JPS5912348A - 金属溶湯中の水素ガス濃度測定装置 - Google Patents
金属溶湯中の水素ガス濃度測定装置Info
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- JPS5912348A JPS5912348A JP57122386A JP12238682A JPS5912348A JP S5912348 A JPS5912348 A JP S5912348A JP 57122386 A JP57122386 A JP 57122386A JP 12238682 A JP12238682 A JP 12238682A JP S5912348 A JPS5912348 A JP S5912348A
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- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は金属溶湯中の水素ガス濃度測定装置に係り、特
に溶融状態にある金属、なかでもアルミニウム若しくは
その合金溶湯中の溶存水素濃度を直接測定し得る装置の
改良に関するものである。
に溶融状態にある金属、なかでもアルミニウム若しくは
その合金溶湯中の溶存水素濃度を直接測定し得る装置の
改良に関するものである。
従来より、アルミニウム若しくはアルミニウムａ金等の
金属溶湯中に度解乃至は溶存する水素ガスが、かかる溶
湯の凝固の際に金属内部に気孔を発生せしめ、この気孔
が製品としての金属に神々の弊害を及ぼすことが知られ
ている。この気孔による弊害は、従来にあってはそれ程
問題とされていなかったのであるが、近年に至って製品
品質の高級化が進み、例えば熱間加工上程でアルミニウ
ム板表面に生した微小な「ふくれ」が、建４Ａ川パネル
材として製品化される際のアルマイト等の表１ｒ１１処
理上程において、ピット状の欠陥を生したりして品質を
損うなどの問題が指摘されるようになってきてから、金
属溶湯中の溶存水素を除去する、所謂脱水素操作がこれ
まで以」二に重要な鋳造作業の一］、程となってきてい
る。
金属溶湯中に度解乃至は溶存する水素ガスが、かかる溶
湯の凝固の際に金属内部に気孔を発生せしめ、この気孔
が製品としての金属に神々の弊害を及ぼすことが知られ
ている。この気孔による弊害は、従来にあってはそれ程
問題とされていなかったのであるが、近年に至って製品
品質の高級化が進み、例えば熱間加工上程でアルミニウ
ム板表面に生した微小な「ふくれ」が、建４Ａ川パネル
材として製品化される際のアルマイト等の表１ｒ１１処
理上程において、ピット状の欠陥を生したりして品質を
損うなどの問題が指摘されるようになってきてから、金
属溶湯中の溶存水素を除去する、所謂脱水素操作がこれ
まで以」二に重要な鋳造作業の一］、程となってきてい
る。
ところで、かかる脱水素操作はその操作に時間が長くか
かり、また必要以上の脱水素操作は製品のコストアップ
を招くところから、通常はその操作を行う前に予め金属
溶湯中の溶存水素濃度を測定し、その測定結果に基づい
て必要最小限の脱水素操作のみを施すのがよいとされて
いる。
かり、また必要以上の脱水素操作は製品のコストアップ
を招くところから、通常はその操作を行う前に予め金属
溶湯中の溶存水素濃度を測定し、その測定結果に基づい
て必要最小限の脱水素操作のみを施すのがよいとされて
いる。
面して、金属溶湯中の溶存水素濃度を測定する方法とし
ては、上記と同様の理由、即ち、その測定にザする時間
が短くて済むというとごろから、いる、所謂テレカス（
Ｔｅｌｅｇａｓ ）法を採用するのが望ましいとされて
いるのである。
ては、上記と同様の理由、即ち、その測定にザする時間
が短くて済むというとごろから、いる、所謂テレカス（
Ｔｅｌｅｇａｓ ）法を採用するのが望ましいとされて
いるのである。
かかるテレガス法に用いられる水素ガス濃度測定装置、
所謂テレガス装置は、金属溶湯中に浸した２つの孔を有
する浸漬ヘッドの一方の孔から窒素等の不活性ガスを溶
湯内に送り込む一方、他方の孔でその不活性ガスを回収
し、その回収した不活性カスをポンプ、水素ガス濃度検
出器、浸漬ヘッドを介して１■び溶湯内に送り込むとい
う操作を繰り返すことによって、溶湯中の溶存水素濃度
に平衡した分圧の水素ガスを不活性ガス中に取り込むよ
うにした構成となっている。そして、このような不活性
ガスの再循環によって形成される水素ガスを含む混合ガ
スの熱伝導度を、前記水素ガス濃度検出器に設けた２つ
の検出セルのうちの一方ノセル（検出側）で熱線（フイ
ラメン］・）型演出素ｒ−（金属抵抗ワイヤ）の抵抗変
化値として取り出す一方、他方のセル（対照側）内に不
活性ガス（この場合窒素）と熱伝導度のほぼ等しい空気
を常に拡散せしめて、そのセル内の熱線型検出素子の抵
抗値を一定値に保ってこれを基準値として取り出し、こ
れら２つの検出素子の抵抗値の差、即ち検出側の循環不
活性ガス中に占める水素分圧の大きさに基づく熱伝導度
の変化分、ひいては水素ガスの平衡分圧の大きさをブリ
ッジ回路で非平衡電流として取り出すようにしている。
所謂テレガス装置は、金属溶湯中に浸した２つの孔を有
する浸漬ヘッドの一方の孔から窒素等の不活性ガスを溶
湯内に送り込む一方、他方の孔でその不活性ガスを回収
し、その回収した不活性カスをポンプ、水素ガス濃度検
出器、浸漬ヘッドを介して１■び溶湯内に送り込むとい
う操作を繰り返すことによって、溶湯中の溶存水素濃度
に平衡した分圧の水素ガスを不活性ガス中に取り込むよ
うにした構成となっている。そして、このような不活性
ガスの再循環によって形成される水素ガスを含む混合ガ
スの熱伝導度を、前記水素ガス濃度検出器に設けた２つ
の検出セルのうちの一方ノセル（検出側）で熱線（フイ
ラメン］・）型演出素ｒ−（金属抵抗ワイヤ）の抵抗変
化値として取り出す一方、他方のセル（対照側）内に不
活性ガス（この場合窒素）と熱伝導度のほぼ等しい空気
を常に拡散せしめて、そのセル内の熱線型検出素子の抵
抗値を一定値に保ってこれを基準値として取り出し、こ
れら２つの検出素子の抵抗値の差、即ち検出側の循環不
活性ガス中に占める水素分圧の大きさに基づく熱伝導度
の変化分、ひいては水素ガスの平衡分圧の大きさをブリ
ッジ回路で非平衡電流として取り出すようにしている。
そして、その電流値を（溶湯の温度に応じて予め作成さ
れた非平衡電流と溶湯中の水素ガス濃度との関係を示す
検針線と呼ばれるグラフで照合して水素カス濃度を算出
し、さらにこの値に各金属の種Ｊ１′１によって定まる
補正定数を乗じて金属溶湯中の溶存水素濃度を求めるよ
うにしている。
れた非平衡電流と溶湯中の水素ガス濃度との関係を示す
検針線と呼ばれるグラフで照合して水素カス濃度を算出
し、さらにこの値に各金属の種Ｊ１′１によって定まる
補正定数を乗じて金属溶湯中の溶存水素濃度を求めるよ
うにしている。
かかる構成の従来のテレガス装置によれば、溶湯状態の
金属から直接溶存水素濃度（水素ガス濃度）をγｌ１１
１定できるため、その測定時間は、凝固した金属を試別
として水素ガス濃度を測定する他の方法に比べて短くて
済むのであるが、作業能率の面から見た場合には、いま
だ十分に短縮されているとは言い得なかったのである。
金属から直接溶存水素濃度（水素ガス濃度）をγｌ１１
１定できるため、その測定時間は、凝固した金属を試別
として水素ガス濃度を測定する他の方法に比べて短くて
済むのであるが、作業能率の面から見た場合には、いま
だ十分に短縮されているとは言い得なかったのである。
即ち、前記従来のテレカス装置にあっては、水素カス濃
度検出器の検出セルが黄銅等の金属ブロンクに穿たれた
孔をセル容器として直接利用した構成とされているため
、ブリッジ回路の２辺を構成する熱線型演出素ｒ・と、
これらの素子を収容する金属ブロック、及びこの金属ブ
ロックの周囲の雰囲気との間が熱的平衡状態となるまで
にかなり時間がかかり、それ故ブリッジ回路の電流計の
指示値が安定して、金属溶湯中の水素ガス濃度を算出す
るまで比較的長時間を要したのである。
度検出器の検出セルが黄銅等の金属ブロンクに穿たれた
孔をセル容器として直接利用した構成とされているため
、ブリッジ回路の２辺を構成する熱線型演出素ｒ・と、
これらの素子を収容する金属ブロック、及びこの金属ブ
ロックの周囲の雰囲気との間が熱的平衡状態となるまで
にかなり時間がかかり、それ故ブリッジ回路の電流計の
指示値が安定して、金属溶湯中の水素ガス濃度を算出す
るまで比較的長時間を要したのである。
また、かかる装置にあっては、上記金属ブロックが周囲
の雰囲気の温度変化を受けた場合、その金属ブロックと
その内部に収容されている熱線型検出素子との間の熱平
衡状態がくずれて、ブリッジ回路の電流用の指示値が除
々に変化してしまうこととなるため、再度安定するまで
にかなりの時間を必要とするたけでなく、その都度電流
計の零点校正を行なわなければならないという問題点を
も内在していたのである。
の雰囲気の温度変化を受けた場合、その金属ブロックと
その内部に収容されている熱線型検出素子との間の熱平
衡状態がくずれて、ブリッジ回路の電流用の指示値が除
々に変化してしまうこととなるため、再度安定するまで
にかなりの時間を必要とするたけでなく、その都度電流
計の零点校正を行なわなければならないという問題点を
も内在していたのである。
本発明は、かかる事情を背景として為されたものであっ
て、その目的とするところは、測定時間か短く、しかも
周囲の雰囲気の温度変化によってその指示値が容易に変
ｆじしない、従って零点校正がそれ程必要でない金属溶
湯中の水素カス濃度測定装置を提供することにある。
て、その目的とするところは、測定時間か短く、しかも
周囲の雰囲気の温度変化によってその指示値が容易に変
ｆじしない、従って零点校正がそれ程必要でない金属溶
湯中の水素カス濃度測定装置を提供することにある。
そして、その目的を達成する為に、本発明にあっては、
金属溶湯中に浸漬され、循環せしめられる不活性ガスと
金属溶湯との接触を行なう浸漬ヘッドと；該ヘッドに接
続された、閉回路をｔ１１１成する不活性ガス流路を有
し、該流路を通じて不活性カスを繰り返し該浸漬ヘッド
に循環、流通せしめる不活性ガス循環機構と；前記不活
性ガス流路１；に設けられ、該流路内を流通せしめられ
る不活性カス中に含まれる水素ガス濃度に応じて変化す
る電気抵抗を検出する検出手段とを含む水素ガス濃度カ
１１定装置において、該検出手段が、＋）ｉｆ記小浦１
１１゜ガス流路に接続された、循環せしめられる水未含
有不活性ガスにさらされる電気抵抗ワイヤを収容した測
定セルを有すると共に、かかる測定セルの周囲に、それ
を取り巻くように真空層を設けるようにしたのである。
金属溶湯中に浸漬され、循環せしめられる不活性ガスと
金属溶湯との接触を行なう浸漬ヘッドと；該ヘッドに接
続された、閉回路をｔ１１１成する不活性ガス流路を有
し、該流路を通じて不活性カスを繰り返し該浸漬ヘッド
に循環、流通せしめる不活性ガス循環機構と；前記不活
性ガス流路１；に設けられ、該流路内を流通せしめられ
る不活性カス中に含まれる水素ガス濃度に応じて変化す
る電気抵抗を検出する検出手段とを含む水素ガス濃度カ
１１定装置において、該検出手段が、＋）ｉｆ記小浦１
１１゜ガス流路に接続された、循環せしめられる水未含
有不活性ガスにさらされる電気抵抗ワイヤを収容した測
定セルを有すると共に、かかる測定セルの周囲に、それ
を取り巻くように真空層を設けるようにしたのである。
かかＺ）ｔＩＩｔ成の本発明によれば、水素含有不活性
ガスにさらされる電気抵抗ワイヤを収容する測定セルの
周囲に真空層が設けられることにより、セル自体の熱容
爪を効果的に小さく為し得るとともに、該測定セルを、
検出手段を取り巻く雰囲気から熱的に遮断せしめ得るの
で、測定セルは周囲の雰囲気の温度変化の影響を殆んど
受けず、以て所定の温度値に速やかに安定することとな
り、これによって零点校正かはとんと不要で、しかも測
定時間が大幅に短縮された水素ガス濃度測定装置が得ら
れることとなったのである。そして、この測定時間の短
縮によって作業能率がより向上し、以て製品のコストダ
ウンを図ることが可能となったのである。
ガスにさらされる電気抵抗ワイヤを収容する測定セルの
周囲に真空層が設けられることにより、セル自体の熱容
爪を効果的に小さく為し得るとともに、該測定セルを、
検出手段を取り巻く雰囲気から熱的に遮断せしめ得るの
で、測定セルは周囲の雰囲気の温度変化の影響を殆んど
受けず、以て所定の温度値に速やかに安定することとな
り、これによって零点校正かはとんと不要で、しかも測
定時間が大幅に短縮された水素ガス濃度測定装置が得ら
れることとなったのである。そして、この測定時間の短
縮によって作業能率がより向上し、以て製品のコストダ
ウンを図ることが可能となったのである。
以下、本発明を更に具体的に明らかにするために、その
二、王の実施例を図面に貼づいて詳細に説明する。
二、王の実施例を図面に貼づいて詳細に説明する。
先ず、第１図は本発明に係る水素ガス濃度測定装置の一
実施例を示す系統図であるが、図において、２はアルミ
ニウム或はアルミニウム合金等の金属溶湯４中に浸漬さ
れた２孔プローブ（浸漬ヘッド）であって、溶湯４中に
深く延び出させられた第１の孔６と、その」一方に設け
られ、該第１の孔６から吹き出される窒素やアルゴン等
の不活性カスの気泡を集めるようにしたスカート８と、
そのスカート８の内側」三方に開口された第２０化ｌＯ
と、該スカート８内を仕切り、該第２０孔１０に導かれ
る不活性ガス気泡から溶湯を除仁該溶湯に対する諦れの
少ない、セラミックスなどからなるフィルタ１１とを備
えたものである。この２孔プローブ２の各孔６及びｌＯ
は、それぞれチューブＩ２及び１４を介してダイヤフラ
ムポンプ１６に接続されており、そのダイヤフラムポン
プ１６及びデユープ１２．１４等によって構成されるイ
く活性ガス循環機構と前記溶湯４とともに、不活性カス
の閉流路を構成している。
実施例を示す系統図であるが、図において、２はアルミ
ニウム或はアルミニウム合金等の金属溶湯４中に浸漬さ
れた２孔プローブ（浸漬ヘッド）であって、溶湯４中に
深く延び出させられた第１の孔６と、その」一方に設け
られ、該第１の孔６から吹き出される窒素やアルゴン等
の不活性カスの気泡を集めるようにしたスカート８と、
そのスカート８の内側」三方に開口された第２０化ｌＯ
と、該スカート８内を仕切り、該第２０孔１０に導かれ
る不活性ガス気泡から溶湯を除仁該溶湯に対する諦れの
少ない、セラミックスなどからなるフィルタ１１とを備
えたものである。この２孔プローブ２の各孔６及びｌＯ
は、それぞれチューブＩ２及び１４を介してダイヤフラ
ムポンプ１６に接続されており、そのダイヤフラムポン
プ１６及びデユープ１２．１４等によって構成されるイ
く活性ガス循環機構と前記溶湯４とともに、不活性カス
の閉流路を構成している。
すなわち、上記チューブ１２及び１４」−には逆上弁】
８及び２０がそれぞれ設けられており、この逆上弁１８
及び２０によって、不活性カスか上記流路内を２孔プロ
ーブ２の第１の孔６から溶湯４内に吹き出す方向に流通
せしめられるようになっているのてあり、モータ２２に
よるダイヤフラムポンプ１６の作動によって、不活性ガ
スが前記閉流路内を繰り返し循環されるのである。
８及び２０がそれぞれ設けられており、この逆上弁１８
及び２０によって、不活性カスか上記流路内を２孔プロ
ーブ２の第１の孔６から溶湯４内に吹き出す方向に流通
せしめられるようになっているのてあり、モータ２２に
よるダイヤフラムポンプ１６の作動によって、不活性ガ
スが前記閉流路内を繰り返し循環されるのである。
そして、この不活性ガスの循環の際、プローブ２の第１
の孔６から溶湯４中に吹き出された不活性カスは、溶湯
４中を気泡となってスカート８まて達するのであるが、
この間に溶湯４中に溶解されている水素が−１；配気泡
中に拡散するのであり、そして不活性ガスが前記閉流路
内を繰り返し循環せしめられることにより、不活性ガス
気泡中に拡散する水素の分圧が除々に上昇して、ついに
は溶湯４中に溶解されている水素濃度と平衡する分圧に
まで高められるのである。なお、水素は上記平衡分圧以
上には不活性ガス中に拡散することばないのである。
の孔６から溶湯４中に吹き出された不活性カスは、溶湯
４中を気泡となってスカート８まて達するのであるが、
この間に溶湯４中に溶解されている水素が−１；配気泡
中に拡散するのであり、そして不活性ガスが前記閉流路
内を繰り返し循環せしめられることにより、不活性ガス
気泡中に拡散する水素の分圧が除々に上昇して、ついに
は溶湯４中に溶解されている水素濃度と平衡する分圧に
まで高められるのである。なお、水素は上記平衡分圧以
上には不活性ガス中に拡散することばないのである。
かかる平衡分圧に達した水素ガスを含む不活性カス、所
謂水素な有季活性カスは、そこに含有さねる水素ガスの
分圧に応じて熱伝導度か旨くなっているところから、こ
の熱伝導度の大きさをチューブ１４上に設けられた水素
ガス濃度検出器２４て検出するようにしているのである
。
謂水素な有季活性カスは、そこに含有さねる水素ガスの
分圧に応じて熱伝導度か旨くなっているところから、こ
の熱伝導度の大きさをチューブ１４上に設けられた水素
ガス濃度検出器２４て検出するようにしているのである
。
この水素カス濃度検出？５２４は、例えば第２図に示さ
れるように、アルミニウム或は黄銅等の検出器ブロック
２６に、水素含有不活性カスと空気のそれぞれの熱伝導
度を測定するための２つの検出部２７．２７が形成され
たベア構造とされており、各々の検出部２７は検出器ブ
ロック２６に形成されたシリンダ２８内に更に測定セル
３０が収容された２重構造とされている。
れるように、アルミニウム或は黄銅等の検出器ブロック
２６に、水素含有不活性カスと空気のそれぞれの熱伝導
度を測定するための２つの検出部２７．２７が形成され
たベア構造とされており、各々の検出部２７は検出器ブ
ロック２６に形成されたシリンダ２８内に更に測定セル
３０が収容された２重構造とされている。
すなわち、第２図において、３２′は断熱性材料からな
る円筒形状の第１シール部拐てあって、その内側空間下
部に、ステンレス等の金属材料からなる有底円筒形状の
セル容器３４の開口部が嵌入接着せしめられるとともに
、その内側空間」、部にやはり断熱性４Ａ判からなる第
２シール部４′Ａ３６が嵌め込まれており、かかる第１
シール部４４’ ８２が各シリング２８の開ＬＪ部に気
密に嵌入されて、シリンダ２８内においてセル容器３４
の内外に、ＪＴに気密な空間であるカス拡散室３８及び
真空室４０を形成している。
る円筒形状の第１シール部拐てあって、その内側空間下
部に、ステンレス等の金属材料からなる有底円筒形状の
セル容器３４の開口部が嵌入接着せしめられるとともに
、その内側空間」、部にやはり断熱性４Ａ判からなる第
２シール部４′Ａ３６が嵌め込まれており、かかる第１
シール部４４’ ８２が各シリング２８の開ＬＪ部に気
密に嵌入されて、シリンダ２８内においてセル容器３４
の内外に、ＪＴに気密な空間であるカス拡散室３８及び
真空室４０を形成している。
一方の検出部２７のガス拡散室３８は、第１シール部イ
Ａ３２に形成された通孔４２ （４２ａ、、 ４２１）
）を介して、水素含有不活性カスの流路であるチューブ
ｌ ４．（１４Ｆ１．１４ｂ ）に接続されており、水
素含有不活性カスが一方のチューブ１４Ｅ【から通孔部
分４２２１を通って該ガス拡散室３８内上部を通過し、
他方の通孔部分４２１Ｊを通ってチューブ１４１）に流
出するようにされている。また、他方の検出部２７のガ
ス拡散室３８はデユープ４４（４４＝１，４４＋１）に
よって外気に接続されており、測定セル３０内には不活
性ガスと熱伝導度のほぼ等しい空気が充填されるように
な１つている。
Ａ３２に形成された通孔４２ （４２ａ、、 ４２１）
）を介して、水素含有不活性カスの流路であるチューブ
ｌ ４．（１４Ｆ１．１４ｂ ）に接続されており、水
素含有不活性カスが一方のチューブ１４Ｅ【から通孔部
分４２２１を通って該ガス拡散室３８内上部を通過し、
他方の通孔部分４２１Ｊを通ってチューブ１４１）に流
出するようにされている。また、他方の検出部２７のガ
ス拡散室３８はデユープ４４（４４＝１，４４＋１）に
よって外気に接続されており、測定セル３０内には不活
性ガスと熱伝導度のほぼ等しい空気が充填されるように
な１つている。
そして、これらの拡散室３８内、即ち測定セル３０内に
、それぞれ拡散される気体（ガス）の熱伝導度の変化に
よって温度、即ち抵抗値が変化する白金等のワイヤから
なる熱線型演出素ｒ−（電気抵抗ワイヤ）４６が設けら
れ、水素含有不活性カス若しくは空気の熱伝導度を抵抗
値として検出するようにされているのである。なお、こ
の時、水素ガスの分圧が大きい程、水素カス含有イく活
性カスの熱伝導度が高く、熱線型抵抗素子・４６はより
冷却されてその抵抗値が低くなるのであり、後述の非平
衡電流がより多く流されるのである。
、それぞれ拡散される気体（ガス）の熱伝導度の変化に
よって温度、即ち抵抗値が変化する白金等のワイヤから
なる熱線型演出素ｒ−（電気抵抗ワイヤ）４６が設けら
れ、水素含有不活性カス若しくは空気の熱伝導度を抵抗
値として検出するようにされているのである。なお、こ
の時、水素ガスの分圧が大きい程、水素カス含有イく活
性カスの熱伝導度が高く、熱線型抵抗素子・４６はより
冷却されてその抵抗値が低くなるのであり、後述の非平
衡電流がより多く流されるのである。
また、本実施例にあっては、上記熱線型検出素子４６は
、第２シール部材３６からセル容器３４内に向って延設
（垂下）された、アルミナ或はセラミックス等の非導電
性材料からなる中空パイプ（支持体）４８の下端部で曲
げられ、その−力が該パイプ４８内を通って、またその
他方が該パイプ４８の外側１ｎ１を−Ｌ方に向って巻き
（−Ｊけられて、共に第２シール部材３６内を貫通して
設けられた白金線ステム４６＋Ｌ、４６１）に接続され
、これらの白金線ステム４６ａ、４６ｂが更に後述のウ
ィーンブリッジ回路５０からの導！’Ｊ５ｔａ、５ｔｈ
並びに５ｊｅ、５１＋Ｉにそれぞれ接続されているので
ある。
、第２シール部材３６からセル容器３４内に向って延設
（垂下）された、アルミナ或はセラミックス等の非導電
性材料からなる中空パイプ（支持体）４８の下端部で曲
げられ、その−力が該パイプ４８内を通って、またその
他方が該パイプ４８の外側１ｎ１を−Ｌ方に向って巻き
（−Ｊけられて、共に第２シール部材３６内を貫通して
設けられた白金線ステム４６＋Ｌ、４６１）に接続され
、これらの白金線ステム４６ａ、４６ｂが更に後述のウ
ィーンブリッジ回路５０からの導！’Ｊ５ｔａ、５ｔｈ
並びに５ｊｅ、５１＋Ｉにそれぞれ接続されているので
ある。
このように、電気抵抗ワイヤ（４６）を支持体に巻きイ
］けて保持すれば、振動によって該電気抵抗ワイヤが中
間部で互に接触したり、セル壁に衝突したりして破損す
る等の問題を惹起する恐れがなくなり、寿命が長く且つ
検出値誤差の少ない測定セルが得られる利点がある。
］けて保持すれば、振動によって該電気抵抗ワイヤが中
間部で互に接触したり、セル壁に衝突したりして破損す
る等の問題を惹起する恐れがなくなり、寿命が長く且つ
検出値誤差の少ない測定セルが得られる利点がある。
−・方、各検出部２７．２７の真空室４０は、検出器ブ
ロック２６内でげに連通されており、予めそれら真空室
４０に連通されるパイプ５２に接続される図示しない真
空ポンプによって真空状態とされた後、図示しない真空
締付は具やろう付は等の公知の手段によって密封されて
いる。
ロック２６内でげに連通されており、予めそれら真空室
４０に連通されるパイプ５２に接続される図示しない真
空ポンプによって真空状態とされた後、図示しない真空
締付は具やろう付は等の公知の手段によって密封されて
いる。
かかる構造の水素ガス濃度検出器２４て各々抵抗値に変
換された水素含有不活性ガス及び空気の熱伝導度は、第
１図に示されるように、ウィーンブリッジ回路５０て比
較されて、それらの熱伝導度（抵抗値）の差に応した非
平衡電流として取り出され、この非平衡電流がウィーン
ブリッジ回路５０に接続された演算処理回路５４に送ら
れて、そこで所定の関係式によって演算・表示されるこ
とによって、測定した金属溶湯中の水素カス濃度（溶存
水素濃度）が即座に把握されるようになっている。なお
、５６は溶湯４中に浸された熱電対てあって、Ｊｌ記演
算処理回路５４に溶湯４の温度データを提供するもので
あり、また５８は前記ウィーンブリッジ回路５ｏ及び演
算処理回路５４に電流を供給する定電圧（定電流）電源
回路である。
換された水素含有不活性ガス及び空気の熱伝導度は、第
１図に示されるように、ウィーンブリッジ回路５０て比
較されて、それらの熱伝導度（抵抗値）の差に応した非
平衡電流として取り出され、この非平衡電流がウィーン
ブリッジ回路５０に接続された演算処理回路５４に送ら
れて、そこで所定の関係式によって演算・表示されるこ
とによって、測定した金属溶湯中の水素カス濃度（溶存
水素濃度）が即座に把握されるようになっている。なお
、５６は溶湯４中に浸された熱電対てあって、Ｊｌ記演
算処理回路５４に溶湯４の温度データを提供するもので
あり、また５８は前記ウィーンブリッジ回路５ｏ及び演
算処理回路５４に電流を供給する定電圧（定電流）電源
回路である。
また、第１図において、６ｏは不活性ガスボンベであっ
て、該ボンベから所定の不活性ガス、例えば窒素ガスな
とがチューブ６２を介して、水素ガス濃度検出器２４と
逆止弁２ｏとの間のチューブ１４部分に導入されるよう
になっている。なお、チューブ６２上に設けられたスト
ッパバルブ６４によって、該ボンベ６ｏがらの不活性ガ
スの供給が制御されるようになっているのである。
て、該ボンベから所定の不活性ガス、例えば窒素ガスな
とがチューブ６２を介して、水素ガス濃度検出器２４と
逆止弁２ｏとの間のチューブ１４部分に導入されるよう
になっている。なお、チューブ６２上に設けられたスト
ッパバルブ６４によって、該ボンベ６ｏがらの不活性ガ
スの供給が制御されるようになっているのである。
かかる構成の水素カス濃度測定装置によって金属溶湯４
中の水素濃度を測定する場合には、定電圧電源回路５８
を作動した状態でストッパバルブ６４を開き、ボンベ６
０内の不活性ガスを前記閉流路内に充填せしめた後、２
孔プローブ２を静かに溶湯４中に浸漬せしめ、その後ス
トツパバルブ６４を閉じて流路内への不活性ガスの供給
を停止する。この時、熱電対５６も溶湯４中に浸漬せし
め、演算処理回路５４の指示値がＯであることを確認す
る。指示値が０であることを確認した後、。
中の水素濃度を測定する場合には、定電圧電源回路５８
を作動した状態でストッパバルブ６４を開き、ボンベ６
０内の不活性ガスを前記閉流路内に充填せしめた後、２
孔プローブ２を静かに溶湯４中に浸漬せしめ、その後ス
トツパバルブ６４を閉じて流路内への不活性ガスの供給
を停止する。この時、熱電対５６も溶湯４中に浸漬せし
め、演算処理回路５４の指示値がＯであることを確認す
る。指示値が０であることを確認した後、。
モータ２２によってダイヤ７ラムボンプ１６を作動せし
め、不活性ガスを前記閉流路内で繰り返し循環・流通せ
しめる。そして、演算処理回路５４の指示値が安定した
ことを確かめ、その最終安定値を測定値として読み取る
のである。
め、不活性ガスを前記閉流路内で繰り返し循環・流通せ
しめる。そして、演算処理回路５４の指示値が安定した
ことを確かめ、その最終安定値を測定値として読み取る
のである。
以上説明したような本実施例によれば、測定セル３０の
周囲に設けた真空室４０によって、セル容器３４が外気
から断熱されるとともに、セル容器３４自体の熱容量が
効果的に小さくされているので、測定値が早く安定する
こととなり、以て測定時間が短縮されることとなったの
である。
周囲に設けた真空室４０によって、セル容器３４が外気
から断熱されるとともに、セル容器３４自体の熱容量が
効果的に小さくされているので、測定値が早く安定する
こととなり、以て測定時間が短縮されることとなったの
である。
因みに、本発明者らが実験した結果によれば、従来のテ
レガス装置による非平衡用カニψ（＋ｎＶ）の経時的な
変化の状硅は、第３図に１点鎖線で示され、−力木実施
例の水素ガス濃度測定装置による非平衡用カニψ（ｍ
Ｖ ）の経時的変化状態は、第３図に実線で示されるも
のであった。第３図の実験結果から明らかなように、従
来のテレカス装置にあっては、測定開始後（検出器並び
にその（＝Ｊ属回路の電源スィッチを投入後）２４分紅
過した時点ても、その指示値はいまだ安定しておらす、
−力木実施例装置にあっては、測定開始後約１０分て指
示値が安定（熱的平衡状態）となり、これによって、本
実施例に係る装置による金属溶湯中の水素ガス濃度の測
定時間が従来装置のそれに比べて極めて短縮されたこと
がオ）がる。
レガス装置による非平衡用カニψ（＋ｎＶ）の経時的な
変化の状硅は、第３図に１点鎖線で示され、−力木実施
例の水素ガス濃度測定装置による非平衡用カニψ（ｍ
Ｖ ）の経時的変化状態は、第３図に実線で示されるも
のであった。第３図の実験結果から明らかなように、従
来のテレカス装置にあっては、測定開始後（検出器並び
にその（＝Ｊ属回路の電源スィッチを投入後）２４分紅
過した時点ても、その指示値はいまだ安定しておらす、
−力木実施例装置にあっては、測定開始後約１０分て指
示値が安定（熱的平衡状態）となり、これによって、本
実施例に係る装置による金属溶湯中の水素ガス濃度の測
定時間が従来装置のそれに比べて極めて短縮されたこと
がオ）がる。
なお、上記非Ｓ（乙衡出カニψは、熱の輻射・対流が無
視できるものとして次式によって表わされる値である。
視できるものとして次式によって表わされる値である。
ここにおいて、■はウィーンブリッジ回路に供給される
直流電流、ｌ（、「は水素含有不活性ガス流入側の電気
抵抗ワイヤの抵抗値、（ｌは同じく電気抵抗ワイヤの：
滞電係数、（・１°は同じく電気抵抗ワイヤの温度、（
・（コは測定セルの内壁温度、δは測定セル内の下均温
度における不活性ガスのみの熱伝導度λｍに対する（水
素ガス流入による）熱伝導度の変化ｍΔλの比、ｒはＲ
［に対する空気流入側の電気抵抗ワイヤの抵抗値几の比
、Ｒｒは記Ｎｉｌの入力インピーダンスである。ただし
、２Ｉ１． ｒ ＞ １．１、ｆ −１−１，Ｌの関係
があるものとする。
直流電流、ｌ（、「は水素含有不活性ガス流入側の電気
抵抗ワイヤの抵抗値、（ｌは同じく電気抵抗ワイヤの：
滞電係数、（・１°は同じく電気抵抗ワイヤの温度、（
・（コは測定セルの内壁温度、δは測定セル内の下均温
度における不活性ガスのみの熱伝導度λｍに対する（水
素ガス流入による）熱伝導度の変化ｍΔλの比、ｒはＲ
［に対する空気流入側の電気抵抗ワイヤの抵抗値几の比
、Ｒｒは記Ｎｉｌの入力インピーダンスである。ただし
、２Ｉ１． ｒ ＞ １．１、ｆ −１−１，Ｌの関係
があるものとする。
また、本実施例では水素ガス濃度検出器２４を第２図に
示すような構成としたが、これに限ら゛れるものではな
く、第４図及び第５図に示されるような（Ｉη成のもの
であっても何等差支えない。
示すような構成としたが、これに限ら゛れるものではな
く、第４図及び第５図に示されるような（Ｉη成のもの
であっても何等差支えない。
すなわち、第４図に示される水素ガス濃度検出器６６の
測定セル６７は、第１シール部材６８に形成されたシリ
ンダ２８の内外を連通ずる通孔７０に、チューブ１４ａ
、１４ｂとチューブ７２ａ。
測定セル６７は、第１シール部材６８に形成されたシリ
ンダ２８の内外を連通ずる通孔７０に、チューブ１４ａ
、１４ｂとチューブ７２ａ。
７２１）が内外からそれぞれ気密に挿入・接着されると
ともに、チューブ７２２１．７２１＋の他端がセル容器
３４の下！７１Ｍ部においてカス拡散室３８にそれぞれ
接続された構成とされており、Ｍ拡散室３８の下部から
」一方に向って水素カスが拡散せしめられるようになっ
ているのである。なお、他の缶ζ分の構成は前記実施例
と同じであるため、同一の初号を符して詳細な説明は省
略する。
ともに、チューブ７２２１．７２１＋の他端がセル容器
３４の下！７１Ｍ部においてカス拡散室３８にそれぞれ
接続された構成とされており、Ｍ拡散室３８の下部から
」一方に向って水素カスが拡散せしめられるようになっ
ているのである。なお、他の缶ζ分の構成は前記実施例
と同じであるため、同一の初号を符して詳細な説明は省
略する。
また、第５図に示されるものにあっては、各測定セルフ
４は金属管７６を外商とするシリング２８内に収容され
ており、また各金属管７６は溶接によってパイプ５２に
直接取りイ」けられている。
４は金属管７６を外商とするシリング２８内に収容され
ており、また各金属管７６は溶接によってパイプ５２に
直接取りイ」けられている。
そして各チューブ１４）１．１４１１は、金属管７６の
側壁に設けられた穴及び第１シール部４：Ａ’ ７８に
形成された通孔８０を介してガス拡散室３８の−１一部
に接続されているのである。なお、中空パイプ４８はそ
の上端部が直接外部雰囲気中に突出されているが、その
内部空間は接着材等によって気密に保たれている。
側壁に設けられた穴及び第１シール部４：Ａ’ ７８に
形成された通孔８０を介してガス拡散室３８の−１一部
に接続されているのである。なお、中空パイプ４８はそ
の上端部が直接外部雰囲気中に突出されているが、その
内部空間は接着材等によって気密に保たれている。
この第５図に示されるような構成の水素ガス濃度検出器
８２は、金属管７６を直接シリンダ２８として使用でき
るのでコンパクトに構成することがｉげ能てあり、恒温
槽内に配置する場合により効果的である。
８２は、金属管７６を直接シリンダ２８として使用でき
るのでコンパクトに構成することがｉげ能てあり、恒温
槽内に配置する場合により効果的である。
なお、０１１例においては、本発明を何れも拡散式の水
素ガス濃度検出器に適１１４シた場合についてのみ説明
したが、半拡散式或は流通式の水素カス濃度検出器につ
いても本発明の適用が可能である。
素ガス濃度検出器に適１１４シた場合についてのみ説明
したが、半拡散式或は流通式の水素カス濃度検出器につ
いても本発明の適用が可能である。
その他、本発明に係る水素ガス製産測定装置にあっては
、特許３１７求の範囲に記載した本発明の趣旨を逸脱し
ない範囲内において、種々の変形・修正を施した態様で
実施することが可能である。例えば、演算処理回路５４
を使用せずに、従来通り測定した不下衡電流を検＠線で
照合して金属溶湯中の水素ガス濃度を算出するようにし
てもよりのであり、また、ダイヤフラムポンプ１６を駆
動するのに、モータ２２の代わりに不活性ガスを弁機構
で制御して駆動するようにしてもよいのである。
、特許３１７求の範囲に記載した本発明の趣旨を逸脱し
ない範囲内において、種々の変形・修正を施した態様で
実施することが可能である。例えば、演算処理回路５４
を使用せずに、従来通り測定した不下衡電流を検＠線で
照合して金属溶湯中の水素ガス濃度を算出するようにし
てもよりのであり、また、ダイヤフラムポンプ１６を駆
動するのに、モータ２２の代わりに不活性ガスを弁機構
で制御して駆動するようにしてもよいのである。
第１図は本発明に係る水素ガス濃度測定装置の一実施例
を示す系統図であり、第２図はその装置に使用される水
素ガス濃度検出器の−・例を示す要部断面図である。 第３図は第２図に示される水素ガス濃度検出器並びに従
来のテレガス装置を用いて金属溶湯中の水素ガスを測定
した場合の実験結果を非ゝ１を所出カニψの経時的な変
化状態として示すものである。 第４図並びに第５図は、それぞれ本発明装置に使用され
る水素ガス濃度検出器の別の例を示す要部断面図である
。 ２：２孔プローブ ４：金属溶湯 １６：ダイヤフラムポンプ ２２：モータ ２４．６６°、８２：水素カス濃度検出器２６：検出器
ブロック ２７：検出ぽ；÷２８ニジリンダ ８０．６７．７４：測定セル ３２．６８．７８：第１シール部材 ３４：セル容器 ３６：第２シール部利３８：カ
ス拡散室 ４０：真空室 ４６：熱線型検出素子 ４８：中空パイプ５０：ウィー
ンブリッジ回路 ５４：演算処理回路 ５６：熱電対 ７６：金属管 １．１ ！ Ｗ１！口人 １．１：友１県金属−［業
株式会社第１図 一一峙Ｐ、ＦＪ （分） 第１頁の続き ０発 明 者 犬丸晋 名古屋市港区千年三丁目１番１２ 号住友軽金属工業株式会社技術 研究所内 ０発 明 者 吉田政博 名古屋市港区千年三丁目１番１２ 号住友軽金属工業株式会社技術 研究所内 手続？ｆｌｉ ＋ｌ・ＦＦ（自発） 昭和１５７年９月Ｑ４） 日 特許庁長官 若杉 和犬 殿 ２、発明の名称 金１．バ１８湯中の水素ガス濃度測定装置３ 、補１１
をする者 事件との関係 特許出願人 名称 （２２７）住友軽金属工業株式会社４、代理人
←４５０ 住 所 名占ｊ≠市中村区名駅三Ｉ目１４番１６号東洋
ビル （１，１明細書の発明の詳細な説明の欄（２） 明細
書の図面の簡単な説明の欄（３）図面 ６、輔１Ｆの内容 ＋１１ 明細書第１３Ｉ第１９〜２０行、同第１４自
。 １７〜１８行、同第１４８．第２０行、同第１５ｐ第７
〜８打及び同第１７１第２（）行の１ウイ一ンブリツジ
回路１をそれぞれ１ホイ一トストンブリツジ回路」に訂
正する。 （２）同 第１９良第１５〜１８行の１なお、・・・・
保たれている。」を−ト記の如く訂正する。 記 ［なお、中空パイプ４８はその上端部が栓部材で塞がれ
て、その内部空間が外部雰囲気に対して気密に保たれζ
いる。」 （３）同 第２０８第７行と第８行との間に改行し７て
一ト記の文を挿入する。 記 ｌまた、前記実施例においては、比較の基準とされる測
定セル側は全て大気に開放されていたが、もちろんこれ
に限られるものではなく、人気の代りに水素ガス濃度測
定用の不活性ガスと同じ不活性ガスが水素濃度測定用の
閉回路流路とは別の閉回路流路によって測定セル内に供
給されるようになってい“（もよいのである。要するに
基準用の測定セル側には水素ガス濃度測定用の不活性ガ
スと同じ熱伝導度を有する気体が供給されればよく、こ
れによって基準となる熱伝導度が検出されるようになっ
ていればよいのである。、１ （４）同 第２２良第１行の［゛ウィーン１９フ９回路
１を１ホイ一トストンブリツジ回路」に訂正する。 （５）図面中、第１図を別紙の如く訂正する。 以上
を示す系統図であり、第２図はその装置に使用される水
素ガス濃度検出器の−・例を示す要部断面図である。 第３図は第２図に示される水素ガス濃度検出器並びに従
来のテレガス装置を用いて金属溶湯中の水素ガスを測定
した場合の実験結果を非ゝ１を所出カニψの経時的な変
化状態として示すものである。 第４図並びに第５図は、それぞれ本発明装置に使用され
る水素ガス濃度検出器の別の例を示す要部断面図である
。 ２：２孔プローブ ４：金属溶湯 １６：ダイヤフラムポンプ ２２：モータ ２４．６６°、８２：水素カス濃度検出器２６：検出器
ブロック ２７：検出ぽ；÷２８ニジリンダ ８０．６７．７４：測定セル ３２．６８．７８：第１シール部材 ３４：セル容器 ３６：第２シール部利３８：カ
ス拡散室 ４０：真空室 ４６：熱線型検出素子 ４８：中空パイプ５０：ウィー
ンブリッジ回路 ５４：演算処理回路 ５６：熱電対 ７６：金属管 １．１ ！ Ｗ１！口人 １．１：友１県金属−［業
株式会社第１図 一一峙Ｐ、ＦＪ （分） 第１頁の続き ０発 明 者 犬丸晋 名古屋市港区千年三丁目１番１２ 号住友軽金属工業株式会社技術 研究所内 ０発 明 者 吉田政博 名古屋市港区千年三丁目１番１２ 号住友軽金属工業株式会社技術 研究所内 手続？ｆｌｉ ＋ｌ・ＦＦ（自発） 昭和１５７年９月Ｑ４） 日 特許庁長官 若杉 和犬 殿 ２、発明の名称 金１．バ１８湯中の水素ガス濃度測定装置３ 、補１１
をする者 事件との関係 特許出願人 名称 （２２７）住友軽金属工業株式会社４、代理人
←４５０ 住 所 名占ｊ≠市中村区名駅三Ｉ目１４番１６号東洋
ビル （１，１明細書の発明の詳細な説明の欄（２） 明細
書の図面の簡単な説明の欄（３）図面 ６、輔１Ｆの内容 ＋１１ 明細書第１３Ｉ第１９〜２０行、同第１４自
。 １７〜１８行、同第１４８．第２０行、同第１５ｐ第７
〜８打及び同第１７１第２（）行の１ウイ一ンブリツジ
回路１をそれぞれ１ホイ一トストンブリツジ回路」に訂
正する。 （２）同 第１９良第１５〜１８行の１なお、・・・・
保たれている。」を−ト記の如く訂正する。 記 ［なお、中空パイプ４８はその上端部が栓部材で塞がれ
て、その内部空間が外部雰囲気に対して気密に保たれζ
いる。」 （３）同 第２０８第７行と第８行との間に改行し７て
一ト記の文を挿入する。 記 ｌまた、前記実施例においては、比較の基準とされる測
定セル側は全て大気に開放されていたが、もちろんこれ
に限られるものではなく、人気の代りに水素ガス濃度測
定用の不活性ガスと同じ不活性ガスが水素濃度測定用の
閉回路流路とは別の閉回路流路によって測定セル内に供
給されるようになってい“（もよいのである。要するに
基準用の測定セル側には水素ガス濃度測定用の不活性ガ
スと同じ熱伝導度を有する気体が供給されればよく、こ
れによって基準となる熱伝導度が検出されるようになっ
ていればよいのである。、１ （４）同 第２２良第１行の［゛ウィーン１９フ９回路
１を１ホイ一トストンブリツジ回路」に訂正する。 （５）図面中、第１図を別紙の如く訂正する。 以上
Claims (4)
- （１） 金属溶湯中に浸漬され、循環せしめられる不
活性ガスと金属溶湯との接触を〒ｊ゛なう浸漬ヘッドと
；該浸漬ヘッドに接続された、閉回路を構成する不活性
ガス流路を有し、該流路を通して不活性ガスを繰り返し
該浸漬ヘットに循環、流通せしめる不活性カス循環機構
と、前記不活性ガス流路」二に設けられ、該流路内を流
通せしめられる不活性カス中に含まれる水素カス濃度に
応して変化する電気抵抗を検出する検出手段とを；含む
水素ガス濃度７１１ＩＪ定装；６において、該検出手段
が、前記不活性ガス流路に接続された、循環せしめられ
る水素含有不活性カスにさらされる電気抵抗ワイヤを収
容したｉｌ！！Ｉ定セルを佇すると共に、かかる測定セ
ルの周囲に、それを取り巻くように真空層が設けられて
いることを特徴とする金属溶湯中の水素カス濃度測定装
置。 - （２）前記電気抵抗ワイヤが、前記測定セル内に挿入さ
れた支持体に巻き（＝Ｊけられて保持されている特許請
求の範囲第１項記載の装置。 - （３）前記測定セルが所定のブロックに設けられた孔に
装着され、そして鎖孔に接続された真空手段の真空作用
によって、前記真空層が、鎖孔の内壁面と該測定セル外
側面との間に形成される特許請求の範囲第１項または第
２項記載の装ＦＣ６ - （４）前記測定セルが二重筒構造の内筒部材を構成し、
該内筒部ｔＡとその外側に位置する外筒部材との間の空
間が前記真空層とされた特許請求の範囲第１項または第
２項記載の装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57122386A JPS5912348A (ja) | 1982-07-14 | 1982-07-14 | 金属溶湯中の水素ガス濃度測定装置 |
| GB08300562A GB2123957B (en) | 1982-07-14 | 1983-01-10 | Apparatus for measuring the content of hydrogen dissolved in a molten metal |
| DE3303122A DE3303122C2 (de) | 1982-07-14 | 1983-01-31 | Vorrichtung zum Messen des Gehaltes von in geschmolzenem Metall gelöstem Wasserstoff |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57122386A JPS5912348A (ja) | 1982-07-14 | 1982-07-14 | 金属溶湯中の水素ガス濃度測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5912348A true JPS5912348A (ja) | 1984-01-23 |
| JPH0237984B2 JPH0237984B2 (ja) | 1990-08-28 |
Family
ID=14834513
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57122386A Granted JPS5912348A (ja) | 1982-07-14 | 1982-07-14 | 金属溶湯中の水素ガス濃度測定装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5912348A (ja) |
| DE (1) | DE3303122C2 (ja) |
| GB (1) | GB2123957B (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61250556A (ja) * | 1985-04-30 | 1986-11-07 | Nippon Kokan Kk <Nkk> | 溶鋼中のｃ，ｓ，ｎ，ｈの定量分析用プロ−ブ |
| JPS61292055A (ja) * | 1985-06-19 | 1986-12-22 | Nippon Kokan Kk <Nkk> | 溶鋼の迅速分析方法 |
| JPS6262965U (ja) * | 1985-10-11 | 1987-04-18 | ||
| JPH0271151A (ja) * | 1988-09-07 | 1990-03-09 | Sumitomo Light Metal Ind Ltd | 金属溶湯中の水素濃度測定装置 |
| JPH02154140A (ja) * | 1988-01-04 | 1990-06-13 | Aluminum Co Of America <Alcoa> | ガス測定装置およびその方法 |
| JPH02218958A (ja) * | 1988-11-17 | 1990-08-31 | Alcan Internatl Ltd | 溶融金属及び金属マトリツクス複合体中のガス濃度を定量するための方法ならびに装置 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6256849A (ja) * | 1985-09-06 | 1987-03-12 | Snow Brand Milk Prod Co Ltd | 通電加熱法に用いられるセンサ− |
| BE1000413A3 (nl) * | 1987-03-18 | 1988-11-22 | Electro Nite | Inrichting voor het meten van een gasgehalte van vloeibaar metaal en daarbij gebruikte sonde. |
| BR8806242A (pt) * | 1987-03-18 | 1989-10-31 | Electro Nite | Aparelho e metodo para a medicao do teor de gas em metal liquido e sonda usada no mesmo |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB821821A (en) * | 1954-08-10 | 1959-10-14 | British Aluminium Co Ltd | Improvements in the determination of the gas content of liquid metals |
-
1982
- 1982-07-14 JP JP57122386A patent/JPS5912348A/ja active Granted
-
1983
- 1983-01-10 GB GB08300562A patent/GB2123957B/en not_active Expired
- 1983-01-31 DE DE3303122A patent/DE3303122C2/de not_active Expired
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61250556A (ja) * | 1985-04-30 | 1986-11-07 | Nippon Kokan Kk <Nkk> | 溶鋼中のｃ，ｓ，ｎ，ｈの定量分析用プロ−ブ |
| JPS61292055A (ja) * | 1985-06-19 | 1986-12-22 | Nippon Kokan Kk <Nkk> | 溶鋼の迅速分析方法 |
| JPH0546501B2 (ja) * | 1985-06-19 | 1993-07-14 | Nippon Kokan Kk | |
| JPS6262965U (ja) * | 1985-10-11 | 1987-04-18 | ||
| JPH02154140A (ja) * | 1988-01-04 | 1990-06-13 | Aluminum Co Of America <Alcoa> | ガス測定装置およびその方法 |
| JPH0271151A (ja) * | 1988-09-07 | 1990-03-09 | Sumitomo Light Metal Ind Ltd | 金属溶湯中の水素濃度測定装置 |
| JPH02218958A (ja) * | 1988-11-17 | 1990-08-31 | Alcan Internatl Ltd | 溶融金属及び金属マトリツクス複合体中のガス濃度を定量するための方法ならびに装置 |
Also Published As
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