JPS59124935A - 天然ゴムラテックスの放射線加硫方法 - Google Patents
天然ゴムラテックスの放射線加硫方法Info
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- JPS59124935A JPS59124935A JP23327982A JP23327982A JPS59124935A JP S59124935 A JPS59124935 A JP S59124935A JP 23327982 A JP23327982 A JP 23327982A JP 23327982 A JP23327982 A JP 23327982A JP S59124935 A JPS59124935 A JP S59124935A
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- Japan
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- rubber
- rubber latex
- natural rubber
- rays
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は天然ゴムラテックスの放射線加流方法に関する
より詳細に述べると、本発明は天然ゴムラテックスに疎
水性の多官能性モノマー、ゴムの良溶剤およびラジカル
連鎖禁止剤を配合した後電離性放射線を照射することか
ら成る天然ゴムラ テックスの放射線加硫方法に関する。
より詳細に述べると、本発明は天然ゴムラテックスに疎
水性の多官能性モノマー、ゴムの良溶剤およびラジカル
連鎖禁止剤を配合した後電離性放射線を照射することか
ら成る天然ゴムラ テックスの放射線加硫方法に関する。
天然ゴムラテックス（以下ゴムラテックスと略記する場
台がある）の放射線による完全前加硫法としては、特公
昭３５−１５４０号に記載されているように単純に放射
線をゴムラテックスに照射する方法がある。しかし、こ
の単線照射法は照射線量が高いため経済性に欠けるばか
りか、放射線損傷よるゴムの劣化が激しく実用性に乏し
かった。この従来法の改良方法として、ゴムラテックス
に四塩化炭素を添加し、放射線を照射する四塩化炭素法
が提案された。これによって加硫に必要な危惧は従来の
単純照射法に比べ約１０分の１程度低減され同時に満足
すべきゴム物性が得られるようになった。しかしながら
、許容濃度が１０ｐｐｍの有毒物質である四塩化炭素は
ゴムラテックスの乾燥過程で大気中に揮発するため、作
業者の労働衛生上に難点があり、実用化は不可能であっ
た。
台がある）の放射線による完全前加硫法としては、特公
昭３５−１５４０号に記載されているように単純に放射
線をゴムラテックスに照射する方法がある。しかし、こ
の単線照射法は照射線量が高いため経済性に欠けるばか
りか、放射線損傷よるゴムの劣化が激しく実用性に乏し
かった。この従来法の改良方法として、ゴムラテックス
に四塩化炭素を添加し、放射線を照射する四塩化炭素法
が提案された。これによって加硫に必要な危惧は従来の
単純照射法に比べ約１０分の１程度低減され同時に満足
すべきゴム物性が得られるようになった。しかしながら
、許容濃度が１０ｐｐｍの有毒物質である四塩化炭素は
ゴムラテックスの乾燥過程で大気中に揮発するため、作
業者の労働衛生上に難点があり、実用化は不可能であっ
た。
しかし、ゴムラテックスの放射線加硫は、加硫時にゴム
ラテックスを加熱する必要がなく、ゴムラテックス工業
の省エネルギーに有効であるため、エネルギー危機の進
行に伴い、放射線加硫法に対する期待が高まってきた。
ラテックスを加熱する必要がなく、ゴムラテックス工業
の省エネルギーに有効であるため、エネルギー危機の進
行に伴い、放射線加硫法に対する期待が高まってきた。
すなわち前述の四塩化炭素法に替る安全無毒な革新的技
術が強く望まれていた。所で、ポリエチレンやポリ塩化
ビニール製品、例えば電線絶縁材料など、については放
射線照射による橋かけ技術が実用化されており、照射線
量の低減化のための槁かけ促進剤として、一分子内に２
個以上の炭素・炭素二重結合を有する多官能性モノマー
が広く使われている。ところが従来、多官能性モノマー
はゴムラテックスの放射線加硫に対する促進効果が低く
、実用的価値が無いと考えられていた。
術が強く望まれていた。所で、ポリエチレンやポリ塩化
ビニール製品、例えば電線絶縁材料など、については放
射線照射による橋かけ技術が実用化されており、照射線
量の低減化のための槁かけ促進剤として、一分子内に２
個以上の炭素・炭素二重結合を有する多官能性モノマー
が広く使われている。ところが従来、多官能性モノマー
はゴムラテックスの放射線加硫に対する促進効果が低く
、実用的価値が無いと考えられていた。
しかし、本発明者等は、鋭意研究の結果、特開昭５７−
１４９３３０号において多官能性モノマーを使用した天
然ゴムや合成ポリイソブレンゴムラテックスの放射線加
硫を提案した。この中で、ネオペンチルグリコールジア
クリレート（以下“Ａ−ＮＰＧ”と略記する場合がある
）とゴムの良溶剤との併用がラテックスの放射線加硫に
おいて極めて優れた加硫促進効果を有することを見出し
ている。しかし、本発明者等は、更に鋭意研究を進めた
結果Ａ−ＮＰＧあるいは１，３−ブチレングリコールジ
アクリレート（以下“Ａ−ＢＧ”と略記する場合がある
）とアミン系あるいはフェノール系のラジカル連鎖禁止
剤を併用すると、さらに優れたゴム物性を有する完全加
硫ゴムラテックスが得られることを見出した。
１４９３３０号において多官能性モノマーを使用した天
然ゴムや合成ポリイソブレンゴムラテックスの放射線加
硫を提案した。この中で、ネオペンチルグリコールジア
クリレート（以下“Ａ−ＮＰＧ”と略記する場合がある
）とゴムの良溶剤との併用がラテックスの放射線加硫に
おいて極めて優れた加硫促進効果を有することを見出し
ている。しかし、本発明者等は、更に鋭意研究を進めた
結果Ａ−ＮＰＧあるいは１，３−ブチレングリコールジ
アクリレート（以下“Ａ−ＢＧ”と略記する場合がある
）とアミン系あるいはフェノール系のラジカル連鎖禁止
剤を併用すると、さらに優れたゴム物性を有する完全加
硫ゴムラテックスが得られることを見出した。
天然ゴムラテックスの放射線加硫は、放射線照射によっ
てゴム分子中に生成したラジカルの再結合反応によるも
のである。多官能件モノマーを用いた放射線加硫におい
ても、同様にラジカル反応によって加硫が進行するもの
と考えられる。一方ラジカル連鎖禁止剤は、元来、ラジ
カル反応を禁止もしくは抑制するためのものであり、ラ
ジカル連鎖禁止剤を使用することにより、天然ゴムラテ
ックスの放射線加硫が促進きれるとは夢想だにしえない
ところであった。しかるに、多官能性モノマーを用いた
天然ゴムラテックスの放射線加硫において、ラジカル連
鎖禁止剤を用いた揚合に、すぐれた物性の加硫ゴムが得
られることを見出し、本発明を完成するに至った。
てゴム分子中に生成したラジカルの再結合反応によるも
のである。多官能件モノマーを用いた放射線加硫におい
ても、同様にラジカル反応によって加硫が進行するもの
と考えられる。一方ラジカル連鎖禁止剤は、元来、ラジ
カル反応を禁止もしくは抑制するためのものであり、ラ
ジカル連鎖禁止剤を使用することにより、天然ゴムラテ
ックスの放射線加硫が促進きれるとは夢想だにしえない
ところであった。しかるに、多官能性モノマーを用いた
天然ゴムラテックスの放射線加硫において、ラジカル連
鎖禁止剤を用いた揚合に、すぐれた物性の加硫ゴムが得
られることを見出し、本発明を完成するに至った。
従って、本発明の主目的は天然ゴムラテックスの放射線
加硫方法を提供することである。
加硫方法を提供することである。
本発明の別の目的は天然ゴムラテックスに疎水性の多官
能性モノマー、ゴムの良溶剤およびラジカル連鎖禁止剤
を配合し電離性放射線を照射することから成る天然ゴム
ラテックスの加硫方法を提供することである。
能性モノマー、ゴムの良溶剤およびラジカル連鎖禁止剤
を配合し電離性放射線を照射することから成る天然ゴム
ラテックスの加硫方法を提供することである。
本発明の更に特定時な目的はポリイソブレンを主成分と
する天然ゴムラテックスにネオベンチルグリコールジア
クリレートおよび／又は１，３−ブチレングリコールジ
アクリレート、ゴムの良溶剤およびアミン系あるいはフ
ェノール系ラジカル連鎖禁止剤を配合し電離性放射線を
照射することから成る天然ゴムラテックスの加硫方法を
提供することである。
する天然ゴムラテックスにネオベンチルグリコールジア
クリレートおよび／又は１，３−ブチレングリコールジ
アクリレート、ゴムの良溶剤およびアミン系あるいはフ
ェノール系ラジカル連鎖禁止剤を配合し電離性放射線を
照射することから成る天然ゴムラテックスの加硫方法を
提供することである。
本発明の他の目的および利点は以下遂次明らかにされる
。
。
以下、本発明の構成および効果を説明する。
本発明に従ってラテックスへ配合されるＡ−ＮＰＧある
いはＡ−ＢＧの配合割合は、ゴム固形分１００重量部に
対して、１〜２０重量部であり、好ましくは２〜８重量
部である。Ａ−ＮＰＧあるいはＡ−ＢＧの配合割合が２
重量部以下の場合加硫促進効果が少なく、また８重量部
以上の場合と経済性を低くするばかりではなく、ラテッ
クスの粘度上昇を起し、浸漬成形用としては不適当とな
る。
いはＡ−ＢＧの配合割合は、ゴム固形分１００重量部に
対して、１〜２０重量部であり、好ましくは２〜８重量
部である。Ａ−ＮＰＧあるいはＡ−ＢＧの配合割合が２
重量部以下の場合加硫促進効果が少なく、また８重量部
以上の場合と経済性を低くするばかりではなく、ラテッ
クスの粘度上昇を起し、浸漬成形用としては不適当とな
る。
本発明に従ってラテックスに配合される溶剤は天然ゴム
を溶解もしくは膨潤させる溶剤であり、常圧における沸
点が４０℃以上１５０℃以下のものが好ましい、沸点が
４０℃以下の溶剤は、ラテックスの撹拌中に揮発し効果
が乏しくなるばかりか、ラテックスから製品を製造する
際に、製品の表面にピンボールを作りやすくする。また
、沸点が１５０℃以上の溶剤は、揮発しにくいため、ゴ
ム製品中に残留し、製品の性能に悪影響を及ぼすことが
ある。溶剤の選定にあたって、特に留意すべきことは、
溶剤の毒性である。溶剤の有毒性を判定する基準として
は、昭和５０年３月３１日の日本産業衛生学会の許容濃
度の観告が妥当なものであり、ラテックスに配合する溶
剤としては、許容濃度が３００ｐｐｍ、好ましくは５０
０ｐｐｍ以上のものを使用すべきである。このような立
場から溶剤を選定すると、石油ベンジン、石油ナフサ、
リグロイン、ガソリン、ｎ−へキサン、ｎ−へプタン、
シクロヘキザンなどがあげられる。溶剤の配合割合は、
ゴム固形分１００重量部あたり、１〜３０重量部、好ま
しくは３〜１０重量部である。溶剤配合割合があまり少
ないと溶剤配合の効果が熱く逆に多すぎるとゴムのコス
トが上昇し、好ましくない。
を溶解もしくは膨潤させる溶剤であり、常圧における沸
点が４０℃以上１５０℃以下のものが好ましい、沸点が
４０℃以下の溶剤は、ラテックスの撹拌中に揮発し効果
が乏しくなるばかりか、ラテックスから製品を製造する
際に、製品の表面にピンボールを作りやすくする。また
、沸点が１５０℃以上の溶剤は、揮発しにくいため、ゴ
ム製品中に残留し、製品の性能に悪影響を及ぼすことが
ある。溶剤の選定にあたって、特に留意すべきことは、
溶剤の毒性である。溶剤の有毒性を判定する基準として
は、昭和５０年３月３１日の日本産業衛生学会の許容濃
度の観告が妥当なものであり、ラテックスに配合する溶
剤としては、許容濃度が３００ｐｐｍ、好ましくは５０
０ｐｐｍ以上のものを使用すべきである。このような立
場から溶剤を選定すると、石油ベンジン、石油ナフサ、
リグロイン、ガソリン、ｎ−へキサン、ｎ−へプタン、
シクロヘキザンなどがあげられる。溶剤の配合割合は、
ゴム固形分１００重量部あたり、１〜３０重量部、好ま
しくは３〜１０重量部である。溶剤配合割合があまり少
ないと溶剤配合の効果が熱く逆に多すぎるとゴムのコス
トが上昇し、好ましくない。
一方、アミン系およびフェノール系のラジカル連鎖禁止
剤とは、パラフェニレンジアミン、４．４′ーチオビス
（６−１−ブチル３メチルフェノール）２，２′−メチ
レンビス（４−メチル６−１−ブチルフェノール）、な
どがあげられ、このうちのいくつかは現在、ゴム用老化
防止剤として使用されているものもある、ラジカル連鎖
禁止剤の配合割合は、ゴム固形分１００重量部あたり０
．０１〜５重量部、好ましくは０．１〜１重量部である
。ラジカル連鎖禁止剤の配合割合があまり少ないとその
効果が無く、逆に多すぎるとゴムのコストが上昇し、好
ましくない。
剤とは、パラフェニレンジアミン、４．４′ーチオビス
（６−１−ブチル３メチルフェノール）２，２′−メチ
レンビス（４−メチル６−１−ブチルフェノール）、な
どがあげられ、このうちのいくつかは現在、ゴム用老化
防止剤として使用されているものもある、ラジカル連鎖
禁止剤の配合割合は、ゴム固形分１００重量部あたり０
．０１〜５重量部、好ましくは０．１〜１重量部である
。ラジカル連鎖禁止剤の配合割合があまり少ないとその
効果が無く、逆に多すぎるとゴムのコストが上昇し、好
ましくない。
Ａ−ＮＰＧあるいはＡ−ＢＧゴムの良溶剤およびラジカ
ル連鎖禁止剤の添加方法であるが、Ａ−ＮＰＧおよびＡ
−ＢＧは粘度の低い液体であり、比重も水に近いためラ
テックスへの配合は極めて容易であり、ラテックスへ直
接添加することもできる。また、溶剤も直接添加するこ
とができるが界面活性剤を用いて、あらかじめエマルジ
ョンにして添加した方が好ましい。また、Ａ−ＮＰＧあ
るいはＡ−ＢＧと溶剤をあらかじめ混合してから添加す
る力法も有効である。
ル連鎖禁止剤の添加方法であるが、Ａ−ＮＰＧおよびＡ
−ＢＧは粘度の低い液体であり、比重も水に近いためラ
テックスへの配合は極めて容易であり、ラテックスへ直
接添加することもできる。また、溶剤も直接添加するこ
とができるが界面活性剤を用いて、あらかじめエマルジ
ョンにして添加した方が好ましい。また、Ａ−ＮＰＧあ
るいはＡ−ＢＧと溶剤をあらかじめ混合してから添加す
る力法も有効である。
ラジカル連鎖禁止剤も直接添加することができるが、界
面活性剤を用いて、あらかじめ分散体にして添加する方
が好ましい。また、あらかじめ、溶剤に溶解させてから
添加する方法も有効である。
面活性剤を用いて、あらかじめ分散体にして添加する方
が好ましい。また、あらかじめ、溶剤に溶解させてから
添加する方法も有効である。
いずれの添加法にしろ、ラテックスをゆるやかに攪拌す
ることが肝要で、攪拌せずに一度に多量のＡ−ＮＰＧあ
るいはＡ−ＢＧや溶剤を添加すると凝集物が発生するこ
とがある。また、Ａ−ＮＰＧあるいはＡ−ＢＧや溶剤、
ラジカル連鎖禁止剤を均一にラテックスに混合するため
、添加後３０分以上攪拌を続けることが好ましい。
ることが肝要で、攪拌せずに一度に多量のＡ−ＮＰＧあ
るいはＡ−ＢＧや溶剤を添加すると凝集物が発生するこ
とがある。また、Ａ−ＮＰＧあるいはＡ−ＢＧや溶剤、
ラジカル連鎖禁止剤を均一にラテックスに混合するため
、添加後３０分以上攪拌を続けることが好ましい。
人一ＮＰＱあるいはＡ−ＢＧと溶剤、ラジカル連鎖禁止
剤を添加したラテックスに照射する電離性放射線として
は、α線、β線、γ線、χ腺、電子線、中性子線などが
あげられ、特に限定する必要はないが、工業的意義を有
するのはχ線γ線および電子線である。
剤を添加したラテックスに照射する電離性放射線として
は、α線、β線、γ線、χ腺、電子線、中性子線などが
あげられ、特に限定する必要はないが、工業的意義を有
するのはχ線γ線および電子線である。
ラテックスの完全前加硫に必被な照射線量は、ゴム分濃
度９Ａ−ＮＰＧおよびＡ−ＢＧの添加量に依存して決定
されるが、通常０、５〜１．５Ｍｒａｄであり、好まし
くは１．５〜５Ｍｒａｄである。照射線量率は特に限定
する必要はないが、χ線およびγ線では、０．０１〜２
Ｍｒａｄ／時、電子線では０．１〜２５Ｍｒａｄ／時が
実用的であり、照射線量率が高い方が好ましい。
度９Ａ−ＮＰＧおよびＡ−ＢＧの添加量に依存して決定
されるが、通常０、５〜１．５Ｍｒａｄであり、好まし
くは１．５〜５Ｍｒａｄである。照射線量率は特に限定
する必要はないが、χ線およびγ線では、０．０１〜２
Ｍｒａｄ／時、電子線では０．１〜２５Ｍｒａｄ／時が
実用的であり、照射線量率が高い方が好ましい。
照射にあたってはラテックスが安定に存在しうる温度範
囲（通常８０℃以下）なら加熱するとか不活性雰囲気下
で加硫を促進することができるが、室温空気甲射照で充
分その目的を達することができる。
囲（通常８０℃以下）なら加熱するとか不活性雰囲気下
で加硫を促進することができるが、室温空気甲射照で充
分その目的を達することができる。
本発明によって得られるゴムラテックスは、労働衛生上
安全であり、腐敗の原因となる細菌類が電解性放射線で
殺菌されるため長期の保存に耐えるという特徴をもって
いる。また、当該技術分野で通常行なわれている充填剤
、補強剤、可塑剤、安定剤、老化防止剤、粘性賦与剤や
顔料等の各種配合剤を添加することは容易であり、放射
線照射前と何ら変わらない配合技術が適用できる。
安全であり、腐敗の原因となる細菌類が電解性放射線で
殺菌されるため長期の保存に耐えるという特徴をもって
いる。また、当該技術分野で通常行なわれている充填剤
、補強剤、可塑剤、安定剤、老化防止剤、粘性賦与剤や
顔料等の各種配合剤を添加することは容易であり、放射
線照射前と何ら変わらない配合技術が適用できる。
以下に本発明を実施例および比較例に従って説明する。
実施例１．
攪拌棒をとりつけた１ｌのガラスフラスコに高アンモニ
ア天然ゴムラテックス（Ｄｕｎｌｏｐ社ＨＡｔｙｐｅ、
ゴム固形分６０．１％）を７５０ｇ取り、これに１％ア
ンモニア水を２３０ｍｌ加え、４０ｒｐｍで攪拌を続け
る。これにネオベンチルグリコールジアクリレート２２
．５ｇをシクロヘキサン４５ｇと混合して添加し、３０
分間攪拌した後パラフェニレンジアミンを直接添加し、
１時間攪拌した。一昼夜（１６時間）放置した後１００
ｍｌのガラス製円筒照射容器に移し、室温（２２℃）で
Ｃｏ−６０からのγ線を照射した。照射容器内の平均線
量率は１Ｍｒａｄ／時で１．５と５時間照射した。照射
後、ゴムラテックスを水平なガラス板上に流延し、室温
にて乾燥した。この室温造膜フィルムをガラス板から剥
離し、室温で１時間真空乾燥させた後、８０℃で１時間
加熱し、厚さ０．４５ｍｍフィルムを得た。これをＪＩ
ＳＫ６３０１により引張り試験し、引張り強さと伸びの
結果を表−１に示した。
ア天然ゴムラテックス（Ｄｕｎｌｏｐ社ＨＡｔｙｐｅ、
ゴム固形分６０．１％）を７５０ｇ取り、これに１％ア
ンモニア水を２３０ｍｌ加え、４０ｒｐｍで攪拌を続け
る。これにネオベンチルグリコールジアクリレート２２
．５ｇをシクロヘキサン４５ｇと混合して添加し、３０
分間攪拌した後パラフェニレンジアミンを直接添加し、
１時間攪拌した。一昼夜（１６時間）放置した後１００
ｍｌのガラス製円筒照射容器に移し、室温（２２℃）で
Ｃｏ−６０からのγ線を照射した。照射容器内の平均線
量率は１Ｍｒａｄ／時で１．５と５時間照射した。照射
後、ゴムラテックスを水平なガラス板上に流延し、室温
にて乾燥した。この室温造膜フィルムをガラス板から剥
離し、室温で１時間真空乾燥させた後、８０℃で１時間
加熱し、厚さ０．４５ｍｍフィルムを得た。これをＪＩ
ＳＫ６３０１により引張り試験し、引張り強さと伸びの
結果を表−１に示した。
実施例２．
攪拌棒をとりつけた１ｌのガラスフラスコに高アンモニ
ア天然ゴムラテックス（Ｄｕｎｌｏｐ社ＨＡｔｙｐｅ、
ゴム固形分６０．１％）を７５０ｇ取り、これに１％ア
ンモニア水を２３０ｍｌ加え、４０ｒｐｍで攪拌を続け
る。これにネオパンチルグリコールジアクリレート２２
．５ｇをミクロヘキサンと混合して添加し３０分間攪拌
した後４，４′−チオビス６−ｔ−ブチル３メチルフェ
ノールを直接添加し、１時間攪拌した。一昼夜（１６時
間）放置した後１００ｍｌのガラス製円筒照射容器に移
し、室温（２２℃）でＣｏ−６０からのγ線を照射した
。
ア天然ゴムラテックス（Ｄｕｎｌｏｐ社ＨＡｔｙｐｅ、
ゴム固形分６０．１％）を７５０ｇ取り、これに１％ア
ンモニア水を２３０ｍｌ加え、４０ｒｐｍで攪拌を続け
る。これにネオパンチルグリコールジアクリレート２２
．５ｇをミクロヘキサンと混合して添加し３０分間攪拌
した後４，４′−チオビス６−ｔ−ブチル３メチルフェ
ノールを直接添加し、１時間攪拌した。一昼夜（１６時
間）放置した後１００ｍｌのガラス製円筒照射容器に移
し、室温（２２℃）でＣｏ−６０からのγ線を照射した
。
照射容器内の平均線量率は１Ｍｒａｄ／時で１．５と５
時間照射した。実施例１と同様の操作を行ない表−２の
結果を得た。
時間照射した。実施例１と同様の操作を行ない表−２の
結果を得た。
実施例３．
攪拌棒をとりつけた１ｌのガラスフラスコに高アンモニ
ア天然ゴムラテックス（Ｄｕｎｌｏｐ社ＨＡｔｙｐｅ、
ゴム固形分６０．１％）を７５０ｇ取り、これに１％ア
ンモニア水を２３Ｏｍｌ加え、４０ｒｐｍで攪拌を続け
る。これに１，３ーブチレングリコールジアクリレート
２２．５ｇをシクロヘキサン４５ｇで混合して添加し、
３０分間攪拌した後パラフェニレンジアミンを直接添加
し、１時間攪拌した。
ア天然ゴムラテックス（Ｄｕｎｌｏｐ社ＨＡｔｙｐｅ、
ゴム固形分６０．１％）を７５０ｇ取り、これに１％ア
ンモニア水を２３Ｏｍｌ加え、４０ｒｐｍで攪拌を続け
る。これに１，３ーブチレングリコールジアクリレート
２２．５ｇをシクロヘキサン４５ｇで混合して添加し、
３０分間攪拌した後パラフェニレンジアミンを直接添加
し、１時間攪拌した。
一昼夜（１６時間）放置した後１００ｍｌのガラス製円
筒照射容器に移し、室温（２２℃）でＣｏ−６０からの
γ線を照射した。照射容器内の平均線量率は１Ｍｒａｄ
／時で１．５と５時間照射した。
筒照射容器に移し、室温（２２℃）でＣｏ−６０からの
γ線を照射した。照射容器内の平均線量率は１Ｍｒａｄ
／時で１．５と５時間照射した。
照射後、ゴムラテックスを水平なガラス板上に流延し、
室温にて乾燥した。この室温造膜フィルムをガラス板か
ら剥離し、室温で１時間真空乾燥させた後、８０℃で１
時間加熱し、厚さ０．４５ｍｍのフィルムを得た。これ
をＪＩＳＫ６３０１により引張り試験し、引張り強さと
伸びの結果を表−１に示した。
室温にて乾燥した。この室温造膜フィルムをガラス板か
ら剥離し、室温で１時間真空乾燥させた後、８０℃で１
時間加熱し、厚さ０．４５ｍｍのフィルムを得た。これ
をＪＩＳＫ６３０１により引張り試験し、引張り強さと
伸びの結果を表−１に示した。
比較例１
攪拌棒をとりつけた１ｌのガラスフラスコに高アンモニ
ア天然ゴムラテックス（Ｄｕｎｌｏｐ社ＨＡｔｙｐ、ゴ
ム固形分６０．１％）を７５０ｇ取り、これに１％アン
モニア水を２３０ｍｌ加え、４０ｒｐｍで攪拌を続ける
、これにネオペンチルグリコールジアクリレート２２．
５ｇをシクロヘキサン４５ｇと混合して添加し、１時間
攪拌した、一昼夜（１６時間）放置した後１００ｍｌの
ガラス製円筒照射容器に移し、室温（２２℃）でＣｏ−
６０からのγ線を照射した。照射容器内の平均線量率は
１Ｍｒａｄ／時で、１．５と５時間照射した、照射後実
施例１と同様の操作を行ない表−４の結果を得た。
ア天然ゴムラテックス（Ｄｕｎｌｏｐ社ＨＡｔｙｐ、ゴ
ム固形分６０．１％）を７５０ｇ取り、これに１％アン
モニア水を２３０ｍｌ加え、４０ｒｐｍで攪拌を続ける
、これにネオペンチルグリコールジアクリレート２２．
５ｇをシクロヘキサン４５ｇと混合して添加し、１時間
攪拌した、一昼夜（１６時間）放置した後１００ｍｌの
ガラス製円筒照射容器に移し、室温（２２℃）でＣｏ−
６０からのγ線を照射した。照射容器内の平均線量率は
１Ｍｒａｄ／時で、１．５と５時間照射した、照射後実
施例１と同様の操作を行ない表−４の結果を得た。
実施例と比較例を対比させると、本発明の優位なことが
いっそう明らかになる。
いっそう明らかになる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、ポリイソプレンを主成分とする天然ゴムラテックス
に疎水性多官能性モノマー、ゴムの良溶済およびラジカ
ル連鎖禁止剤を添加した後電離性放射編を照射すること
から成る天然ゴムラテックスの放射線加硫方法。 ２、疎水性多官能性モノマーがネオペンチルグリコール
ジアクリレートおよび１，３−ブチレングリコールジア
クリレートから成る群から選択されることを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３、疎水性多官能性モノマーを天然ゴムラテックスのゴ
ム固形分１００重量部当り１〜２０重量部添加する特許
請求の範囲第１項記載の方法。 ４、ラジカル連鎖禁止剤が、アミン系およびフェノール
系ラジカル連鎖禁止剤から選択される特許請求の範囲第
１項記載の方法。 ５、ラジカル連鎖禁剤を天然ゴムラテックスのゴム固形
分１００重量部当り０．０１〜５重量部添加することを
特徴とする特許請求の範囲第１項記載の方法。 ６、ゴムの良浴削のおし点が４０℃〜１５０℃の範囲に
あることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の方法
。 ７、ゴムの良溶剤の許容濃度が３００ｍｍ以上であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の方法、 ８、ゴムの良溶剤を天然ゴムラテックスのゴム固形分１
００重量部当り１〜３０重量部添加することを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23327982A JPS59124935A (ja) | 1982-12-29 | 1982-12-29 | 天然ゴムラテックスの放射線加硫方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23327982A JPS59124935A (ja) | 1982-12-29 | 1982-12-29 | 天然ゴムラテックスの放射線加硫方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59124935A true JPS59124935A (ja) | 1984-07-19 |
Family
ID=16952596
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23327982A Pending JPS59124935A (ja) | 1982-12-29 | 1982-12-29 | 天然ゴムラテックスの放射線加硫方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59124935A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11256114A (ja) * | 1997-12-23 | 1999-09-21 | Beiersdorf Ag | 多層接着テープ |
-
1982
- 1982-12-29 JP JP23327982A patent/JPS59124935A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11256114A (ja) * | 1997-12-23 | 1999-09-21 | Beiersdorf Ag | 多層接着テープ |
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