JPS59121933A - レチクル・パタ−ン拡大像作成装置 - Google Patents
レチクル・パタ−ン拡大像作成装置Info
- Publication number
- JPS59121933A JPS59121933A JP57228997A JP22899782A JPS59121933A JP S59121933 A JPS59121933 A JP S59121933A JP 57228997 A JP57228997 A JP 57228997A JP 22899782 A JP22899782 A JP 22899782A JP S59121933 A JPS59121933 A JP S59121933A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reticle
- pattern
- image
- light
- reticle pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
- G03F1/84—Inspecting
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はレチクル・パターン拡大像作成装置に関する。
一般に半導体集積回路の製造工程での被処理媒体例えば
半導体ウェハ上のホトレジスト膜を選択露光するために
用いられるホトマスクは、最終製品の５倍乃至２０倍の
レチクル・パターンをパターン・ジェネレータ等により
作り、さらにステップ・アンド・リピート・カメラによ
り最終倍率に縮少配列して製作される。ここで、前記レ
チクル・パターンは、製造工程における塵埃の影響や機
器装置の誤動作、パターン設計ミス等により、パターン
異常が発生することがある。このような場合、前記パタ
ーン異常を検査する従来の方法では、レチクルパターン
を大型カメラにより最終製品の１００倍乃至２００倍の
拡大写真を製作しチェックしている。しかしながら、こ
のような方法では。
半導体ウェハ上のホトレジスト膜を選択露光するために
用いられるホトマスクは、最終製品の５倍乃至２０倍の
レチクル・パターンをパターン・ジェネレータ等により
作り、さらにステップ・アンド・リピート・カメラによ
り最終倍率に縮少配列して製作される。ここで、前記レ
チクル・パターンは、製造工程における塵埃の影響や機
器装置の誤動作、パターン設計ミス等により、パターン
異常が発生することがある。このような場合、前記パタ
ーン異常を検査する従来の方法では、レチクルパターン
を大型カメラにより最終製品の１００倍乃至２００倍の
拡大写真を製作しチェックしている。しかしながら、こ
のような方法では。
大型カメラを設置するために膨大な床面積を必要とし、
才た使用するレンズにより拡大倍率やチッ゛ブサイズに
制限をうける等の不都合が生じる。
才た使用するレンズにより拡大倍率やチッ゛ブサイズに
制限をうける等の不都合が生じる。
本発明の目的は、前記従来技術の欠点を解決したレチク
ル・パターン拡大像作成装置を提供することにある。
ル・パターン拡大像作成装置を提供することにある。
本発明は、レチクル・パターンを走査しながらこれに光
を照射する手段と、このレチクル・パターンを透過した
光を電気信号に変換する手段と、この電気信号を任意の
大きさで画像に変換して出力する手段とを備えているこ
とを特徴とするレチクル・パターン拡大像作成装置にあ
る。
を照射する手段と、このレチクル・パターンを透過した
光を電気信号に変換する手段と、この電気信号を任意の
大きさで画像に変換して出力する手段とを備えているこ
とを特徴とするレチクル・パターン拡大像作成装置にあ
る。
以下に図面を用いて本発明の詳細な説明する。
第１図は本発明の実施例のレチクル・パターン拡大像作
成装置を示す説明図である。同図において、光源１から
の照射光５は、スキャニング・ミラー９により走査され
ながら、レチクル２に照射される。このレチクル２の透
過光６は、このレチクル２のパターンのの明暗に応じた
光信号として凸レンズ３を経て、受光器４に受光される
。この受光器４からの電気出力信号８は、レチクル２の
パターンに応じた出力信号となる。さらに、この電気出
力信号８を画像変換装置７において１画像゛ に変換し
て、レチクル２のパターンと相似な画像を得ることが出
来る。ここで、画像変換装置７として、静電式プロッタ
ー装置等を用いれば、容易にレチクル・パターンの拡大
像を任意の大きさで製作できる。
成装置を示す説明図である。同図において、光源１から
の照射光５は、スキャニング・ミラー９により走査され
ながら、レチクル２に照射される。このレチクル２の透
過光６は、このレチクル２のパターンのの明暗に応じた
光信号として凸レンズ３を経て、受光器４に受光される
。この受光器４からの電気出力信号８は、レチクル２の
パターンに応じた出力信号となる。さらに、この電気出
力信号８を画像変換装置７において１画像゛ に変換し
て、レチクル２のパターンと相似な画像を得ることが出
来る。ここで、画像変換装置７として、静電式プロッタ
ー装置等を用いれば、容易にレチクル・パターンの拡大
像を任意の大きさで製作できる。
以上の様に、本発明によれば、レチクル・パターンの拡
大像を製作するにあたって膨大な床面積を必要とするこ
となく任意の大きさでレチクル拡大像を製作できるとい
う効果が得られる。
大像を製作するにあたって膨大な床面積を必要とするこ
となく任意の大きさでレチクル拡大像を製作できるとい
う効果が得られる。
第１図は本発明の実施例のレチクル・パターン拡大像作
成装置を示す説明図である。 同図において、１・・・・・・光源、２・・・・・・レ
チクル、３・・・・・・凸レンズ、４・・・・・・受光
器、５・・・・・・照射光、６・・・・・・透過光、７
・・・・・・画像変換装置、８・・・・・・電気出力信
号、９・・・・・・スキャニング・ミラー。
成装置を示す説明図である。 同図において、１・・・・・・光源、２・・・・・・レ
チクル、３・・・・・・凸レンズ、４・・・・・・受光
器、５・・・・・・照射光、６・・・・・・透過光、７
・・・・・・画像変換装置、８・・・・・・電気出力信
号、９・・・・・・スキャニング・ミラー。
Claims (1)
- レチクル・パターンを走査しながら前記レチクル・パタ
ーンに光を照射する手段と、前記レチクル・パターンを
透過した前記光を電気信号に変換する手段と、前記電気
信号を所定の倍率で画像に変換して出力する手段とを備
えていることを特徴とするレチクル・パターン拡大像作
成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57228997A JPS59121933A (ja) | 1982-12-28 | 1982-12-28 | レチクル・パタ−ン拡大像作成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57228997A JPS59121933A (ja) | 1982-12-28 | 1982-12-28 | レチクル・パタ−ン拡大像作成装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59121933A true JPS59121933A (ja) | 1984-07-14 |
Family
ID=16885137
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57228997A Pending JPS59121933A (ja) | 1982-12-28 | 1982-12-28 | レチクル・パタ−ン拡大像作成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59121933A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2681956A1 (fr) * | 1991-09-30 | 1993-04-02 | Agfa Gevaert Ag | Procede et dispositif d'exposition et d'exploration de films. |
-
1982
- 1982-12-28 JP JP57228997A patent/JPS59121933A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2681956A1 (fr) * | 1991-09-30 | 1993-04-02 | Agfa Gevaert Ag | Procede et dispositif d'exposition et d'exploration de films. |
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