JPS59162050A - 印捺された材料を乾燥する乾燥装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は基質材料に施された印捺を乾燥する乾燥装置に
関するものである。本発明はシルクスクリーン印捺機に
よって印捺が施されていることを前提にしているが、印
捺はあらゆる周知の手段、たとえば印捺機によって施す
ことができる。なお、ここでいう印捺機とは印刷機及び
捺染機を意味する。この発明は印刷機及び捺染機のいず
れにも通雨することができる。乾燥装置は前記装置から
基質材料を運ぶための１つまたはそれ以上のコンベヤ手
段を有する。乾燥装置はさらに複数の印捺乾燥機構を有
する。乾燥装置は印捺を使用されている溶剤の蒸発によ
って、または他の乾燥プロセスによって乾燥するのに使
用できるが、便宜上望ましい乾燥プロセスを以下では°
°キユアリング″と記載する。

当該技術では、印捺されたばかシの材料の印捺を乾燥す
るための種々の乾燥装置が知られておシ、前記印捺はた
とえばシルクスクリーン印捺機のような印捺機によって
施される。

これらの周知の乾燥装置の大部分の印捺乾燥機構は前記
材料の印捺された側面に面し、前記側面に近接して配置
されている。これに関しては、材料が装置から運ばれる
速さ及びその材料の印捺に、乾燥機構の強さを適合させ
て、印捺すなわち印捺コーチングを完全に乾燥またはキ
ユアリングすることが知られている。

これに関する１つの条件として、印捺すなわち印捺コー
チングが材料の一方の側面からだけでも完全に乾燥また
はキユアリングすることができる厚さを有していること
があげられる。

立体的な物体を乾燥する場合、印捺乾燥機構を物体の各
側面側に配置して、物体の互いに異なる部分の印捺を同
時に乾燥することも知られている。

印捺が完全に乾燥及び（または）キユアリングされるよ
うに、前記基質材料の印捺された側面に面して配置され
た印捺乾燥機構を設計することに問題があることがわか
っている。これは、印捺が比較的厚いときに、特にあて
はまる。

これに対してなされた試みは、印捺乾燥機構の強い作用
によって印捺の上面だけがキユアリングされることを示
している。従って、基質材料の近くの層はキユアリング
されず、印捺は完全に全部はキユアリングされない。

印捺乾燥機構の強さを増せば、上側被膜にしわが寄シ、
その厚さの全部にわたって印捺の完全なキユアリングが
得られない。

従って、印捺コーチングがその厚さ全体にわたってキユ
アリングされるよう々条件を生じさせることに対する問
題は、高度に資格化された技術的な性質のものであるこ
とがわかっている。

他の技術的問題は、キユアリングプロセスのときにたと
えばガラスのような基質面に印捺を付着させることがで
きるようにすることである。

これに関するさらに資格化さ扛た技術的な問題は、厚い
印捺コーチングの底面を前記材料に付着させることであ
る。この問題は、印捺インクすなわち印捺物質が紫外線
放射に対する保護（永久保護）をもたらすような性質の
ものであるとき、及び印捺乾燥機構が印捺コーチングを
キユアリングするための紫外線放射を発生するランプ、
いわゆる紫外線ランプからなるとき、特に困難であるこ
とがわかっている。

従って、後者の場合、通常は、印捺乾燥機構に面する印
捺コーチングの部分、または前記部分の僅かな部分だけ
がキユアリングされ、材料に面する印捺コーチングの部
分は全体的または部分的にキユアリングされない。

前述の問題は、厚い印捺が厚い材料に施されたとき、特
に顕著であシ、いわゆるセラミック浸透インクをガラス
材料に施すことが特に困鑓であることがわかっている。

この後者の場合には、印捺コーチングの上方部分だけが
印捺インクのキユアリングされていない薄膜の上に残る
ことが実際の経験によってわかっている。

本発明によれば、印捺された材料を乾燥する乾燥装置が
提供され、前記装置は材料法シ手段及び複数の印捺乾燥
機構を備えている。本発明によれば、そのような乾燥装
置には、１つまたはそれ以上の第１印捺乾燥機構が、印
捺された材料の一方の側面側に前記一方の側面、すなわ
ち面に而するように配置され、１つまたはそれ以上の第
２印捺乾燥機構が、前記材料の他方の側面側に前記他方
の側面すなわち面に而するように配置される。前記第２
乾燥機構は、印捺された部分が第１印捺乾燥機構による
乾燥及び（または）キユアリングプロセスを受ける前に
、前記印捺された部分を、乾燥及び（または）キユアリ
ングできるよう構成されることも重要である。

このように、前述した問題が生じないようにすることが
できる。

印捺乾燥機構は紫外線放射を発生するための手段を備え
、特に印捺される材料がガラスプレートであるとき、材
料の上にある印捺インクすなわち印捺コーチングの部分
は、その部分の上方にある印捺の部分をキユアリングす
る前に、キユアリングされることが望ましい。

本発明は、基質材料の上にある印捺インク、すなわち、
印捺成分の部分を前記第２乾燥機構によって基質材料に
溶解または焼き付けることができ、前記印捺の残シの被
覆部分をその溶解部分に対して乾燥またはキユアリング
することができ、前記部分はすてにキユアリングされて
特別な利点を得ることができる。

本発明に従って構成した乾燥装置によって得られる主な
利点は、印捺コーチングの成る部分だけを最初に活性化
し、印捺インクすｋわち印捺コーチングを最初に乾燥及
び（または）キユアリングすることによって、印捺イン
クすなわち印捺コーチングの厚い層全体を完全にキユア
リングまたは乾燥することができるということである。

印捺された材料を乾燥し、材料送り手段及び複数の印捺
乾燥機構を有する本発明の乾燥装置の主な特徴は、特許
請求の範囲第（１）項に記載されている。

以下、図面に関して本発明の詳細な説明する。

第１図には、基質材料に施された印捺を乾燥する乾燥装
置（１）が示されている。基質材料（第１図には図示せ
ず）は、矢印（ｐ）の方向にシルクスクリーン印捺機（
図示せず）から検査テーブル（２）に運ばれ、そこから
テープ＃　（２＋に近接して配置さｎている乾燥装置（
１）に運ばれる。乾燥袋する。

第２図では、１つまたはそれ以上の第１印捺乾燥機構（
４ａ）が基質材料（５）の一方の印捺された側面（５ａ
）側に前記側面（５ａ）すなわち面に面するように配置
され、１つまたはそれ以上の第２印捺乾燥機構（４ｂ）
が前記基質材料の他方の側面（５ｂ）側に前記他方の側
面すなわち面に面するように配置されている。第２乾燥
機構は印捺された部分が第１乾燥機構（４ａ）による作
用を受ける前に、前記基質材料の印捺された部分（５）
に乾燥及び（または）キユアリングモードで最初に作用
するように配置されていることが第２図から明らかであ
る。

本発明の１つの実施例では、印捺乾燥機構は紫外線放射
手段（紫外線放射を発生する手段）を備えている。

基質材料＋５１はガラスプレートまたはそれと同種のも
のであることが好ましく、基質材料の而（５ａ）の上に
ある印捺インク（６）、すなわち印捺インク部（６）の
部分（６ａ）は、部分（６ａ）の上にある前記印捺イン
ク（６）の゛部分（６ｂ）をキユアリングする前にキユ
アリングされる。印捺のキユアリングはこのように２つ
の段階で達成される。

施された印捺、すなわち前記部分（６ａ）は濃厚に着色
されている厚いインクすなわち厚い印捺コーチングから
なる。本発明によシ提供される乾燥及び（または）キユ
アリングプロセスを利用すれば、基質材料の而（５ａ）
に対する前記部分（６ａ）　ｔＤ層（６ａ’　）を、第
２乾燥機構（４ｂ）によって溶解することができ、前記
印捺の上方部分（６ｂ）は乾燥機構（４ａ）によって乾
燥及び（または）キユアリングされる。

従って、部分（６ａ）と（６ｂ）間に顕著な結合層（６
ｂ’）を形成することなく、印捺コーチング（６）を完
全に乾燥及び（または）キユアリングするように、基質
材料＋５１が装置から運ばれる速さに応じて機構（４ｂ
）の強さを選択するべきである。

印捺コーチングが、印捺コーチングを通って印捺コーチ
ングの反対側に施された接着層に有害に作用する紫外線
放射の通過を永久に防止する物質からなるとき、印捺コ
ーチングをガラス基質に溶解することが特に困難である
ことがわかっている。紫外線が生じるとき、乾燥及び（
または）キユアリング機構は基質材料の一方の側面（通
常は上方の側面）側だけに位置決めされ、乾燥作用の間
、紫外線放射は印捺コーチング（６）の上方部分（６ｂ
）をキユアリングするだけであり、従って、印捺はガラ
スに付着しない。

本発明によれば、ガラス基質［５１の上にある印捺の部
分（６ａ）が最初にキユアリングされ、前記基質（５）
の上面（５ａ）に焼きつけられるかまたは溶解し、前記
印捺コーチングの完全なキユアリングは機構（４ａ）の
作用によって次の段階で達成される。

これに関して特に困難な印捺インクすなわち印捺成分は
セラミック浸透インクであり、このセラミック浸透イン
クは、オランダ、マーストリヒト、フリゲート通９３８
、プライズカラーＢ、Ｖ、によって生産されたブラック
３９１３５　／　１３７　／　６３の名称で売られてい
るものである。このインクは自動車のフロントガラスの
エツジ部分に使用されると好都合であシ、フロントガラ
スは面（５ｂ）に施された接着剤によってシャシに接着
でき、印捺成分は有害な大気紫外線放射による影響から
接着剤を保護する。

本発明は記載及び図示された実施例に限定されるもので
はないが、特許請求の範囲内において変形することがで
きる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に従って構成した乾燥装置の側面図、 第２図は印捺された基質材料の装置を通過するときの長
さを示す図、 第３図は印捺コーチングが施された一片の基質材料のエ
ツジ部分を示す図である。 （１）・・・・・乾燥装置 （３）・・・・・送９手段 （４ａ）・・・第１乾燥機構 （４ｂ）・・・第２乾燥機構 （５）・・・・・基質材料 （６）・・・・・印捺された部分 特許出願人　　　　ヌベシア　シルクスクリーンマスキ
ネル　アクテイエ　ポラーグ 代　　理　　人　　　新　　実　　健　　部（外１名） （Ｎ　　　　　　　、、） 手続♀甫正書Ｃ方式）（２） ％式％ ２、Ｑ　１９１（７）ｇユ　　印捺された材料を乾燥す
る乾燥装置３、補正をする者 事件との関係　　　　　　特許出願人 ４、代　理　人

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）１つまたはそれ以上の第１印捺乾燥機構（４ａ）
   が材料の一方の印捺さ扛た而（５ａ）側に前記面と而す
   るように配置され、１つまたはそれ以上の第２印捺乾燥
   機構が前記材料の反対側の面側に前記反対側の面に面す
   るように配置され、前記第２機構（４ｂ）は乾燥及び（
   または）キユアリングモードで前記材料の印捺された部
   分（６）に、前記部分（６１が前記第１機構の作用を受
   ける前に、作用するように配置されていることを特徴と
   する、材料法シ手段及び複数の印捺乾燥機構を有する印
   捺された材料を乾燥する乾燥装置。
2. （２）前記印捺乾燥機構は紫外線放射手段であることを
   特徴とする特許請求の範囲第（１）項に記載の乾燥装置
   。
3. （３）前記基質材料はガラスプレートまたはそれと同種
   のものであシ、前記基質材料の上にある前記印捺物質（
   ６）の部分（６ａ）は、前記部分（６ａ）の上にある前
   記物質の部分（６ｂ）をキユアリングする前にキュアリ
   ンダされるようにしたことを特徴とする特許請求の範囲
   第＋ｉ）項または第（２）項に記載の乾燥装置。
4. （４）前記基質材料に施された印捺は濃厚に着色されて
   いる厚い印捺物質からなり、前記基質材料の上にある前
   記物質の部分（６ａ）が前記第２機構（４ｂ）によって
   前記材料に溶解または焼き付けられることを特徴とする
   特許請求の範囲第（１）項、第（２）項、または第（３
   １項のいずれか１つの項に記載の乾燥装置。