JPH0542829B2 - - Google Patents

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JPH0542829B2
JPH0542829B2 JP57121678A JP12167882A JPH0542829B2 JP H0542829 B2 JPH0542829 B2 JP H0542829B2 JP 57121678 A JP57121678 A JP 57121678A JP 12167882 A JP12167882 A JP 12167882A JP H0542829 B2 JPH0542829 B2 JP H0542829B2
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JP
Japan
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horizontal
transfer
register
registers
output register
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP57121678A
Other languages
Japanese (ja)
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JPS5913369A (en
Inventor
Hideo Kanbe
Hiroyuki Matsumoto
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP57121678A priority Critical patent/JPS5913369A/en
Publication of JPS5913369A publication Critical patent/JPS5913369A/en
Publication of JPH0542829B2 publication Critical patent/JPH0542829B2/ja
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/148Charge coupled imagers
    • H01L27/14831Area CCD imagers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はCCD(電荷結合素子)から成る固体撮
像素子に関し、特に水平絵素のピツチを小として
も水平レジスタのピツチを小さくせずにすむよう
にし、しかもそのために複雑な構成をとるという
ことがないようにしたものである。
[Detailed Description of the Invention] Industrial Application Field The present invention relates to a solid-state image sensing device consisting of a CCD (charge-coupled device), and in particular, to a solid-state image sensing device that is capable of reducing the pitch of horizontal picture elements without reducing the pitch of horizontal registers. , and also avoids the need for a complicated configuration for this purpose.

背景技術とその問題点 CCDから成る固体撮像素子例えばフレームト
ランスフア型のものを高解像度のものとしていく
と水平レジスタのピツチ(すなわちチヤンネル
長)が短かくり、水平レジスタでシヨートチヤン
ネル効果や電極加工精度上の問題が生じる。また
光学系が1インチ、2/3インチ、1/2インチへと順
次小さくなるものに対応させてチツプサイズを小
さくさせていくと同様な問題が生じる。
BACKGROUND TECHNOLOGY AND PROBLEMS As solid-state imaging devices consisting of CCDs, such as frame transfer type ones, are made to have high resolution, the pitch of the horizontal register (that is, the channel length) becomes short, and the short channel effect and electrode Problems with machining accuracy arise. A similar problem arises when the chip size is reduced in response to optical systems becoming progressively smaller from 1 inch to 2/3 inch to 1/2 inch.

即ち、フレームトランスフア型の固体撮像素子
ではイメージ部と光学像に対応した信号電荷を形
成し、その信号電荷をストレージ部へと垂直方向
に転送し、そののちストレージ部の転送終端にあ
る電荷を水平レジスタで順次読出していく。この
ため水平絵素数を多くして高解像度を図る場合に
は水平レジスタのビツト数を増加させなければな
らない。そうすると水平レジスタのピツチが小さ
くなつてシヨートチヤンネル効果や電極加工精度
上の問題が生じるのである。固体撮像素子を小型
化する場合にも同様の問題がある。このことに説
明は要しないであろう。
That is, in a frame transfer type solid-state image sensor, a signal charge corresponding to an image part and an optical image is formed, the signal charge is transferred vertically to a storage part, and then the charge at the end of the transfer in the storage part is transferred. Read out sequentially using the horizontal register. Therefore, when increasing the number of horizontal picture elements to achieve high resolution, it is necessary to increase the number of bits in the horizontal register. If this happens, the pitch of the horizontal register becomes smaller, causing short channel effects and problems with electrode processing accuracy. A similar problem exists when downsizing a solid-state image sensor. This requires no explanation.

ところで本出願人は水平レジスタを2本用意し
て成る固体撮像素子を提供している(特開昭57−
181274号)。この固体撮像素子ではストレージ部
をなす垂直レジスのひとつ置きの列を転送させら
れてくる信号電荷を、一方の水平レジスタで読出
し、残りのひとつ置きの列を転送させられてくる
信号電荷を他方の水平レジスタで読出すようにし
ている。そのため1本の水平レジスタのビツト数
は1/2で済み、上述のシヨートチヤンネル効果や
電極加工精度上の問題を回避し得る。
By the way, the present applicant has provided a solid-state image sensor comprising two horizontal registers (Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 1983-1999).
No. 181274). In this solid-state image sensor, the signal charges transferred from every other column of the vertical registers forming the storage section are read out by one horizontal register, and the signal charges transferred from the remaining every other column are read out by the other horizontal register. It is read using the horizontal register. Therefore, the number of bits in one horizontal register can be reduced to 1/2, and the above-mentioned short channel effect and problems with electrode processing accuracy can be avoided.

但しこの固体撮像素子では、垂直レジスタの転
送終端に一方の水平レジスタを配置し、この一方
の水平レジスタに対し転送方向にやや離れた配置
で、この一方の水平レジスタに並行するように他
方の水平レジスタを配置する。特開昭57−181274
号の固体撮像素子の具体的な例では、同一のスト
レージ電極及びトランスフア電極で両水平レジス
タを同時に駆動しCCD動作させ、一方の水平レ
ジスタのストレージ部から他方の水平レジスタの
ストレージ部へとバイパスするチヤンネルを形成
し、これによつて垂直レジスタの信号電荷を他方
の水平レジスタのストレージ部へと転送し得るよ
うにしている。
However, in this solid-state image sensor, one horizontal register is placed at the transfer end of the vertical register, and the other horizontal register is placed slightly away from this one horizontal register in the transfer direction, and the other horizontal register is placed in parallel with this one horizontal register. Place registers. Japanese Patent Publication No. 57-181274
In the specific example of the solid-state image sensor in the issue, both horizontal registers are simultaneously driven with the same storage electrode and transfer electrode to operate the CCD, and the storage section of one horizontal register is bypassed to the storage section of the other horizontal register. A channel is formed through which the signal charge of the vertical register can be transferred to the storage section of the other horizontal register.

しかしながら、このような転送において、一方
のレジスタのストレージ部と他方のストレージ部
とは同一電極の下にあるゆえに両ストレージ部の
チヤンネルの電位はそのままでは同一レベルであ
り、この結果、転送方向に所定のポテンシヤル差
を形成するために特別な工夫を要する。
However, in such a transfer, since the storage section of one register and the storage section of the other register are under the same electrode, the potentials of the channels of both storage sections remain at the same level, and as a result, a certain Special measures are required to create a potential difference.

発明の目的 本発明はこのような事情を考慮してなされもの
であり、固体撮像素子の高解像度化や小型化を図
つても水平レジスタのピツチを小とすることがな
く、しかも構成が簡素な固体撮像素子を提供する
ことを目的としている。
Purpose of the Invention The present invention has been made in consideration of the above circumstances, and it is possible to achieve high resolution and miniaturization of a solid-state image sensor without reducing the pitch of the horizontal register, and which has a simple configuration. The purpose is to provide a solid-state image sensor.

発明の概要 本発明では、このような目的を達成するため
に、2本の水平レジスタを用意して水平方向の読
出し動作を分担するようにしている。そして垂直
レジスタの転送終端から離間した水平レジスタへ
信号電荷を転送する際には両水平レジスタを
CCD動作させる2つの位相の電極を共働させる
ようにしている。
Summary of the Invention In order to achieve the above object, the present invention provides two horizontal registers to share the horizontal read operation. When transferring the signal charge from the transfer end of the vertical register to the horizontal register separated from the terminal, both horizontal registers are
The two phase electrodes used to operate the CCD are made to work together.

本発明によればシヨートチヤンネル効果を回避
でき、電極加工精度上の問題もなく更に消費電力
を小さく抑えることができる。しかも、垂直レジ
スタの転送終端から離間した水平レジスタに信号
電荷を転送するために特別に複雑な構成を採る必
要がなく、極めて簡素な構成とすることができ
る。
According to the present invention, the short channel effect can be avoided, and power consumption can be further suppressed without causing problems in electrode processing accuracy. Furthermore, there is no need to adopt a particularly complicated configuration for transferring signal charges to the horizontal register spaced apart from the transfer end of the vertical register, and an extremely simple configuration can be achieved.

実施例 以下本発明の一実施例について図面を参照しな
がら説明しよう。
Embodiment An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図及び第2図は本例固体撮像素子の一部を
示し、これら第1図及び第2図において、ストレ
ージ部をなす垂直レジスタ1A,1Bが垂直方向
(第1図の上下方向)に並行するように設けられ
ている。これら垂直レジスタ1A,1Bはチヤン
ネルストツパ領域2により夫々分離されている。
これらチヤンネルストツパ領域2には散点を付
す。他のチヤンネルストツパ領域についても同様
である。これら垂直レジスタ1A,1Bには図示
しないイメージ部から信号電荷が転送され、この
のち順次矢印方向に転送が行われる。
1 and 2 show a part of the solid-state image sensing device of this example, and in these FIGS. 1 and 2, vertical registers 1A and 1B forming the storage section are vertically arranged (vertical direction in FIG. 1). are arranged in parallel. These vertical registers 1A and 1B are separated from each other by a channel stopper region 2.
These channel stopper areas 2 are marked with dots. The same applies to other channel stopper areas. Signal charges are transferred to these vertical registers 1A and 1B from an image portion (not shown), and then sequentially transferred in the direction of the arrow.

垂直レジスタ1A,1Bの転送終端には第1の
水平レジスタ3の各ステージが結合されている。
この結合位置には読出しゲート4が設けられ、こ
の読出しゲートに与えられる電位によつて垂直レ
ジスタ1A,1Bから後段への転送が制御される
ようになつている。第1の水平レジスタ3に並行
するように第2の水平レジスタ5が形成されてい
る。これら第1及び第2の水平レジスタ3,5は
例えば2相クロツクにより制御され、しかも共通
のストレージ電極6A,6B及びトランスフア電
極7A,7B(第1図に破線で示す)によりCCD
動作させられる。
Each stage of the first horizontal register 3 is coupled to the transfer end of the vertical registers 1A, 1B.
A readout gate 4 is provided at this coupling position, and the transfer from the vertical registers 1A, 1B to the subsequent stage is controlled by the potential applied to this readout gate. A second horizontal register 5 is formed parallel to the first horizontal register 3. These first and second horizontal registers 3, 5 are controlled by, for example, a two-phase clock, and are controlled by common storage electrodes 6A, 6B and transfer electrodes 7A, 7B (shown by broken lines in FIG. 1).
be made to work.

これら水平レジスタ3,5の間にはT/Sゲー
ト(トランスフア・ストツプゲート)8を設け
る。このT/Sゲート8の下にはチヤンネルスト
ツパ領域9とチヤンネル領域10とが形成されて
いる。第1の水平レジスタ3のストレージ電極6
Aから第2の水平レジスタ5のストレージ電極6
Bへ向うようにチヤンネル領域10が形成され
る。垂直レジスタ1A,1Bに着目していえば一
方の垂直レジスタ1Aに対応してチヤンネル領域
10が形成されている。即ち、全垂直レジスタ1
A,1Bに対してひとつ置きにチヤンネル領域1
0が形成されている。このチンヤンネル領域10
によつて一方の垂直レジスタ1Aの電荷は第1の
水平レジスタ3のストレージ部を介して第2の水
平レジスタ5のストレージ部に転送されていく。
他方の垂直レジスタ1Bを転送されてくる電荷の
転送はチヤンネルストツパ領域9によつて阻止さ
れ、第1の水平レジスタ3に留まることとなる。
このことについては後に理解できるであろう。
A T/S gate (transfer stop gate) 8 is provided between these horizontal registers 3 and 5. A channel stopper region 9 and a channel region 10 are formed under this T/S gate 8 . Storage electrode 6 of first horizontal register 3
A to the storage electrode 6 of the second horizontal register 5
A channel region 10 is formed toward B. Focusing on the vertical registers 1A and 1B, a channel region 10 is formed corresponding to one vertical register 1A. That is, all vertical registers 1
Channel area 1 every other channel for A, 1B
0 is formed. This chin yannel area 10
As a result, the charges in one vertical register 1A are transferred to the storage section of the second horizontal register 5 via the storage section of the first horizontal register 3.
Transfer of the charges transferred through the other vertical register 1B is blocked by the channel stopper region 9 and remains in the first horizontal register 3.
You will understand this later.

尚、本例では電極6A,6B,7A,7Bの形
状をT/Sゲート8の領域で斜めとなるようにし
ている。即ち第1の水平レジスタ3の領域におけ
る電極6A,6B,7A,7Bの空間的な位相を
第2の水平レジスタ5の領域における位相に対し
てずらすようにしている。即ちこれらストレージ
電極6A,6B及びトンランスフア電極7A,7
Bを、第1の水平レジスタ3上と第2の水平レジ
スタ5上とにおいて、それぞれ垂直レジスタ1A
及び1Bの延長する垂直転送方向と直交する方向
にずらしたパターンとして形成する。このように
しているため、チヤンネル領域10を若干斜めに
するだけで一方のストレージ電極6Aの下のスト
レージ部から他方のストレージで電極6Bのスト
レージ部へと容易に電荷転送を行うことができ
る。電極6A,6B,7A,7Bの形状を真直ぐ
にするとチヤンネル領域10をT/Sゲート8の
領域で極端に折り曲げなければならず、このよう
にすると電荷移送路であるチンヤネル領域10の
幅が実質的に狭くなつて、ナローチヤンネル効果
によりその部分のポテンシヤルが高くなつてバリ
アとなり、バリアの手前に電荷がたまつてしま
う。また、この場合チヤンネル長が長くなつてし
まい、第2の水平出力レジスタに転送するための
高い電位が印加される領域は、屈曲部と電極との
重なる平面三角形部分のみとなり、電荷がスムー
ズに移送されなくなる恐れがある。また、チヤン
ネル領域10を真直ぐにすれば電極6A,6B,
7A,7Bの形状を同様にT/Sゲート8の領域
で極端に折り曲げなければならない。このように
することは電極の加工精度上問題である。
In this example, the shapes of the electrodes 6A, 6B, 7A, and 7B are made oblique in the region of the T/S gate 8. That is, the spatial phase of the electrodes 6A, 6B, 7A, 7B in the area of the first horizontal register 3 is shifted from the phase in the area of the second horizontal register 5. That is, these storage electrodes 6A, 6B and transfer electrodes 7A, 7
B on the first horizontal register 3 and the second horizontal register 5, respectively, on the vertical register 1A.
and 1B are formed as a pattern shifted in a direction perpendicular to the extending vertical transfer direction. In this way, charge can be easily transferred from the storage section under one storage electrode 6A to the storage section of the other storage electrode 6B by slightly tilting the channel region 10. If the shapes of the electrodes 6A, 6B, 7A, and 7B are made straight, the channel region 10 must be extremely bent in the region of the T/S gate 8, and in this way, the width of the channel region 10, which is a charge transfer path, is substantially reduced. As the area becomes narrower, the potential in that area becomes higher due to the narrow channel effect, forming a barrier, and charges accumulate in front of the barrier. In addition, in this case, the channel length becomes long, and the area to which the high potential for transfer to the second horizontal output register is applied is only the planar triangular part where the bending part and the electrode overlap, allowing the charge to be transferred smoothly. There is a risk that it will not be possible. Moreover, if the channel region 10 is made straight, the electrodes 6A, 6B,
The shapes of 7A and 7B must also be extremely bent in the region of the T/S gate 8. Doing this poses a problem in terms of electrode processing accuracy.

これに対し、本例においては、上述したように
チヤンネル領域10の屈曲の度合いが緩和されて
いるため、移送路を幅広に保持すると共に、その
チヤネル長を比較的短くすることができることか
ら、高い電位のかかる領域のチヤネル領域に占め
る割合が大となり、この近傍部分にポテンシヤル
の傾きを生じさせてスムーズに電荷を転送させ、
転送効率を良好に保持することができる。
In contrast, in this example, since the degree of bending of the channel region 10 is relaxed as described above, the transfer path can be kept wide and the channel length can be made relatively short. The region to which the potential is applied occupies a large proportion of the channel region, creating a gradient of potential in this vicinity, allowing for smooth charge transfer.
Good transfer efficiency can be maintained.

また、本例では周知の通りストレージ電極6A
とトンランスフア電極7Aとを共通接続してバス
バー11Aに接続し、これにクロツク端子12A
を介してクロツクφ1を供給するようにしている。
他方、他のストレージ電極6B及びトランスフア
電極7Bも同様に共通接続して他のバスバー11
Bに接続し、他のクロツク信号φ2を他のクロツ
ク端子12Bを介して供給するようにしている。
このクロツク信号φ1,φ2により水平レジスタ3,
5がCCD動作させられることについては説明を
要しないであろう。
In addition, in this example, as is well known, the storage electrode 6A
and the transmission electrode 7A are commonly connected to the bus bar 11A, and the clock terminal 12A is connected to the bus bar 11A.
The clock φ1 is supplied through the circuit.
On the other hand, other storage electrodes 6B and transfer electrodes 7B are similarly connected in common to other bus bars 11.
B, and another clock signal φ2 is supplied through another clock terminal 12B.
These clock signals φ 1 and φ 2 cause the horizontal register 3,
No need to explain that 5 is operated by CCD.

尚、第2図においては、13は半導体基体、1
4はゲート絶縁膜、15は絶縁膜である。
In addition, in FIG. 2, 13 is a semiconductor substrate, 1
4 is a gate insulating film, and 15 is an insulating film.

次にこの実施例の動作について第3図及び第4
図をも参照しながら説明しよう。尚、以下の説明
では垂直レジスタ終端から水平レジスタ3,5へ
の電荷転送の動作についてのみ触れる。図示しな
いイメージ部からストレージ部への電荷転送等に
ついては説明を省略することとする。
Next, we will explain the operation of this embodiment in Figures 3 and 4.
Let me explain with reference to the diagram. In the following explanation, only the charge transfer operation from the end of the vertical register to the horizontal registers 3 and 5 will be mentioned. A description of charge transfer from the image section to the storage section, which is not shown, will be omitted.

まず垂直レジスタ1A,1Bの最終ステージの
電荷を読出すには、読出しゲート4をオンとした
後、時刻t1(第3図)でクロツク端子12A,1
2B及びT/Sゲート8をオン(高レベル)とす
る。そうすると第4図Aに示すように一方の垂直
レジスタ1Aの最終ステージからの信号電荷が水
平レジスタ3,5のストレージ部に転送されてい
く。この場合第2の水平レジスタの5のストレー
ジ部の電位が第1の水平レジスタ3のストレージ
部の電位よりも深くなるようにしてもよい。たと
えば、ストレージ電極6Aのオン電位よりストレ
ージ電極6Bのオン電位を高くする。あるいは、
不純物濃度やゲート絶縁膜14(第2図)の厚さ
を加減する。このようにすることにより、電極6
Aの下の第1の水平レジスタ3のストレージ部の
電荷が電極6Bの下の第2の水平レジスタ5のス
トレージ部ヘスムーズに移行する。勿論、他の垂
直レジスタ1Bの最終ステージからの電荷はチヤ
ンネルストツパー領域9により阻止されて第1の
水平レジスタ3のストレージ部に残留する。
First, in order to read out the charges at the final stage of the vertical registers 1A, 1B, after turning on the read gate 4, the clock terminals 12A, 1 are turned on at time t1 (Fig. 3).
2B and T/S gate 8 are turned on (high level). Then, as shown in FIG. 4A, the signal charges from the final stage of one vertical register 1A are transferred to the storage sections of horizontal registers 3 and 5. In this case, the potential of the storage section 5 of the second horizontal register may be made deeper than the potential of the storage section of the first horizontal register 3. For example, the on-potential of the storage electrode 6B is made higher than the on-potential of the storage electrode 6A. or,
The impurity concentration and the thickness of the gate insulating film 14 (FIG. 2) are adjusted. By doing this, the electrode 6
The charge in the storage section of the first horizontal register 3 under A smoothly transfers to the storage section of the second horizontal register 5 under electrode 6B. Of course, charges from the final stage of the other vertical registers 1B are blocked by the channel stopper region 9 and remain in the storage section of the first horizontal register 3.

次に時刻t2(第3図)でクロツク端子12B及
びT/Sゲート9をオンとしたままで、もう1つ
のクロツク端子12Aをオフ(低レベル)とす
る。そうすると第4図Bに示すように、一方の垂
直レジスタ1Aの最終ステージから転送されてき
たのち電極6Aの下の第1の水平レジスタ3のス
トレイジ部に僅かに残つていた電荷も完全に第2
の水平レジスタ5のストレージ部に転送される。
この後、時刻t3(第3図)でT/Sゲート8をも
オフとし、以降の第の水平レジスタ3のCCD動
作によつて電荷が第2の水平レジスタ5にまちが
つて転送されないようにする。また、この逆の誤
転送が起こらないようにする。以降は第3図で時
刻t4で示す時点からクロツク端子12A,12
B、クロツクφ1,φ2を供給して水平レジスタ3,
5をCCD動作させていく。
Next, at time t 2 (FIG. 3), the other clock terminal 12A is turned off (low level) while keeping the clock terminal 12B and the T/S gate 9 on. Then, as shown in FIG. 4B, the slight amount of charge remaining in the storage section of the first horizontal register 3 under the electrode 6A after being transferred from the final stage of one vertical register 1A is also completely transferred to the storage section of the first horizontal register 3 under the electrode 6A. 2
The data is transferred to the storage section of the horizontal register 5.
After this, at time t 3 (Figure 3), the T/S gate 8 is also turned off to prevent charges from being mistakenly transferred to the second horizontal register 5 due to the subsequent CCD operation of the first horizontal register 3. Make it. Also, prevent this reverse erroneous transfer from occurring. From then on, the clock terminals 12A, 12 are connected from the time point t4 in FIG.
B, supplying clocks φ 1 and φ 2 to horizontal register 3,
5 to operate the CCD.

水平レジスタ3,5で読出される信号は別々に
出力回路で読出してもよいし、水平レジスタ3,
5の一方に1/2ビツト分のステージを付加し両水
平レジスタ3,5の終端で合流して出力を行うよ
うにしてもよい。
The signals read out by the horizontal registers 3 and 5 may be read out separately by output circuits, or the signals read out by the horizontal registers 3 and
It is also possible to add a stage for 1/2 bit to one of the horizontal registers 3 and 5 so that the registers merge at the ends of both horizontal registers 3 and 5 and output.

このような構成によれば2本の水平レジスタ
3,5を用いているため通常の1本の場合に比べ
ビツト数が1/2で済み微細加工の上で2倍の余裕
がある。このため高解像度化に伴つて水平画素数
が増大したり、1/2インチの光学系等に合わせて
小型化を行つた場合でも、シヨートチヤンネル効
果に対して強く、且つ電極の加工精度上の点から
も好ましい。また水平レジスタ3,5をCCD動
作させるクロツク周波が1/2で済むため消費電力
の上でも極めて実効がある。
According to this configuration, since two horizontal registers 3 and 5 are used, the number of bits is halved compared to the usual case of one, and there is twice the margin in terms of fine processing. For this reason, even when the number of horizontal pixels increases with higher resolution, or when downsizing to accommodate a 1/2-inch optical system, it is resistant to short channel effects and has a high level of accuracy in electrode processing. It is also preferable from the point of view. Furthermore, since the clock frequency for operating the horizontal registers 3 and 5 on the CCD can be reduced to 1/2, it is extremely effective in terms of power consumption.

更に本例では電極6A,6B,7A,7Bの形
状をT/Sゲート8の領域で傾けると共にチヤン
ネル領域10をも傾けるようにしている。このた
め電極6A,6B,7A,7B及びチヤンネル領
域10を急激に直角に折曲げる必要がなく電極加
工の上でもまた電荷転送の上でも極めて好ましい
ものとすることができる。
Furthermore, in this example, the shapes of the electrodes 6A, 6B, 7A, and 7B are tilted in the region of the T/S gate 8, and the channel region 10 is also tilted. Therefore, there is no need to sharply bend the electrodes 6A, 6B, 7A, 7B and the channel region 10 at right angles, which is extremely favorable in terms of electrode processing and charge transfer.

発明の効果 以上説明したように、本発明によれば2本の水
平レジスタを設けているため従前の1本のものに
比べて水平レジスタのビツト数が1/2で済み固体
撮像素子の高解像度化や小型化に対してもシヨー
トチヤンネル効果や電極の加工精度上何等問題が
ない。また垂直レジスタの転送終端から離間して
いる水平レジスタに垂直レジスタ側から電荷をバ
イパスするために、第1の水平レジスタ及び第2
の水平レジスタの電極の位相の異なるストレージ
部間にチヤンネルを形成するようにしているの
で、難なく第2の水平レジスタ側に電荷を転送す
ることができる。
Effects of the Invention As explained above, according to the present invention, since two horizontal registers are provided, the number of horizontal register bits is halved compared to the conventional single horizontal register, and the high resolution of the solid-state image sensor is achieved. Even with miniaturization and miniaturization, there is no problem in terms of short channel effect or electrode processing accuracy. In addition, in order to bypass the charge from the vertical register side to the horizontal register that is spaced from the transfer end of the vertical register, the first horizontal register and the second
Since a channel is formed between the storage portions of the electrodes of the horizontal registers having different phases, charges can be easily transferred to the second horizontal register side.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例の要部を示す図、第
2図は第1図の−線に沿う断面図、第3図は
第1図実施例を説明するためのタイムチヤート、
第4図は第1図の−線に沿うポテンシヤルの
状態を示す図である。 1A,1Bは垂直レジスタ、3,5は水平レジ
スタ、6A,6Bはストレージ電極、7A,7B
はトランスフア電極、8はT/Sゲートである。
FIG. 1 is a diagram showing essential parts of an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a sectional view taken along the line - in FIG. 1, and FIG. 3 is a time chart for explaining the embodiment in FIG.
FIG. 4 is a diagram showing the state of the potential along the - line in FIG. 1. 1A, 1B are vertical registers, 3, 5 are horizontal registers, 6A, 6B are storage electrodes, 7A, 7B
is a transfer electrode, and 8 is a T/S gate.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 並列された複数の垂直転送レジスタと、 該垂直転送レジスタからの1ライン毎の信号電
荷を読み出す出力部を具備し、 該出力部はトランスフア/ストツプゲート部を
挟んで併設され、各々第1のクロツクが共通接続
された一つ置きのストレージ電極とトランスフア
電極とからなる第1水平転送電極対に供給され、
第2のクロツクが共通接続された他の一つ置きの
ストレージ電極とトランスフア電極とからなる第
2水平転送電極対に供給される第1の水平出力レ
ジスタ及び第2の水平出力レジスタで構成され、 上記1ラインの信号電荷のうち1つ置きの信号
電荷を上記第1の水平出力レジスタに出力し、他
の1つ置きの信号電荷を上記第1の水平レジスタ
より上記トランスフア/ストツプゲート部のチヤ
ンネルを介して上記第2の水平出力レジスタに出
力してなる固体撮像素子に於て、 上記第1の水平出力レジスタから上記第2の水
平出力レジスタへの信号電荷の転送が互いに隣接
する上記第1の水平出力レジスタの第1水平転送
電極対下の蓄積部と上記第2の水平出力レジスタ
の第2水平転送電極対下の蓄積部との間で上記チ
ヤンネルを介して行われ、 上記チヤンネルを一方向に折り曲げ、上記第
1、第2の水平転送電極対を上記トランスフア/
ストツプゲート部で他方向に折り曲げて配置して
成ることを特徴とする固体撮像素子。
[Claims] 1. A plurality of vertical transfer registers arranged in parallel, and an output section for reading signal charges for each line from the vertical transfer registers, and the output section is provided side by side with a transfer/stop gate section in between. and each first clock is supplied to a first horizontal transfer electrode pair consisting of every other commonly connected storage electrode and transfer electrode,
The first horizontal output register and the second horizontal output register are configured such that a second clock is supplied to a second horizontal transfer electrode pair consisting of every other storage electrode and transfer electrode that are commonly connected. Outputs every other signal charge among the signal charges of the one line to the first horizontal output register, and outputs the other every other signal charge from the first horizontal register to the transfer/stop gate section. In the solid-state imaging device which outputs signal charges to the second horizontal output register via a channel, the transfer of signal charges from the first horizontal output register to the second horizontal output register is performed in the two adjacent horizontal output registers. between the storage section under the first horizontal transfer electrode pair of the first horizontal output register and the storage section under the second horizontal transfer electrode pair of the second horizontal output register via the channel, Bend in one direction, and connect the first and second horizontal transfer electrode pairs to the transfer/transfer electrode pair.
A solid-state image sensor characterized in that it is arranged by being bent in the other direction at a stop gate portion.
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