JPS59136706A - 酸化珪素膜と酸化チタン膜とで構成される高耐久性多層膜の製造方法 - Google Patents
酸化珪素膜と酸化チタン膜とで構成される高耐久性多層膜の製造方法Info
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- JPS59136706A JPS59136706A JP58011152A JP1115283A JPS59136706A JP S59136706 A JPS59136706 A JP S59136706A JP 58011152 A JP58011152 A JP 58011152A JP 1115283 A JP1115283 A JP 1115283A JP S59136706 A JPS59136706 A JP S59136706A
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- Japan
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
- G02B5/285—Interference filters comprising deposited thin solid films
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明（よ、主として光干渉を利用する光学的多層干渉
膜の製造方法の改良に関するものである。
膜の製造方法の改良に関するものである。
光学的多層干渉膜は反則増加、反射防止、２色フィルタ
ー、バントパスフィルター、コールドミラー、ホットミ
ラー等に用いられている。従来〜多層膜は、その低屈折
材料として、化学的安定性、硬さ等の点で勝れているた
めに酸化珪素膜が、高屈折材料として酸化チタン膜が使
用されている。
ー、バントパスフィルター、コールドミラー、ホットミ
ラー等に用いられている。従来〜多層膜は、その低屈折
材料として、化学的安定性、硬さ等の点で勝れているた
めに酸化珪素膜が、高屈折材料として酸化チタン膜が使
用されている。
この酸化珪素膜と酸化チタン膜とを用いた多層膜におい
て、例えばガラス等の反射防止膜として、ガラス／Ｔｉ
Ｏｚ”／Ｓｉ Ｏ２／Ｔｉ Ｏ２／Ｓｉ ０２等の多
層膜系の最外層に酸化珪素膜が形成されて用いられてい
る。逆に、ガラス等の赤外線反射１１ 加膜トＬ、 テ
、）Ｊ−ｙ）、／Ｔ： ０２ ／Ｓｉ Ｏｔ ／Ｔｉｏ
２の３層構成の反射増加膜や、ガラス／Ｔｉ０２ ／
Ｓ ｔ ０２／ Ｔ ｉ Ｏｔ ／ Ｓ ｉ Ｏｔ ／
Ｔ ｉ Ｏｔの５層構成の反則増加膜が知られている
。又、８膜の厚さは、膜を構成する材料の屈折率の関係
において、１／４波長膜厚とすることにより、材料の屈
折率と膜厚を適当に選択し、酸化珪素膜と酸化チタン膜
を交互に積Ｅ’Ｊることにより特定の波長の光に対して
、反射を防止したり、逆に反射を増大さＶることか知ら
れている。
て、例えばガラス等の反射防止膜として、ガラス／Ｔｉ
Ｏｚ”／Ｓｉ Ｏ２／Ｔｉ Ｏ２／Ｓｉ ０２等の多
層膜系の最外層に酸化珪素膜が形成されて用いられてい
る。逆に、ガラス等の赤外線反射１１ 加膜トＬ、 テ
、）Ｊ−ｙ）、／Ｔ： ０２ ／Ｓｉ Ｏｔ ／Ｔｉｏ
２の３層構成の反射増加膜や、ガラス／Ｔｉ０２ ／
Ｓ ｔ ０２／ Ｔ ｉ Ｏｔ ／ Ｓ ｉ Ｏｔ ／
Ｔ ｉ Ｏｔの５層構成の反則増加膜が知られている
。又、８膜の厚さは、膜を構成する材料の屈折率の関係
において、１／４波長膜厚とすることにより、材料の屈
折率と膜厚を適当に選択し、酸化珪素膜と酸化チタン膜
を交互に積Ｅ’Ｊることにより特定の波長の光に対して
、反射を防止したり、逆に反射を増大さＶることか知ら
れている。
従来の酸化珪素膜と酸化チタン膜とで構成されている多
層膜は、ＣＶ ｌ） ？７の化学的被膜形成方法や、真
空蒸着、スパッタリング等の物理的被膜形成方法で作ら
れているが、多層膜の機械的強度が比較的弱＜、＋成域
的な摩擦等にＪ：り被膜が容易に傷つき、光干渉４効果
が阻害されるという問題点があった。
層膜は、ＣＶ ｌ） ？７の化学的被膜形成方法や、真
空蒸着、スパッタリング等の物理的被膜形成方法で作ら
れているが、多層膜の機械的強度が比較的弱＜、＋成域
的な摩擦等にＪ：り被膜が容易に傷つき、光干渉４効果
が阻害されるという問題点があった。
本発明は上記問題点を克服するもので、機械的摩擦等に
すぐれた高耐久性多層膜の製造方法を提供することを目
的とするものである。
すぐれた高耐久性多層膜の製造方法を提供することを目
的とするものである。
本発明の酸化珪素膜と酸化チタン膜とで構成される高耐
久性多層膜の製造方法は、基板表面上に真空蒸着、イオ
ンブレーティング、スパッタリング等の物理的被膜形成
方法で少なくとも１層の酸化珪素膜と少なくとも１層の
酸化チタン膜とよりなる多層膜を形成する方法において
、上記酸化珪素膜と上記酸化チタン膜との間に上記物理
的被膜形成方法で酸化アルミニウム、酸化マグネシウム
、酸化ジルコニウム、酸化カルシウム、酸化ナトリウム
、酸化バリウム、酸化マンガンの１種または２種以上よ
りなる中間物質の中間層を含む多層膜を形成した後、該
多層膜を加熱して該中間層の中間物質をそれに隣接する
酸化珪素膜および酸化チタン膜中に拡散させ拡散層とす
−ることを特徴とづる酸化珪素膜と酸化チタン膜とで構
成されることを特徴とするものである。
久性多層膜の製造方法は、基板表面上に真空蒸着、イオ
ンブレーティング、スパッタリング等の物理的被膜形成
方法で少なくとも１層の酸化珪素膜と少なくとも１層の
酸化チタン膜とよりなる多層膜を形成する方法において
、上記酸化珪素膜と上記酸化チタン膜との間に上記物理
的被膜形成方法で酸化アルミニウム、酸化マグネシウム
、酸化ジルコニウム、酸化カルシウム、酸化ナトリウム
、酸化バリウム、酸化マンガンの１種または２種以上よ
りなる中間物質の中間層を含む多層膜を形成した後、該
多層膜を加熱して該中間層の中間物質をそれに隣接する
酸化珪素膜および酸化チタン膜中に拡散させ拡散層とす
−ることを特徴とづる酸化珪素膜と酸化チタン膜とで構
成されることを特徴とするものである。
本発明は、酸化珪素膜と酸化チタン膜との親和性が弱く
、このために両膜間の結合力が弱く、剥離等が生じ易い
欠点を確認し、酸化珪素膜と酸化チタン膜との境界部に
両者に比較的親和性の高い中間物質を介在させ、両膜の
間の親和性を高めることにより耐久性を向上させるもの
である。
、このために両膜間の結合力が弱く、剥離等が生じ易い
欠点を確認し、酸化珪素膜と酸化チタン膜との境界部に
両者に比較的親和性の高い中間物質を介在させ、両膜の
間の親和性を高めることにより耐久性を向上させるもの
である。
本発明の製造方法の高耐久性多層膜に用いられる基板と
しては、ガラス板、ガラス光学部品、透明プラスチック
ス板、プラスチック光学部品等の基板を用いることがで
きる。
しては、ガラス板、ガラス光学部品、透明プラスチック
ス板、プラスチック光学部品等の基板を用いることがで
きる。
物理的被膜形成方法としては、真空蒸着法、スパッタリ
ング法、イオンブレーティング法が使用できる。真空蒸
着法は、熱着材料である酸化珪素及び酸化チタンならび
に中間物質である酸化アルミニウムや酸化マグネシウム
を高真空下で蒸発させ、基板表面に蒸着させるものであ
る。この酸化珪素あるいは酸化チタンそれに中間物質を
電子線加熱、抵抗加熱等の加熱手段により蒸発させる。
ング法、イオンブレーティング法が使用できる。真空蒸
着法は、熱着材料である酸化珪素及び酸化チタンならび
に中間物質である酸化アルミニウムや酸化マグネシウム
を高真空下で蒸発させ、基板表面に蒸着させるものであ
る。この酸化珪素あるいは酸化チタンそれに中間物質を
電子線加熱、抵抗加熱等の加熱手段により蒸発させる。
イオンプレーディング、スパッタリングについても基本
的には真空蒸着法と同じで酸化珪素膜、酸化チタン膜、
中間膜を形成する酸化珪素、酸化チタンおよび中間物質
をそれぞれ蒸発させて所定の中間層を持つ酸化珪素膜と
酸化チタン膜の多層膜を形成することができる。
的には真空蒸着法と同じで酸化珪素膜、酸化チタン膜、
中間膜を形成する酸化珪素、酸化チタンおよび中間物質
をそれぞれ蒸発させて所定の中間層を持つ酸化珪素膜と
酸化チタン膜の多層膜を形成することができる。
中間層の厚さは２０〜７０オングストロ一ム程度が適当
である。中間層が厚くなると多層膜の強度が増加する。
である。中間層が厚くなると多層膜の強度が増加する。
しかし逆に境界が不鮮明になり光干渉膜としての性質が
低下づる。中間層の厚さが薄くなると逆に多層膜の強度
は低く、光学的性質は向上する。
低下づる。中間層の厚さが薄くなると逆に多層膜の強度
は低く、光学的性質は向上する。
多層膜の加熱工程は中間層の中間物質を加熱による熱拡
散で酸化珪素膜、酸化チタン膜中に拡散さヒ゛るもので
ある。加熱温度としては４００℃〜８００℃が適当であ
る。加熱時間としては４００℃で２時間程度、７００℃
で２０分公租である。
散で酸化珪素膜、酸化チタン膜中に拡散さヒ゛るもので
ある。加熱温度としては４００℃〜８００℃が適当であ
る。加熱時間としては４００℃で２時間程度、７００℃
で２０分公租である。
この加熱により中間層が消失し、拡散層となる。
拡散層としての厚さは３０〜１００オンダストロ一ム程
度が好ましい。
度が好ましい。
なお、基板にガラス板を使用する場合は、この加熱工程
を利用して、ガラスの成形強化処理を、同時に実施する
ことが可能となる。
を利用して、ガラスの成形強化処理を、同時に実施する
ことが可能となる。
以下、実施例を説明覆る。
本発明の実施例の多層膜を持つ強化ガラスの断面を第４
図に示づ。この多層膜は強化ガラス１の表面に第″１層
２としＣ厚さ０，１ミクロンの酸化チタン膜、第２層３
として厚さ０．１８ミクロンの酸化珪素膜、第３層４と
して厚さ０．１ミクロンの酸化チタン膜、第４層５とし
て厚さ０．１８ミクロンの酸化チタン膜、第５層６とし
て厚さ０゜１ミクロンの酸化チタン膜及び最外層となる
第６層７として厚さ０．０９ミクロンの酸化珪素膜とよ
りなり、かつ各酸化珪素膜と酸化チタン膜の境界部に第
５図に拡大して概念的に示Ｊように酸化アミニウムより
なる中間物質を混在さＵた中間層８を形成させたもので
ある。
図に示づ。この多層膜は強化ガラス１の表面に第″１層
２としＣ厚さ０，１ミクロンの酸化チタン膜、第２層３
として厚さ０．１８ミクロンの酸化珪素膜、第３層４と
して厚さ０．１ミクロンの酸化チタン膜、第４層５とし
て厚さ０．１８ミクロンの酸化チタン膜、第５層６とし
て厚さ０゜１ミクロンの酸化チタン膜及び最外層となる
第６層７として厚さ０．０９ミクロンの酸化珪素膜とよ
りなり、かつ各酸化珪素膜と酸化チタン膜の境界部に第
５図に拡大して概念的に示Ｊように酸化アミニウムより
なる中間物質を混在さＵた中間層８を形成させたもので
ある。
実施例の物理的被膜形成方法として第１図にその概略断
面を示ず東学蒸着装置を用いてガラス板表面に多１ｉ？
ｉ ＨＲを真空＠むしたものである。この真空蒸着装置
は、真空容器１０内に４個の蒸発物質を保持り゛る４個
のルツボ１１〜１４をもつ回転可能な円盤状のホルダー
１５（第２図）と電子ビーム照射装置１６とからなる蒸
発装置をもつ。ガラス板１は真空容器１０の１一方の基
板ホ！レダー１７に保持され、かつガラス板１とルツボ
１１〜１４の間にはスクリーン１８が回動可能に配置さ
れている。ルツ、ボ１１には酸化チタンが、ルツボ１２
には酸化アルミニウムが、ルツボ１３には酸化珪素が入
れられている。真空容器１０内を高真空にし、まずルツ
ボ１１内の酸化チタンを電子ビーム照射装置１６で加熱
し、ガラス板１の表面に所定の厚さの酸化チタン膜を形
成する。ここＣ゛ホルダー１５回転してルツボ１２内の
酸化アルミニウムを加熱し、酸化アルミニウムを蒸着し
、酸化アルミニウムの薄い中間層を形成づる。次に、ホ
ルダー１５を回転し、ルツボ１３内の酸化珪素を加熱し
、酸化珪素の膜を形成づる。この操作をくりかえし、第
３図に示す多層膜をガラス板１の表面に形成する。ここ
では酸化チタン股２０．４０．６０の、厚さは１０００
オンゲス１−ロームに、酸化珪素膜３０．５０の厚さは
１８００オングストロームに、最上層の酸化珪素膜７０
は反躬防１１°膜として９００Ａングストロームとした
。なお、多層膜の耐摩耗性、光学的性質を調べるため、
酸化アルミニウムの中間層の厚さをＯ〜１’ ５０７１
ングス１〜ロームの間で種々変えたものを製作した。
面を示ず東学蒸着装置を用いてガラス板表面に多１ｉ？
ｉ ＨＲを真空＠むしたものである。この真空蒸着装置
は、真空容器１０内に４個の蒸発物質を保持り゛る４個
のルツボ１１〜１４をもつ回転可能な円盤状のホルダー
１５（第２図）と電子ビーム照射装置１６とからなる蒸
発装置をもつ。ガラス板１は真空容器１０の１一方の基
板ホ！レダー１７に保持され、かつガラス板１とルツボ
１１〜１４の間にはスクリーン１８が回動可能に配置さ
れている。ルツ、ボ１１には酸化チタンが、ルツボ１２
には酸化アルミニウムが、ルツボ１３には酸化珪素が入
れられている。真空容器１０内を高真空にし、まずルツ
ボ１１内の酸化チタンを電子ビーム照射装置１６で加熱
し、ガラス板１の表面に所定の厚さの酸化チタン膜を形
成する。ここＣ゛ホルダー１５回転してルツボ１２内の
酸化アルミニウムを加熱し、酸化アルミニウムを蒸着し
、酸化アルミニウムの薄い中間層を形成づる。次に、ホ
ルダー１５を回転し、ルツボ１３内の酸化珪素を加熱し
、酸化珪素の膜を形成づる。この操作をくりかえし、第
３図に示す多層膜をガラス板１の表面に形成する。ここ
では酸化チタン股２０．４０．６０の、厚さは１０００
オンゲス１−ロームに、酸化珪素膜３０．５０の厚さは
１８００オングストロームに、最上層の酸化珪素膜７０
は反躬防１１°膜として９００Ａングストロームとした
。なお、多層膜の耐摩耗性、光学的性質を調べるため、
酸化アルミニウムの中間層の厚さをＯ〜１’ ５０７１
ングス１〜ロームの間で種々変えたものを製作した。
次に、得られた多層膜をもつガラス板を４００℃〜７０
０℃に加熱し、中間層が酸化珪素膜および酸化チタン股
に拡散し、中間層がるイｒ実に拡散層となるまで加熱し
た。なＪ５一部の試料については加熱時間を変え１、中
間層が残存してしている状態のものを作った。、拡ｒｌ
Ｉ層を形成した多層膜をもつガラス板１の（ｊ１１成を
模式的に第４図およびその一部拡大図である第５図に示
す。
０℃に加熱し、中間層が酸化珪素膜および酸化チタン股
に拡散し、中間層がるイｒ実に拡散層となるまで加熱し
た。なＪ５一部の試料については加熱時間を変え１、中
間層が残存してしている状態のものを作った。、拡ｒｌ
Ｉ層を形成した多層膜をもつガラス板１の（ｊ１１成を
模式的に第４図およびその一部拡大図である第５図に示
す。
その後、４ｒ、ｌられた多層Ｈ父の耐久性を調べるため
に、多層膜の表面にテーパ一式摩擦試験機においてアル
ミナ粉末人硬質ゴムでできた摩耗輪を荷重５００ｇ、摩
耗輪の回転速度７０ｐｐｍ（摩耗輪回転半径３．５０ｍ
）′ｃ１０００回転時間多層膜の表面を摩擦しｌζ。次
に摩擦ににつで摩耗された表面の摩耗程度を観察するた
めに、曇ガラスの曇度を見るヘーズ値を求めた。尚、ヘ
ーズ値は、ガラス表面で光が散乱されず全て直進する場
合をＯとし、ガラス表面で１０．０％散乱する場合を１
００とする値で、入射光線とその直線延長上に設（プた
透過光線の光量を測定づ−ることにより、ヘーズ値が求
められる。ここでは、テーパー弐厚擦試験により多層膜
が傷つけられ、多層膜で光が散乱されることを利用する
もので、ヘーズ値が大きい程耐摩耗性が悪いことを示す
指標になる。
に、多層膜の表面にテーパ一式摩擦試験機においてアル
ミナ粉末人硬質ゴムでできた摩耗輪を荷重５００ｇ、摩
耗輪の回転速度７０ｐｐｍ（摩耗輪回転半径３．５０ｍ
）′ｃ１０００回転時間多層膜の表面を摩擦しｌζ。次
に摩擦ににつで摩耗された表面の摩耗程度を観察するた
めに、曇ガラスの曇度を見るヘーズ値を求めた。尚、ヘ
ーズ値は、ガラス表面で光が散乱されず全て直進する場
合をＯとし、ガラス表面で１０．０％散乱する場合を１
００とする値で、入射光線とその直線延長上に設（プた
透過光線の光量を測定づ−ることにより、ヘーズ値が求
められる。ここでは、テーパー弐厚擦試験により多層膜
が傷つけられ、多層膜で光が散乱されることを利用する
もので、ヘーズ値が大きい程耐摩耗性が悪いことを示す
指標になる。
まず、熱処理時間とヘーズ値の関係を第６図に示づ。こ
こで使用した中間製品の多層膜は酸化アルミニウムの膜
厚が５０オンゲス］〜ロームのものである。第６図より
、７００℃ｒｌよ約３０分、５５００℃では約６０分の
熱処理が必要であることがわかる。
こで使用した中間製品の多層膜は酸化アルミニウムの膜
厚が５０オンゲス］〜ロームのものである。第６図より
、７００℃ｒｌよ約３０分、５５００℃では約６０分の
熱処理が必要であることがわかる。
さらに、中間層の膜厚を変え、拡散層の厚さどヘーズ値
との関係、ならびに耐摩耗試験面の多層膜の視感度補正
後の可視光反則率との関係線図を、第７−図に示す。こ
こで視感度補正後の可視光反射率とは反射光に人間の目
の視感度係数をか【ノ、可視域で規格化した値で規定さ
れる。ヘーズ値は、拡散層の膜厚が５０７Ｉングストロ
ームに増加する間急速に低下し、５％から約？％になる
。さらに、拡散層の膜厚が５０Ａングス１〜ロームから
１００オングストロームに増加゛するにつれ、ヘーズ値
は徐々に低下し、２％〜１．５％に低下する。１００Ａ
ングスト１コーム以上ではヘーズ値の値は変化しない。
との関係、ならびに耐摩耗試験面の多層膜の視感度補正
後の可視光反則率との関係線図を、第７−図に示す。こ
こで視感度補正後の可視光反射率とは反射光に人間の目
の視感度係数をか【ノ、可視域で規格化した値で規定さ
れる。ヘーズ値は、拡散層の膜厚が５０７Ｉングストロ
ームに増加する間急速に低下し、５％から約？％になる
。さらに、拡散層の膜厚が５０Ａングス１〜ロームから
１００オングストロームに増加゛するにつれ、ヘーズ値
は徐々に低下し、２％〜１．５％に低下する。１００Ａ
ングスト１コーム以上ではヘーズ値の値は変化しない。
一方、可視光透過率は拡散層の平均膜厚の増加と共に、
約３．６％程度から徐々に増大し、平均膜厚５０７１ン
グスト［１−ムで約５％、１００オンゲスｌ−ロームで
約６％、５０オングストロームで約８％程度の可視光反
射率となる。
約３．６％程度から徐々に増大し、平均膜厚５０７１ン
グスト［１−ムで約５％、１００オンゲスｌ−ロームで
約６％、５０オングストロームで約８％程度の可視光反
射率となる。
第７図にす、１幾械的摩擦抵抗を高めるためには、拡散
層の厚さは３ＯＡ−ングストローム以上、より好ましく
は５０オングストロームであるのが好ましい。一方、拡
散層の膜厚が増加するにつれ、多層膜の境界部分かばや
り、光学的干渉膜として用いるｎ’Ａ Ｑｈ性が劣化す
る。このため、多層膜の拡散層の厚さは、１００オング
ストローム以下、より好ましくは７５Ａングス１−ロー
ム以下が好ましい。
層の厚さは３ＯＡ−ングストローム以上、より好ましく
は５０オングストロームであるのが好ましい。一方、拡
散層の膜厚が増加するにつれ、多層膜の境界部分かばや
り、光学的干渉膜として用いるｎ’Ａ Ｑｈ性が劣化す
る。このため、多層膜の拡散層の厚さは、１００オング
ストローム以下、より好ましくは７５Ａングス１−ロー
ム以下が好ましい。
このために、拡散層の厚さとしては３０〜１００・オン
グストロームより好ましくは５０〜７５オングストロ一
ム程度が最適であるのがわかる。
グストロームより好ましくは５０〜７５オングストロ一
ム程度が最適であるのがわかる。
第１図は本発明の実施例の多層膜を製造づるのに用いた
真空蒸着装置の概略図、第２図は第１図のホルダーの拡
大平面図、第３図は実施例の真空蒸着で得られた中間製
品の断面図、第４図は本発明の実施例の方法で得られた
多層膜のＩｌｉ面図、第５図は第４図の拡散層中の中間
物質の存在程度を模式的にホラ拡大模式図、第６図は加
熱時間と得られる多層膜の耐久性の指標であるヘーズ値
の関係を示す線図、第７図は拡散層の膜厚と多層膜の耐
久性の指標であるヘーズ値ならびに多層膜の可視光反射
率の関係を示す線図である。 １・・・ガラス板 ２．４．６・・・酸化チタン膜 ３．５．７・・・酸化珪素膜 ８・・・拡散層 １１．１２．１３．１４・・・ルツボ １５・・・ルツボホルダー １６・・・電子線照射装置 特許出願人 トヨタ自動車株式会社 代理人 弁理士 大川 宏 同 弁理士 膝行 修 同 弁理士 丸山明夫 第１図 第４図 第５図
真空蒸着装置の概略図、第２図は第１図のホルダーの拡
大平面図、第３図は実施例の真空蒸着で得られた中間製
品の断面図、第４図は本発明の実施例の方法で得られた
多層膜のＩｌｉ面図、第５図は第４図の拡散層中の中間
物質の存在程度を模式的にホラ拡大模式図、第６図は加
熱時間と得られる多層膜の耐久性の指標であるヘーズ値
の関係を示す線図、第７図は拡散層の膜厚と多層膜の耐
久性の指標であるヘーズ値ならびに多層膜の可視光反射
率の関係を示す線図である。 １・・・ガラス板 ２．４．６・・・酸化チタン膜 ３．５．７・・・酸化珪素膜 ８・・・拡散層 １１．１２．１３．１４・・・ルツボ １５・・・ルツボホルダー １６・・・電子線照射装置 特許出願人 トヨタ自動車株式会社 代理人 弁理士 大川 宏 同 弁理士 膝行 修 同 弁理士 丸山明夫 第１図 第４図 第５図
Claims (4)
- （１）基板表面上に真空蒸着、イオンブレーティング、
スパッタリング等の物理的被膜形成方法で少なくとも１
層の酸化珪素（ＳｉＯｇ）Ｉｔ！５と少なくとも１層の
酸化チタン（ＴｉＯｚ）膜どよりなる多層膜を形成する
方法において、 上記酸化珪素膜と上記酸化チタン膜との間に上記物理的
被膜形成方法で酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、
酸化ジルニ１ニウム、酸化カルシウム、酸化ナトリウム
、酸化バリウム、酸化マンガンの１種または２種以上Ｊ
、りなる中間物質の中間層を含む多層膜を形成した後、
該多層膜を加熱して該中間層の中間物質をそれに隣接す
る酸化珪素膜Ｊ５よび酸化チタン膜中に拡散させ拡散層
とすることを特徴とする酸化ｌ・素膜と酸化チタン膜と
で構成される高耐久性多層膜の製造方法。 - （２）拡散層中の中間物質のｍ度は中心部で最も高く、
該中心部より遠ざかるにつれ減少するようにする特許請
求の範囲第１項記載の製造方法。 - （３）拡散層の厚さを３０〜１００オングストロームと
する特許請求の範囲第１項記載の製造方法。 - （４）基板はガラスであり、多層膜の加熱時に該ガラス
を同時に加熱し、その後該ガラスを急冷して強化ガラス
とする特許請求の範囲第１項記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58011152A JPS59136706A (ja) | 1983-01-25 | 1983-01-25 | 酸化珪素膜と酸化チタン膜とで構成される高耐久性多層膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58011152A JPS59136706A (ja) | 1983-01-25 | 1983-01-25 | 酸化珪素膜と酸化チタン膜とで構成される高耐久性多層膜の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59136706A true JPS59136706A (ja) | 1984-08-06 |
Family
ID=11770044
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58011152A Pending JPS59136706A (ja) | 1983-01-25 | 1983-01-25 | 酸化珪素膜と酸化チタン膜とで構成される高耐久性多層膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59136706A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0300579A2 (de) * | 1987-07-22 | 1989-01-25 | Philips Patentverwaltung GmbH | Optisches Interferenzfilter |
| EP0305135A2 (en) * | 1987-08-26 | 1989-03-01 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Optical interference film having high and low refractive index layers inter-layer connection of which is strengthened |
| JPH0434503A (ja) * | 1990-05-31 | 1992-02-05 | Toshiba Glass Co Ltd | 多層膜反射鏡 |
| JP2003344645A (ja) * | 2002-05-27 | 2003-12-03 | Hamamatsu Photonics Kk | 光反射膜及び光反射膜の製造方法 |
-
1983
- 1983-01-25 JP JP58011152A patent/JPS59136706A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0300579A2 (de) * | 1987-07-22 | 1989-01-25 | Philips Patentverwaltung GmbH | Optisches Interferenzfilter |
| EP0305135A2 (en) * | 1987-08-26 | 1989-03-01 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Optical interference film having high and low refractive index layers inter-layer connection of which is strengthened |
| US4983001A (en) * | 1987-08-26 | 1991-01-08 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Optical interference film having high and low refractive index layers inter-layer connection of which is strengthened |
| JPH0434503A (ja) * | 1990-05-31 | 1992-02-05 | Toshiba Glass Co Ltd | 多層膜反射鏡 |
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