JPS59162092A - 記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はレーザービームを用いる記録媒体に関する強度
変調且つ走査或いは偏向されたレーザービームを高エネ
ルギー密度のスポットに集束し記録媒体に照射すること
によって記録媒体の一部を選択的に融解及び／又は蒸発
することＫより変形及び／又は除去して情報の記録を行
う方式は一般に知られている。

この方式に用すられる記録媒体として従来知られている
のは支持体上に几り、Ｂｉ等の金属又は半金属の吸収層
を厚さ０．１ミクロン程度に［１として形成したもので
ある。しかしこれら金属の薄膜の光反射率は通常使用さ
れるレーザー光の波長すなわち可視域、近赤外域、及び
赤外域で５０％以上の値を示す。すなわちこのままの状
態では照射したレーザー光の白金属の薄膜に吸収される
光エネルギー（有効光エネルギー）は５０Ｘ以下となっ
て効率あるいは感度の観点から好ましくない。金属薄膜
の高反射率は主として金属の高い光吸収係数にもとすく
ものであって反射率を低下させるためには必然的に低吸
収係数の物質を選択せねばならない。しかしこの場合に
は高光吸収係数の物質と同量の光エネルギーを吸収させ
るためには光吸収係数の比率だけ低光吸収係数の物質の
膜厚を増加させねばならない。

しかし記録層の厚さと感度は相反関係にあるため、反射
率の低下がそのまま記録媒体の有効光エネルギーの増加
云い換えれば感度の向上に結びつかず場合によっては感
度の低下をも午らす。

一方、このことについて高い光吸収係数の材料の吸収層
を用いてなお高感度な記録媒体を与える冬めに吸収層の
上に反射防止層を付設する方法がある。即ち、吸収層上
に光学的関係を満足する屈折率及び層厚を有する反射防
止層を形成することによって同じ光吸収係数及び層厚を
もつ吸収ＩＩＮ単独の場合にくらべて有効光エネルギー
を低下させることな′ぐその光反射率を％以下更に良好
゛な場合には慝以下に低減できる。このように記録層が
吸収層と反゛射防止層より構成される記録媒採は光反射
−の低減、の他の相反則不軌の効果にもよって感、度が
吸収層だけのものに比らべて数倍以上ｉ合によっては十
倍以上向上すそばかりでなく記録密度あるいは解像力を
も改善されるものである。このことについて、金属層の
ような高い熱伝導率の吸収層は記録時においてレーザー
ビームの照射部周辺の吸収層の温度もかなり上昇しその
部分にも融解等による変形が生じる。本来記録密度ある
いは解像力は、そのレーザービームの集束スポット径に
のみその最低値が設定されるべきものであるからこの周
辺の変形は記録密度あるいは解像力の低下につながるも
のである。この原因となる熱伝導量、はレーザービーム
の照射時間に比例するものであって１つの記録部分に対
する照射時間が短かい程、熱伝導量も低下し変形部分も
小さくなる。

すなわち一定のパワーのレーザーを光源として用いる場
合、記録゛媒体の感度が高い程照射時間は短かくなり高
解像力が期待できることになる。

反射防止層を付設した記録媒体の高解像力の原因も主と
してこの効果に千ると思われるがその他に未知の効果も
存在するものと思われる。。

しかしながら、このような反射防止層を付設した記録媒
体についてもいくつかの点でなお改善される余地はある
。そのことは次に説明される。

レーザービームを数ミクロン以下のビーム径に集束する
のに必要な光学系のワーキングディスタンス（レンズ表
面から焦点までの距離）は通常数百ミクロン以下と短か
いために、レーザーの照射条件によってはレーザー照射
時に記録媒体から発生する記録媒体材料の蒸気または粒
子、がレンズの表面に付着しその後の記録精度を低める
場合もある０又、これらレンズ系の焦点深度は通常数ミ
クロン以下であるため記録媒体表面に有効にレーザー光
を集束させるには何らかの手段で集光状態を検出しその
結果をフィードバックさせ実時間で一定の集束状態を維
持することが必要とされる。そのだめの最も一般的な方
式として記録媒体からの反、射光を検出し冬場合レーザ
ー照射時に発生する記録媒体材料の蒸気または飛散粒子
が障害となって検出精度を損う場合もあや。また、レー
ザーの照射条件並びに記録媒体の材料によっては、レー
ザー照射時に発生する記録媒体材料の蒸気特にその飛散
粒、子が記録情報９ノイイの原因となることもある。

これは、レーザー照射により記録媒体材料解し、一時的
ではあるが沸騰するためその一部は飛沫粒子となってレ
ーて一照射部の記録媒体上に付着し、この飛沫粒子は記
録情報のノイズの一因となると考えられる。

而して本発明は、吸収層および反射防止層との積層を記
録層とする記録媒体において、レーザービーム照射時に
生ずる記録材料の蒸気または飛散粒子による影響を排除
し、より高解像性の記録媒体を提供することを主たる目
的とし、高解像記録をするためのレーザービームによる
記録条件の緩和を図ることを他の目的とする。

本発明は、レーザービームを吸収する吸収層、吸収層表
面におけるレーザービームの反射率を低減させる反射防
止層およびレーザーぐ一部に対して透過性の保護層を主
体として成る記録媒体である。

本発明の記録尊体の最も代表的な構成は第３図および第
４図に示される。

第１図に示す記録媒体は吸収層３と反射防止層２よシ構
成される。すなわちレーザービームｌのみ射側に反射防
止層２、吸収層３が順次積層されている。通常吸収層は
第２図のように支持体４の上に薄膜として形成されるも
のであるが用途によって例えば記録情報を反射光の強度
比の形で読みだす目的において、又記録レーザーと−ム
の出力が充分大きい場合などにおいては必ずしも薄膜で
ある必要はなく吸収層自身に支持体としての役わりをか
ねさせることもできるものである。本発明の特徴である
保護層５は第３図のように反射防止層上に形成されるの
で基本的であるが支持体が使用するレーザーの波長で充
分透過性である場合には１４ｇ４図の構成も有効である
。

さらにここでは説明のため吸収層１反射防止層、保護層
、さらには支持体をすべて単一層として表わしたが実施
に際してはこれら各層とも二層あるいはそれ以上の多層
構成として形成されることも有効であり、特に保護層９
反射防止層においてその効果は大きい。さらに図に示さ
ないが支持体と吸収層の間に中間層あるいは下引き層を
用いることは後述のように支持体への熱伝導損失の改善
及び支持体と金属層の接着性。

密着性を向上させる目的に有効と々る。支持体は必要に
応じて省略されてもよい。第５図及び第６図は保護層を
つけない記録媒体と保護層をつけた記録媒体との記録状
態を示したものである。第５図のように記録媒体に例え
ば、レンズ７を用いてレーザービームｌを集束させると
その部分の反射防止層２及び吸収層３は吸収した光エネ
ルギーにより加熱され融解又は蒸発除去されて変形され
る。レーザービームの照射条件によっては、除去された
記録層の一部は表面張力等によシ周辺部にもり上り、他
の一部は粒子又は蒸気となる。それらのあるものは付着
物６としてレンズなどに付着し、又あるものは記録周辺
部の記録媒体上に付着し、さらにあるものは記録部に残
在する。そしてこれらの付着物が記録の障害あるいはノ
イズの原因となる。

それに対して本発明の記録媒体においては保護層５が著
しい変形を受けないようにレーザービームの光エネルギ
ーを設定した記録においては第６図に示すように周辺部
又はレンズ等への付着物は存在しない。又記録部の付着
物も粒子状をとるよりもむしろ支持体又は保護層の表面
に一様な状態で付着するためノイズ等の原因にはなりに
くい。

次に本発明の記録媒体の構成材料について順次説明する
。

基本的には吸収層に用いられる物質は水銀等常温で液状
を呈するものを除けば既知の金属、半金属、半導体はす
べて使用が可能である。また、実用上のコスト及び安全
性への配慮を考えると出来うるかぎり低出力のレーザー
を使用することが望ましくその意味で記録媒体の感度は
高いことが好ましい。高感度であるために吸収層が満さ
ねばならない条件としては、低熱伝導率。

低融点又は低沸点、あるいは低融解熱又は低気化熱さら
には高光吸収など係数が挙げられる。

また、吸収層の形成上の条件として厚さ数ξクロ、ン以
上の安定な薄膜が得やすいことが挙げられる。又、記録
層は主として支持体と保護層の間に密閉されているため
多少条件は緩和されるのにしても今日の状況からみるに
その公害性（毒性）等にも配慮しなければならない。

これらの条件にもとすいて吸収層材料として好ましいも
のはＰｔ、　Ｒｈ、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｄ、　Ｉｒ　等の貴
金属Ｃｒ　、　Ｍｏ　、Ｔａ　、　Ｚｎ、Ｃｕ・、　Ａ
Ｉ　、　Ｉｎ　、　Ｓｎ　、Ｐｂ　。

Ｂｉ等の周期表に上げられている金属及び半金属及びＧ
ｅ　、　Ｓ　ｉに代表される半導体でありそれら物質の
組合せよりなる合金及び化合物である０さらにこれら物
質の内例えばＢｉ　、ＡＩ　、　Ｉｎ　、　Ｓｎ、Ａｇ
のように比較的低温の領域で周囲の酸素や硫化物などと
結合し部分的にせよ酸化物あるいは硫化物を形成するも
のについてはこれら金属、半金属、半導体などと、それ
らの酸化物、Ｗ化物の複合体も好ましい材料となる。

反射防止層の材料はその油接率及び層厚が金属層の屈折
率をパラメーターとした反射防止条件から必然的に設定
されるため一部に述べることはできない。しかしながら １、安定な厚さ１゛ミクロシ以下の薄膜が容易に作成で
きること。

２、吸収層と通常の条件下で反応しそのため記録層が変
質しないこと、 ３゜　使用方法にもよるが無公害又は低公害性であるこ
とが望ましい、 の条件を満すものとしては通常レンズなどの反射防止膜
に用いられている酸化アルミニューム。

弗化マグネシウム、弗化カルシュムに代表される透明誘
電体、低真空蒸発沈積あるｈは真空蒸着等によるポリパ
ラキシリレン、エポキシ樹脂。

弗素樹脂、さらには酸化インジウＡ、酸化スズ。

ちつ化ハーフニウム等透明導電体膜材料として用いられ
るものが有効である。

又、吸収層が金属層のように大きな光吸収係数を有する
場合の反射防止には１反射防止層自体もある程度の吸収
係数を有する物質による反射防止層が特に有効であるこ
とを見出した。すなわち反射防止層材料の複素屈折率ｎ
（ｎ＝ｎｏ　一体の反射率を容易に数パーセント程度に
低下できる。吸収率の低い透明物質で反射防止層を形成
し第５図および第６図のように金属層と反射防止層を共
に除去する場合において反射防止層の除去に必要な熱エ
ネルギーは主として吸収層からの熱伝導による。

通常このような熱伝導による記録では効率、高速記録の
面で不利な点が多いがそれに対してそれ自身に吸収を有
する反射防止層ではそれ自身もレーザービームの光エネ
ルギーを吸収し、温匣上昇するためより高感度が達成で
きるものと考えられる。

このことから、反射防止層材料として好ましいものは単
体でけＣｒ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｓｅ　等の金属
、半金属、半導体物質であり化合物では酸化インジウム
、酸化チタン、酸化タングステン等の酸化物及びヒ化イ
ンジウムに代表される金属と半金属の化合物である。さ
らに特に好ましい物質としてはカルコゲナイドが上げら
れる。

すなわちここで云うカルコゲナイド物質とは、カルコゲ
ン元素即ち８　、　Ｓｅ　、　Ｔｅを含む化合物であり
、広義にはＳ　、　８ｅ　、　Ｔｅ単体をも含む多種類
の材料群を称するものである。代表的なものはカルコゲ
ン元素以外にＡｓ、８ｂ、Ｐ、Ｇｅ、Ｓｉ、ＴＩ。

その他の金属、ハロゲン元素の中から選択される材料を
単種又は複数種含んでいる。カルコゲン元素としてはＳ
、これと化合物を形成すべき材料としては、Ｇｅ、Ｉｎ
、８ｎ、Ｃｕ、Ａｇ、Ｆｅ、Ｂｉ。

ＡＩ、８ｉ、Ｚｎ、Ｖ、などの金属、半金属或いは半導
体が良く特に、薄膜として好ましいものは、Ｇｅ、　Ｉ
ｎ、　８ｎ、　Ｃｕ、Ａｇ、の単独又は複数種を含むカ
ルコゲナイド物質である。

以上有効な反射防止層材料を述べた。しかしこれらの物
質の内、特に酸化物とカルコゲナイドについては、これ
らの化合物ではその種類も多く且つ化学量論的組成比を
必ずしも満足しないものが大部分を占めるためすべての
ものを列記できない。従ってこれら酸化物及びカルコゲ
ナイドでは酸素及びカルコゲン元素の含有率の微量な変
化によりその物性特に光学的性質が変化するため実際に
反射防止層として用いる場合にはその作成条件によって
最も適合するものを選択すればよい。

反射防止層の光吸収率は相対的に吸収層より小さく設定
されるのがよい。吸収層および反射防止層の形成手段は
多くあり、それぞれ一長一短があるが最も一般的なもの
は抵抗加熱、電子ビーム加熱及びイオンビーム加熱など
の方式による真空蒸着法、スパッタリング法である。吸
収層に用いる材料の性質、記録媒体の用途によってその
量適条件が変化し、−概に述べることはできないが一般
にｌＯ〜０．０１μであり特に１〜０．１μが感度、分
解能の点から好ましい領域である。又、反射防止層の厚
さもこれが光学的条件により設定されるものであるため
レーザービームの波長等によって変化し御飯にその範囲
を定められないが、通常は１ミクロン以下最も一般的に
は０．０１〜０．３ミクロンである。

支持体は本質的な影響をもつものではない。

書き込まれた情報を読み出す時、透過光を用いるか反射
光を利用するかなどの差により支持体を透明、半透明、
不透明物質にするかが設定される。又、使用するレーザ
ービームの強度等により支持体の熱容量、反射率等の物
理量が制限されるのでこれからも支持体物質が設定され
る。

通常用いられる支持体はポリエステル、ポリエチレン、
アセテート等の透明な高分子類、酸化物ガラス、板状又
は箔状のＭ等の金属等である。

保護層は次の条件を満すように設定されるのがよい。

ｌ）少くとも使用するレーザービームの波長でレーザー
ビーム照射時には透過性であること２）光学的に一様な
層が容易に形成できること３）耐久性、機械的強度特に
その表面強度が実用上充分であること ４）吸収層または反射防止層との密着性がよいこと ５）保護層の存在により記録媒体としての感度が著しい
低下を示さないこと ６）用途にもよるが通常情報記録に際して保護層は破壊
されるなどの著しい変化を生じないこと 上記条件の内条件（６）は照射するレーザービームのエ
ネルギー量に依存する。すなわち後述の実施例から明ら
かなように通常これら保護層はそのレーザービームの波
長で透過性でありそれ自して 身がレーザービームを吸収も、その温度が上昇へ することはほとんど無視できる。しかし保護層下部の記
録層はかなりの高温になるため熱伝導等により保護層も
加熱される。結局保護層が加熱変形あるいは分解破壊等
を生ずるか否かはそれが受けとる熱量によってきまり例
えばあるレーザービームのエネルギーまでは記録層のみ
溶融及び／又は蒸発変形し、保護層の変化はないかある
いは第５図に示されるような付着物が外部に現れない点
において、無視できるがそれ以上のエネルギーを与える
と保護層も変化すると考えられる。

本発明において保護層材料は上記条件を満足すればよく
無機物質、有機物質のいかんを問わない。無機物質につ
いて具体例を上げれば特にアルゴンレーザー、クリプト
ンレーザー％Ｈｅ−Ｎｅレーザー等の可視域、近赤外レ
ーザーにより記録を行う場合などＺｎＯ、ＭｇＯ、Ａ−
１，Ｏ，、Ｓ　ｉＯ。

８４０、、　ＺｒＯ，、Ｃｅｎｔ、　ＩｎｔＯｓ、　８
ｎＯ，、Ｔｉｅ、　　＋７）酸化物及びＭｇＦ、　、　
ＣａＦ、　、　ＣｅＦｅ　（Ｄ弗化物に代表される透明
誘電体及び透明導電体が好ましく　ＺｎＳ　、　Ｇｅｍ
、。

ｓｂ、ｓ、等のカルコゲン化合物も又、有効である。

これら無機物質による保護層の作製は記録層の場合と同
様であるが、特に抵抗加熱及び電子ビーム加熱による真
空蒸着法を採用することにより同一ベルジャ−内で連続
して形成することができる特長を有する。すなわちこれ
によって記録媒体で問題と々る記録層表面へのゴミ等の
付着を防止できるのみならず記録媒体作製に要する時間
、費用等の面においても有効となる。無機物質による保
護層の膜厚はその物質の物性定数、例えば屈折率、熱伝
導率、融点、融解熱等の性質と保護層に関する条件の対
応を記録層材料と関連すけ個々に設定されるべきもので
あるが一般にその膜厚は１０μ〜０．１μが好ましい。

有機物質特に有機高分子樹脂として一般に知られる物質
も本発明の保護層材料として有効なものである。周知の
よう圧これら有機物質の種類はぼり大であるが本発明に
おいて有効なものは溶剤揮散及び触媒によって硬化する
性質をもつものである。例えば溶剤揮散型としてはニト
ロセルロース系、アセチルセルロース系、ポリ塩化ビニ
ル系、ポリカーボネイト系、飽和ポリエステル系、ポリ
スチレン系、アクリル系などの樹脂があり触媒硬化型と
しては不飽和ポリエステル系、ポリウレタン系、エポキ
シ系などが上げられる。その内特に塗布の容易性、フィ
ルムのような屈曲性に富む物質による支持体との適合性
、レーザーによる記録の際の安定性などの点で特に好ま
しいものは線状飽和ポリエステルとして知られるもの、
又はニトロセルロースとアクリル樹脂の組合せによるも
のである。

上記有機高分子樹脂を保護層として形成する手段はすで
に各種のものが知られており代表的なものを列記すれば
スプレ一方式、デイツビイグ、ブレード及びバーによる
コーティングが挙げられる。又、弗素樹脂など特殊なも
のについては低真空での蒸着も一様性の面で好ましいも
のである。有機物質による保護層の膜厚は通常数十ミク
ロン以下であるが２〜２０ミクロンの領域がとくに好ま
しい２ミクロン以下であっても記録層材料と照射レーザ
ービームエネルギーの組合せによっては充分前述の保護
層に関する条件を満足しつるが、通常に塗布方式であら
れれやすい微小な保護層膜厚の変化がそのまま干渉色と
なって観察できることのあるためマイクロフィルム等の
用途では画像性の面で好ましくなり、又、１ミクロン以
下の膜厚では上記有機高分子の機械的強度が不充分であ
ることが多く通常不適当である。さらに保護層が二層構
成である場合にはその一つをポリエステル、アセテート
等の有機透明フィルムとし、一方の接着性樹脂とするこ
とによりラミネート方式により保護層を形成することも
有効である。

次に実施例により本発明を更に説明する。

参照例 次の表に示す材料及び条件で記録媒体を製造した。

この様にして製造した記録媒体にビデオ信号を記録した
。即ち、記録媒体を回転ディスク上に固定し１８００　
ｒｐｍで回転した。光源にはアルゴンレーザー（波長０
．４８８ミクロン、出力２００ｍＷ）をもちいさらに電
気光学素子によりビデオ信号に従ってＦ　Ｍ変調した。

レーザービームの集束はワーキングディスタンス約７０
ミクロンの顕微鏡対物レンズを使用した。その際対物レ
ンズの支持台はディスク−回転につき約２ミクロンだけ
半径方向に移動するように設定した。

この記録方式によればビデオ信号は記録媒体の凹凸の形
でスパイラル状に記録される。ところが照射開始後約５
秒間で記録層からの付着物が対物レンズ表面に付着しそ
の後の記録の精度が低下した。

実施例１ 参照例で用いた記録媒体の反射防止層の上に保護層形成
して記録媒体を作成した。保護層材料は線状飽和ポリエ
ステル樹脂（商品名：バイロン２００）で、これをメチ
ルエチルケトンにより３０％に希釈しさらにこれをトル
エンにより２：・ｌに希釈したものを用いた。作製方法
は通常のスピンナ一方法で保護層の厚さは２〜３ミクロ
ンとした。　　　。

この記録媒体に参照例と同じ方式でビデオ信号を記録し
たところレンズ表面の汚染は起らなかった。又、保護層
に識別できる変化はみとめられることなく、記録層に記
録が行われた。さらに記録媒体の表面を詳細に観察した
ところドロップアウトの原因となる他の部分からの粒状
物質の記録部分への付着はみとめられなかった。

実施例２ 実施例１の記録媒体において支持体を厚さ７５μのポリ
エステルフィルムとしたものを作製した。また保護層は
線状飽和ポリエステル樹脂の代りに、ニトロセルロース
、アクリル樹脂及び少量の可塑剤を配合したもの（商品
名ニアロン８１００５）をメチルエチルケドントトルエ
ンでそれぞれ２：２：１で希釈したものをバーコーティ
ングにより厚さ３ミクロンに塗布、乾燥されて形成され
た。

記録方式は次の通りである。直径２−のドラム表面に本
実施例の記録媒体を粘着テープにより支持体を下にして
はりつけた後ドラムを回転される方向で一方向の走査を
行った。それと直角方向の走査はレーザー光を集束する
対物レンズをドラムの軸方向に一定速度で移動させるこ
とで実施したレーザー光の強度変調は電気光学素子によ
りそれにオリジナルの画像の各点の濃度に従った信号を
入力させることで行った記録条件は集束ビーム径約３ミ
クロン、走査速度的２、５　ｍ　７秒、記録時間（オリ
ジナル：Ａ４サイズ、縮小率％）１分、解像力５００本
／隠でレーザーはアルゴンレーザー（波長０．４８８ミ
クロン出力約２００ｍＷ）であった。

上記方法により記録したマイクロ画像を透過形のマイク
ロフィルムピュアーにより観察を行った。その結果保護
層を付設し々かった記録媒体を用いた場合に、白抜き部
分（レーザービー・′ム照射部）において記録層物質と
思われる直径数ミクロンの島状〈多数存在し画像像をそ
こなっている付着物が観察されるのに対して、本実施例
の保護層のある記録媒体では島状とはならず一様か形で
分布しており画像は良好であった。

又、保護層にはみとめうる変化は存在しなかった。　　
　　　　　　　゛　　　・ 次にレーザーの出力を４００ｍＷだ上げて記録を行った
ところ保護層は熱変形しているのがみとめられた。

実施例３ 実施例２の記録媒体において、保護層材料としてＣａＦ
’、を用いて記録層を形成したものと同一真空ベルジャ
−内で連続蒸着して記録媒体を作製した６連続前着では
記録層、保護層を別個に蒸着するものにくらべ記録層表
面のゴミの付着が大巾に減少し又、作製に用する時間も
半分以下に減少した。ＣａＦ、蒸着膜の膜厚は約１．２
μであり、蒸着源はＣａＦ、単結晶を用いた。

この信号をもつ記録媒体に実施例２の記録装置によりマ
イクロ画像を同じ条件で記録した所良好な画像が得られ
又、使用したレーザーの最高出力４００　ｍＷ　、ｉ′
Ｊ、内では保護層の破壊はみとめられなかった。

実施例４ 実施例３の保護層ＣａＦ、にかえて硫化亜鉛を用いた記
録媒体を作成した。硫化亜鉛は抵抗加熱法により真空蒸
着により作製した。

蒸着条件は次の通りである。

この方法によって作製したＺｎ８　Ｍはほぼ可視域で透
明であった。

この保護層をもつ記録媒採に実施例２の記録装置により
マイクロ画像を同じ条件で記録した所、良好な画像が得
られ、又、使用したレーザーの最高出力４００ｍＷ以内
では保護層の破壊はみとめられなかった。

実施例５ 実施例４の保護層を、下記の蒸着条件で電子ビーム蒸着
したｓｈｏ、にかえた記録媒体を作製したｇ この保護層をもつ記録媒体に実施例２の記録装置により
マイクロ画像を同じ条件で記録した所、良好な画像が得
られ、又使用したレーザーの最高出力４００ｍＷ以内で
は保護層の破壊はみとめられなかった。

実施例６ 記録媒体として吸収層としてＡｕの真空蒸着膜（厚さ０
．１ミクロン）５反射防止としてＳｉの電子ビーム蒸着
膜（厚さ０．０１４ミクロン）、支持体ポリエステルフ
ィルム（厚さ７５ミクロン）、を作成し、さらに保護層
としてニトロセルロース系樹脂を実施例２と同様な条件
及び方式で形成した。

次にこの記録媒体について実施例２と同様な方式でマイ
クロ画像を記録したところ良好な画像が得られた。

実施例７ 実施例６の記録媒体について反射防止層のみをＴｉＯ（
厚さ０．０６ミクロン）にかえたものを作製し、同様な
実験を行った。

ここでＴｉＯ／１ｉｌｑタングステンボートにより抵抗
加熱法真空蒸着で作製した。

次にこの記録媒体に実施例２０方式に準じてマイクロ画
像を記録し良好な画像を得ることができた。

【図面の簡単な説明】

第１図は記録媒体の１例を示す。第２図〜第４図は本発
明の記録媒体の各１態様を示す。第５図は記録方法の１
例を示す。第６図は本発明の記録媒体を用層ての記録方
法の１態様を示す。 １・・・レーザービーム、２・・・反射防止層、３・・
・吸収層、４・・・支持体、５・・・保護層、６・・・
付着物、７・・・レンズ。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. レーザービームを照射することにより、その照射部にお
   いて変形を生じて記録される記録媒体において、レーザ
   ービームを吸収する吸収層、吸収層表面におけるレーザ
   ービームの反射率を低減させる反射防止層およびレーザ
   ービームに対して透過性の保護層を主体として成ること
   を特徴とする記録媒体０