JPS5916482B2 - 噴霧乾燥装置 - Google Patents

噴霧乾燥装置

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Publication number
JPS5916482B2
JPS5916482B2 JP3186780A JP3186780A JPS5916482B2 JP S5916482 B2 JPS5916482 B2 JP S5916482B2 JP 3186780 A JP3186780 A JP 3186780A JP 3186780 A JP3186780 A JP 3186780A JP S5916482 B2 JPS5916482 B2 JP S5916482B2
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JP
Japan
Prior art keywords
rotating disk
spray drying
temperature gas
slurry liquid
air
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Expired
Application number
JP3186780A
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English (en)
Other versions
JPS56129001A (en
Inventor
博 阿部
正紀 板垣
典秋 持田
紳義 小川
昇夫 畠山
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JFE Engineering Corp
Original Assignee
Nippon Kokan Ltd
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Publication date
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Priority to JP3186780A priority Critical patent/JPS5916482B2/ja
Publication of JPS56129001A publication Critical patent/JPS56129001A/ja
Publication of JPS5916482B2 publication Critical patent/JPS5916482B2/ja
Expired legal-status Critical Current

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  • Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
  • Glanulating (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、スラリー液を回転円盤の噴出孔から微粒什し
て噴霧し、噴霧された液滴を高温ガスで乾燥する装置に
関する。
一般にスラリー液の噴霧乾燥装置には、「二流体ノズル
力式のもの」、「圧力噴射ノズル力式のもの」及び「回
転円盤方式のもの」がある。
回転円盤方式は、回転円盤の遠心力を利用してスラリー
液を噴霧し、この液滴を高温ガスで乾燥するもので、こ
のものは、原液スラリーの供給調節範囲が大きく、且つ
スラリー液の微粒化、及び噴霧特性に優れているもので
ある。
しかし、回転円盤が高温ガスの熱影響を受けて、噴出孔
内部にスケールが耐着しやすく、長時間の使用により効
率が低下するとともに、メインテナンスに手間がかかる
欠点がある。
このようなことから本発明者は、スケールの耐着状態及
び耐着物について研究した結果、噴出孔の先端内壁から
スケールの耐着がはじまり、これが中心部へと進行して
全面的に噴出孔が閉塞されることがわかった。
又閉塞したスケールを分析した結果、このものは、原液
のスラリーが乾燥したもので、しかもこの乾燥の原因は
、高温ガスにより回転円盤自体が外部から加熱されてい
ることと、円盤の回転によりスラリー液が噴出する際、
高温ガスが、スラリー液とともに噴出孔内に吸入される
ためであることが判明した。
本発明はこのような知見にもとづいてなされたもので、
その目的とするところは、スケールの耐着を防止し、長
時間使用しても効率を維持でき、しかもメインテナンス
が容易な回転円盤方式の噴霧乾燥装置を得んとするもの
である。
すなわち本発明は、装置本体内に、高温ガス流入口と、
周面にスラリー液噴出孔を備えた回転円盤と、を具備し
、スラリー液を高温ガスで乾燥する噴霧乾燥装置におい
て、上記回転円盤の上刃及び下刃に空気吹付管を設けて
、該円盤の上面又は下面に冷却用空気を吹付けて高温ガ
スが噴出孔内に入るのを防止するエアカーテンを形成し
た噴霧乾燥装置である。
更に本発明は冷却用空気が、水滴を含むものである。
以下本発明を図示する実施例を参照して説明する。
第1図は、噴霧乾燥装置の断面図で、この装置は、装置
本体1内の上部に高温ガス流入口2と回転円盤3とを設
け、更に該回転円盤3のより及び下刃に空気吹付管4,
5を設けている。
上記高温ガス流入口2は、装置本体1の上部に形成され
ている。
又回転円盤3は回転軸6に取付けられ、この回転軸6の
周囲に保護管7を設けている。
この回転円盤3は第2図及び第3図に示すように底板8
と上蓋9との間に複数個のスラリー液噴出孔10を周面
に向けて放射状に形成している。
回転円盤3の土力の空気吹付管4は上記保護管7を囲う
ようにリング状に取付けられ、回転円盤3の上面に向け
て複数の空気噴出孔4aを設けている。
回転円盤3の下方に位置する空気吹付管5は回転円盤3
に向けてラッパ状に広がった空気噴出孔5aを設けてい
る。
なお甲申11はガス流出管、12は生成物排出管である
この噴霧乾燥装置は、原液のスラリー液が、保護管7と
回転軸6との間を通って回転円盤3内に入ると、この円
盤3の回転で生じた遠心力により、スラリー液を噴出孔
10から微粒化して噴出する。
−力高温ガス(例えば300〜350℃の空気)は、流
入口2から流入し、この高温ガスで液滴を乾燥する。
ガスは、ガス流出管11を通って外部に排出され、−力
乾燥した生成物は生成物排出管12から排出される。
しかしてこの噴霧乾燥工程において、空気吹付管4,5
から回転円盤3の上面及び下面に向けて冷却用空気が吹
付けられる。
この空気は、通常常温程度のものでその効果を奏するが
、又冷却効果を高めるために水滴を含むようにしてもよ
い。
この装置によれば、空気を吹付けて回転円盤3を冷却し
ているので、噴出孔10内のスラリー液は加熱されず、
加熱による乾燥を防ぐことができる。
しかも空気吹付管4の空気は、保護管7と回転円盤3と
の隙間をふさぎ、いわばエアーカーテンの作用をなし、
このため、高温ガスが噴出孔10内に入るのを防止する
ことができる。
以上のように本発明によれはスラリー液が、噴出孔10
内で乾燥閉塞することがなく、この結果、スラリー液が
良好に噴霧され、長時間使用しても乾燥効率を維持でき
、しかもメインテナンスが容易となる。
このことは以下に示す実施例によって確認された。
実施例 噴霧乾燥装置として第1図に示すものを用い、下記条件
でスラリー液(石膏スラリー)を乾燥した。
この結果48時間以上経過しても噴出孔はなんら閉塞は
生じず、乾燥した石膏の生産効率を良好に維持すること
ができた。
これに対し冷却用空気を全く吹付けない場合は、2〜4
時間後に噴出孔の閉塞が生じてしまった。
以上の結果から明らかなように本発明によれば噴出孔内
でのスラリー液の乾燥を防止することにより、生産効率
を長時間にわたって維持し、メインテナンスを容易とす
ることができる効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す噴霧乾燥装置の概略説
明図、第2図は同装置の回転円盤の断面図、第3図は回
転円盤の平面図、第4図は同装置の要部断面図である。 1・・・・・・装置本体、2・・・・・・高温ガス流入
口、3・・・・・・回転円盤、4,5・・・・・・空気
吹付管、4aJ5a・・・・・・空気噴出孔、6・・・
・・・回転軸、7・・・・・・保護管、8・・・・・・
底板、9・・・・・・上蓋、10・・・・・・スラリー
液噴出孔、11・・・・・・ガス流出管、12・・・・
・・生成物排出管。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 装置本体内に、高温ガス流入口と、周面にスラリー
    液噴出孔を備えた回転円盤と、を具備し、スラリー液を
    高温ガスで乾燥する噴霧乾燥装置において、上記回転円
    盤の上方及び下刃に空気吹付管を設け、該円盤の上面又
    は下面に冷却用空気を吹付けて高温ガスが噴出孔内に入
    るのを防止するエアカーテンを形成した噴霧乾燥装置。 2 冷却用空気は、水滴を含むものである特許請求の範
    囲第1項記載の噴霧乾燥装置。
JP3186780A 1980-03-13 1980-03-13 噴霧乾燥装置 Expired JPS5916482B2 (ja)

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JP3186780A JPS5916482B2 (ja) 1980-03-13 1980-03-13 噴霧乾燥装置

Applications Claiming Priority (1)

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JP3186780A JPS5916482B2 (ja) 1980-03-13 1980-03-13 噴霧乾燥装置

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JPS56129001A JPS56129001A (en) 1981-10-08
JPS5916482B2 true JPS5916482B2 (ja) 1984-04-16

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ID=12342989

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