JPS59164601A - 炭化水素転化方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、炭化水素転化に関するものであり、更に詳し
くいえば、全処理作業における効率を最高にするために
、重質炭化水素留分の水素化処理中に発生される種々の
流れを利用するための方法に関するものである。

〔発明の背景〕

当業者に周知のように、重質炭化水素油を通常の精製プ
ロセスへの原料として使用できるより軽質の炭化水素へ
変えるために重質炭化水素油を水素化処理することが望
ましい。効率の高い作業を行なうためには、廃棄流中の
有価成分を精製装置が最大限に利用することを必要とす
る。

〔発明の概要〕

本発明の目的は、重質油の水素化処理を行なうための新
規な方法と装置を得ることである。本発明の別の目的は
、水素化処理作業と合成ガス発生作業を統合することで
ある。

本発明の１つの面によれば、本発明の新規彦方法は、約
３７１〜４５４℃（７００〜８５０　Ｆ　）および約１
４０、６〜２４６．　Ｉ　ＫＰ／Ｃｒｎ′（２０００〜
３５００ｐｓｉｇ　）の水素分圧において、水素化処理
触媒の存在の下に約５２４℃（約９７５　Ｆ　）以上の
９５％沸点を有する重質炭化水素原料を水素化処理する
ことにより、（１）前記重質炭化水素原料の沸点以下の
沸点を有する水素化処理された炭化水素と、（１１）水
素と、（Ｉｌｌ）アンモニアおよび硫化水素と、（１ｖ
）低位炭化水素と、を含む製品流を製造する工程と、 水素と、アンモニアと、硫化水素と、低位炭化水素とを
含む分離ガス流を前記製品流から分離させる工程と、 前記分離ガス流の少なくとも一部を合成ガス発生反応領
域へ送り、その合成ガス発生反応領域において、遊離酸
素含有ガスと温度緩和材の存在の下に炭化水素原料流を
ガス化することにより増加した量の製品合成ガスを製造
する工程と、前記製品合成ガスを回収する工程と、 を備える。

本発明の方法の実施に使用できる重質炭化水素原料の組
成は約５２３℃（約９７．５　Ｆ　’）以上、一般的に
は約５２３〜９６５．５　十℃（９７５〜１０５０＋″
Ｆ）、の９５％沸点を有することを特徴とするものであ
る。

それらの原料の組成は、ＡＰＩ比重が１５以下、なるべ
く−１０〜１５、たとえば約２．８であって、ｉｂｐが
約５２３〜５５１゜６℃（９７５〜１０２５’７；”）
たとえば約５２３℃（９７５Ｆ　＞で、ｅｐが約９７５
〜９６５．５十℃（９７５〜１０５０　＋Ｆ　）たとえ
ば約９６５．５　十℃（１０２５十Ｆ　”）であること
を特徴とする。硫黄の含有率は２〜８ｗ％たとえば５．
７Ｗ％であり、窒素含有率は０．０１〜ＩＷ％たとえば
０．４ｗ％である。

重金属も一般に含まれ、たとえばニッケルが１００・〜
１０００１００Ｏたとえば１２２ｗｐｐｍ、バナジウム
が１００〜１０００１００Ｏたとえば４００〜６００ｗ
ｐｐｍ　　たとえば４３９　ｗｐ　ｐｍ　である。

それらの原料の組成は一般的に真空塔底部留分（ｖａｃ
ｕｕｍ　ｂｏｔｔｏｍｓ　）、残渣油（ｓｈ’ｏｒｔ　
ｒｅｓｉｄ）、アスファルト、タール、ピッチなどとし
て一般的に識別できる。

たとえばある原料の組成は次のようなものである。

（１）真空塔底部留分　　　　　　　２．８ＡＰＩ９５
％以上　　　　　　　　５２３℃（９７５Ｆ）硫黄　　
　　　　　　　　　５．７ｖ％窒素　　　　　　　　　
　　０．４ｗ％炭素　　　　　　　　　　　８３．９６
　ｗ％水素　　　　　　　　　　　９．８８ｗ％灰分（
全量）　　　　　　　　０．０６ｗ％コンラドンン炭素
（ＣＣＲ’）　　　　　２４．３ｗ％（ＩＩ）タール（
５６０℃（１０４０Ｆ＋）　）　　　　−９ＡＰＩ硫黄
　　　　　　　　　　　７．８ｗ％窒素　　　　　　　
　　　　０．８６ｗ％炭素　　　　　　　　　　　８４
．１ｗ％水素　　　　　　　　　　　７．２ｗ％灰分　
　　　　　　　　　　　０．０１　ｗ％（Ｉｌｌ）ピッ
チ（５６０℃（１０４０Ｆ＋））　　　　　−４，０３
ＡＰＩ硫黄　　　　　　　　　　　４．１ｖ％窒素　　
　　　　　　　　　０．７ｖ％炭素　　　　　　　　　
　　８７．９ｗ％水素　　　　　　　　　　　７．１ｖ
％灰分　　　　　　　　　　　０，２ｖ％−５−＾ 本発明の方法の好適な実施例においては、原料炭化水素
油の２５１．８７６部に、粒子寸法が１〜１０ミクロン
のほぼ純粋（９５Ｗ％以上）の炭素である油煙（スート
）をθ〜ＩＷ％たとえば０．３５ｗ％含む油煙−重質油
のリサイクル流Ｏ〜１５０，０００部、たとえば１２５
．０００部をなるべく混合する。リサイクル流には、Ａ
ＰＩ比重が−５〜−１５たとえば−８，３で、９５Ｗ％
沸点が低くとも５５１．６℃Ｃ１０２５Ｆ　）である重
質油がθ〜１５０，０００部たとえば１２５，０００部
含１れる。

組合わされた液体流（２５１，８７６〜４０１　、８７
６部たとえば３７６．８７６部）を約３７１〜４５４℃
（７００〜８５０　Ｆ　）たとえば４２７℃（８００Ｆ
　）に加熱してから、水素化処理操作へ送る。

また、原料水素３，０００〜ｉｏ　、ｏｏｏ部たとえば
７，０００部と、１１　、５００〜３９　、０００部た
とえば２７．０００　部の水素を含むリサイクル流１２
，０００〜４０．０００部たとえば２８．０００部と、
低位（Ｃ１〜Ｃ４）炭化水素、主としてメタン、５００
〜１．０００部たとえば１，０００部とを混合すること
により形成された水素含有流も６− 水素化処理領域へ入れられる。このガス流を加熱器ニオ
イテ約３７１〜４５４℃（７００〜８５０Ｆ）たとえば
約４２７℃Ｃ８００Ｆ　）に加熱してから水素化処理領
域へ送る。

水素化処理は、約１４０．６−２４６．１　Ｋ９７ｃｍ
”　（２，０００〜３，５００　ｐｓｉｇ　＞たとえば
２１０．９Ｋｙ／ｃｍ’　（３，０００ｐｓｉｇ）の条
件において、水素と触媒の存在の下に行なわれる。典型
的々水素化処理触媒はアルミナ上のコバルト−ニッケル
または０．７９ｍ＋＊（１／　３２インチ）エクストル
−ディ）　（ｅｘｔｒｕｄａｔｅ）アルミナ上のコバル
ト−モリブデンである。

５０〜８０ｗ％たとえば７２ｗ％の水素と、１５〜２０
ｗ％たとえば１６ｗ％の低位炭化水素（Ｃ＋〜（’４）
、主としてメタン、と、０．１〜０．５ｗ％たとえば０
．２Ｗ％のアンモニアと、０．２〜０．９ｗ％たとえば
０．７ｗ％の硫化水素とを含む水素化処理した廃ガスか
ら、約４８．９℃（１２０ＦＣ冷却後））の温度で約１
８０．０００〜２００．０００部たとえば１８０　、０
００部の量のガスを、約１０５．５〜１４０．６　Ｋｙ
／ｃｒｎ”　（１，５００〜２．０００ｐｓｉｇ　）た
とえば１０５．５Ｋｙ／ｃｒｎ”　（１，５００ｐｓ１
ｇ）の圧力で分離する。そのガスをパージガスとして収
集マニホルドへ送り、かつ温度緩和材および補充原料と
して合成ガス発生領域へ送る。

分離領域からの、温度が約１７７〜２３２℃（３５０〜
４５０　Ｆ　）たとえば２０４℃（４００Ｆ　）、圧力
が約４２、２〜６５・、　２Ｋｙ／ｃｍ”　（６００〜
８００ｐｓｉｇ　）たとえば５２、７Ｋｙ／ｃｒｎ”　
（７５０ｐｓ１ｇ　）であるその分離された高圧の液体
（２００，０００〜３９０．０００部たとえば３８０，
０００部）を、ナフサと、１〜３ｗ％たとえば２．５ｗ
％の油煙（主として炭素）とを含む液体リサイクル流３
．０００〜７，０００部たとえば５　、０００部になる
べく組合わせ、組合わせた流れを分留して塔頂ナフサと
、重質炭化水素留分と油煙を含む重質塔底スラリ流とを
回収できるようにする。そのスラリ流は合成ガス発生領
域へ送る。この操作はなるべく２段階で行なう。１つの
段階は中間留分蒸留操作であり、他の１つの段階は真空
蒸留操作である。本発明の好適が実施例においては、ナ
フサと油煙を含む水素化処理された炭化水素流をまず中
間留分蒸留操作領域へ送る。・ 中間留分蒸留塔の塔頂留分をガス・ストリンパへ送り、
そのガス・ストリッパから下記の成分（重量％）を含む
ストリッパ塔頂ガス（１，０００〜５．０００部、たと
えば２．５００部）を回収する。

水　　　　素　　　　　　　４０〜６０５０アンモニア
　　　　　２〜４３ ０１〜Ｃ４炭化水素　　　　２５〜５５４０Ｈ２Ｓ＋Ｃ
Ｏ８１〜１０　　　　　　　７不活性ガス　　　　　１
〜５２ このガスを収集マニホルドへ送って水素原料をリサイク
ルさせ、または温度緩和材および補充炭素原料として合
成ガス発生領域へ送る。

ガス−ストリッピング操作領域からの基底部留分は３５
．０００〜５０．０００部、たとえば４３．０００部を
含み、そのうちの５．０００部をとり出す。本発明の一
実施例においては、残りの流をデカンタ操作領域へ送る
ことができる。このデカンタ操作領域からのナフサと油
煙（１〜３ｗ％、たとえば２．５ｗ％）を含む上澄み液
（３，０００〜７，０００．たとえば５．０００部）を
中間留分蒸留操作領域へ原料として送る。

下記の性質を有する水素化処理した製品の側留（１２，
０００〜３０．０００部、たとえば１４，０００部）を
中間留分蒸留塔から回収する。

ＡＰＩ比重　５０〜６０　　　　　　　　　５５１ｂｐ
　　　　８２．２〜９３．３℃（１８０〜２００Ｆ）　
　８２．２℃（１８０Ｆ）５０％　　９３．３〜１４９
℃（２００〜３００Ｆ）　　１２１℃（２５０’Ｆ）ｅ
ｐ　　　　　１４９〜１９３℃（３００〜３８０’Ｆ）
　　１８２℃（３６０Ｆ）約１８２〜１９３℃（３６０
〜３８０　Ｆ　’）である中間留分蒸留塔からの基底部
留分（１８５，０００〜２７０　、０００部、たとえば
３００．０００部）の性質は次の通りである。

ＡＰＩ比重　３５〜４０　　　　　　　　３７ｉｂｐ　
　　　　１７７〜１８２℃（３５０−３６０’Ｆ）　　
１８２℃（３６０’Ｆ）５０％　　　２０４〜２１０℃
（４００〜４１０Ｆ）　　　２０４℃（４００７；’）
ｅｐ　　　　　　　５１０〜５２４＋℃（９５０〜９７
５士’＃’）　　　５２４＋″Ｃ（９７５−ｆ＃）中間
留分蒸留塔からの塔底留分は１８２〜１９３℃（３６０
〜３８０　Ｆ　）たとえば１８２℃＋　３６０　ｐ　）
で真空塔へ送られる。真空塔から下記の性質を有する軽
質軽油が（３７，０００〜６２，７６０部、たとえば６
２，７５０部）回収される。

ＡＰＩ比重　２５〜３５　　　　　　　　　２９ｉｂＰ
　　　　１８０〜２７９℃（３６０〜５３５Ｆ）１９３
℃（３８０７；”）５０％　　３１６〜３３５℃（６０
０〜６３５Ｆ）　　　３３５℃（６３５７；’）ｅ　ｐ
　　　　　３７９〜４２１℃（７１５〜７９０Ｆ）　　
　４２１℃（７９０Ｆ）また、下記の性質を有する重質
軽油（２５，０００〜３５．０００部、たとえば３３　
、０００部）も回収される。

ＡＰＩ比重　１５〜２５　　　　　　　　　２２ｉｂｐ
　　　　３１６〜３３５℃（６００〜６３５Ｆ）　　　
３１６℃（６００Ｆ）５０％　　　３７９〜４２１℃（
７１５〜７９０Ｆ）　　　４１３℃（７７５Ｆ）ｅｐ　
　　　　　５１０−５２４℃（９５０〜９７５Ｆ）５１
０℃（９５０Ｆ）真空塔からの基底部留分（スラＩＪ　
）　（２６，０００〜１９０．０００部、たとえば２６
，０００部）はＯ〜ＩＷ％、たとえば０．５ｗ％の油煙
（主として炭素）と油を含み、その性質は次の通りであ
る。

ＡＰＩ比重−１０〜−５−７ ｉｂｐ　　　　　　５２４〜５５２℃（９７５〜１０２
５”７”、）　　　　５２４十℃（９７５十Ｆ）真空塔
底部留分の一部（０〜１５０　、０００部たとえば１２
５，０００部）を水素化処理のための原料としてリサイ
クルさせることができ、残りは合成ガス発生領域へ送る
ことができる。

ガス発生領域への原料には次のものが含まれる。

（１）約２３２〜３４３℃（４５０〜６５０Ｆ）、たと
えば約２６０℃（５００″Ｆ）および約２１．１〜８４
．３６　ＫＰ／ｌ：ｍ　”（３００〜１．２００ｐｓｉ
ｇ　）、たとえば約５２．７Ｋｙ　７ｃｍ”（７５０ｐ
ａｉｇ　）で入れられる２６．０００〜４１．０００部
、たとえば２６，０００部の真空塔底部留分（一実施例
においては０〜１ｗ％、たとえば０．３５ｗ％の油煙を
含む）。

（１１）約１２１〜１７７℃（２５０〜３５０　Ｆ　）
、たとえば約１４９℃（３００Ｆ　）の温度および約５
６．２〜１０５．５Ｋｙ／ｃｒｎ”　（、８００〜１．
５００ｐｓｉｇ　）、たとえば約６３．３Ｋｐ／ｃｒｎ
”　（９００ｐａｉｇ）の圧力で入れられる、純度が９
８−９９．５ｗ％、たとえば９９．５　ｗ％の酸素７３
，０００〜７５．０００部、たとえば７３．０００部。

（Ｉｌｌ）　　前記ガス分離領域とガス・ストリッピン
グ塔頂留分から得たガスの少なくとも一部を含むベント
ガスおよびパージガス（温度緩和材および補充原料とし
て）　ｉｓｏ、ｏｏｏ−２００，０００部、たとえば１
８０．０００部。それら全部のガスは典型的には次の成
分を含む。

成ヨーー盆−部　　　　　　好適な領 水　　　素　　　　　　１００．０００−１５０．００
０　　１２９，０００アンモニア　　　　　　　４００
〜８００　　　　　　６００Ｃ１〜Ｃ４炭化水素　　　
３０，０００〜６５．０００　　　４８，０００Ｈ２Ｓ
十〇Ｏ８２００〜１．０００　　　　１，０ω不活性ガ
ス　　　　　　　７００〜３，５００　　　　１．４０
００Ｖ）　　約６３．３〜１０５．５Ｋｙ／ｃｒｎ”　
（９００〜１．５００ｐｓｉｇ）、たとえば約６６．８
Ｌｙ／ｃｍ”　（９５０ｐｓｉｇ　）で入れられるスチ
ーム（補充温度緩和材として）０〜１５０．０００部、
たとえばＯｓ。

本発明の一実施例においては、真空塔底部留分には油煙
を含ませなくでき、また、合成ガス発生領域へ入れるこ
とができる。

（ｖ）１〜２Ｗ％、たとえば１．５部％の油煙を含む、
約２０４〜２６０℃（４００−５００Ｆ　）、たとえば
約２６０℃（５００Ｆ）の温度および約６２．３〜７０
．３　ＫＷ／ｃｒｎ”（９００〜１，０００ｐｓｉｇ　
）、たとえば５５．３Ｑ／ｃｒｎ”（９５０ｐｓｉｇ　
）の圧力である。合成ガス発生領域からの水性塔底留分
０．５〜１．２部、たとえば０，５部。

原料物質、典型的には液体炭化水素と、固体と、遊離酸
素含有ガスと、温度緩和材とが、たとえば米国特許第２
．８１８．３２６号明細書に開示されている部分酸化合
成ガス発生器へ入れられる。この合成ガス発生器は、耐
熱材料を内張すされた垂直円筒鋼圧力容器内の環状バー
ナー（代表例は米国特許２，９２８，４６０号明細書に
開示されている。）を含む。

原料成分が反応容器燃焼室の中に入れられると、不完全
燃焼が打力われて、水素と、−酸化炭素と、スチームと
、二酸化炭素とを主として含む高温の生成生ガスを生ず
る。典型的に存在することがある他の物質は硫化水素と
、硫化カルボニル（ＣＯＳ）と、メタンと、アンモニア
と、窒素と、アルゴンにより代表される不活性ガスなど
である。

純粋な酸素が燃焼室に供給された場合に発生される生成
ガス中の主がガス成分には下記の物質が含まれる（乾燥
状態における容量％）。

−酸化炭素　　　　　３０〜６０　　　　　４７水素　
　　　　　　　５〜４０　　　　３６二酸化炭素　　　
　　　５〜３５　　　　　１５硫化水素十ｃｏｓ　　　
　　ｏ〜５１ 窒素　　　　　　　　θ〜５１ メタン　　　　　　　０〜２０．２ 不活性ガス　　　　　　　Ｏ〜１．５　　　　　　０．
１ガス発生領域の燃焼室内のオートジニアス温度は、約
７．０３〜１７５．８Ｋｙ／ｃｒｎ”　（１００〜２，
５００ｐｍｉｇ）好ましくは約３５．２〜８４．４Ｋｐ
／ｍ”　（５００〜１．２００ｐｓｉｇ）、ｆｒニー　
トＬハロ３．３Ｋｙ／ｃｆｎ”　（９００ｐｓｉｇ）に
おいて約１．０９３〜１．６４９℃（２，０００〜３，
０００　Ｆ　）、たとえば１　、３９９℃（２，５５０
Ｆ　）とすることができる。

ガス化のための原料の燃焼室内での滞留時間は１〜１０
秒、好ましくは１〜７秒で、たとえば３〜５秒とするこ
とができる。

融けているスラグに加えて、生成合成ガスは、フィード
中に約０．１〜２０　ｗ　％　％典型的には１〜４Ｗ％
、たとえが２Ｗ％の有機炭素を含む粒子状の入相を含む
ことが見出されている。この粒子状相はガスの標準立方
メートル当り約０．５〜２０ｔまたとえば５Ｆｆに対応
する。

高温の生成合成粗ガスは反応領域の底の中央部に設けら
れている出口を通って反応領域を出る。

その出口は反応領域ガス発生器の中央長手軸と同軸状で
ある。ガスはその出口を下降し、それから、本発明の一
実施例においては、ガスは放射冷却器の上部に入る。そ
の放射冷却器の中に入る時のガスの温度は約１，０９３
〜１，６４９℃（２，０００〜３．０００Ｆ）たとえば
１，３９９℃（２５５０Ｆ　）である。放射冷却器の中
にガスが入るにつれてガスの直線速度は低くなる。その
放射冷却器はガス発生器の真下に、そのガス発生器の反
応領域の中央長手軸と同軸状にして力るべく配置する。

放射冷却器には耐熱ライニングが内張すされ、その耐熱
ライニングに入射する放射熱を放熱するための装置が設
けられる。その放熱装置は、燃焼室の主軸に平行に配置
された一連の連結管で構成された熱交換面をなるべく含
むようにする。それらの管の中を熱交換流体が通される
。

合成ガスは放射冷却器の中を通る間に熱放射により約４
８２〜８１６℃（９００〜１．５００　Ｆ　）、たとえ
ば約５９３℃（１，１００Ｆ）まで冷却される。その合
成ガスに含まれている灰と炭素は速度ヘッドおよび重力
ヘッドにより、収集点へ向って下向きに投げ出される。

灰と炭素は、合成ガス発生器の下側部分にためられてい
る水に接触させて０．５〜２Ｗ％、たとえば１ｗ％の油
煙を含む水−油煙流を形成する。その水−油煙流を合成
ガス発生器の下側部分から取り出し、それの一部を除去
する。本発明の好適な実施例においては、その水−油煙
流をリサイクルさせて合成ガス発生器へ供給できる。

約２０４〜３１６℃（４００〜６００　Ｆ）、たとえば
約２６０℃（５００Ｆ　）の温度で、約４２．２〜５６
．２　Ｋｙｙｔ’ｍ”（６００〜８００ｐｓｉｇ　）、
たとえば５２．７　Ｋｙ／ｃｒｎ”　（７５０ｐｓｉｇ
　）の圧力である生成合成ガス（２０６，０００〜２４
１．０００部、たとえば２００　、０００部）を油煙洗
状領域へ送り、そこでその生成合成ガスを氷状の流体、
典型的には約１７７〜２３２℃（３５０〜４５０″Ｆ）
、たとえば約２３２℃（４５０Ｆ　’）の水に接触させ
る。油煙洗状領域からの塔底部留分は油煙（主として炭
素）を０．５〜２ｗ％含む水である。

水に油煙が含まれているその流れ（油煙流状領域からの
基底部留分）を合成ガス発生器へ送り、その合成ガス発
生器においてその流れに合成ガスを接触させる。約２０
４〜３１６℃（４００〜６００　Ｆ　）、Ｋｙ／Ｃｒｎ
”　（７５０ｐａｉｇ　）の圧力で合成ガス発生器から
出た水は、０．５〜２ｗ％、たとえばＩＷ％の油煙を含
む。

合成ガス発生器から取り出された水−油煙流を合成ガス
発生器へ供給するためにリサイクルさせることができ、
または本発明の好適な実施例においては、その水−油煙
流を、約１２１〜１７７℃（２５０〜３５０　Ｆ　）、
たとえば約１４９℃（３００Ｆ）の温度のナフサ４．０
００〜６．０００部、たとえば５．０００部に接触させ
ることができる。この接触操作中に、ナフサが油煙を抽
出して３　、０００〜７　、０００部、たとえば５　、
０００部の軽ナフサー油煙相と、２５　、０００〜１０
０．０００部、たとえば５０，０００部の水相とを形成
する。その混合物をデカンタへ送り、そのデカンタから
上部ナフサ−油煙相を取り出して中間分留塔へ送り、下
側の水相をフラッシュ塔へ送る。

そのフラッシュ塔において残っているナフサをフラッシ
ュし、それから水を油煙抽出領域ヘリサイクルさせる。

灰を含んでいる水の一部を取り出し、必要に応じて新し
い水を加えることができる。

約１９１〜２３２℃（３７５〜４５０　Ｆ　）、たとえ
ば２１６℃（４２０Ｆ　）の温度および約４２．２〜５
６，２Ｋｙ／ｃｍ”　（６００〜８００ｐａｉｇ　）、
たとえば５０．６　Ｋｙ／ｃｒｎ＊”（７２０ｐｓｉｇ
　）の圧力で油煙流状領域を出た合成ガスをシフト変換
部（５ｈｉｆｔ　ｃｏｎｖｅｒｓｉｏｎ　）領域へ送り
、そこでシフト変換触媒の存在の下に、約３４３〜３９
９℃（６５０〜７５ｏＦ）、’たとえば約３７１℃（７
００Ｆ　’）の温度に予熱して、約４２，２〜５６．２
Ｋｇ／ｃｍ”　（６００〜８００ｐｓｉｇ　）、たとえ
ば約５６．６Ｑ壽（７２０ｐｓｉｇ　）の圧力で変換す
る。この場合に行なわれる主な反応は、水と一酸化炭素
の間に行なわれて水素と二酸化炭素を発生する反応であ
る。生成ガスには下記の成分が含まれる（容量％）。

成　　分　　　　　容量範囲　　　　典型的な値−酸化
炭素　　　　　０．５〜１０．５水素　　　　　　　５
０〜７０　　　　　６９．５二酸化炭素　　　　　２０
〜３５　　　　　３０なるべくなら、約１３５〜１６３
℃（２７５〜３２５７？）、たとえば約１４９℃（３０
０Ｆ　）のそのガスを酸性ガス除去操作領域へ送り、そ
の領域において酸性ガスを除去し、水素約９７〜９９．
５　ｖ％、たとえば９８．５　ｖ％と、メタン０．５〜
３ｖ％、たとえば１．５ｖ％と、不活性ガスとを含むガ
スを得て、そのガスを水素化処理領域ヘリサイクルさせ
ることができる。

本発明の特徴は下記の通りである。

（１）重質油の水素化処理から得られたオフガス流に含
まれる炭素を合成ガス発生領域において利用し、水素化
処理において用いる水素がその合成ガス発生領域におい
て発生されること。

（１）　　オフガス流中の不活性ガス成分（水素、硫化
水素、アンモニアなど）が合成ガス発生における一２ｉ
−。

温度緩和材として機能し、それにより合成ガス発生にお
ける温度緩和材としてのスチームの必要を減少させる（
またはある実施例においては無くす）こと。

（Ｉｌｌ）　　水素化処理中に発生されたアンモニアガ
スと硫化水素含有ガス合成ガス発生領域へ送られるから
、水素化処理に通常必要とする酸性ガス除去装置と廃水
処理装置を無くすことができること。

（ＩＶ）　　ガス化装置において０１〜Ｃ４炭化水素を
燃焼させることにより水素含有オフガスが純化され、か
つ合成ガス発生器の浄化部においてその他の不純物が除
去されるから、水素回収装置（典型的には水素化処理に
組合わされる）が不要となること。

（Ｖ）　、、副生物中にアンモニアが存在するために下
流側の回収作業におけるアンモニアの濃度が高くなり（
粗水ス）　ＩＪツバ塔頂留分を含む）、シたがってアン
モニアの経済的な回収の実現に寄与すること。

（ＶＤ　　ナフサがナフサ（ガス拳ストリッパ）塔にお
ける油煙抽出領域へのチャージから回収されるか２２− ら、従来の技術とは異なり、独立したナフサ・ストリッ
プ操作は不安となること。

（Ｖｉ＋’）合成ガス副生品中に含まれている炭素が液
体製品に変えられること。

し実施例〕 以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。

実施例Ｉ 第１図に示されている本発明の実施例に従って、重質炭
化水素原料油（２５１，８７６部）を管１０を通って入
れる。その重質炭化水素原料油は炭素を８３．９６Ｗ％
と水素を９．８８ｗ％含み、９５ｗ％ｂｐが約５２４℃
＜９１５Ｆ）以上である２、８ＡＰＩ真空塔底留分であ
る。

油煙−塔底留分（１２５，０００部）のサイクル流も々
るべく管１１を通じて入れる。その油煙−塔底留分のリ
サイクル流は、油煙（本質的には９５ｗ％ｂｐが約５５
２℃（１，０２５”＃）である−８．３ＡＰＩ真空塔底
留分の９５＋Ｗ％の炭素である）０．３５ｖ％を含む。

組合わされた流は管１２の中で火災加熱器（ｆｌ−ｒｅ
ｄ　ｈｅａｔｅｒ　Ｎ　３内で約４２７℃（８００Ｆ）
まで加熱され、管１４を通って出る。

９８、５　＋ｗ％の純度の水素を含む水素流（７，００
０部）を管１５を通って入れ、その水素流を管１６にお
いてリサイクル水素流２８．０００　部に組合わせて管
１７において水素流を形成する。その水素流はＣ，−Ｃ
４水素プラス・アンモニア、硫化水素、アルゴンを含む
不活性ガスも含む。この水素流を火災加熱器１８におい
て約４２７℃（８００Ｆ　）まで加熱してから管１９を
通じて取り出し、管１４内の流に組合わせ、管２０を通
って水素化処理反応器２１へ送る。

水素化処理は反応器２１内で、約０．７９　ｍｍ　（１
／３２インチ）のアルミナ・エクストル−ディト上のコ
バルト−モリブデンの、触媒としての、存在の下に、平
均入口温度約４２７℃（８００Ｆ）、平均圧力約２１０
．９に５１／ｃｒｎ”　（３，０００ｐｓｉｇ　）の液
相において行々われる。反応器２１はガるべく沸騰ベッ
ド反応器（ｅｂｕｌｌｉｅｎｔ　ｂｅｄ　ｒｅａｃｔｏ
ｒ　）で構成する。その反応器においては液体水素に、
管２３を通じて入れられた触媒を接触させ、管９を通じ
て取り出す。

反応器から取り出された反応器流出流は管２４を通じて
分離器２５に集められる。分離器２５の内部の温度は約
２０４℃（４００Ｆ　）圧力は約５２．７に鮨２（７５
０ｐｓｉｇ　）である。主として水素（ｃａ　７２ｗ％
）、ｃ、−Ｃ４炭化水素、アンモニア、硫化水素、アル
ゴンを含む不活性ガスである凝縮されていないガス（１
８０，０００部）を管２４１通じて取り出し、その一部
を管２Ｔを通じて装置から除去できる。

分離器２５内の液体（３８０，０００部）をｖ２Ｂを通
じて取り出し、それに管２９を通じて送られてきた液体
くナフサと固体を含む５　、０００部）を組合わせてか
ら、管３０を通じて中間蒸留塔３１へ送る。ナフサ・プ
ラス・ガス（主として水素、Ｃｉ　−Ｃ４炭化水素、ア
ンモニア、硫化水素、アルゴンを含む不活性ガスである
）を含む塔頂留分を管３２を通じてガス・ストリッパ３
３へ送り、そのガス・ストリッパから管３４を通じて、
水素と、自−０４炭化水素と、アンモニアと、硫化水素
と、アルゴンを含む不活性ガスとを含む塔頂留分ガスを
回収する。

ナフサを４３，０００　部含むガス・ストリッパ３３か
らの塔底留分を管３５を通じてデカンタ３６へ送る。そ
の塔底留分の一部を管３７を通じて取り出すことができ
る。ナフサと固体２５ｗ％とを含むデカンタからの上澄
み液（ｓ、ｏｏｏ部）を管２９を通じて管２８へ送る。

中間蒸留塔３１から管３８を通じて取り出される副流（
２４，０００部）は中間留分を含む。中間蒸留塔３１か
ら管３９を通じて取り出される塔底留分は３７°ＡＰＩ
の炭化水素を３００．０００部含み、約３４３℃（６５
０Ｆ　’）のこの流は真空塔４０へ送られる。

真空塔４０からは軽質の真空軽油２７°ＡＰＩの６２．
７５０　部が管４１を通じて取り出され、重質軽油３３
．０００　部が管４２を通じて取吟出される。管４３を
通じて取り出される真空塔底留分には油煙０．３Ｗ％が
含まれる。その真空塔底留分の一部が管１１を通じて取
り出され、残りは管４４を通じて送られる。

このモードにおける合成ガス発生器へ供給される原料に
は次の成分が含まれる。

（１）管４４を通じて入れられる炭化水素プラス油煙（
０，３５ｗ％）２６．０００部。この油煙は細かい粒子
のほぼ純粋の炭素である。−７ＡＰＩの炭化水素のｉｂ
ｐは約５２４℃（９７５Ｆ　）である。

（１１）管４６を通じて入れられる酸素（純度ｃａ９９
．５Ｗ％）　７３，０００部。

（Ｉｌｌ）　　下記の成分を含み、管２６を通じて入れ
られるベントおよびパージ緩和ガスと補充原料１８０．
０００部。

水　　　素　　　　　　　　１２９，０００アンモニア
　　　　　　　　　６００ ｃ、−ｃ４水素　　　　　４８，０００Ｈ２Ｓ±ＣＯ８
１，０００ 不活性ガス　　　　　　　　１．４００それらの成分は
管４５を通じて合成ガス発生器４６へ送られる。合成ガ
ス発生器において原料が燃焼することによりその内部の
温度が約１．５３８℃（２，８００Ｆ　）まで上昇し、
下記のガス成分を含む合成ガスが発生されるにつれて内
部圧力が約６３．３Ｋｇ／ｃｍ”　（９００１）ｇｉｇ
　）になる。

ＣＯ４６，７ ２３６ Ｃ（ｈ　　　　　　　　　　１５ ＨｍＳ十〇Ｏ８１ Ｎｇ　　　　　　　　　　　Ｉ ＣＨ４０，２ 不活性ガス　　　　　　　　０．１ 温度が約２６０℃（５００Ｆ　）、圧力が約５２．７Ｋ
Ｖｃｒｎ２（７５０ｐｓｉｇ　）の製品合成ガスが管４
１を通じて油煙洗浄器４８へ送られ、そこで管５０を通
じて回収される。２３２℃（４５０Ｆ　）の洗浄流体（
水）が管４９を通じて油煙洗浄器の中に入れられている
様子が示されている。

油煙洗浄器４８からの塔底留分（約２３２℃（４５０Ｆ
）、約５２．７に９／ｃｍ”　（７５０ｐｓｉｇ　））
は微小な粒子の油煙を０．３５ｗ％含む。その水−油煙
流は管５１を通じて合成ガス発生器４６へ送られ、そこ
で東に油煙を除去する。水−油煙流は管５２を通じて合
成ガス発生器４６から出る。（水と固体の一部を管６２
を通じてパージできる。）管５２の中の流に管３５から
のナフサが接触させられる。それら２種類の流が混合さ
れると、油煙が水相から取り出される。デカンタ３８に
おいては、上側のナフサ−油煙層が管２９を通じて分離
され、下側の水層が約１４９℃（３００Ｆ　）で管５３
を通じてフラッシュ塔５５へ送られる。水層に含まれて
いる炭化水素は洗い流されて管６１を通じて回収され、
必要があれば再使用される。この時に灰分を含むことが
見出された水の一部を管５４を通じて取り出すことがで
きる。残りの水を管４９を通じて油煙洗浄器４８へ送る
ことができる。必要に応じて新しい水を管２２を通じて
加えることができる。

合成ガス油煙洗浄器４８を出た約２１６℃（４２０Ｆ）
、約５０．６ＫＰ／ｃｒＩｔ”　（７２０ｐａｉｇ　）
の合成ガスが管５０を通じてシフト変換操作領域（５ｈ
ｉｆｔ　ｃｏ−ｎｖｅｒａｌｏｎ　ｏｐｅｒａｔｉｏｎ
）　　５６へ送られる。必要−２９−〇 があれば、または希望によっては、シフト変換操作領域
５６に供給される流にスチームを更に加える（面示して
ない）ことができる。シフト変換操作領域５６はシフト
触媒としてアルミナ上のコバルト・モリブデン酸塩を含
む。約１１６℃（２４０Ｆ　）に予熱されている供給ガ
スがシフト変換操作領域を通る間に起る主反応には、水
と一酸化炭素の間の反応が含まれ、その反応により二酸
化炭素と水素が発生される。管５Ｔを通じて取り出され
る典型的な合成ガスには下記の成分が含まれる。

−酸化炭素　　　　　　　　０．５ 水素　　　　　　　　　　６９．に 酸化炭素　　　　　　　　３０ Ｈｚ　Ｓ十〇Ｏ８０，１ Ｎ２を含む不活性ガス　　　０．１ メタン　　　　　　　　　　０．１ 管５７の中の合成ガスの全部または一部が酸性ガス除去
装置５Ｂを通って送られる。その酸性ガ３０− ス除去装置において酸性ガス、主として二酸化炭素、硫
化水素およびＣＯ８がトリエタノールアミンに吸収され
て除去される。

水素と一酸化炭素を含み、管５９を通じて取り出される
ガスは、圧縮機６０において圧縮され、管１６を通じて
リサイクルされる。

本発明のこの実施例の特徴は次の通りである。

（１）同量の原料酸素を用いて、従来の合成ガス発生方
法により得られるよりも多量の水素含有製品合成ガスを
製造できること。

（１１）スチーム温度緩和材を用いることなしに合成ガ
スを発生できること。

実施例田 第２図は本発明の方法の別の実施例を示すものである。

この実施例においては、プロセスの流れハ、合成ガス発
生器４６の底から出る水プラス固体（主として炭素）の
流が（管６２を通ってパージ流を取り出した後で）管４
５を通じて合成ガス発生器へ送られることを除き、第１
図に示すものと全体として同じである。

この実施例の利点は、第１図に示されている実施例から
デカンタとフラッシュ塔を無くしたことである。また、
この実施例は次のような利点を有するＯ （＋）　　中間蒸留塔へナフサを供給する必要が無いか
ら塔の寸法を小さくできる。

（１１）中間蒸留塔の真空塔へ供給される原料中に固体
が含まれないからそれらの塔の中で詰りか起ることが無
くなる。

第２図に示す実施例は第１図に示す実施例より低コスト
で製造できるが、合成ガス発生器内での油煙の発生を無
くすために酸素消費量が多いために運転費用が高くつく
。

最後に本発明の実施の態様を附記すれば、以下の通りで
ある。

（１）約３７１〜４５４℃（７００〜８５０　Ｆ　）お
よび約１４０、６〜２４６．１　Ｋ１７ｃｍ”　（２，
０００〜３，５００ｐｓｉｇ　）の水素分圧におりて、
水素化処理触媒の存在の下に約５２４℃（約９７５　Ｆ
　）以上の９５％沸点を有する重質炭化水素原料を水素
化処理することによす、（＋）　　前記重質炭化水素原
料の沸点以下の沸点を有する水素化処理された炭化水素
と、（１１）水素と、（Ｉｌ＋）　　アンモニアおよび
硫化水素と、（：Ｖ）低位炭化水素と、を含む製品流を
製造する工程と、 水素と、アンモニアと、硫化水素と、低位炭化水素とを
含む分離ガス流を前記製品流から分離させる工程と、 前記分離ガス流の少々くとも一部を合成ガス発生反応領
域へ送り、その合成ガス発生反応領域において、遊離酸
素含有ガスと温度緩和材の存在の下に炭化水素原料流を
ガス化することにより増加した量の製品合成ガスを製造
する工程と、 前記製品合成ガスを回収する工程と、 を備えることを特徴とする炭化水素転化方法。

（２）第１項記載の方法であって、約３７１〜４５４℃
（７００〜８５０Ｆ）および約１４０．６〜２４６．１
ＫＶｄ（２，０００〜３．５００ｐｓｉｇ　）の水素分
圧において、水素化処理触媒の存在の下に約５２４℃（
約９７５″Ｆ″）以上の９５％沸点を有する重質炭化水
素原料を水素化処理することにより、（１）前記重質炭
化水素原料の沸点以下の沸点を有する水素化処理された
炭化水素と、（１１）水素と、（ｌｉｌ）　　アンモニ
アおよび硫化水素と、（ｌｖ）　　低位炭化水素と、を
含む製品流を製造する工程と、 水素とアンモニアおよび硫化水素ならびに低位炭化水素
を含む分離ガス流と、前記重質炭化水素原料の沸点より
低い沸点を有する水素化処理された炭化水素を含む分離
された液体流とを前記製品流から分離させる工程と、 前記分離された液体流を中間留分蒸留操作で分留するこ
とにより、ナフサと低位炭化水素を含む中間留分蒸留操
作塔頂留分を製造する工程と、 ぬ ナフサ低位炭化水素を含む前記中間留分蒸留操作塔頂留
分をストリッピングすることにより、低位炭化水素を含
むストリッパ塔頂留分を製造する工程と、 前記分離ガス流と、低位炭化水素を含む前記ストリッパ
塔頂留分とのうちの少なくとも１つのうちの少々くとも
一部を合成ガス発生反応領域へ送り、その合成ガス発生
反応領域において、約１，０９３〜１．６９４℃（２，
０００〜３，０００　Ｆ　）および７．０４〜１７５．
８Ｋｙ／ｃｒｎ”　（１００〜２，５００ｐｓｉｇ）の
条件下で、温度緩和材の存在の下に炭化水素原料＠をガ
ス化することにより、増加した量の製品合成ガスを製造
する工程と、 前記製品合成ガスを回収する工程と、 を備えることを特徴とする方法。

（３）第１項記載の方法であって、約３７１−４５４℃
（７００〜８５０　Ｆ　）および約１４０．６〜２４６
．ＩＱ／ｉ（２，０００〜３，５００ｐｓｉｇ　）の水
素分圧において、水素化処理触媒の存在の下に、約５２
４℃（約９７５　Ｆ　）以上の９５％沸点を有する重質
炭化水素原料を水素化処理することにより、（１）前記
重質炭化水素原料の沸点以下の沸点を有する水素化処理
された炭化水素と、（４）水素と、（ｆｉｌ）アンモニ
アおよび硫化水素と、（１切　　低位炭化水素と、を含
む製品流を製造する工程と、水素とアンモニアおよび硫
化水素力らびに低位炭化水素を含む分離ガス流と、前記
重質炭化水素原料の沸点より低い沸点を有する水素化処
理された炭化水素を含む分離された液体流とを前記製品
流から分離させる工程と、 前記分離された液体流を中間留分蒸留操作で分留するこ
とにより、ナフサと低位炭化水素を含む中間留分蒸留操
作塔頂留分と中間留分蒸留操作塔底留分を製造する工程
と、 前記中間留分蒸留操作塔底留分を真空蒸留することによ
り真空塔底留分を製造する工程と、その真空塔底領分の
少なくとも一部を合成ガス発生反応領域へ送る工程と、 ナフサおよび低位炭化水素を含む前記中間留分蒸留操作
塔頂留分をストリッピングして低位炭化水素を含むスト
リッパ塔頂留分を製造する工程と、 前記分離ガス流と、低位炭化水素を含む前記ストリッパ
塔頂留分とのうちの少なくとも１つのうちの少なくとも
一部を合成ガス発生反応領域へ送り、その合成ガス発生
反応領域において、約１，０９３〜１，６４９℃（２，
０００〜３，０００　Ｆ　）および７．０４〜１７５．
８Ｋｙ／Ｃｒｎ”　（１００〜２，５００ｐａｉｇ　）
の条件下で、温度緩和材の存在の下に炭化水素原料流を
ガス化することにより増加した量の製品合成ガスを製造
する工程と、 前記製品合成ガスを回収する工程と、 を備えることを特徴とする方法。

（４）第３項記載の方法であって、前記真空塔底留分の
一部を前記水素化処理へ送ることを特徴とする方法。

（５）　　（ａ）　　約３７１〜４５４℃（７００〜８
５０Ｆ）および約１４０．６〜２４６．　Ｉ　Ｋ１７ｃ
ｍ２（２，０００〜３，５００ｐａｉｇ）の水素分圧に
おいて、水素化処理触媒の存在の下に、約５２４℃（約
９７５　Ｆ　）以上の９５％沸点を有する重質炭化水素
原料を水素化処理することにより、（１）前記重質炭化
水素原料の沸点以下の沸点を有する水素化処理された炭
化水素と、（ＩＩ）　　：ｌｌ、（Ｉｌｌ）　ｔアンモ
ニアおよび硫化水素と、Ｏｖ）　　低位炭化水素と、を
含む製品流を製造する工程と、 （ｂ）　　前記重質炭化水素原料の沸点より低い沸点を
有する前記水素化処理された炭化水素と、ナフサおよび
油煙を含むリサイクル流とを混合することにより、ナフ
サおよび油煙を含む水素化処理された炭化水素流を製造
する工程と、（ｃ）　　ナフサと油煙を含む前記水素化
処理された炭化水素流を蒸留することにより、重質炭化
水素留分と油煙とを含む塔底スラリ流を製造する工程と
、 （ｄ）　　重質炭化水素留分と油煙を含む前記塔底スラ
リ流の少なくとも一部を合成ガス発生反応領域へ原料と
して送り、その合成ガス発生反応領域において、約１，
０９３〜１，６４９℃（２，０００〜３．０００　Ｆ　
）および約７．０３〜１７５．８Ｋｙ／ｍ”　（１００
〜２，５００ｐｓｉｇ　）の条件下で、ガス化を折力っ
て製品合成ガスを発生する工程と、 前記製品合成ガスを回収する工程と、 を備えることを特徴とする炭化水素転化方法。

（６）約３７１〜４５４℃（７００〜８５０　Ｆ　）お
よび約１４０．６〜２４６．１Ｑ／ｃｍ”　　（２，０
００〜３，５００ｐｓｉｇ　）の水素分圧において、水
素化処理触媒の存在の下に約５２４℃（約９７５　Ｆ　
）以上の９５％沸点を有する重質炭化水素原料を水素化
処理することにより、（１）前記Ｍ’ｊＫ炭化水素原料
の５０％沸点以下の５０％沸点を有する水素化処理され
た炭化水素と、（１１）水素と、（ｉｉｉ）　　アンモ
ニアおよび硫化水素と、（１切　　低位炭化水素と、を
含む製品流を製造する工程と、 水素とアンモニアおよび硫化水素ならびに低位炭化水素
を含む分離ガス流と、前記重質炭化水素原料の沸点より
低い沸点を有する水素化処理された炭化水素を含む分離
された液体流とを前記製品流から分離させる工程と、 前記分離された液体流を蒸留することにより真空塔底留
分流を製造する工程と、 前記真空塔底留分流の少なくとも一部を炭化水素原料の
少なくとも一部として合成ガス発生反応領域へ送り、そ
の合成ガス発生反応領域において、約１，０９３〜１．
６４９℃（２，０００〜３．０００Ｆ）および７．０４
〜１４．１　Ｋ１７ｃｍ”　（１００〜２００ｐｓｉｇ
）の条件下で、遊離酸素含有ガスおよび温度緩和材の存
在の下に、炭化水素原料流をガス化することにより、増
加した量の製品合成ガスを製造する工程と、 前記合成ガス発生反応領域の下側部分に、前記合成ガス
発生反応中に形成された油煙の水スラリを集める工程と
、 前記合成ガス発生反応領域の下側部分から前記油煙の水
スラリをとり出す工程と、 前記油煙の水スラリの少々くとも一部を前記合成ガス発
生反応領域の入口へ送り、その入口において前記水が温
度緩和材として機能し、油煙の少なくとも一部をガス反
応製品に変える工程と、 を備えることを特徴とする炭化水素転化方法。

（７）第６項記載の方法であって、 前記製品合成ガスを水で洗うことにより、洗浄化された
製品合成ガスと油煙−水流を製造する工程表１ 前記油煙−水流を、前記水スラリへの水原料の少なくと
も一部として、前記合成ガス発生反応領域へ送る工程と
、 を含むことを特徴とする方法。

（８）約３７１〜４５４℃（７００〜８５０　Ｆ　）お
よび約１４０、６〜２４６．１に−ｙ７ｔｔｎ”　（２
，０００〜３，５００ｐｓｉｇ　）の水素分圧において
、水素化処理触媒の存在の下に約５２４℃（約９７５　
Ｆ　）以上の９５％沸点を有する重質炭化水素原料を水
素化処理することにより、（１）前記重質炭化水素原料
の沸点以下の沸点を有する水素化処理された炭化水素と
、（１１）水素と、（ｉｉｉ）　　アンモニアおよび硫
化水素と、（ＩＶ）　　低位炭化水素と、を含む製品流
を製造する工程と、 前記製品流をフラッシングすることにより、（１）水素
と、アンモニアと、硫化水素と、低位炭化水素とを含む
ガス流と、（１１）　　フラッシュされた塔底留分とを
分離する工程と、 フラッシュされた前記塔底留分に、ナフサと油煙を含む
流れを、組合せることにより組合わされた流れを形成す
る工程と、 前記組合わされた流を蒸留することにより、（１）ナフ
サを含む塔頂領分と、（ｉｌ）　　中間留分製品と、（
Ｉｌ＋）　　重質留分プラス油煙を自む塔底領分と、を
形成する工程と、 重質留分プラス油煙を含む塔底留分を真空蒸留すること
により、（１）分留軽油と、（１１）油煙を含む真空塔
底留分と、全製造する工程と、油煙を含む真空塔底留分
を回収する工程と、油煙を含む前記真空塔底留分の少な
くとも一部を合成ガス発生反応領域へ送る工程と、を備
えることを特徴とする炭化水素転化方法。

（９）第８項記載の方法であって、前記真空塔底留分の
少なくとも一部を水素化処理ヘリサイクルさせることを
特徴とする方法。

（１１約３７１〜４５４℃（７００〜８５０　Ｆ　）お
よび約１４０、６〜２４６．１　Ｋ９７ｃｍ”　（２，
０００〜３．５００ｐｓｉｇ　）の水素分圧において、
水素化処理触媒の存在の下に、約５２４℃（約９７５　
Ｆ　）以上の９５％沸点を有する重質炭化水素原料を水
素化処理することにより、（１）前記重質炭化水素原料
の沸点以下の沸点を有する水素化処理された炭化水素と
、（１１）水素と、（Ｉｌｌ）　　アンモニアおよび硫
化水素と、（１ｖ）低位炭化水素と、を含む製品流を製
造する工程と、 前記製品流をフラッシングすることにより、（１）水素
と、アンモニアと、硫化水素と、低位炭化水素とを含む
ガス流と、（１）　　フラッシュされた塔底留分と全分
離する工程と、 フランシュされた前記塔底留分に、ナフサと油煙を含む
流れを、組合せることにより組合わされた流れを形成す
る工程と、 前記組合わされた流を蒸留することにより、（１）ナフ
サを含む塔頂留分と、（１１）中間留分製品と、（Ｉｌ
ｌ）　　重質留分プラス油煙を含む塔底留分と、を形成
する工程と、 重質留分プラス油煙を含む塔底留分を真空蒸留すること
により、（１）分留軽油と、（１）　　油煙を含む真空
塔底留分と、を製造する工程と、油煙を含む真空塔底留
分を回収する工程と、油煙を含む前記真空塔底留分の少
なくとも一部を合成ガス発生反応領域へ送る工程と、前
記合成ガス発生領域から油煙−水流を回収する工程と、 前記油煙−水流をナフサに接触させることによりナフサ
と油煙を含む流を抽出する工程と、ナフサと油煙を含む
前記抽出流を前記組合わせ操作領域へ送る工程と、 を備えることを特徴とする炭化水素転化方法。

Ｑｌｌ　　約３７１〜４５４℃（７００〜８５０　Ｆ　
）および約１４０、６〜２４６．　Ｉ　Ｋｙ／副２（２
，０００〜３，５００ｐｓｉｇ　）の水素分圧において
、水素化処理触媒の存在の下に、約５２４℃（約９７５
　Ｆ　）以上の９５％沸点を有する重質炭化水素原料を
水素化処理することにより、（１）前記重質炭化水素原
料の沸点以下の沸点を有する水素化処理された炭化水素
と、（１１）水素と、（Ｉｌｌ）　　アンモニアおよび
硫化水素と、ＯＶ）　　低位炭化水素と、を含む製品流
を製造する工程と、 前記製品流をフラッシングすることにより、（１）水素
と、アンモニアと、硫化水素と、低位炭化水素とを含む
ガス流と、（４）　フラッシュされた塔底留分とを分離
する工程と、 フランシュされた前記塔底留分にナフサと油煙を含む流
れを組合せることにより組合わされた流れを形成する工
程と、 前記組合わされた流を蒸留することにより、（１）ナフ
サを含む塔頂留分と、（１１）中間留分製品と、（ｉｌ
ｉ）　　重質留分プラス油煙を含む塔底留分と、を形成
する工程と、 ナフサを含んでいる前記塔頂留分からそれに含まれてい
るガスをストリップすることによりストリップされたナ
フサを形成する工程と、Ｍ　記ストリップされたナフサ
に油煙−水流を接触操作において接触させることにより
、ナフサと油煙を含む抽出流と、水と炭化水素を含むラ
フィネート流とを形成する工程と、 ナフサと油煙を含む前記抽出流を、ナフサと油煙を含む
前記流として前記組合わせ操作領域−４５−１ｎ へ送る工程と、 重質留分プラス油煙を含む塔底留分を真空蒸留すること
により、（１）分留軽油と、（ＩＩ）　　油煙を含む真
空塔底留分とを製造する工程と、油煙を含む真空塔底留
分を回収する工程と、油煙を含む前記真空塔底留分の少
なくとも一部を合成ガス発生反応領域へ送る工程と、を
備えることを特徴とする炭化水素転化方法。

Ｑｚ　　第１１項記載の方法であって、水と炭化水素を
含む前記ラフィネート流をフラッシングすることにより
、炭化水素をほぼ含まない塔底留分流を形成する工程と
、 炭化水素をほぼ含まない前記塔底留分流を油煙洗浄操作
領域へ送り、その油煙洗浄操作領域において、油煙含有
合成ガスからの前記塔底留分流に接触させることにより
油煙を洗浄して、前記油煙洗浄操作から油煙含有廃水を
形成する工程と、 を含むことを特徴とする方法。

（１３１第１１項記載の方法であって、４６− 前記油煙洗浄操作領域からの前記油煙含有廃水を合成ガ
ス発生操作における合成ガスに接触させることにより、
前記合成ガス発生操作中に油煙の水スラリを形成する工
程と、 前記合成ガス発生操作からの油煙の水スラリの少なくと
も一部を前記接触操作領域へ送る工程と、 を含むことを特徴とする方法。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の方法の一実施例のプロセス流れ図、第
２図は本発明の方法の別の実施例のプロセス流れ図であ
る。 １３．１８＠・・・火災加熱器、２１・・・・水素化処
理反応器、２５１１・・Φ分離器、３７−ψ　。 ・・・中間蒸留塔、３３・・・Φガスφストツバ、３６
−＠Φ・デカンタ、４０・・・Φ真空塔、４６・・・・
合成ガス発生器、４８・・・―油煙洗沙器、Ａ・・・・
灰、ＣＡＴ−・拳−触媒、Ｎ・・・・ナフサ、Ｓ・・φ
・固体、ＳＴ・・・・スチーム、ＨＣ−・・・炭化水素
、Ｍ　１１　ｍ、・・温度緩和材、Ｗ拳・・・水。 特許出願人　テキサコーデベロップメント・コーポレー
ション代理人山川政樹（はが２名） ４７− −４８＝

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 約３７１〜４５４℃（７００〜８５０Ｆ）および約１４
   ０．６〜２４６．１　Ｋｇ１０ｎ２（２０００〜３５０
   ０ｐｓｉｇ　）の水素分圧において、水素化処理触媒の
   存在の下に約５２４℃（約９７５　Ｆ　）以上の９５％
   沸点を有する重質炭化水素原料を水素化処理することに
   より、（１）前記重質炭化水素原料の沸点以下の沸点を
   有する水素化処理された炭化水素と、（１１）水素と、
   （Ｉｌｌ）　　アンモニアおよび硫化水素と、（１ｖ）
   低位炭化水素と、を含む製品流を製造する工程と、 水素と、アンモニアと、硫化水素と、低位炭化水素とを
   含む分離ガス流を前記製品流から分離させる工程と、 前記分離ガス流の少なくとも一部を合成ガス発生反応領
   域へ送り、その合成ガス発生反応領域において、遊離酸
   素含有ガスと温度緩和材の存在の下に炭化水素原料流を
   ガス化することにより増加した量の製品合成ガスを製造
   する工程と、前記製品合成ガスを回収する工程と、 を備えることを特徴とする炭化水素転化方法。