JPS59144726A - フエノ−ルまたは/およびオルトクレゾ−ルのオルトメチル化方法 - Google Patents

フエノ−ルまたは/およびオルトクレゾ−ルのオルトメチル化方法

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JPS59144726A
JPS59144726A JP58018573A JP1857383A JPS59144726A JP S59144726 A JPS59144726 A JP S59144726A JP 58018573 A JP58018573 A JP 58018573A JP 1857383 A JP1857383 A JP 1857383A JP S59144726 A JPS59144726 A JP S59144726A
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Tsutomu Katsumata
勉 勝又
Masahisa Yokota
昌久 横田
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Asahi Kasei Corp
Asahi Chemical Industry Co Ltd
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Asahi Chemical Industry Co Ltd
Asahi Kasei Kogyo KK
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    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、フェノールまたは/およびオルトクレゾール
とメタノールとをノリ力に担持された金属酸化物触媒の
存在下に、流動床反応器を用いて気相接触させオルト位
メチル化フェノール化合物を製造する方法に関するもの
である。
本発明の方法によシ製造されるオルト位メチル化フェノ
ール化合物、例えば26キ/レノールはポリフェニレン
オキサイドの原料であシ、オルトクレゾールは医農薬品
等の原料であシ、いずれも工業原料として重要である。
フェノールまたは/およびオルトクレゾールとメタノー
ルとを気相で接触させてオルト位メチル化フェノール化
合物を製造する方法は公知であり、酸化アルミニウムを
触媒とする方法(英国特許第717588号)、酸化マ
グネ/ラムを触媒とする方法(米国特許第344685
6号)酸化鉄と酸化バナジウムを含む触媒を用いる方法
(%2昭47−37943)などが提案されているが、
いずれも固定床反応器を用いて実施されている。
一般に、発熱を伴う反応を固定床反応装置を用いて行う
と局部過熱を生じ易く、特に工業的規模の固定床反応装
置におじでは局部過熱を防ぐことば極めて困難であシ、
目的とする生成物の収率2選択率の低下や触媒寿命の短
縮という事態になりかねない。
またフェノール類のオルトメチル化反応においては、メ
タノールの分解反応が必ず生じる。
このメタノールの分解は反応温度が高いと加速的に増大
する特徴があるため、オルトメチル化反応においては特
に反応温度の均一性が要求される。
これに対して、流動床反応装置を用いた場合には、装置
内の温度を均一に保つことが容易である。しかし、流動
床反応装置にも解決すべき問題点がある。例えば、流動
層内のガスは触媒粒子の懸濁相内を主として気泡を形成
しながら上昇し、その上昇の途中で合体、再分散を繰返
しているが、この気泡が合体成長するといわゆる濃厚相
(触媒粒子密度の大きい相)と希薄相(粒子密度の小さ
い相)との間の物質の交換や各相内でのカス混合の悪化
、および気固間の接触効率が低下し、極端な場合にはガ
スの貫流現象が生じ、転化率及び選択率が大きく低下す
る。
また、触媒粒子の流動が悪い場合には、温度分布の不均
斉(局部過熱)を生じ前記流動床の長所を損なう結果と
なる。
また、従来のフェノール類のオルトメチル化反応の問題
点は、Fe+V、Mn、Mg、Cr、In等の酸(3) 化物のいずれの触媒でも割れ、粉化が極めて生じ易い点
にある。この原因は炭素析出による膨潤−割れ一粉化や
、反応時の触媒の強い還元によるものあるいは空気酸化
による触媒の再生時の熱的、化学的影響などが考えられ
る。このため固定床用の触媒においても触媒の粉化を防
止するため種々の提案がなされてきた。
例えば特公昭51−42092号、特公昭53−175
84、特開昭49−36705号等に提案がなされてい
る。
しかしながら流動床で使用される触媒の強度は固定床触
媒に要求される強度の比ではない。
何故なら触媒が静止している固定床と異なシ触媒粒子が
他の触媒粒子または反応器器壁等と激しく衝突しており
、これに耐える耐摩耗強度を有することが必須である。
つまジフェノール類のオルトメチル化反応は反応器全体
の反応温度の均一性が得られる点から流動床は極めて優
れた反応方式であるにも拘わらず、本反応特有の触媒の
割れ、粉化が生じ(4) ることよシ、これまで工業的流動床反応器に充分耐えう
る触媒が得られず流動床化が見送られてきたものである
これ壕でフェノール類のオルトメチル化反応に流動床を
運用した例として、特公昭52−46930  にアル
ミナ触媒音用いた例が知られているが、アニソールの生
成が極めて多く、フェノール選択率が悪くしかも耐摩耗
強度が悪く工業的に実施する」二で問題である。
本発明者等は、前記の流動床反応の問題点を克服し、し
かも活性2選択性が良好で寿命の長い触媒を開発し工業
的に有利な製造方法を確立すべく鋭意検討の結果本発明
に到達した。
本発明に使用する触媒は、/リカを担体とすることが必
須である。これ以外の担体、例えばアルミナや/リカ・
アルミナを用いた場合には、耐摩耗強度も低い上に蒸留
では26−キ/レノールと分離が不可能なm −、p−
クレゾールの生成が激増し、アニソールの生成も非常に
多いなど、フェノール選択率が著しく低下する。また、
けい藻土、ノリコンカーバイド、ジルコニアを相体に用
いた場合、フェノールの選択率も悪い上に、担体として
のパインディノブ効果が弱いため、触媒の耐摩耗強度が
小さく、短期間のうちに触媒の摩耗が起こり、流動床用
の触媒としては不適当である。
これに対してノリ力を担体に選び、かつソリ力の量が本
発明の範囲である10〜80重量粘かつ5CIO℃以上
900℃以下の温度で焼成した触媒を用いれば、触媒の
活性・オルト位選択性・および触媒の強度が工業的規模
の生産をするのに耐えうるものである。ノリ力の量が1
0係未満の場合、触媒の強度が充分ではない。一方、7
リカの担持量が80%以上の場合、触媒の活性及び選択
性ばかシでなく触媒の強度も低下するので、工業的に実
施する上で不利となる。
触媒の焼成温度は金属成分によシ異なるが、通常500
″C〜900℃の範囲である。500℃未満では触媒に
充分な活性を付与できない。
900℃以上となると担体であるソリ力の結晶化が進み
、触媒強度の低下をもたらし、流動床用触媒として用い
耐摩耗強度が不充分となり好ましくない。
さらに局部加熱を防止し、かつ良好な接触効率を保つた
めには触媒の形状が球に近いことに加え平均粒径および
粒径分布が極めて重要であることを見出した。すなわち
本発明者等の実験によれば平均粒径と粒径分布を以下の
ように限定することによシ初めて良好な流動状態と接触
効率が保たれ、長期間良好な活性2選択性を発現させる
ことができる。触媒の平均粒径として40〜100μで
あシ、かつ平均粒径の02〜0.7倍、1.5〜20倍
、および20倍を越える各粒径範囲内にある粒子の各総
重量が全触媒重量に対して各々5〜50%、5〜30%
、10%以下の粒径分布を有する触媒を用いて反応を行
なうことにより、良好な活性2選択性をうろことができ
る。粒径分布の測定法としては標準ンルイを用いる方法
、沈降テンビンを用いる方法、アンドレアゼンピペット
を用いる方法、顕微鏡法などがある。またここでいう平
均粒径とは50%粒径(重量分布でちょうど粗粒と細粒
とを50係づつに分割する粒径)のことで、例えば平均
粒径が60μならば、60μ未満の粒子の総重量と60
μ以上の粒子の総重量が等しい事になる。
触媒が本発明に規定された分布よシ狭い分布を有する場
合、及び逆に粒径分布が本発明の規定よシ広い場合のい
ずれも触媒とガスとの接触効率が悪くなシ原料のフェノ
ール類の転化率と選択率が悪化し、また局部加熱を生じ
メタノールの選択率が低下すると共に触媒の寿命にも悪
影響をもたらすことがわかった。さらに良好な流動状態
を保つには、ガス線速度が05〜100crn/秒に規
定する範囲内であることが望ましく、より好ましくは2
〜80cm/秒の範囲である。
本発明に適用される触媒の金属成分として、鉄、バナジ
ウム、マンガン、マグネシウム、クロム、インジウムの
単独又は組合せが好適でおり、更にこれらの成分にアル
カリ金属、アルカリ土類金属、希土類金属等を添加する
ことも可能である。
本発明の場合、供給原料中のフェノールまたは/および
オルトクレゾールに対するメタノールのモル比は触媒種
によシ異なるが、1:1〜20である。また、水蒸気ま
たは不活性ガスは必要に応じて導入できるが、水蒸気の
場合フェノールまたは/およびオルトクレゾールに対す
るモル比は1:0〜15が好ましい。
反応温度は触媒種によシ異なるが250〜600°Cの
範囲が好ましい。
反応の圧力は常圧でもよいが必要に応じて減圧または加
圧下でも実施できる。
以下実施例によシ本発明をさらに詳細に説明する。
実施例中の7工ノール転化率1選択率及びメタノール選
択率は次式によって定義される。なお、オルトクレゾー
ルの場合も同様である。
×100 メタノール選択率(イ))− 〔実施例1〕 メタバナジン酸アンモニウム(NH4VO3)585g
を90℃に加温した純水12400gr  に溶力へし
、十分攪拌しながら硝酸第二鉄(F e (NO3) 
3 ・9H20)2020gおよび50重量ヂの5i0
2を含むノリ力ゾル(1産化学製スノーテックスN)2
850gを加える。ノリ力コロイドゾルに均一に分散し
た微粒懸濁質のスラリーが得られる。これを並流式の噴
霧乾燥器にて乾燥した69、 原料スラリーの噴霧化は、通常工業的実施に用いられる
遠心方式、二元体ノズル方式あるいは高圧ノズル方式の
いずれによっても行いうるが、特に遠心方式が好適であ
る。粒子径は遠ILA力式I(Cおいではディスクの回
転速度およびスラリーの供給速度を調節することによっ
て、流動層反応器に用いるに適した10〜isoミクロ
ンの間に分布させることができる。
得られた乾燥粉末を、トンネル型キルンを用い、350
’Cで2時間予備焼成したのち、750℃で3時間焼成
を行なった。この触媒の表面積1BET法で測定すると
20.5 m?7gr  であシ、電子顕微鏡の観察に
より流動床に適した球状を有して曽す その粒径分布は次の通りであった。
粒径範囲  20〜200μ 半均粒径    60 li 粒径分布 半均粒径の02〜07倍のもの 35重量%15〜20
  //  16 〃 〃  20倍を越えるもの  16//本方法で製造し
た触媒300.19を直径15インチの流動床反応器に
投入し反応温度を320〜630°C1圧力を大気圧に
保ち、フェノールとメタノールと水の比が1:5:3の
原料液を蒸発器を通して反応器に導入した。このとき、
原料ガスの線速度を46〜働となるように調節した。
反応器から流出するガスを全量凝縮器に通して凝縮した
液をガスクロマトグラフィーで分析した。
この結果を表−1に示す。
また反応前及び反応後の触媒について、耐摩耗試験を行
なった。
耐摩耗試験とは、通常FCC触媒の試験方法として行な
われているように底部に1i64インチの6つのオリフ
ィスを有する有孔円板を備えた、内径1.5インチの垂
直チューブに触媒約50夕金精秤後投入し、有孔円板を
通して毎時15立方フイートの速度で空気を流し激しく
流動させた。触媒の摩耗度全5〜20時間の間に微細化
して、垂直チューブの上部から逸散した触媒の重量の初
期投入量に対する割合として求めた。
結果は表−1に示すように反応前の触媒及び反応後の触
媒共摩耗した触媒は1%前後であシ流動床触媒として充
分に使用に耐えるものである。
〔実施例2〜6、比較例1〜5〕 実施例1と同様の方法で、/リカ相持量と焼成温度を変
えた触媒を調製し、実施例1と同様の装置を用いて反応
および触媒の耐摩耗試験を行なった。反応は24〜12
0時間継続した。
反応成績および反応前後の触媒の耐摩耗試験の結果を表
−1に示す。
なお、ここで用いた触媒は全て粒径及び粒径分布は本発
明の範囲のものであった。捷た、比較例5の1000°
Cで焼成した触媒はX線回折によシンリカが結晶化して
いることが解った。
〔実施例7〜8〕 実施例1と同様の方法で、実施例1の組成にカリウム、
マグネ/ラムを加えた触#Aを調製し、同様に反応、耐
摩耗試゛験を行なった。結果を表−1に示す。なお、こ
こで用い゛た触媒は全て粒径及び粒径分布は本発明の範
囲内であった。
特開昭59−144726 (5) 〔実施例9〜]1.比較例6〜7〕 実施例1と同様の方法で、触媒の組成を変えた触媒を調
製し実施例1と同様の装置を用いて反応および触媒の耐
摩耗試験を行なった。反応は24時間継続した。反応成
績および反応前後の触媒の耐摩耗試験の結果を表−2に
示す。
なお、ここで用いた触媒はすべて粒径および粒径分布は
本発明の範囲内であった。
(16) 186− 〔比較例8,9〕 実施例工と同様にして調製した触媒を、標準ンルイにて
分級し、これを表−3に示すような粒径分布となるよう
に混合した。それら全実施例1と同様の条件下に反応を
行なった。これを表−4に示す。
表−3 (18) 188− 特開昭59−144726 (9) 比較例8及び9の場合は、いずれも反応器内温度が均一
とならず最高温度と最低温度差はそれぞれ25°C,2
0℃ついた。これに対し実施例1の場合は2°C未満で
あった。
〔比較例+−0] 市販のアルミナゾル(A、1203として10w′%)
に硝酸マンガンを溶解し、実施例1と同様に噴霧乾燥し
、700℃5hr焼成した。この触媒につき耐摩耗試験
を行なった。この結果を表−5に示す。
〔比較例月〕
市販の100〜200メツ/ユのけい藻土に硝酸マンガ
ンを含浸せしめ、これ1700″Cで5hr焼成した。
この触媒について耐摩耗試験を行なった。この結果を表
−5に示す。
実施例】で用いた触媒を用いて、実施例と同一の反応装
置によって、オルトクレゾールタノールの反応を行なっ
た。このとき反応温度は320℃、オルトクレゾールと
メタノールと水のモル比f 1 : 3 : 3とし、
ガス線速度碩6cm 7秒に保った。24時間反応全継
続後の成績は、オルトクレゾールの転化率は995%で
あり、26キ/レノールの選択率は98.5%テhつだ
手続補正書 特許片長 官     殿 1、事件の表示 昭和S8 手持   願第18573  号オルトメチ
ル化方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 氏名 4、代 理 人 主 十゛ 1 5、補正命令の日付 自 発 補 正 昭和   年   月    日 (発送日)6、補正
により増加する発明の数 (1)  明細書第7頁第19行目と第20行目との間
に次の文を挿入し補正する。
[好ましい焼成温度は、シリカが実質的に非晶質の状態
で活性成分を担持していも温度であることが好ましい。
このため触媒焼成温度の上限は、この非晶質の状態を保
つ領域から選択される。一般には最高90(1℃である
が、金属成分との関係により上限温度は900℃より低
い場合もある。、] (2)明細書第11頁第1行目の「選択率(優)」を「
フェノール選択率(チ)」と補正する。
(3)明細書第15頁表2の「比較例7」のl’−o−
クレゾール選択率(−)」の欄の「11・7」を「71
・7」に補正する。
(4)  明細書第7頁第3行目の1パインデイニゲ」
を「「パインディング」と補正する。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)フェノールまたは/およびオルトクレゾールとメ
    タノールを気相で接触させてオルト位メチル化フェノー
    ル化合物を製造するにあたシ、10〜80重量係のシリ
    カに担持された金属酸化物を触媒となし流動床で反応せ
    しめることを特徴とするフェノールまたは/およびオル
    トクレゾールのオルトメチル化方法。 (2ン  融媒は500〜900℃で焼成することを特
    徴とする特許請求の範囲第1項記載の7エノールまたは
    /およびオルトクレゾールのオルトメチル化方法。 (3)  触媒は平均粒径が40〜iooμであシ、か
    つ平均粒径の0.2〜07倍、1.5〜2.0倍および
    2.0倍をこえる各粒径範囲にある粒子の総重量が全触
    媒重量に対して、それぞれ5〜50%、5〜30%およ
    び10%以下の粒径分布であることを特徴とする特許請
    求の範囲第1項記載のフェノールまたは/およびオルト
    クレゾールのオルトメチル化方法。 (4)  フェノールまたは/およびオルトクレゾール
    とメタノールとの反応ガスの接触時の線速度が05〜1
    00 c1rL/秒とすることを特徴とする特許請求の
    範囲第1項記載のフェノールまたは/およびオルトクレ
    ゾールのオルトメチル化方法。
JP58018573A 1982-08-10 1983-02-07 フエノ−ルまたは/およびオルトクレゾ−ルのオルトメチル化方法 Granted JPS59144726A (ja)

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EP83201181A EP0101138B1 (en) 1982-08-10 1983-08-10 A process for methylating the ortho position of a phenol

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