JPS59134445A - 温水加熱装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は給湯用等の温水加熱装置に関するものである。

従来例の構成とその問題点 従来の温水加熱装置は第１図に示すごとく発熱体として
シーズヒータ１を用い、このシーズヒータ１を貯湯室２
の底部に装着していた。貯湯室２内の湯温は、貯湯室２
に取付けられた温度センサー３とセンサー信号により制
御信号を出す制御部４により制御され設定温度に保た五
る。上記従来例においては、流出口３１から流出する温
水温度は貯湯室２内温水そのものの温度である。−従っ
て、流出湯温を瞬時に高くしようとした場合には、貯湯
室２内の全温水を加熱することとなり、応答が非常に遅
く実用上不可能である。又、シーズヒータ１も発熱抵抗
体の周囲を酸化マグネシアで絶縁し、その周囲を金属パ
イプで覆う構成であり、応答速度に限度があった。

発明の目的 本発明は、出湯温度を精度よく所望の温度に制御できる
温水加熱装置を得ることを目的とする。

発明の構成 この目的を達成するために、本発明は加熱手段への制御
手段により、非通水時に貯湯室内の湯温を比較的低い湯
温値にし、通水時には貯湯室からの温水を瞬間加熱し、
前記湯温設定値より高い温度にするものである。

実施例の説明 以下本発明の実施例について、第２図〜第６図を用いて
説明する。

第２図は本発明による温水加熱装置を用いた局部洗浄装
置の外観図である。１ｏは局部洗浄装置であり、洗浄用
の水を加熱する温水加熱装置１１、洗浄水送水加圧用ポ
ンプ１２、及び局部洗浄後の乾燥用の温風ユニット１３
を内設している。１４は暖房便座で、便器１６の上に位
置し、必要に応じ立て起１−ことかできる。１６はロー
タンクで、洗浄水はフィルター１７を吸水口部に取付け
だ給水ホース１８を介しポンプ１２に導かれる。１９は
洗浄水噴射用洗浄ノズルである。２０は電源スィッチ、
２１はポンプスイッチ兼回転数制御用ツマミ、２２は洗
浄湯温調節ツマミ、２３は温風ユニット１３の電源スィ
ッチ、２４は暖房便の調節ツマミである。

第３図に温水加熱装置１１の断面図を示す。温水加熱装
置１１は容器クープ２５と蓋２６とで形成される貯湯室
２７、容器ケース２６の底方向に取付けられた第１加熱
手段２８、蓋２６に取付けられた第２加熱手段２９、お
よび流入口３ｏ、流出口３１とで構成される貯湯部と、
蓋２６に取付けられた湯温センサー３２と、洗浄湯温調
節ツマミ２２とからの信号により、各々第１加熱手段２
８、第２加熱手段２９への電気入力を制御する制御手段
３３とで構成されている。第１加熱手段２８はシーズヒ
ータ等が用いられる。

第２加熱手段２９０発熱体３４は円板状セラミック基材
３６とセラミックシート３６とで抵抗体３７を挾持した
円板状発熱体である。

第４図は第２加熱手段２９の加熱水路構成を第２図に示
す。加熱水路は旋回状の隔壁３８で仕切られた旋回流路
３９である。４０は旋回流路３９への流入口、４１は流
出口である。流入口４０は貯湯室２７へ開口し、流出口
４１は接続パイプ４２を介し流出口３１へ連通している
。

第５図は局部洗浄装置１１の水回路を示し、ポンプ１２
の吸込側は先端にフィルター１７を取付けた給水ホース
１８を介しロータンク１６へ、ポンプ１２の吐出側は、
電磁弁４３を介し温水加熱装置１１、洗浄ノズル１９へ
と接続されている。

電磁弁４３の作動はスイッチ兼回転数制御用ツマミ２１
と連動している。

第６図は通水加熱時の水流を示し、Ｆ、は流入口４０か
ら旋回流路３９へ流入する流れ、Ｆ５は旋回流路３９内
の旋回流、Ｆｏは旋回流路３９から流出口４１へ向から
流れを示す。

上記構成において、非通水時における加熱動作について
説明する一０電源スイッチ２０ｉ入れると第１加熱手段
２８は通電状態となるが第２加熱手゛段２９はポンプ運
転スイッチ２１がＯＦＦのため非通電状態である。第１
発熱手段２８は貯湯室２７内を水を加熱する。水温が上
昇し、湯温センサー３２の設定温度（局部洗浄装置の場
合の設定温度は体温から６℃低い温度に設定されている
）に達すると制御手段３３０制御回路が作動し、通電が
停止される。貯湯室２７の湯温か下がると逆に湯温セン
サー３２と制御手段３３との作動により第１加熱手段２
８は通電状態となり水を加熱する。

以上の作動のくり返しにより、貯湯室２７内の水は比較
的低い温度（体温よシ低い温度）に保たれる。

次に通水時における加熱動作について説明する。

電源スィッチ２ｏを入れ、更に、ポンプスイッチ兼回転
数制御用ツマミ２１を入れる。第１加熱手段２８、第２
加熱手段２９共通電状態となる。

貯湯室２７内の温水は、電磁弁４３がＯＮし、送水加圧
ポンプ１２が運転されるためロータンク１６から冷水の
吸込みが行われると同時に、第２加熱手段２９の流入口
４ｏに向かう（流れＦｉ）。

流入口４ｏから第２加熱手段２９の旋回流路３９に入り
旋回流Ｆ８となる。この旋回流Ｆｓは発熱体表面におけ
る相対速度が非常に速くなる、その結果、表面における
熱伝達率が大きくなシ、水への熱交換能力が大きくなる
。旋回流路３９で加熱された温水は流出口４１を通り、
更に、温水加熱装置１１の流出口３１を通り、洗浄ノズ
ル１９から噴出し局部に達する。

第２加熱十段２９の旋回流路３９内での加熱は、洗浄ノ
ズル１９から噴出し局部に達しだ時の体感温度によシ、
即ち体感温度が低い場合は電気入力を増させるように、
体感温度が高い場合は電気入力を減少させるように、洗
浄湯温調節ツマミ２２の操作と、制御手段３３の回路作
動により制御される。以上のごとく、体感温度により、
調節ツマミを操作することにより、洗浄噴射水温度、又
は温水加熱装置からの流出水温度を最適状態に保つこと
ができる。

発明の効果 （１）低温貯湯された温水を瞬間加熱でヒートアッグす
るだめ、比較的少い電気入力で高い温水が得られる。ま
た、低温貯湯により貯湯室からの放熱が少なく省エネル
ギー効果が大きい。

（２）実施例では、熱伝導がよく、発熱抵抗体と放熱面
との距離が小さいセラミックヒータを用い、且つ伝熱表
面に旋回流を発生させ熱伝達率を高めることにより、熱
応答性が向上し、局部体感に追随する微少な制御が可能
となった。

ｔ、３）　　実施例では、平板ヒータ中央から外周に向
かっての旋回流のだめ、温水の温度上昇に従い高速流と
なる。その結果、高温沸騰が防止できる。

（４）実施例では熱伝達率の増大により、単位面積尚り
の熱伝達量が大きくなって、発熱体のコンパクト化、低
コスト化ができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の温水加熱装置の断面図、第２図は本発明
の一実施例の局部洗浄装置の外観図、第３図は同要部の
断面図、第４図は同装置に用いた第２加熱手段の水路断
面図、第５図は同装置の水回路構成図、第６図は同第２
の加熱手段の流れ状態図である。 １１・・・・・・温水加熱装置、２７・・・・・・貯湯
室、２８・・・・・・第１加熱手段、２９・・・・第２
加熱手段、３０・・・・・・流入口、３１・　・・・流
出口、３２・・・・・湯温センサー、３３・・・・・・
制御手段、３４　・・・円板状発熱体、３５・・・・・
セラミック基材、３６・・・・・セラミックシート、３
７・・・・抵抗体、３８・・・・・隔壁、３９・・・・
旋回流路。 代理人の氏名　弁理士　中　尾　敏　男　ほか１名第１
図 ６３２図　− Ｉ７ 第３図 第４図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （リ　冷水流入口、温水流出口とを有した貯湯室と、前
   記貯湯室内の水を加熱する加熱手段と、前記加熱手段へ
   の入力を制御する制御手段とよシ構成され、非通水時に
   は、前記制御手段による加熱手段制御によって貯湯室内
   の湯温を低温設定とし、通水時には貯湯室からの温水を
   瞬間加熱して、前記低温設定値より高い温度にする温水
   加熱装置。 （２）、加熱手段は、貯湯室内の湯温を低温加熱する第
   １加熱手段と、通水時に貯湯室からの温水を瞬間加熱す
   る第２加熱手段にて構成される特許請求の範囲第１項記
   載の温水加熱装置。 （３）第２加熱手段は、スペース状発熱体と、前記発熱
   体加熱面上の旋回状流路とよりなる特許請求の範囲第２
   項記載の温水加熱装置。