JPS5913369A - Solid-state image pickup element - Google Patents
Solid-state image pickup elementInfo
- Publication number
- JPS5913369A JPS5913369A JP57121678A JP12167882A JPS5913369A JP S5913369 A JPS5913369 A JP S5913369A JP 57121678 A JP57121678 A JP 57121678A JP 12167882 A JP12167882 A JP 12167882A JP S5913369 A JPS5913369 A JP S5913369A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- horizontal
- register
- registers
- horizontal register
- vertical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract 1
- 230000004304 visual acuity Effects 0.000 abstract 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/148—Charge coupled imagers
- H01L27/14831—Area CCD imagers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はCOD (電荷結合素子)から成る固体撮像素
子に関し、特に水平絵素のピッチを大としても水平レジ
スタのピッチを大きくせずKすむよ5KL、Lかもその
ために複雑な構成をとるということがないようにしたも
のである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Industrial Application The present invention relates to a solid-state image sensing device consisting of a COD (charge-coupled device), and in particular, to a 5KL device that can increase the pitch of horizontal picture elements without increasing the pitch of horizontal registers. , L, etc., so that there is no need for a complicated configuration.
背景技術とその問題点
CODから成る固体撮像素子例えばフレームトラン7ア
型のものを高解像度のものとしていくと水平レジスタで
ショートチャンネル効果や電極加工精度上の問題が生じ
る。また光学系が1インチ、%インチ、1/2インチへ
と順次小さくなるものに対応させてチップサイズを小さ
くさせていくと同様な問題が生じる。BACKGROUND ART AND PROBLEMS When a solid-state image pickup device made of COD, for example, a frame transformer type device, is made to have a high resolution, short channel effects and problems in electrode processing accuracy occur in the horizontal register. A similar problem occurs when the chip size is made smaller in response to optical systems becoming progressively smaller from 1 inch to % inch to 1/2 inch.
即ち、フレームトランスファ型の固体撮像素子ではイメ
ージ部で光学像に対応した信号電荷を形成し、この信号
電荷をストレージ部へと垂直方向に転送し、そののちス
トレージ部の転送終端にある電荷を水平レジスタで順次
読出していく。この場合、水平レジスタは水平絵素に応
じた分だけのビットを要し、このため高解像度を図る場
合には水平レジスタのビット数を増加させなければなら
ない。そうすると水平レジスタのピッチが大きくなって
ショートチャンネル効果や電極加工精度上の問題が生じ
るのである。固体撮像素子を小型化する場合にも同様の
問題がある。このことに説明は要しないであろう。In other words, in a frame transfer type solid-state image sensor, a signal charge corresponding to an optical image is formed in an image section, this signal charge is transferred vertically to a storage section, and then the charge at the end of transfer in the storage section is transferred horizontally. Read out sequentially in the register. In this case, the horizontal register requires bits corresponding to the number of horizontal picture elements, and therefore, in order to achieve high resolution, the number of bits in the horizontal register must be increased. In this case, the pitch of the horizontal register becomes large, causing short channel effects and problems with electrode processing accuracy. A similar problem exists when downsizing a solid-state image sensor. This requires no explanation.
ところで本出願人は水平レジスタを2本用意して成る固
体撮像素子を提供している(特願昭56−65657
号)。この固体撮像素子ではストレージ部をなす垂直レ
ジスタのひとつ置きの列を転送させられてくる信号電荷
を、一方の水平レジスタで読出し、残りのひとつ置きの
列を転送させられてくる信号電荷を多方の水平レジスタ
で読出すようにしている。そのため1本の水平レジスタ
のビット数は肴で済み、上述のショートチャンネル効果
や電極加工精度上の問題を回避し得る。By the way, the present applicant has provided a solid-state image sensor comprising two horizontal registers (Japanese Patent Application No. 56-65657).
issue). In this solid-state image sensor, the signal charges transferred to every other column of the vertical registers forming the storage section are read out by one horizontal register, and the signal charges transferred to the remaining every other column are read out in many directions. It is read using the horizontal register. Therefore, the number of bits in one horizontal register is small, and the above-mentioned short channel effect and problems in electrode processing accuracy can be avoided.
但しこの固体撮像素子では、垂直レジスタの転送終端に
一方の水平レジスタを配置し、この一方の水平レジスタ
に対し転送方向にやや離れた配置で、この一方の水平レ
ジスタに並行するように他方の水平レジスタを配置する
。そしてこのよ5な配置の関係上ストレージ部の垂直レ
ジスタから転送されてくるパラレルな信号電荷の偽を、
一方の水平レジスタをジャンプさせる形で他方の水平レ
ジスタに転送する必要がある。特願昭56−65657
号の固体撮像素子の具体的な例では、同一のストレージ
電極及びトランスファ電極で両水平レジスタを同時に駆
動しCOD動作させ、ひとつ置きのストレージ電極の配
置で一方の水平レジスタのストレージ部から他方の水平
レジスタのストレージ部へとバイパスするチャンネルを
形成し、これKよって垂直レジスタの信号電荷を他方の
水平レジスタのストレージ部へと転送し得るようKして
いる。However, in this solid-state image sensor, one horizontal register is placed at the transfer end of the vertical register, and the other horizontal register is placed slightly away from this one horizontal register in the transfer direction, and the other horizontal register is placed in parallel with this one horizontal register. Place registers. Due to this arrangement, the false parallel signal charges transferred from the vertical registers of the storage section are
It is necessary to jump from one horizontal register to the other horizontal register. Patent application 1986-65657
In the specific example of the solid-state image sensor in the issue, COD operation is performed by simultaneously driving both horizontal registers using the same storage electrode and transfer electrode. A bypass channel is formed to the storage section of the register, thereby allowing the signal charge of the vertical register to be transferred to the storage section of the other horizontal register.
しかしながら、このような転送において、一方のレジス
タのストレージ部と他方のストレージ部とは同一電極の
下にあるゆえに両ストレージ部のチャンネルの電位はそ
のままでは同一レベルであり、この結果、転送方向に所
定のポテンシャル差を形成するために特別な工夫を要す
る。However, in such a transfer, since the storage section of one register and the storage section of the other register are under the same electrode, the potentials of the channels of both storage sections are at the same level as they are, and as a result, a predetermined difference in the transfer direction Special measures are required to create a potential difference.
発明の目的
本発明はこのような事情を考慮してなされたものであり
、固体撮像素子の高解像度化や小型化を図っても水平レ
ジスタのピッチを大とすることがなく、しかも構成が簡
素な固体撮像素子を提供することを目的としている。Purpose of the Invention The present invention has been made in consideration of the above circumstances, and it is possible to achieve high resolution and miniaturization of a solid-state image sensor without increasing the pitch of the horizontal register, and with a simple configuration. The purpose is to provide a solid-state image sensor.
発明の概要 本発明では、このような目的を達成するために。Summary of the invention The present invention aims to achieve such an objective.
2本の水平レジスタを用意して水平方向の読出し動作を
分担するようにしている。そして垂直レジスタの転送終
端から離間した水平レジスタへ信号電荷を転送する際に
は両水平レジスタをCCU動作させる2つの位相の電極
を共働させるようにしている。Two horizontal registers are prepared to share the horizontal read operation. When signal charges are transferred from the transfer end of the vertical register to the horizontal register spaced apart, the two phase electrodes that operate both horizontal registers in a CCU operation are made to work together.
本発明によればショートチャンネル効果を回避でき、電
極加工精度上の問題もなく更に消費電力を小さく抑える
ことができる。しかも、垂直レジスタの転送終端から離
間した水平レジスタに信号電荷を転送するために特別に
複雑な構成を採る必要がなく、極めて簡素な構成とする
ことができる。According to the present invention, the short channel effect can be avoided, and there is no problem with electrode processing accuracy, and power consumption can be further suppressed. Furthermore, there is no need to adopt a particularly complicated configuration for transferring signal charges to the horizontal register spaced apart from the transfer end of the vertical register, and an extremely simple configuration can be achieved.
実施例
以下本発明の一実施例忙りいて図面を参照しながら説明
しよう。EXAMPLE Hereinafter, an example of the present invention will be explained with reference to the drawings.
第1図及び第2図は本例固体撮像素子の一部を示し、こ
れら第1図及び第2図において、ストレージ部をなす垂
直レジスタ(LA) (IB)が垂直方向(第1図の上
下方向)に並行するように設けられている。これら垂直
レジスタ(LA) (IB)はチャンネルストッパ領域
(2)により夫々分離されている。これらチャンネルス
トッパ領域(2)には散点を付す。1 and 2 show a part of the solid-state image sensing device of this example. direction). These vertical registers (LA) (IB) are separated from each other by channel stopper regions (2). These channel stopper areas (2) are marked with dots.
他のチャンネルストッパ領域についても同様である。こ
れら垂直レジスタ(IA) (IB)には図示しないイ
メージ部から信号電荷が転送され、こののち順次矢印方
向に転送が行われる。The same applies to other channel stopper regions. Signal charges are transferred to these vertical registers (IA) (IB) from an image portion (not shown), and then transferred sequentially in the direction of the arrow.
垂直レジスタ(IA) (IB)の転送終端には第1の
水平レジスタ(3)の各ステージが結合されている。こ
の結合位置には読出しゲート(4)が設けられ、この読
出しゲートに与えられる電位によって垂直レジスタ(I
A) (IB)から後段への転送が制御されるようにな
り℃いる。第1の水平レジスタ(3)に並行するよ5に
第2の水平レジスタ(5)が形成されている。Each stage of the first horizontal register (3) is coupled to the transfer end of the vertical register (IA) (IB). A readout gate (4) is provided at this coupling position, and a vertical register (I
A) Transfer from (IB) to the subsequent stage is now controlled. A second horizontal register (5) is formed at 5 parallel to the first horizontal register (3).
これら第1及び第2の水平レジスタ(3) (5)は例
えば2相クロツクにより制御され、しかも共通のストレ
ージ電極(6A)(6B)及びトランスファ電極(7A
)(7B) (第1図に破線で示す)によりCCD動作
させられる。These first and second horizontal registers (3) (5) are controlled by, for example, a two-phase clock, and have common storage electrodes (6A) (6B) and transfer electrodes (7A).
) (7B) (shown by broken lines in FIG. 1) allows the CCD to operate.
これら水平レジスタ(3) (5)の間にはT/Sゲー
ト(トランスファ・ストップゲート)(81を設ける。A T/S gate (transfer stop gate) (81) is provided between these horizontal registers (3) and (5).
このT/Sゲート(8)の下にはチャンネルストッパ領
域(9)と含分チャンネル領域O1とが形成されている
。A channel stopper region (9) and a partial channel region O1 are formed under this T/S gate (8).
ストレージ電極(6A)の下の第1の水平レジスタ(3
)のストレージ部から他のストレージ電極(6B)の下
の第2の水平レジスタ(5)のストレージ部へ向うよう
にチャンネル領域QO)が形成される。垂直レジスタ(
IA) (IB)に着目していえば一方の垂直レジスタ
(IA)に対応してチャンネル領域α1が形成されてい
る。即ち、全垂直レジスタ(IA)(IB)に対してひ
とつ置きにチャンネル領域α1が形成されている。この
チャンネル領域αlによつ℃一方の垂直レジスタ(IA
)の電荷は第1の水平レジスタ(3)のストレージ部を
介12て第2の水平レジスタ(5)のストレージ部に転
送されていく。他方の垂直レジスタ(IB)を転送され
てくる電荷の転送はチャンネルストッパ領域(9)によ
って阻止され、第1の水平レジスタ(3)に留まること
となる。このことKついては後に理解できるであろう。The first horizontal register (3) below the storage electrode (6A)
A channel region QO) is formed extending from the storage section of ) to the storage section of the second horizontal register (5) below the other storage electrode (6B). Vertical register (
Focusing on IA) (IB), a channel region α1 is formed corresponding to one vertical register (IA). That is, channel regions α1 are formed every other vertical register (IA) (IB). According to this channel area αl, one vertical register (IA
) is transferred to the storage section of the second horizontal register (5) via the storage section of the first horizontal register (3) 12. The charge transferred through the other vertical register (IB) is blocked by the channel stopper region (9) and remains in the first horizontal register (3). You will understand this later.
尚、本例では電極(6A) (6B) (7A) (7
B)の形状をT/Sゲート(8)の領域で斜めとなるよ
うにしている。In addition, in this example, electrodes (6A) (6B) (7A) (7
The shape of B) is made to be oblique in the region of the T/S gate (8).
即ち第1の水平レジスタ(3)の領域における電極(6
A) (6B) (7A) (7B)の空間的な位相を
第2の水平レジスタ(5)の領域における位相に対して
ずらすようKしている。このようにしているため、チャ
ンネル領域(9)を若干斜めにするだけで一方のストレ
ージ電極(6A)の下のストレージ部から他方のストレ
ージ電極(6B)のストレージ部へと容易にバイパスを
行うことができる。電極(6A) (6B)(7A)
(7B)の形状を真直ぐにするとチャンネル領域α〔を
T/Sゲート(8)の領域で極端に折り曲げなければな
らず、他方チャンネル領域(11を真直ぐにすれば電極
(6A)(6B) (7A) (7B)の形状を同様K
T/Sゲート(8)の領域で極端に折り曲げなければ
ならない。このようにすることは電極のカロエ精度上問
題であり、また電荷の転送効率の上でも不都合である。That is, the electrode (6) in the area of the first horizontal register (3)
A) (6B) (7A) The spatial phase of (7B) is shifted with respect to the phase in the area of the second horizontal register (5). This makes it easy to bypass from the storage section under one storage electrode (6A) to the storage section of the other storage electrode (6B) just by slightly tilting the channel region (9). I can do it. Electrode (6A) (6B) (7A)
If the shape of (7B) is made straight, the channel region α [has to be extremely bent in the region of the T/S gate (8), while on the other hand, if the channel region (11) is made straight, the electrodes (6A) (6B) ( 7A) Same shape as (7B) K
An extreme bend must be made in the area of the T/S gate (8). Doing this poses a problem in terms of electrode accuracy and is also inconvenient in terms of charge transfer efficiency.
また1本例では周知の通りストレージ電極(6A)とト
ランスファ電極(7A)とを共通接続してノくスノく−
(IIA)に接続し、これにクロック端子(12A)を
介してクロックφ1を供給するようにしている。他方、
他のストレージ電極(6B)及びトランスファ電極(7
B)も同様に共通接続して他のノくスノ(−(IIB)
K接続し、他のクロック信号φ2を他のクロック端子(
12B)を介して供給するようにしている。このクロッ
ク信号φ1.φ2により水平レジスタ(3) (51か
CCD動作させられることについては説明を要しないで
あろ5゜
尚、第2図において、α嗟i半導体基体、α滲はゲート
絶縁膜、α9は絶縁膜である。In addition, in one example, as is well known, the storage electrode (6A) and the transfer electrode (7A) are connected in common.
(IIA), and a clock φ1 is supplied to this via the clock terminal (12A). On the other hand,
Other storage electrodes (6B) and transfer electrodes (7
B) is also commonly connected to other nodes (-(IIB)
K connection and connect another clock signal φ2 to another clock terminal (
12B). This clock signal φ1. There is no need to explain that the horizontal register (3) (51) or CCD can be operated by φ2. In Fig. 2, α is the semiconductor substrate, α is the gate insulating film, and α9 is the insulating film. be.
次にこの実施例の動作について第3図及び第4図をも診
照しながら説明しよう。尚、以下の説明では水平レジス
タ(3) (5)の動作についてのみ触れる。Next, the operation of this embodiment will be explained with reference to FIGS. 3 and 4. In the following explanation, only the operations of the horizontal registers (3) and (5) will be mentioned.
図示しないイメージ部からストレージ部への電荷転送等
圧ついては説明を省略することとする。A description of the equal pressure charge transfer from the image section to the storage section, which is not shown, will be omitted.
まず垂直レジスタ(IA) (IB)の最終ステージの
電荷を読出すには、読出しゲート(4)をオンとした後
。First, to read the final stage charges of the vertical registers (IA) (IB), turn on the read gate (4).
時刻h (第3図)でクロック端子(12A)(t2B
)及びT/Sゲート(8)をオン(高レベル)とする。At time h (Figure 3), the clock terminal (12A) (t2B
) and T/S gate (8) are turned on (high level).
そうすると第4図AK示すように一方の垂直レジスタ(
IA)の最終ステージからの信号電荷が水平レジスタ(
3) (5)のストレージ部に転送されていく。この場
合第2の水平レジスタの(5)のストレージ部の電位が
第1の水平レジスタ(3)のストレージ部の電位よりも
深くなるようにする。たとえば、ストレージ電極(6A
)のオン電位よりストレージ電極(6B)のオン電位を
高くする。あるいは、不純物濃度やゲート絶縁膜αa(
第2図)の厚さを加減する。このようにすることにより
、電極(6A)の下の第1の水平レジスタ(3)のスト
レージ部の電荷が電極(6B)の下の第2の水平レジス
タ(5)のストレージ部へスムーズに移行する。勿論、
他の垂直レジスタ(IB)の最終ステージからの電荷は
チャンネルストッパー領域(9)により阻止されて第1
の水平レジスタ(3)のストレージ部に残留する。Then, as shown in Figure 4AK, one of the vertical registers (
The signal charge from the final stage of IA) is transferred to the horizontal register (
3) Transferred to the storage section in (5). In this case, the potential of the storage section (5) of the second horizontal register is set to be deeper than the potential of the storage section of the first horizontal register (3). For example, storage electrode (6A
) The on-potential of the storage electrode (6B) is made higher than the on-potential of the storage electrode (6B). Alternatively, the impurity concentration or the gate insulating film αa (
Adjust the thickness of Fig. 2). By doing this, the charge in the storage section of the first horizontal register (3) under the electrode (6A) is smoothly transferred to the storage section of the second horizontal register (5) under the electrode (6B). do. Of course,
The charge from the last stage of the other vertical register (IB) is blocked by the channel stopper region (9) and the first
remains in the storage section of the horizontal register (3).
次に時刻12 (第3図)でクロック端子(12B)及
びT/Sゲート(9)をオンとしたままで、もう1つの
クロック端子(12A)をオフ(低レベル)とする。Next, at time 12 (FIG. 3), the other clock terminal (12A) is turned off (low level) while keeping the clock terminal (12B) and the T/S gate (9) on.
そうすると第4図Bに示すように、一方の垂直レジスタ
(1人)の最終ステージから転送されてきたのち電極(
6A)の下の第1の水平レジスタ(3)のストレージ部
に僅かに残っていた電荷も完全に第2の水平レジスタ(
5)のストレージ部に転送される。この後1時刻t3(
第3図)でT/8ゲート(8)をもオフとし、以降の第
1の水平レジスタ(3)のCCD動作によって電荷が第
2の水平レジスタ(5)にまちがって転送されないよう
にする。また、この逆の誤転送が起こらないようにする
。以降は第3図で時刻t4で示す時点からクロック端子
(12A)(12B)に反転するクロックφ1゛、φ2
を供給して水平レジスタ(31(51をCCD動作させ
ていく。Then, as shown in Figure 4B, after being transferred from the final stage of one vertical register (one person), the electrode (
The small amount of charge remaining in the storage section of the first horizontal register (3) under 6A) is completely transferred to the second horizontal register (3).
5) is transferred to the storage section. After this, one time t3 (
In FIG. 3), the T/8 gate (8) is also turned off to prevent charges from being erroneously transferred to the second horizontal register (5) by the subsequent CCD operation of the first horizontal register (3). Also, prevent this reverse erroneous transfer from occurring. Thereafter, the clocks φ1゛ and φ2 are inverted to the clock terminals (12A) and (12B) from the time point shown at time t4 in FIG.
is supplied to cause the horizontal register (31 (51) to operate as a CCD.
水平レジスタf3) (51で読出される信号は別々に
出力回路で読出してもよいし、水平レジスタ+31(5
)の一方にAビット分のステージを付加し両水平レジス
タ(3) (5)間で位相を1800変え、こののちマ
ルチブレフサ等で合成するようにしてもよい。Horizontal register f3) (The signal read out at 51 may be read out separately by the output circuit, or horizontal register +31 (51)
) may be added to one of the stages for A bits, the phase may be changed by 1800 between both horizontal registers (3) and (5), and then the signals may be combined using a multi-blephr or the like.
このような構成によれば2本の水平レジスタ(3)(5
)を用いているため通常の1本の場合に比ベビット数が
Aで済み集積度の上で2倍の余裕がある。According to this configuration, two horizontal registers (3) (5)
), the number of bits compared to the normal case of one is A, and there is a margin of twice the degree of integration.
このため高解像度化に伴って水平画素数が増大したり、
1/Iインチの光学系等に合わせて小型化を行った場合
でも、ショートチャンネル効果に対して強く、且つ電極
の加工精度上の点からも好ましい。また水平レジスタ(
31(5)をCCD動作させるクロック周波数が肴で済
むため消費電力の上でも極めて実効がある。For this reason, the number of horizontal pixels increases with higher resolution,
Even when miniaturized to suit a 1/I inch optical system, etc., it is strong against short channel effects and is preferable from the viewpoint of electrode processing accuracy. Also, the horizontal register (
Since the clock frequency for operating the CCD of 31(5) is only a small amount, it is extremely effective in terms of power consumption.
また第1のレジスタ(3)から第2のレジスタ(5)K
電荷を転送する場合、位相の異なる電極(6A)(6B
)の下のストレージ部間で転送を行っているため電極(
6A) (6B)のポテンシャルの設定に自由度があり
、転送方向に泪ってポテンシャルの井戸を深くさせる要
請に極めて容易に対応することができる。例えば両電極
(6A) (6B)の電位を異らせることも容易である
し、イオン注入量を加減するよ51Cしてもよい。同−
電極の下のチャンネルで転送を行う場合には例えばT/
Sゲート(8国対応するゲートで転送方向の傾斜を付す
等する必要があり、構成が複雑となる嫌いがある。本例
では難なく転送効率を上げることができる。Also, from the first register (3) to the second register (5) K
When transferring charges, electrodes with different phases (6A) (6B
), the electrodes (
6A) There is a degree of freedom in setting the potential in (6B), and the request to deepen the potential well by moving in the transfer direction can be met very easily. For example, it is easy to make the potentials of the two electrodes (6A) and (6B) different, and the amount of ion implantation may be adjusted (51C). Same-
For example, T/
S gates (gates for eight countries, which require slopes in the transfer direction, etc., tend to complicate the configuration. In this example, the transfer efficiency can be easily increased).
更に本例では電極(6A) (6B) (7A) (7
B)の形状をT/Sゲート(8)の領域で傾けると共に
チャンネル領域αQをも傾けるようにしている。このた
め電極(6A)(6B)(7A)(7B) 及ヒチ’v
7 ネルla域αeを急激に直角に折曲げる必要がな
く電極加工の上でもまた電荷転送の上でも極めて好まし
いものとすることができる。Furthermore, in this example, electrodes (6A) (6B) (7A) (7
The shape of B) is tilted in the region of the T/S gate (8), and the channel region αQ is also tilted. For this reason, electrodes (6A) (6B) (7A) (7B) and Hichi'v
7. There is no need to sharply bend the channel la region αe at right angles, which is extremely favorable in terms of electrode processing and charge transfer.
発明の詳細
な説明したように1本発明によれば2本の水平レジスタ
を設けているため従前の1本のものに比べて水平レジス
タのビット数がVzで済み固体撮像素子の高解像度化や
小型化に対してもショートチャンネル効果や電極の加工
精度上側等問題がない。また垂直レジスタの暫送終端か
ら離間している水平レジスタに垂直レジスタ側から電荷
をノくイパスするために、第1の水平レジスタ及び第2
の水平レジスタの電極の位相の異なるストレージ部間に
チャンネルを形成するようにしているので。As described in detail, according to the present invention, since two horizontal registers are provided, the number of bits of the horizontal register is reduced to Vz compared to the conventional single horizontal register. Even with miniaturization, there are no problems such as short channel effect or poor electrode processing accuracy. In addition, in order to drain and pass the charge from the vertical register side to the horizontal register that is spaced from the temporary transfer end of the vertical register, the first horizontal register and the second horizontal register are connected to each other.
Because the horizontal resistor electrodes have different phases to form a channel between the storage parts.
雛なく第2の水平レジスタ側に電荷を転送することがで
きる。Charges can be transferred to the second horizontal register side without delay.
第1図は本発明の一実施例の要部を示す図、第2図は第
1図の■−B線に沿う断面図、第3図は第1図実施例を
説明するためのタイムチャート。
第4図は第1図の]−R線に油うポテンシャルの状態を
示す図である。
(IA) (IB)は垂直レジスタ、(3) (5)は
水平レジスタ、 (6A)(6B)はストレージ電極
、(7A) (7B)はトランスファ電極、(8)はT
/Sゲートである。
第1図
第2図
1 t3
第4図
手続補正書
1、事件の表示
昭和57年特許願第 121678 号2、発明の名
称 固体撮偉素子
3、補正をする者
事件との関係 特許出願人
住所 東京部品用区北品用6]泪7番35号名称(21
8) ソニー株式会社
代表取締役 大 賀 JIIH/Jl16、補正により
増加する発明の数
7、補正の月 象 明細書の特許請求の範囲の欄、発
明の詳細な説明の欄
il+ 特許請求の範囲を別紙のよさに補正する。
(2) 明細書中、第2ji2行「大」を「小」と訂
正する。
(3) 同、同頁3行「大きく」を「小さく」と訂正
する。
(4) 同、同頁8行「いくと」の後に「水平レジス
タのピッチ(すなわちチャンネル長)が短かくなり、」
を加入する。
(5) 同、同頁18〜20行「この場合、・・・・
・ビットを要し、」を削除する。
(6) 同、同ji20行「このため高解像度」を「
このため水平絵素数を多くして高解像度」と訂正する。
(力 同、第3頁2行1大きく」を「小さく」と訂正す
る。
(8) 同−第4真1〜5行「そし℃・・・・・必要
がある。」を削除する。
(9)同、同頁8〜9行「ひとつ置きのストレージ電極
の配置で」を削除する。
(1(l 同、第5貢4行「大」を「小」と訂正する
。
の」を削除する。
σ2 同、同頁12行「ストレージ部」を「ストレージ
電極(6A) Jと訂正する。
03 fi’j1.同頁12〜13行「他のストレー
ジ電極(6B)の下の」を削除する。
I 同、同頁13行「ストレージ部」を「ストレージ電
極(6B) Jと訂正する。
a9 同、第8頁15行「バイパス」を「電荷転送」
と訂正する。
(161同、第9頁19行「では水平レジスタ(3)(
51の動作」を「では垂直レジスタ終端から水平レジス
タ(31(51への電荷転送の動作」と訂正する。
(171同、第10貞11行「する。」を「してもよい
。」と訂正する。
帥 同、調;第11頁15行「反転する」を削除する。
Q!l 同、第12Jil〜2行「間で位相・・・・
・してもよい。」を「の終端で合流して出方を行うよう
にしてもよい。」と訂正する。
■ 同、同頁5行「集積度」を「微細加工」と訂正する
。
c211同、同頁7行「IAインチ」を「1/2インチ
」と訂正する。
(22同、第12頁13行〜第13頁5行「また・・・
できる。」を削除する@
以 上
特許請求の範囲
並列された複数の垂直転送レジスタと、該垂直転送レジ
スタからの1ライン毎の信号電荷を読み出す出力部を具
備し、該出力部はコン)o−ルゲート部を挾んで並設さ
れた第1の水平出力レジスタ及び第2の水平出力レジス
タで構成され、上記1ラインの信号電荷のうち1つ置き
の信号電荷を上記第1の水平出力レジスタに出力し、他
の1つ置きの信号電荷を上記第2の水平出力レジスタに
て出力し工なる固体撮倫素子に於て、上記第1の水平出
力レジスタから上記第2の水平出力レジスタへの信号電
荷の転送が上記第1の水平出力レジスタの1つの位相の
蓄積部と上記第2の水平出力レジスタの他の位相の蓄積
部との間で行われることを特徴とする固体撮倫素子。FIG. 1 is a diagram showing essential parts of an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a sectional view taken along the line ■-B in FIG. 1, and FIG. 3 is a time chart for explaining the embodiment in FIG. 1. . FIG. 4 is a diagram showing the state of the oil potential on the -R line of FIG. 1. (IA) (IB) are vertical registers, (3) (5) are horizontal registers, (6A) (6B) are storage electrodes, (7A) (7B) are transfer electrodes, (8) are T
/S gate. Figure 1 Figure 2 1 t3 Figure 4 Procedural amendment 1, Indication of the case Patent Application No. 121678 of 1982 2, Title of the invention Solid-state imaging device 3, Person making the amendment Relationship to the case Patent applicant address Tokyo Parts Ward Kitashina 6] Nai 7 No. 35 Name (21
8) Sony Corporation Representative Director Ohga JIIH/Jl16, number of inventions increased by amendment 7, month of amendment Claims column of specification, Detailed description of invention column il+ Claims attached. Correct the quality. (2) In the specification, "large" in line 2ji2 is corrected to "small". (3) Same, same page, line 3, ``large'' is corrected to ``small.'' (4) On the same page, line 8, after "Ikuto", "The pitch of the horizontal register (i.e. channel length) becomes shorter,"
join. (5) Same page, lines 18-20 “In this case...
・Requires bits and deletes. (6) Same, same ji 20th line "High resolution for this reason" is changed to "
For this reason, the number of horizontal pixels is increased to achieve high resolution.'' (Power, same, page 3, line 2, 1 larger" is corrected to ``smaller.'' (8) Same, 4th line, lines 1 to 5, "It is necessary." is deleted. ( 9) Same page, lines 8 to 9, delete ``With the arrangement of every other storage electrode.'' σ2 Same, same page, line 12 “storage section” is corrected to “storage electrode (6A) J.” 03 fi’j1. same page, lines 12-13 “under other storage electrode (6B)” is deleted. I. Same, same page, line 13, "storage section" is corrected to "storage electrode (6B) J. a9 Same, page 8, line 15, "bypass" is changed to "charge transfer."
I am corrected. (161 Ibid., page 9, line 19 “Then horizontal register (3)
"The operation of 51" is corrected to "The operation of charge transfer from the end of the vertical register to the horizontal register (31 (51)." Correct. 帥 Same, Key; Delete "invert" on page 11, line 15. Q!l Same, line 12 - 2 "Phase between...
・You may do so. '' should be corrected to ``You may merge at the end of the line and exit.'' ■ On the same page, in line 5, "integration degree" is corrected to "microfabrication." c211 Same page, line 7, "IA inch" is corrected to "1/2 inch". (22, p. 12, line 13 to p. 13, line 5 “Again...
can. ``Delete ``@ Above Claims Comprising a plurality of vertical transfer registers arranged in parallel, and an output section for reading signal charges for each line from the vertical transfer registers, the output section is a control gate. It is composed of a first horizontal output register and a second horizontal output register that are arranged in parallel with each other in between, and outputs every other signal charge among the signal charges of the one line to the first horizontal output register. , in a solid-state sensor in which every other signal charge is outputted to the second horizontal output register, the signal charge is transferred from the first horizontal output register to the second horizontal output register. 2. A solid-state sensor, wherein the transfer is performed between an accumulation section of one phase of the first horizontal output register and an accumulation section of the other phase of the second horizontal output register.
Claims (1)
スタからの1ライン毎の信号電荷を読み出す出力部を具
備し、該出力部はコントロールゲート部を挾んで互に上
記転送レジスタ数の4のビット数を有して並設された第
1の水平出力レジスル及ritg2の水平出力レジスタ
で構成され、上記1ラインの信号電荷のうち1つ置きの
信号電荷を上記第1の水平出力レジスタに出力し、他の
1つ置きの信号電荷を上記第2の水平出力レジスタにて
出力してなる固体撮像素子に於て、上記第1の水平出力
レジスタから上記第2の水平出力レジスタへの信号電荷
の転送が上記第1の水平出力レジスタの1′つの位相の
蓄積部と上記第2の水平出力レジスタの他の位相の蓄積
部との間で行われることを特徴とする固体撮像素子。It is equipped with a plurality of vertical transfer registers arranged in parallel and an output section that reads signal charges for each line from the vertical transfer registers. It is composed of a first horizontal output register and a horizontal output register of ritg2 which are arranged in parallel in number, and outputs every other signal charge among the signal charges of the one line to the first horizontal output register. , in a solid-state imaging device in which every other signal charge is outputted from the second horizontal output register, the signal charges are transferred from the first horizontal output register to the second horizontal output register. A solid-state image pickup device, wherein transfer is performed between a 1' phase storage section of the first horizontal output register and another phase storage section of the second horizontal output register.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57121678A JPS5913369A (en) | 1982-07-13 | 1982-07-13 | Solid-state image pickup element |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57121678A JPS5913369A (en) | 1982-07-13 | 1982-07-13 | Solid-state image pickup element |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5913369A true JPS5913369A (en) | 1984-01-24 |
JPH0542829B2 JPH0542829B2 (en) | 1993-06-29 |
Family
ID=14817169
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57121678A Granted JPS5913369A (en) | 1982-07-13 | 1982-07-13 | Solid-state image pickup element |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5913369A (en) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60189966A (en) * | 1984-03-12 | 1985-09-27 | Matsushita Electronics Corp | Charge transfer device and driving method thereof |
JPS60213060A (en) * | 1984-04-09 | 1985-10-25 | Nec Corp | Charge coupled device and driving method thereof |
EP0383519A2 (en) * | 1989-02-14 | 1990-08-22 | Sony Corporation | Charge coupled device imager having multichannel read-out structure |
JPH03258083A (en) * | 1990-03-08 | 1991-11-18 | Sony Corp | Solid-state image pickup element |
US7602432B2 (en) | 2005-11-11 | 2009-10-13 | Sony Corporation | Solid-state imaging element and solid-state imaging device |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5173840A (en) * | 1974-11-18 | 1976-06-26 | Rca Corp | |
JPS5230394A (en) * | 1975-09-02 | 1977-03-08 | Philips Nv | Charge transfer device |
JPS5267992A (en) * | 1975-11-28 | 1977-06-06 | Siemens Ag | Optoelectronic sensor and method of driving same |
-
1982
- 1982-07-13 JP JP57121678A patent/JPS5913369A/en active Granted
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5173840A (en) * | 1974-11-18 | 1976-06-26 | Rca Corp | |
JPS5230394A (en) * | 1975-09-02 | 1977-03-08 | Philips Nv | Charge transfer device |
JPS5267992A (en) * | 1975-11-28 | 1977-06-06 | Siemens Ag | Optoelectronic sensor and method of driving same |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60189966A (en) * | 1984-03-12 | 1985-09-27 | Matsushita Electronics Corp | Charge transfer device and driving method thereof |
JPS60213060A (en) * | 1984-04-09 | 1985-10-25 | Nec Corp | Charge coupled device and driving method thereof |
JPH0666346B2 (en) * | 1984-04-09 | 1994-08-24 | 日本電気株式会社 | Charge coupled device and driving method thereof |
EP0383519A2 (en) * | 1989-02-14 | 1990-08-22 | Sony Corporation | Charge coupled device imager having multichannel read-out structure |
JPH03258083A (en) * | 1990-03-08 | 1991-11-18 | Sony Corp | Solid-state image pickup element |
US7602432B2 (en) | 2005-11-11 | 2009-10-13 | Sony Corporation | Solid-state imaging element and solid-state imaging device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0542829B2 (en) | 1993-06-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7639297B2 (en) | Image pickup apparatus | |
US5703386A (en) | Solid-state image sensing device and its driving method | |
JPH0417509B2 (en) | ||
JP3360512B2 (en) | Solid-state imaging device and readout method thereof | |
KR950010204B1 (en) | Solid state image sensor | |
JPS6141478B2 (en) | ||
US8300132B2 (en) | Driving method of solid-state imaging device, solid-state imaging system, and camera system | |
JPS5913369A (en) | Solid-state image pickup element | |
JPS6211264A (en) | Solid-state image pickup device | |
EP0418918A2 (en) | CCD imager | |
JP2008148083A (en) | Solid-state imaging apparatus | |
JP3703385B2 (en) | Imaging device | |
JPH0415667B2 (en) | ||
JP3089507B2 (en) | Solid-state imaging device and signal charge transfer method | |
JPS60174583A (en) | Driving method of solid-state image pickup element | |
JPH01161757A (en) | Solid-state image pickup element | |
JPH1126742A (en) | Ccd solid-state image sensing element | |
JPS5897971A (en) | Solid-state image pickup device | |
JP2880011B2 (en) | Solid-state imaging device | |
KR910009513B1 (en) | Charge coupled device | |
JP3118325B2 (en) | Solid-state imaging device | |
JPH04279062A (en) | Solid-state image pickup device | |
JPH03102984A (en) | Solid-state image pickup device | |
JP2003282859A (en) | Solid state imaging device | |
JPH06105719B2 (en) | Charge transfer device and driving method thereof |