を記録する。フィルターと被写体とを除いて、露光され
た被写体情報を元の被写体の位置に11J生する。ある
いは、ホログラム884ま、ノイルターをその場所に置
かずに記録してもよい。次に、再生中にフィルターを変
換面69に置く。 いずれの場合にも、試験被写体にお(Jる欠陥に対応づ
る被写体情報は、フィルターを自由に通過して、元の被
写体位置に再生される。第6図に示ずように、顕微鏡9
8は欠陥情報の観察中、拡大に用いられ、ビデオカメラ
100とtニタ〜102は情報を写し出ずために備えら
れCいる。 被写体のホログラム88が一磨作成されると、被写体自
体は、欠陥分析には最早必要でなくなることに留意づべ
きである。 第6−と第7図とに示した装置で達成しうる最高解像力
は、変換面69に写真感光板(まlcは他の記録装置〉
のあるなしに拘らず、66の被写体/再生面と70のホ
ログラフィ記録面との間のいずれの方向にも同一光学距
離を維持することに依っている。従って、変換面69に
写真感光板が存在しない場合のフィルター製造または使
用法のいずれかの段階においても、適当な補償プレート
(図示Uず)を挿入して、同一の光学距離を維持1ノ1
!?るようにしな(ブればならない。 どのような光学空間フィルターを用いる場合にも、背景
どしで示される非欠陥被写体情報のいくらかは、フィル
ターを通過する。それ故、最終世代のフィルターは最高
密度の不透明部分を出来るだ【プ多くの青用が除がれる
ように露光し、現像するのが望ましい。本発明によって
再生されたフィルターを用いる場合には、更に、欠陥と
背景情報との間で得られるジグ犬ル/ノイズ比が大きい
ため、大半の背景情報(よ、jilp、:ビデオモニタ
ーの輝度を下げ、二1ン1〜ラスl〜を強くすることだ
(すで除くことがでさる。1更に、シグナル、/ノイズ
比が人さいため、背景は、ビデオシグナルを、映η−前
に簡単な対数増幅器に通して処理づ−ることによって仝
部消I]でしょうことができる。このiiJ能性は、自
動検査システムにおけるコンピッ、−ター分析を行ない
得る上で特に重要である。 いくつかの応用では、背景情報を完全に除く必要がある
にもかかわらず、いくつかの場合には、背景の1小部分
がフィルターを通過し得るにうにづるのが望ましい。こ
れは、I Ill (E lス−1のフィルターをわず
かに過剰露光また(沫露光不足にし、非欠陥情報の1部
分がP、終フィルターを通過するようにづることによっ
て達成される。。 これは、例えば、非欠陥情報が、検査用の欠陥情報と一
緒に現われるので、フィルターを、被写体の相互検査お
よび/または特定の欠陥の特異な位置を決定するのに用
いようとする場合に特に有用でd!iる。しかしながら
、背景のごく1小部分7.f L〕がフィルターを通過
するため、青用は欠陥情報よりはるかに低い強度で現わ
れる。 従って、欠陥は、それらの相対的な輝度ににつで、容易
に同定し、位置を確認できる。 本文記載の方法と、これらの方法を効果的に実施づるた
めの装置の形状は、本発明のすぐれた具体例を構成覆る
もの(゛あるが、本発明は、これらの正確な方法および
装置の形状に限定されるもので・はなく、特許請求の範
囲に記載の発明の範囲から離反することなく変更を行な
うことがで゛ぎることを理解され人口い。
とである。これは、変換面内にa31.Jる強度の代表
的動作範囲が1010以上の桁になること以外は、変換
面に存在覆゛る情報の正確イ〈模写が司能で゛あると思
われる。しかしながら、写真乳剤・1゛)他の感光性材
料は、代表的には単に103から104の動作範囲に限
定され−Cいる。この限定された動作範囲のために、フ
ーリエ変換面の全部の情報を正確に記録覆ることができ
ない。 それ故、上述の問題点を川遊Jる高性能光学空間フィル
ターを製造する技法が必要とされている。特に、かかる
技術によって製造されるフィルターは、光学プロセッサ
ーを被写体とじCの比較的敏感な性状を有づるフlAl
−マスクまたはウェハー内の欠陥を検出ししかもこれら
の欠陥を比較的高いシグナル/ノイズ比を有する状態で
単離し得るものにできな(プればならない。 本発明は、上述の写真法に基づいた高性能光学空間フィ
ルターを製造1)−る技法を提供する。 開示された方法によって製造される多世代(mu l
t i −generat i on )写真フィルタ
ーは、741へマスク、ウェハーまたは他の被写体のホ
ログラムを記録り−るのに適した光学ブし−1しツリー
内で使用される。プロセッサーには、被写体面内【こ配
設された被写体によって回折および/または反則された
後、レンズへと入るように被写体面に向けられた:】ヒ
ー!ノント光源がある。レンズは、′フーリエ変換面で
光を集光し、この光線を変換面の先のホログラフィ−記
録面へと向(Jる。 本発明の1態様によれば、フィルターの製造方法は、被
写体面にノオ]へマスクまたは他の被写体を置ぎ、フー
リエ変換面に第一の写真感光板または伯の光学記録装置
を置くことからなる。 感光板を、被写体面に向けられまたは反射した光源の光
線で、変換面内の最高強度のものだけに対して適正に感
光板を露光づるJ、うに定め!ご露出で露光伎る。次い
で感光板を処理()て、変換面に再度配設すると、被写
体のホ1」グラムは、光学フィルターどしC働く感光板
を通して記録される。処理後、ボログラl\を元の位置
に戻【ノて、光源から出た光を、元の対照光線に共役づ
る方向から当てる9、第一の光学フィルターを、−ノー
リ■−変換面の第二の写真感光板また(J記録装置と置
き換える。被写体どじで働くホ[コグラムにより、第二
の感光板は、ホログラム中に存在リーる最高強度に対し
て適正に露光される。 処理し終ったならば、第二の写真感光板は、以1す第二
世代フィルターと呼ばれるしのとし゛(用いるのに変換
面に戻してもよい。第二世代フィルターも、本発明に従
がい、第二世代フィルターを変換面に再設置づることに
よって製造ザることができる。被写体の第二のホ[1グ
ラムは、第二世代フィルターを通し℃記録される。処理
後、第二二のホログラムをホL」グンム面に仄し、第三
の写真感光板を、第二世代、ノイルターに代えて変換面
に設置する□、次いで、第二の感光板を、光源から発し
た光により、元の対照光線に共役する方向から第三のホ
1」ゲノムを通しく露出する。 多世代写真フィルターを用いて、被写体面内に配設され
たフォトマスク、つJバーまたは他の被写体の非周期的
欠陥を中MI Jるh払は、−1ヒーレン1−光線がフ
ォトマスクによって回折または反射されるようにこの光
線を)41−7スクに向けることからなる1、回折また
は反射しノ(光を、フーリエ変換面を形成づるように集
光さμる。上述の方法によって製造された光学空間−ノ
イルターを変換面に置いて、非周期的欠陥に対応づる光
だけがそこを通って結像面へ行くようにする。 従って、本発明の目的は、写真技術により光学プロセッ
サに使用する高性能光学空間ノイルターを製造づる方法
を提供することであり、製造されたフィルターが比較的
高い欠陥情報の透過率を右゛するJ、うにjlる方法を
提供づることであり、フィルターが用いられる光学プロ
セッサーが高いシグナル/ノイズ比をイーjするように
り一る方法を提供することであり、フッ1トマスク、つ
■バーまたは他の被写体中の非周期的欠陥を甲離づる方
法を提供リ−ることであり、製造された欠陥情報の自動
読み取りに適づる方法を提供づ−ること−て・ある。 仙の目的と利点とは、次の説明、添附の図面J3よび特
許請求の範囲から明らかになるぐあるう1゜ 第1図について説明すれば、当業界に公知の甲IKAな
光学ブ[1ヒッ]j−10を図式的に示している。適当
な光源(図示せず)からの平1j”1した二1ヒーレン
ト光線は、レンズ16がら1焦点距離の位置に置かれた
被写透明体14を通過J−る。被写体情報のフーリエ変
換は、焦点2oとレンズ16によっ′C形成されるフー
リエ変換面18に現われる。第二のレンズ22が変換面
18から1焦点距離の位置に配設され、24に位置する
像tこ逆変換づる。 第2図は、第1図のプロセツサーー−においで被写体1
4とし−C用いられる代表的なI C−) t l・マ
スクの写真を示=l−、第3図は、フーリエ変換面18
に現われるフAトマスクのフーリエ変換の写真でd5す
、これからツーり王変換の複雑さがわかる。写真フィル
ムや感光板おJ、び他の光学記録装置の動作範囲が限定
されているため、通常は被写体に存在する高反復性空間
周波数に対応する高強度領域だ()を正確に記録するこ
とができる1、露光時間を増してみれば、低強度領域を
記録することができるが、高強度領域は非常(4口過度
露光になる。 本発明警よ、変換面に用いられる光学空間ノイルターを
写真で構成し、しかb過剰露出なしく(総ての周波数を
記録する場合の問題を避ける方法を提供する。第4図に
ついては、単純なプロセッサー10に類似のホログラフ
ィ−光学プ[コ廿ツリ25が示しくある。平行化したコ
ヒー1ノン1〜光線26は、被写透明体27を通ってレ
ンズ28へと抜(Jるが、光線26は反射性被写体から
レンズ28へ反射されることもあることを認められるで
あろう1、被ち°体に関りる光学情報を包含“する回折
J3よび/または反射光はレンズ28を通過することに
より来光し−C11焦点距離を隔てた変換面30(こフ
ーリーL変換を形成づる。写真感光板を変換面30に置
いて、高強度領域だけを正確に露光りるように設定され
た露光パラメーターを用いて、被写透明体27を通過し
た−」ヒーレント光線26に露光づることによっC1ノ
イルターを写真的に製造する。標準的な写真現像を終え
ると、ネカが生成し、これを元の位置30に戻づ−と高
強度領域をブ日ツタまたは減衰させる。 次に被写体271.、=+じ−レント光線26を再度当
てる1、変換面30に置かれたフィルターを通過する情
報が、ホログラムの形(・、変換面30の先の位置に記
録される。これは、高分解能写真乳剤34のような記録
媒質に向けられしかも被写体光線と干渉し合う平行化し
た対照光線32の助(ノによって為される。 乳剤34を現像してホログラム34′ とした後、元の
位置へ戻し、第5図に関して、ホログラム34′ に、
元の対照光線32と共役する1、すなわI)同じ波面を
有しながら反対方向へ進行づるb91つの対照ビーム3
6を当(る。次に、小1コグラフイーを記録した被写体
光線26′ を、元の光路を正確に反転光線追跡し、変
換面30にフーリエ変換を形成し、被写体27の元の位
置に回折を制限した実像37を形成づる。(〕かしなが
ら、記録されたボログラム34′ は、被写体情報から
第一のフィルターによって減衰された情報を差し引いた
もので(:lを包含することに気付くであろう。 それ故、再生に当っては、ホログラム34′ によって
生成した変換面30でのフーリエ変換は、元の高強度部
分に対応する非常に減衰された領域を包含することにな
る。従って元の高強度は、完全には消滅してしまわない
までも、振幅が減衰または圧縮されてしまっている9゜ ボ1]グシム34′が、第5図に示づように、共役光線
36を当でることによって被写体として用いられるど、
フーリエ変換が再び変換面に生成(Jる3、第二のフィ
ルターを作成4−ることができ、丸の被写体情報の強度
範囲はホ【]グラム34′の生成に用いられた第一のフ
ィルターの減衰フッ・フタ−によって減少しでしまって
いるので、正確な写真を記録することができる1、処理
後、この[第二世代Jフィルターは、次に処狸をくり返
すことによって[第ニー世代−1フイルターを記録する
のに用いることができる。元の被写体27を、変操1f
ii30で写真によって製造した第二世代フィルターを
用いて二]ヒーレン1へ光線26を再度照らLノーU
、第二のホログラムを記録する。次にこの第ニーのボロ
グラムは、フーリエ変換において存在゛する最低張だけ
が前の2つのフィルターを通過lノだので、高張情報を
大いに減衰さ4!、中範囲強度を減衰さける。この第2
の小【コグンムを、次に変換面で第三のフィルターを記
録するのに用いる。 この工程は、変換面に43ける空間周波数容量に合致し
たフィルター上の所望な程度の不透明部分を得るまで必
要なだけくり返寸ことができる。しかしながら、経験上
からごえば、通常は、IGフォトマスクを検査するのに
は第1また(ま第三世代のフィルターだ(〕が必要とさ
れる。 −に連の技術の実施では、ホログラムd5よびフィルタ
ーの両方を、0゜514!iμで動作り62ワツトアル
ゴンレーザーを用いて、A’(lfa −Gavcar
t 8−56 41 X 5 ″ (10,2cmx
12.7cm)感光板上に記録し/、二が、適当な解
像度を有づる感光性材料であれば何でも用いることがで
いる。 勿論、正確へ露出時間は、レーザーの出力、光学系の効
率、用いる写真材料のタイプ、被ち゛体自体の性状およ
びホ[1グラムの効率によって変動づる。しかしながら
、一般には、代表的な)A1−マスク幾何模様と1述し
た写真感光板どレーザー源とを用いれば、経験から第一
世代ノイルターの露出は1から10ミリ秒の桁、第二世
代フィルターでは10から 100ミリ秒の桁であり、
第一、E IQ代ラフイルターは100ミリ秒から秒の
桁どなる。特定の系および用いる材料に必要な正確な露
出は、露出をブラクッ1へ−づることにより、五たは小
さな面積の検出器を用いて実際の照射部を測定cJるこ
とによって決定覆ることができる。7 勿論、上述の特定の写真感光様は、i」\11グラムJ
夕。1:び−ノイルター用の光学記録装h′の好ましい
例ひdi>るに過ぎないことを認識すべきである。 実際には、本発明は、ホ[1グラムa3よびフィルター
用の写真フィルムまたは感光板だG)でなく液晶光バル
ブ、ポッケルス読み取り光学変調器、熱「■塑↑4ノイ
ルム、伯の結晶竹材料またはホログラl\を記録しa3
よび/またはフィルターに必要な不透明部分を生成さけ
ることができる他の月利のような材料も用いて実施でき
る。 フィルター生成段階のいずれが(こおい(、フィルター
を高密度で′露出し過ぎ゛ると、〕−Iノ工変換成分に
対応づる過剰の密度が被写体情報から除かれることにな
り、適当なホログラムを得られない。後世代のフィルタ
ーを必要どするならば、この情報は写貞再〈トされた新
ノイルター世代用のフーリエ変換面には存在せず、ノイ
ルター内に広透過率領域を生じる1、この問題は、高強
度領域の露出を調整しく、生成するノイルターは、これ
らの領域にa3いて透過t、 7.: ]−ネルギーを
、除くことが所望な低強度情報に等しくするのに十分な
だ()、これらの領域を減衰させることによって回避し
青る。しかしながら、次に説明するような理由により、
製造された最後のフィルターは、不透明部分の最大密度
に対して露光し現像することが望ましいこともしばしば
ある。 勿論、本文においてフィルターを牛成りる情報源を指す
のに用いられる[被η′体」という1j((は、明らか
に実体をも包含づる1、シかしながら、本発明を定義す
る場合には、被写体は、実体のボログラムも包含覆るこ
とを理解づべきである。 かかる場合には、光学装置は、被写体面でのホログラム
に平行化した光線を向(ノることにょっ(、像面でのホ
1−1グラムから実像を再生する装置をも包含りる。結
像面を通過した像搬送光線は、1ノンズに向()られで
光線内に搬送された被写体情報のノーリド変換を形成4
る。次に、多1す代フィルターは、上述した通常の方法
C′構成される。例えば、かかる技術は、フィルターを
生成しながら、他の用途に利用し得る実物被写体が所望
イ【揚台に有用である。物体のホログラムは好都合なI
Ii’74J−作成して保存しておくことが−(き、次
いで′、フィルター製造用被写体として用いることがで
きる。 後述するように、これらのフィルターを反復性液′υ体
構造体に83ける非周期的欠陥情報を単離づ−るのに用
いる実際性と望ましさは、フィルターを製造りるのに用
いる被亙゛体が無欠陥である必要がないことによって大
いに促進されることに留意すべきである3、被写体から
の非周期的欠陥情報は、ノーリド変換面の特異点に局在
はゼづ゛、特定の欠陥に対応づ−る総ての空間周波数に
対応して広範囲に分イ5づる。このエネルギーは、通常
それ自体変換面にお(jる均一な背崇のもやどして現わ
れる。また、この技法て゛は、フィルター記録媒質の動
作範囲【、1但くなるの(・、適正な露出と作成される
山代数とにJ、って、この背崇のもやが記録されるのを
防止−づる。 再度第3図に関して説明づると、フーリJ−変換面に現
われる反復性の非欠陥被写体情報に対応する先の領域は
、面の暗部【こ比較して割合小面積である。従って、被
写体情報の効果的減辰のためには、変換面内のフィルタ
ー世代のいり゛れもが適正に再整列されることが重要て
′ある。 この重要性を減少Δ1!るには、フィルタ・−の各世代
を記録するのに用いる写真感光板また1、:、1: 、
1jjiの光学記録装置を、被写体情報に露出1](い
る間中、振1lillさせればよい。かかる振動によっ
−(生成した一フィルターの不透明部分が人さく fc
hす、このフィルターの使用に際し−Cの許容範囲が大
きくなる。フィルターの透明部分は比較的太さいので、
十分な欠陥情報がこのフィルターを通過する。 第6図と第7図は、上述の子世代写真フィルターを装造
するための装置の好ましい光学的レイアラ1〜を示しで
43す、「回折を制限したホログラノィ像の製造」とい
う名称でFIJSekらにより1982年2月12日(
=Iで出願され本出願人に譲渡された米国特許出願第3
48,461号に記載されている。(1983年8月1
8日出版のPCTl際公開第W 08310283福も
参照されたい)。 第6図の装置を用いれば、Icウェハーのような反則1
/[被写体用の正確で有効なブロッキングフィルターを
製造することができる。レーザー40は、]ヒーレント
光線42の発生源を具備覆る。好ましい具体例では、波
長が0.5145ミクロンの単一(辰動数で動作す゛る
アルゴンイオンレーザ−が用いられ、詳細にはCobe
rentRadiation Model CR−
61aserが用いられる。しかしながら、出力波長が
記録媒質と適合覆る一〇のC゛あればどのようなレーザ
ー源でもよく、ヘリウム−ネオン、クリプトン、ルビー
、ネオジミウムYAGまたはガラス、および金属蒸気1
ノーリ゛−があるが、これらに限定されない。内部が空
洞になったエラ1]ン(図示け−ず)は、1m以上の干
渉距離(coherence lcngl、h、)を有
するが、被写体光線と対照光線の光路長を等しくしてお
【プば、これは必要でない。 ビーム424;i、鏡M1どM2どによって系44に向
けられ、偏光ビーt−スプリッター48に入る前に偏光
角を連続的に調整りる 1/′2波ブlノー1〜46を
通過づる。しかしながら、この好ましい具体例では、エ
ネルギーを保存ししかも最大のたわみ外を可能とするた
めに偏光ビームスプリッティング法を用いているが、金
属フィルム、回折格子、誘電フィルムおよび小[Jグラ
ノイ=要素のような、入射ビームを2成分に分割するビ
ームスプリッティング法であればどん’tc ’bのC
・もよい。 ビームスプリッタ−48は、入射ビーム42を、入射ビ
ームの偏光角によって決定される強度を有する被写体ビ
ーム50と対照ビーム52に分割する。 次に、被写体ビーム;)0は、レンズ56J3よひ58
どビン小−ル60を右りるマスクとを配設し、ビーノ、
50を拡大、露光および平行化する装置に向Eノられる
。次いで、このビームは、選択的ビーム検出器とし′U
動く第二の偏光ビームスプリッタ−に2を通過する、1
これは次のJ:うにして行4Lわれる。この検出器(ビ
ームスプリッタ−62)【、X人つ−(くる光は、じ−
ムスプリッタ−48によって設定された偏光方向によっ
て通過する。次に、ビーl\50は、1/4波プレート
64を通過しく、ここで′直線偏光から円偏光に転換さ
れる。 次にビームは被写体66に当たり、反射して1/4波プ
レート中に戻り、ここで再び直交化した直線偏光へ戻る
。これによつCビームスプリッタ−62によって反射さ
れた被写体ビーム50をレンズ“68に向け−C1ここ
で70のホログラムを記録する装置の近傍に像を形成し
、レンズ68から1焦点距離の位置にあるフーリ1変換
面69で被写体情報を集光づる。好ましい具体例では、
レンズ68は対称性2重対であり、記録装置」二または
近傍の像形成づる被写体66は、倍率を1:1としてレ
ンズ68によって集められた情報を最大とMるようにし
ている。 第7図は、IC)A1−マスクのような透明被写体用の
フィルターを製造覆るのに用いられる被写体ビーム光学
系の別の配置を示している。 被写体ビーム50は、鏡M6およびM7によってビーム
スプリッタ−62の周囲を通って、鏡M8にJ:って被
写体72および1/2波プレート76を通過する。次い
で上述のように系を通って写真感光板70へ至る。 また第6図に関しては、ビームスプリッタ−48から発
生した対照ビーム52は、鏡M9←二J:って、レンズ
80と82およびピンホール84を右覆るマスクとから
なり、ビーム52を拡大、露光J5 、J、び平行化す
る装置に向(プられる。ビー1152は、拡大し、平行
化して、鏡M10へ向かう。ホ11グラム記録払では、
鏡MIOどMllとは、対照ビーム52を対照光路に沿
って写真感光板10に向りて、ここで、ビーム52は被
写体ビーム50と組合って感光板70を露光して、この
感光板70にホログラム88を形成させる。 ホログラム88を処理して元の位置に戻し、鏡MIOを
除いた後、鏡M12によっC対照ビーム52を共役光路
90に沿った共役方向からホログラム88に向(ブる。 次にホログラム88からの被写体情報を、レンズ68お
よびビームスプリッタ−62、続いて記録中の元の被写
体ビーム50と同じ光路を反メ」方向へと正確に反転光
線追跡づる。被写体66のヨ次冗像が、元の位置に形成
される。正確な反転光線追跡法により、レンズ68、ビ
ームスプリッタ−62などの光学要素によってもたらさ
れる光学的歪や収差は除去され、回折の制限された三次
元実像が得られる。 ノーリエ変換而69内に写真感光板または他の記録装置
を置き、上述の方法に従って感光板を露光し、処理する
ことにより、第6図d3よび第7図の装置を用いて、高
性能の空間フィルターを製造することができる。 更に、多量1代写真フィルターを用いれば、上述の装置
はI C〕7+1へマスクやウェハーにおける欠陥を検
出するための簡単で効果的でしかし明瞭な方法を提供す
る。一度、高反復性被写体情報を包含する被写体の他世
代フィルターを製造してしまった後℃、この被写体J、
たは同じ情報を包含する他の被写体を、第6図の66、
□J、たは第7図の72で示される位置に置く。次に、
このフィルターを変換面69に置いて、ホログラム88
を記録する。フィルターと被写体とを除いて、露光され
た被写体情報を元の被写体の位置に11J生する。ある
いは、ホログラム884ま、ノイルターをその場所に置
かずに記録してもよい。次に、再生中にフィルターを変
換面69に置く。 いずれの場合にも、試験被写体にお(Jる欠陥に対応づ
る被写体情報は、フィルターを自由に通過して、元の被
写体位置に再生される。第6図に示ずように、顕微鏡9
8は欠陥情報の観察中、拡大に用いられ、ビデオカメラ
100とtニタ〜102は情報を写し出ずために備えら
れCいる。 被写体のホログラム88が一磨作成されると、被写体自
体は、欠陥分析には最早必要でなくなることに留意づべ
きである。 第6−と第7図とに示した装置で達成しうる最高解像力
は、変換面69に写真感光板(まlcは他の記録装置〉
のあるなしに拘らず、66の被写体/再生面と70のホ
ログラフィ記録面との間のいずれの方向にも同一光学距
離を維持することに依っている。従って、変換面69に
写真感光板が存在しない場合のフィルター製造または使
用法のいずれかの段階においても、適当な補償プレート
(図示Uず)を挿入して、同一の光学距離を維持1ノ1
!?るようにしな(ブればならない。 どのような光学空間フィルターを用いる場合にも、背景
どしで示される非欠陥被写体情報のいくらかは、フィル
ターを通過する。それ故、最終世代のフィルターは最高
密度の不透明部分を出来るだ【プ多くの青用が除がれる
ように露光し、現像するのが望ましい。本発明によって
再生されたフィルターを用いる場合には、更に、欠陥と
背景情報との間で得られるジグ犬ル/ノイズ比が大きい
ため、大半の背景情報(よ、jilp、:ビデオモニタ
ーの輝度を下げ、二1ン1〜ラスl〜を強くすることだ
(すで除くことがでさる。1更に、シグナル、/ノイズ
比が人さいため、背景は、ビデオシグナルを、映η−前
に簡単な対数増幅器に通して処理づ−ることによって仝
部消I]でしょうことができる。このiiJ能性は、自
動検査システムにおけるコンピッ、−ター分析を行ない
得る上で特に重要である。 いくつかの応用では、背景情報を完全に除く必要がある
にもかかわらず、いくつかの場合には、背景の1小部分
がフィルターを通過し得るにうにづるのが望ましい。こ
れは、I Ill (E lス−1のフィルターをわず
かに過剰露光また(沫露光不足にし、非欠陥情報の1部
分がP、終フィルターを通過するようにづることによっ
て達成される。。 これは、例えば、非欠陥情報が、検査用の欠陥情報と一
緒に現われるので、フィルターを、被写体の相互検査お
よび/または特定の欠陥の特異な位置を決定するのに用
いようとする場合に特に有用でd!iる。しかしながら
、背景のごく1小部分7.f L〕がフィルターを通過
するため、青用は欠陥情報よりはるかに低い強度で現わ
れる。 従って、欠陥は、それらの相対的な輝度ににつで、容易
に同定し、位置を確認できる。 本文記載の方法と、これらの方法を効果的に実施づるた
めの装置の形状は、本発明のすぐれた具体例を構成覆る
もの(゛あるが、本発明は、これらの正確な方法および
装置の形状に限定されるもので・はなく、特許請求の範
囲に記載の発明の範囲から離反することなく変更を行な
うことがで゛ぎることを理解され人口い。
第1図は、簡単な光学プロセッサーの模式図(dうる
。 第2図は、代表的IC741−マスクの一部分の写真で
ある。 第3図は、第2図のフォ1〜マスクの光学的〕−リエ変
換写真である。 第4図は、フィルターを製造するの(こ用いているホロ
グラフィ−光学プロセッサーの略図である。 第5図は
、第4図のホ[Jグラノイー光学プロセッサーの略図で
あり、フィルター’IJ ’f4−並びに製造されたフ
ィルターの非周期内被々′体欠陥の分離への使用を示し
ている、。 第6図は、反射性被写体と一緒に、フィルターを製造し
且つ使用づるための好ましい装置の略図である。 第7図は、被写体が透明または半透明物体である時に使
用する第6図の装置の1部分の別の具体例の図である。 50・・・第1のコヒーレン(へ光線 52・・・第2のコじ−レント光線 66・・・被写体 69・・・フーリエ変換面 70・・・ホログラフィ−記録面 88・・・ボログラム FIG−I FIG−4 F%G−2 G−3
。 第2図は、代表的IC741−マスクの一部分の写真で
ある。 第3図は、第2図のフォ1〜マスクの光学的〕−リエ変
換写真である。 第4図は、フィルターを製造するの(こ用いているホロ
グラフィ−光学プロセッサーの略図である。 第5図は
、第4図のホ[Jグラノイー光学プロセッサーの略図で
あり、フィルター’IJ ’f4−並びに製造されたフ
ィルターの非周期内被々′体欠陥の分離への使用を示し
ている、。 第6図は、反射性被写体と一緒に、フィルターを製造し
且つ使用づるための好ましい装置の略図である。 第7図は、被写体が透明または半透明物体である時に使
用する第6図の装置の1部分の別の具体例の図である。 50・・・第1のコヒーレン(へ光線 52・・・第2のコじ−レント光線 66・・・被写体 69・・・フーリエ変換面 70・・・ホログラフィ−記録面 88・・・ボログラム FIG−I FIG−4 F%G−2 G−3
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 第一のコヒーレント光線(50)を被写体(6G
)に向()で、この光線(50)が回折および/または
反射されるJ:うにリ−ることによって、この光線が前
記被写体く66)に関する光学情報を包含づ−るように
し、 前記被写体情報を包含づる前記光線をフーリ変換面変換
而(69)を形成づるように集光()、前記フーリエ変
換面(69)に第一の光学記録装置を配設しで、この光
学記録装置を前記被写体情報を包含する前記光線で露光
し、 前記第一の記録装置上に、前記被写体情報が前記変換面
(69)内に現われる状態の該被η体情報の少なくとも
一部分に対応づる少なくと5部分的に(ま不透明な部分
を記録し、 前記被写体情報を包含する光線を、前記変換面(69)
内に配設された第一の記録装置に向りることによって、
少なくとも一部分の前記波−り体情報を減衰させ、 第二の」ヒーレント光線(52)を、第一の方向から見
て前記変換面り69)の先にある小Dグラフィー記録面
(70)に向()て、この記録面(70)に前記被写体
情報から前記第一の記録装置によって部分的に減衰され
た情報を差し引いたものを包含する前記光線で干渉模様
を形成りるようにし、 前記記録面(70)で、部分的に減衰された被写体情報
の第一のボログラl\(88)を記録()、第一の光線
〈50)を除き、 第一の変換面<69)から第一の記録装置を除き、 前記変換面(69)に第二の光学記録装置を配設し、 第二の光線(52)を、第一の方向とは反対の第二の方
向から前記記録面の前記ホし1グシム(88)に向は直
すことにJ、って、前記小[−1グラム<88)からの
光学情報を包含づる第二のビーノ、からの光で前記第二
の記録装置を露光し、前記第二の記録装置上に、前記ボ
ログラム情報が前記変換面(69)内に現われた状態の
該ボログラム情報の少くとも一部分に対応する少なくと
も部分的には不透明な部分を記録する工程からなる、被
写体面内に置かれ1=被写体く6G)に対r6 ′?す
る光学的空間フィルターを製造する方法1゜ 2、 前記第一の光学記録装置を、前記変換面(69)
内の高強度領域だ(プを記録づ−るに十分な時間露光づ
る特許請求の範囲第1項記載の方法。 3、 前記第二の光学記録装置を、前記第一の記録装置
に記録されたものより低い強度の前記変換面(69)内
の領域を記録Jるに十分な時間露光する特許請求の範囲
第2項記載の方法。 4、 前記第一のホログラム(88)を前記記録面(7
0)から除き、 前記第一の光線(50)を前記第一の被写体(66)に
向は直して、前記被写体情報を包含する光線を前記変換
面(69)を形成づ−るように集光しで、 前記第二の光線(52)を第一の方向から前記記録面に
向【プ直して、 前記被写体情報を包含する前記光線を、前記変換面(6
9)内に置かれた第二の記録装置に向けるごとによって
前記被写体情報の少’3 くとも更に一部分を減衰させ
、 前記の更に部分的に減衰された被写体情報の第二のホロ
グラムを前記記録面<70)に記録し、前記第一の光線
(50)を除き、 前記変換面<69)から第二の記録装置を除さ、この変
換面(69)に第三の光学記録装置を配設し、 前記第二の光線(52)を第二の方向から前記記録面(
70)の前記第二のホログラムに向は直すことによって
、前記第三の記録装置を前記第二のホ[1グラムからの
光学情報を包含づる第二のビームからの光で露光し、 この第二の記録装置上に、前記第二の小[二1グラム情
報が前記変換面(69)内に現われた状態の該情報の少
なくとも一部分に対応j′る少なくどし部分的には不透
明な部分を記録する工程をし包含する特許請求の範囲第
1項より第3項までのいづれかに記載の方法。 5、 前記第一および第二の光学記録装置が写真感光板
である、特許請求の範囲第1項記載の方法。 6、 前記第一、第二および第三の光学記録装置が写真
感光板である、特許請求の範囲第4項記載の方法。 7、 被写体(66)を被写体面に配置し、第一のゴ」
ヒーレンI・光線(50)を上記被写体く6G)に向(
)て、この光線が回折および/または反射されるように
することによって、この光線が前記被写体(66)に関
する光学情報を包含づるようにし、 前記被写体情報を包含づる前記光線をフーリエ変換面(
69)を形成づるように集光し、前記フーリエ変換面(
69)に第一の光学記録装置を配設して、この記録装置
を前記被写体情報を包含する光線で露光し、 前記第一の記録装置上に、前記被写体情報が前記変換面
〈69)内に現われた状態の該被写体情報の少なくとも
一部分に対応づる少なくとも部分的には不透明な部分を
記録し、 前記被写体情報を包含する光線を、前記変換面〈69)
内に配設された第一の記録装置に向けることによって、
少なくとも一部分の前記被写体情報を減衰さゼ、 第二のコヒーレント光線<52)を、第一の方向から見
て前記変換面(69)の先にあるホログラフィ−記録面
(70)に向けて、この記録面(70)に前記被写体情
報から1)a2第−の記録装置にJ:つで部分的に減衰
された情報を差し引いIζものを包含する前記光線で干
渉模様を形成づ−るようにし、 前記記録面(70)で、部分的に減衰され!、被写体情
報の第一のボログラム(88〉を記録し、前記第一の光
線(50)を除き、 前記第一の変換面(69)から前記第一の記録装置を除
さ、 前記変換面([39)に第1Lの光学記録装置を配設し
、 +iii記第二の光線(52)を第一の方向とは反対の
第二の方向から前記記録面の前記ボに]ダラム(118
>に向BJ直丈ことにJ、って、前記ホ【]グラj\〈
88)からの光学情報を包含Jる第二のビーl\からの
光で前記第二の記録装置を露光し、前記第二の記録装置
上に 前記ボ[]グラム情報が前記変換面((i9)内
に現われた状態の該情報の少なくと6一部分に対応Jる
少なくとも部分的にはイ・透明な部分を記録−りる段階
からなる工程から生じるり残物からなる多1す代写真光
学空間ノイルター。 ε3. 前記]−稈が、前記第一のホログラム(88〉
を前記記録面(70)から除き、 前記第一の光線(50)を前記第一の被写体(66)に
向()直して、前記被写体情報を包含する光線を前記変
換面(66)に向は直して、前記被写体情報を包含づる
光線を前記変換面(69)を形成づるように集光して、 前記第二の光線<52)を前記第一の方向り口)前記記
録面に向り直()で、 前記被写体情報を包含リ−る光線を、前記変換面(69
)内に置かれた前記第一の記録装置(ご向(プることに
よって前記被写体情報の少なくどt)更に一部分を減衰
させ、 この更に部分的に減衰された被′り体情報の第二のボロ
グラムを前記記録面(70)iこ記録し、第一の光線(
!i0)を除き、 前記変換面(G9)から第二の記録装置を除き、この変
換面(69)に第三の光学記録装置を配設し、 前記第二の光線(52)を第二の方向ht Iら前記記
録面(70)のnQ記第二のホログラムに向は直すこと
によって、前記第H−二の記録装置を111f記第:の
ホログラムからの光学情報を包含する第二のビームから
の光で露光し、 この第二の記録装置上に、前記第二のホ「1グラム情報
が前記変換面(69)内に現われた状態の該情報の少な
くとb一部分に対応りる少なくとI)部分的に不透明な
部分を記録づる段階をも含む特6?[請求の範囲第7項
記載のノイルター。 9、 前記第一および第二の光学記録装置が写(′1感
光板である特許請求の範囲第7項記載のフィルター、。 10、 前記第一、第二d3よび第三の光学記録装j
6か、写真感光板で゛ある特許請求の範囲第8項記載の
ノイルター1゜ 月、 二1L′−レント光線〈50)が、被写体〈6G
)によって回折おJ、び/または反射されるようにこの
光線を被写体く66)に向けた後、この光線が被゛Ij
体(66)に関する被ち″体情報を包含するようにし、 この被゛り体情報を包含づる光線を、フーリエ変換面(
69)を形成(るJ、うに集光し、前;;e変換面(6
9)内に子世代写真光学空間フィルターを、非周期的欠
陥に対応する上記被写体情報を包含づる光線だりを実質
的に通過させるように配設する工程からなる、被写体面
内に配設された被写体く16)の非周期的欠陥を単離す
る方法、。 12、 前記被写体情報を包含し、前記フィルターを
通過した光線によって、感光媒質上にホ[二]グラム(
88)を記録し、 前記被写体面から前記被写体り6G)を除さ、前記被写
体面に非周期的欠陥に対応づる前記ホログラム(88)
からの情報を自構成する段階を特徴とする特許請求の範
囲第11項記載の方法。 13、 コヒーレンj・光線(50)が被写体(66
)によって回折および/または反則され、前記光線が前
記被写体り66)に関する光学情報を包含するように前
記光線(50)を前記被写体(66)に向け、 前記被写体情報を包含覆る光線を、ツーリュー変換面(
69)を形成するように集光させ、この変換面(69)
を通過した光線で感光f[tAt。 質の上にホログラムを記録し、 前記被写体面から前記被写体を除き、 前記変換面(69)内に多世代写真光学空間フィルタ〜
を配設し、 このノイルターを通過ししかも非周期的欠陥(こス・j
応づる前記ホ「1グラム(88)からの被写体情報だ(
−Jを、前記被写体面に再構成する段階からなる、被写
体面に置かれた被写体く66)中の非周期的欠陥を甲離
Jる方法13 14、 実質的に」ヒーレン1へな光線(42)を発
生づる光源(40)と、 前記光線が被写体く66)によつ゛(回折および7・′
j、たは反射された後、この光線が前記被写体に関マJ
る光学情報を包含づるように前記光線の少なくとも一部
分を前記被写体(66)に向ける装置と、 前記被′q体情報を包含りる前記光線を通過し、フーリ
エ変換面(69)を形成づ−るように前記光線を東光り
−るレンズ(68)とからなる被写体面に111かれた
被写体(66)の非周期的欠陥を分離−1る装置にJ3
いて、 前記ノーリ]−変換面(69)に子世代写真光学空間フ
ィルターを石肌自在に配設jることを特徴とする装置。 15、 前記二】ヒーレン]・光線(42)を、前記
被写体く66)に向(プる前に被写体光〈50)と対照
光(52)とに分割して、この被写体光(50)を前記
被写体に向けるようにしたビーj\ス1リッター (4
g)と、 前記w!、写体のホログラムを記録する装置(70)で
゛あって、前記1ノンズ(68)がこの記録装置(70
)−1−またはその一方の11!1面近傍に前記被゛す
。 体情報を包含づ−る前記光線を更に結像するような装置
(70)と、 前記対照光<52)を、所定の人用角で第一の方向から
前記記録装置(70)−側面に向ける装置(M12)と
、 前記対照光(52)を、前記第一のブノ向とは正反対の
共1ジ方向で前記記録装fi&<70>の反対側面に向
けることによって、前記被写体光が通過したのとは正反
対の方向でレンズ(68)の中へ回折し、前記被写体<
66)に関−ヴる欠陥情報を前記被写体面に再構成する
装置(MIO,Mll)を更に包含する特許請求の範囲
第14偵記載の装置。 16、 被写体面内に配設された被写体く6G)また
はそれ(こ類似の被写体に対応する光学空間フィルター
の装)外方法におい(゛、 光源(40)からの第一のコヒーレント光線〈50)が
被写イホ(66)に、1、って回折おJ、び/または反
射されて、この光線が前記被写体に関する光学情報を包
含するように前記光線(50)を前記被写体に向()、 前記被写体情報を包含りる光線がノーリニ[変換面(6
9)を形成するように集光し、第一の写真感光板を前記
フーリエ変換面(69)に配設し、このノーり丁変換面
〈69)内の高強度領域だEノを記録ブるに十分な時間
、前記被写体情報を包含づる光線で前記感光板を露光し
、前記第一の感光板を現像して、前記高強度領域に対応
する暗部を生成させた後、この感光板を・前記変換面(
69)にd3りる元の位置に置き、前記変換面(69)
に向(プられた高強度光を減衰さゼ、 前記光&(40)からの第二の:1ヒー1ノント光線<
52)を第一の方向から(よ前記変換面(69)の先に
あるホログラ−ノイー記録面り70)に向【ノ、この間
前記第一の光線(50)は前記?lA”7体(66)に
向け、前記第二の光線(52)と、前記被写体情報から
前記第一の感光板によって減衰された情報を差し引いた
情報を包含−づる光線とにJ、って、前記記録面に干渉
模様を形成づるよう(こし、前記記録面に前記部分的に
減衰された被写体情報の第一ホログラム(88)を記録
し、第一の光線(50)を除き、 前記変換面(69)から第一の感光板を除き、前記変換
面(69)に第二の写真感光板を置き、前記第二の光線
(52)を前記第一の方向とは反対の第二の方向から前
記記録面の前記11\L)グラム(こ向けることによっ
C1前記第二の感光板を前記第二のビーム(52)から
の光で、前記第一の写真感光板上に記録された強Fi領
域よりし低い強度の前記変換面内の領域と、前記第=−
のホ■−lグラノ、の記録中に第一の感光板によって減
真された九の高強度領域との内領域を記録づる)こ十分
イz i+、’i間、露光し、11a記第二の感光板を
現像しで、その上に前記低張1哀領域と前記の元の高強
度領域に対応する暗部を生成させる段階からなる方法1
゜17、 前記第一の写真感光板を露光後に前記変換
面(69)から離れた位置に取り除い(現像【)、次い
で前記変換面((i9)に再設置し、前記第二の写真感
光板を露光後に、ifj記変換面(69)から離れた位
1べに取り除いて現像りる特許′[請求の範囲第16頂
記載の方法。 18、 前記第一および第二の写真感光板を露光ど1i
il Rに振動させる段階を特徴とする特許請求の範囲
第16項または第17項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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US453408 | 1982-12-27 | ||
US06/453,408 US4516833A (en) | 1982-12-27 | 1982-12-27 | Production of high performance optical spatial filters |
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Publication Number | Publication Date |
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JPS59170876A true JPS59170876A (ja) | 1984-09-27 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58252425A Pending JPS59170876A (ja) | 1982-12-27 | 1983-12-27 | 高性能光学空間フイルタ−の製造 |
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JP (1) | JPS59170876A (ja) |
KR (1) | KR840007459A (ja) |
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