JPS59116263A - １３―シス―レチノン酸の製造方法 - Google Patents
１３―シス―レチノン酸の製造方法Info
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- JPS59116263A JPS59116263A JP58231628A JP23162883A JPS59116263A JP S59116263 A JPS59116263 A JP S59116263A JP 58231628 A JP58231628 A JP 58231628A JP 23162883 A JP23162883 A JP 23162883A JP S59116263 A JPS59116263 A JP S59116263A
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C403/00—Derivatives of cyclohexane or of a cyclohexene or of cyclohexadiene, having a side-chain containing an acyclic unsaturated part of at least four carbon atoms, this part being directly attached to the cyclohexane or cyclohexene or cyclohexadiene rings, e.g. vitamin A, beta-carotene, beta-ionone
- C07C403/20—Derivatives of cyclohexane or of a cyclohexene or of cyclohexadiene, having a side-chain containing an acyclic unsaturated part of at least four carbon atoms, this part being directly attached to the cyclohexane or cyclohexene or cyclohexadiene rings, e.g. vitamin A, beta-carotene, beta-ionone having side-chains substituted by carboxyl groups or halides, anhydrides, or (thio)esters thereof
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
１３−シスーレチ／ン酸（１３−シス−ビタミンＡ酸）
は、枠癒の処置におけるその用途のために、価値ある楽
剤である。しかしながら、この異性体は製造することが
極めて困難である。パテンデン（Ｐａｔｔｅｎ、ｃｌｅ
ｎ）及びウィルトン（ＩＩ”ｅｅｃｉｏｎ）は、Ｊ、Ｃ
ｈ、ｅｍ、 、Ｓｏｃ、 （（？）、 １９８４〜ｌ
０９７し１９６８）において、〔３−メヂルー５−（
２゜６．６−）リフチル−１−シクロヘキセ／−１−イ
ル）−２，４−ペンタジェニル〕−１−！Ｊフェニルホ
スホニウム塩及び５−ヒドロキシ−４−メチル−２（５
Ｈ） −フラノンを反応させてレチノン酸のシス異性
体の混合物を生成させることによる１３−シスーレチノ
ン酸を製造する方法をｍＪらかにしている。この方法は
レチ／ン酸のシス異性体７１♀合物の収量が乏しいとい
う欠点を肩している。
は、枠癒の処置におけるその用途のために、価値ある楽
剤である。しかしながら、この異性体は製造することが
極めて困難である。パテンデン（Ｐａｔｔｅｎ、ｃｌｅ
ｎ）及びウィルトン（ＩＩ”ｅｅｃｉｏｎ）は、Ｊ、Ｃ
ｈ、ｅｍ、 、Ｓｏｃ、 （（？）、 １９８４〜ｌ
０９７し１９６８）において、〔３−メヂルー５−（
２゜６．６−）リフチル−１−シクロヘキセ／−１−イ
ル）−２，４−ペンタジェニル〕−１−！Ｊフェニルホ
スホニウム塩及び５−ヒドロキシ−４−メチル−２（５
Ｈ） −フラノンを反応させてレチノン酸のシス異性
体の混合物を生成させることによる１３−シスーレチノ
ン酸を製造する方法をｍＪらかにしている。この方法は
レチ／ン酸のシス異性体７１♀合物の収量が乏しいとい
う欠点を肩している。
更に、この異性体混合物を異性化によって摘−異的に異
性体１３−シスーレテ、ノン酸に転化することが困難で
ある。このことは上記方法で製造した異性体が１１−及
び１３−位置の双方に関してシス立体配置を含むために
、特に困難である。１３−シス二重結合を異性化するこ
となく１１−シス二重結合をＲ４−的に異性化すること
は極めて困難である。用いた多くの異性化技術は、１３
−：シス二重結合に影響を及ぼすことなく１１−シス二
重結合の選択的異性化において比較的に有効でない。
性体１３−シスーレテ、ノン酸に転化することが困難で
ある。このことは上記方法で製造した異性体が１１−及
び１３−位置の双方に関してシス立体配置を含むために
、特に困難である。１３−シス二重結合を異性化するこ
となく１１−シス二重結合をＲ４−的に異性化すること
は極めて困難である。用いた多くの異性化技術は、１３
−：シス二重結合に影響を及ぼすことなく１１−シス二
重結合の選択的異性化において比較的に有効でない。
１３−シス二重結合のいずれの異性化も１３−シスビタ
ミンＡ酸の収率を減少させる。
ミンＡ酸の収率を減少させる。
従って、オＷ々のシス異性体を高収率でビツテイヒ （
Ｗｉｔｔｉｇ）反応によって製造し、そしてこのシス異
性体を１３−シス二重結合に影響を及ぼすことなく選択
的に異性化して、高収率及び純粋な状態でレチノン酸の
１３−シス異性体を得る方法を提供することが重重れて
いる。
Ｗｉｔｔｉｇ）反応によって製造し、そしてこのシス異
性体を１３−シス二重結合に影響を及ぼすことなく選択
的に異性化して、高収率及び純粋な状態でレチノン酸の
１３−シス異性体を得る方法を提供することが重重れて
いる。
本発明に従えば、１３−シスーレテノン酸はａ）５−
ヒドロキシ−４−メーｙ−ｉレ−２（５、Ｚ／）−フラ
ノンを低級アルカノール溶媒中でアルカリ金属水酸化物
の存在下において−１０〜−５０°Ｃの温度で式 式中、ｌイ１、Ｒ２及びＲ３はアリールまたはジ（低級
アルキル）アミンであり、そしてＸはハロケ゛ンである
、 の塩と反応させ；そして ｂ）山機的媒媒質中の工程ａ）の反応生成物を触媒と接
触させ、該触媒はパラジウムもしくはロヅワムフタロシ
アニン以外の或いはシアナイドイオンを含むパラジウム
もしくはロジウム化合物以外のロジウム捷たは・（′ラ
ジウム化合物または錯体でるることによって装造し得る
ことが見い出された。
ヒドロキシ−４−メーｙ−ｉレ−２（５、Ｚ／）−フラ
ノンを低級アルカノール溶媒中でアルカリ金属水酸化物
の存在下において−１０〜−５０°Ｃの温度で式 式中、ｌイ１、Ｒ２及びＲ３はアリールまたはジ（低級
アルキル）アミンであり、そしてＸはハロケ゛ンである
、 の塩と反応させ；そして ｂ）山機的媒媒質中の工程ａ）の反応生成物を触媒と接
触させ、該触媒はパラジウムもしくはロヅワムフタロシ
アニン以外の或いはシアナイドイオンを含むパラジウム
もしくはロジウム化合物以外のロジウム捷たは・（′ラ
ジウム化合物または錯体でるることによって装造し得る
ことが見い出された。
本発明の一観点においては、ブテノリド、５−ヒドロキ
シ−４−メチル−２（５Ｂ）−７ラノンを式ｌのビツテ
イヒ塩と反応させて１３−シスーレチノン酸及び１１．
１３−ジーシスーレチノン酸を含有するり合物を生成さ
せる。この反応はビツテイヒ反応条件を用いて行われる
。式■の化合物は普通のビソテイヒ塩であるが、一般に
式Ｉの化合物はトリノエニルホスホニウムクロライド塩
でおることが好ましい。
シ−４−メチル−２（５Ｂ）−７ラノンを式ｌのビツテ
イヒ塩と反応させて１３−シスーレチノン酸及び１１．
１３−ジーシスーレチノン酸を含有するり合物を生成さ
せる。この反応はビツテイヒ反応条件を用いて行われる
。式■の化合物は普通のビソテイヒ塩であるが、一般に
式Ｉの化合物はトリノエニルホスホニウムクロライド塩
でおることが好ましい。
１３−シスーレチノン酸を製造するための次の工程にお
いて、単離した或いは１３−シスーレチノン酸との混合
物における１１ 、］ ］３−ジーンスーレチノンが９
０係以上の収率で１３−シスーレチノン酸に転化される
。この異性化に用いるために好ましい触媒は、硝酸パラ
ジウムをトリ（低級アルキル）またはアリールホスフィ
ン及びトリ（低級アルキル）アミンと反応させることに
より生成する・々ラジウム化合物である。この好ましい
触媒の使用により、異性化が行われ、再循環を必要とぞ
ずに高収率でほとんど即時に１３−シスーレチノン酸が
生成する。
いて、単離した或いは１３−シスーレチノン酸との混合
物における１１ 、］ ］３−ジーンスーレチノンが９
０係以上の収率で１３−シスーレチノン酸に転化される
。この異性化に用いるために好ましい触媒は、硝酸パラ
ジウムをトリ（低級アルキル）またはアリールホスフィ
ン及びトリ（低級アルキル）アミンと反応させることに
より生成する・々ラジウム化合物である。この好ましい
触媒の使用により、異性化が行われ、再循環を必要とぞ
ずに高収率でほとんど即時に１３−シスーレチノン酸が
生成する。
更に、ビソテイヒ反応を−１０〜−５０℃、好ましくは
−２０〜−５０℃の温度、省に好捷しくは−３０〜−４
５℃の温度で行なう場合、１３−シス及び１１．１３−
ソーシスの混合物が少なくとも９０％及びそれ以上の収
率で生成することがわかった。更に、この温度の使用は
１３−シスまたは１１．１３−ソーシスーレテノン酸以
外のレチノン酸の異性体の生成を防止する。
−２０〜−５０℃の温度、省に好捷しくは−３０〜−４
５℃の温度で行なう場合、１３−シス及び１１．１３−
ソーシスの混合物が少なくとも９０％及びそれ以上の収
率で生成することがわかった。更に、この温度の使用は
１３−シスまたは１１．１３−ソーシスーレテノン酸以
外のレチノン酸の異性体の生成を防止する。
本反応を行う除に、一般に塩基及び不活性ンｈ機ｍ媒が
用いられる。崩機溶媒はビツテイヒ反応を行う際に用い
る低温で固化しないものであるように選ばれる。従って
、特定の不活性溶媒の選沢はビツテイヒ反応を行うため
に用いる温度に依存する。好ましい溶媒はなかでも低級
アルカノール溶媒、例えはインプロパツール、エタノー
ル、メタノールであり、インプロパツールが特に好まし
い。
用いられる。崩機溶媒はビツテイヒ反応を行う際に用い
る低温で固化しないものであるように選ばれる。従って
、特定の不活性溶媒の選沢はビツテイヒ反応を行うため
に用いる温度に依存する。好ましい溶媒はなかでも低級
アルカノール溶媒、例えはインプロパツール、エタノー
ル、メタノールであり、インプロパツールが特に好まし
い。
本発明に従えば、好ましい塩基はアルカリ金属水酸化物
、例えば水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リ
チウムである。収率及び生成物の品質に関して最良の結
果を得るためには、水酸化カリウム及びインゾロ・ぐノ
ールを用いることが好ましい。本反応を行う際に、一般
に不活性雰囲気、例えば豐素を用いることが好捷しい。
、例えば水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リ
チウムである。収率及び生成物の品質に関して最良の結
果を得るためには、水酸化カリウム及びインゾロ・ぐノ
ールを用いることが好ましい。本反応を行う際に、一般
に不活性雰囲気、例えば豐素を用いることが好捷しい。
本発明に従えば、工程ａ）の反応は１３−シス及び１１
．１３−ジ−シス異性体を生成する。必要に応じて、こ
の混合物を次の工程において、この混合物から１１．１
３−ジ−シス異性体型を単離せずに、異性化によって直
接１３−シス異性体に転化することができる。一方、必
要に応じてこの混合物から１１．１３−ソーシス異性体
を単離し、そして１３−シス異性体に転化すると、とが
できる。この混合物を分離したい場合、普通の異性体分
離法を用いることができる。好ましい方法はなかでも分
別結晶化である。
．１３−ジ−シス異性体を生成する。必要に応じて、こ
の混合物を次の工程において、この混合物から１１．１
３−ジ−シス異性体型を単離せずに、異性化によって直
接１３−シス異性体に転化することができる。一方、必
要に応じてこの混合物から１１．１３−ソーシス異性体
を単離し、そして１３−シス異性体に転化すると、とが
できる。この混合物を分離したい場合、普通の異性体分
離法を用いることができる。好ましい方法はなかでも分
別結晶化である。
一般にビツテイヒ反応は１１．１３−ジーシスーレチノ
ン酸約７０〜約９０％及び１３−シス異性体約１０〜約
３０％を含イ」“する混合物を生成する。更に、低温、
即ち一２０℃以下、好甘しくけ−３０℃〜−５０℃の温
度を用いることにより、出発物質として用いるブテノリ
ドを基準にして、少なくとも９０係の敗軍でレチノン酸
の混合物が得られる。
ン酸約７０〜約９０％及び１３−シス異性体約１０〜約
３０％を含イ」“する混合物を生成する。更に、低温、
即ち一２０℃以下、好甘しくけ−３０℃〜−５０℃の温
度を用いることにより、出発物質として用いるブテノリ
ドを基準にして、少なくとも９０係の敗軍でレチノン酸
の混合物が得られる。
本発明の方法の次の工程において、１１．１３−ジーシ
スーレチノン酸または１１．１３−ジーシス及び１３−
シス異性体を含有する混合物を純粋１１３−シス異性体
に異性化することができる。
スーレチノン酸または１１．１３−ジーシス及び１３−
シス異性体を含有する混合物を純粋１１３−シス異性体
に異性化することができる。
この異性化は不活性溶媒中にて触媒として・ξラジウム
またはロジウムの化合物または錯体を用いて行われ、そ
の際、該触媒はパラジウムもしくはロジウムフタロシア
ニン以外、或いはシアナイドイオンを弔する化合物また
は錯体以外のものである。
またはロジウムの化合物または錯体を用いて行われ、そ
の際、該触媒はパラジウムもしくはロジウムフタロシア
ニン以外、或いはシアナイドイオンを弔する化合物また
は錯体以外のものである。
一般にこの反応は１０℃〜１５０℃の温度で行われ、４
０℃〜６５℃の温度が好ましく、そして４５℃〜５５℃
の温度が特に好ましい。
０℃〜６５℃の温度が好ましく、そして４５℃〜５５℃
の温度が特に好ましい。
本発明に従えは、これらの触媒は１３−シス二重結合に
影響を与えることなく、ｌｌ−シス二重結合を対応する
トランス二重結合に選択的に異性化することを見出した
。ロジウムまたはパラジウムの化合物または錯体の成る
ものは高収率で１３−シス化合物を生成するが、これら
が１１−シス二重結合のみを選択的に異性化する事実は
極めて重要である。かかる場合には、未転化の１１．１
３−シス化合物を再循環させ、この化合物を再び異性化
に付すことによム収率を改善することができる。触媒が
１３−シス二重結合を成る量で１３−トランス二重結合
に異性化する場合、収量の損失がある。これは１３−ト
ランス二重結合を容易に異性化できないためである。更
に、これらの触媒が１３−シス結合に影響を及ぼさぬこ
とは、ビツテイヒ反応の反応生成物から１３−シス異性
体を単離することを必要とすることなく、異性化を起こ
させることができる。この方法で、異性化反［６の反応
生成物金繰り返し触媒的異性化反応に付し、１３−シス
異性体を単離することなく収率か改善される。
影響を与えることなく、ｌｌ−シス二重結合を対応する
トランス二重結合に選択的に異性化することを見出した
。ロジウムまたはパラジウムの化合物または錯体の成る
ものは高収率で１３−シス化合物を生成するが、これら
が１１−シス二重結合のみを選択的に異性化する事実は
極めて重要である。かかる場合には、未転化の１１．１
３−シス化合物を再循環させ、この化合物を再び異性化
に付すことによム収率を改善することができる。触媒が
１３−シス二重結合を成る量で１３−トランス二重結合
に異性化する場合、収量の損失がある。これは１３−ト
ランス二重結合を容易に異性化できないためである。更
に、これらの触媒が１３−シス結合に影響を及ぼさぬこ
とは、ビツテイヒ反応の反応生成物から１３−シス異性
体を単離することを必要とすることなく、異性化を起こ
させることができる。この方法で、異性化反［６の反応
生成物金繰り返し触媒的異性化反応に付し、１３−シス
異性体を単離することなく収率か改善される。
本発明に独えば、米国特許第４．０５１．１７４号に記
載されている如き任意の・ぞラジウムの化合物“または
錯体を用いることができる。触媒系にｕ”ｌ買であるこ
とが好丑しいが、また不均質触媒系を用いることもでき
る。不均質触媒的異性化の場合には、触媒を担体物′ｌ
Ｊｉしに用いることができるか、或い（は触媒を担体物
質に相持でぜることかできる。
載されている如き任意の・ぞラジウムの化合物“または
錯体を用いることができる。触媒系にｕ”ｌ買であるこ
とが好丑しいが、また不均質触媒系を用いることもでき
る。不均質触媒的異性化の場合には、触媒を担体物′ｌ
Ｊｉしに用いることができるか、或い（は触媒を担体物
質に相持でぜることかできる。
この担体物質は普通の′ｄ意の担体物餉、例えば炭素、
酸化ニッケル、酸化アルミニウム、硫酸バリウム、炭酸
カルシウム、分子ふるい等であることり７・・できる。
酸化ニッケル、酸化アルミニウム、硫酸バリウム、炭酸
カルシウム、分子ふるい等であることり７・・できる。
ま／と、検体物値とし７て成る褌の茸合体、り：」えは
ナイロン、ベルロン（Ｐｅｒｌｏｎ、） 等を用いる
こともできる。触媒を普通の方法で和体物憐（（担持さ
せることができる。
ナイロン、ベルロン（Ｐｅｒｌｏｎ、） 等を用いる
こともできる。触媒を普通の方法で和体物憐（（担持さ
せることができる。
本発明ｊＣ＞いて触媒とじ−ご用いる〕ぐラジウムまた
はロジウム化合物または錯体は好ましくは・ぐラジウム
Ａたはロジウムの塩′または錯体である。使用し得る・
ぐラソウム塩ま７七は錯体はなかでも次のもので勘る：
ｐｄＣ１２、ｐ ｄ Ｂ ｒ、、 ＰｄＦ２、 ＰｄＩ
２、Ａ’、ＰｄＣ１４、Ｐｄ５Ｏ，、Ｋ２１）ｄＢｒ、
、（ＣＭ。
はロジウム化合物または錯体は好ましくは・ぐラジウム
Ａたはロジウムの塩′または錯体である。使用し得る・
ぐラソウム塩ま７七は錯体はなかでも次のもので勘る：
ｐｄＣ１２、ｐ ｄ Ｂ ｒ、、 ＰｄＦ２、 ＰｄＩ
２、Ａ’、ＰｄＣ１４、Ｐｄ５Ｏ，、Ｋ２１）ｄＢｒ、
、（ＣＭ。
ｃ７′ｖ） 、ｐｃｔｃｔ２、ｐｄ（ＯＡｃ）２、（ベ
ンゾニトリル）２ｐｄｃ’ｌ、、 （ベンゾニトリル）
２ｐｄＢγ２、 （Ｃ３１１６Ｐｄｃｔ２）、 （
シタローベキでンーｐｄｃＬ、Ｉ２、 （１，５−シ
クロオクタツエンｌＰｄＣｌ２、 （１，５−シクロ
オクタツエン）ＰｄＢｒ２、 （１，５−シクロオクタ
ツエン）１）ｄｌ、、 （シクロオクタツエンｘン）
ＰｄＢｒ２、 （アクリロ＝ トｌ） ル）２ＰｄＣ１
２’Ｉ Ｐｄ （Ａ’（、＋３）、 ＜ＩＶＢ４）２、
Ｐｄ（ピリジン）２ （７ｖＯ２）２、 〔７′ｖ（Ｃ
Ｈ２）３ヘンシル〕２ ｐ ｄ（八′０□）４ 、
Ｐｄ （ＡｌＢ２）２Ｃ１２、ｐｄ（、〜ｚｒ、）、
、 （Ｊ”０２）２ 、Ｐｄ（２，２−ビピ＋）−、
ｙル）ｃｔ２、 （ＩＶＥ４）２ＰｄＣ１４、（））、
・７ノ。）２Ｐｄ Ｃ’ｌ ６ 、 Ｐｄ５２、
Ｋ２ＰｄＣ１６、（エチレンジアミン） Ｐ ｄ （Ｎ
Ｏ２Ｃｌ −けミルアミ／）２Ｐｄ （八′０２）２、
＜ＩＶＨ３）、Ｐｄ （ＩＶＯ３）２、ｐｄ（サリシル
アルドキシム）２、（コハク酸ジニトリル）ＰａＣｌ２
、 （シクロオクタテトラエン）ＰｄＣ１２、（アゾベ
ンゼン）２ｐｄｃ１２、（ビピリジルＩｐｄ （Ａ’０
２１２、 Ｋ２Ｐｄ（マロネー１）２、（トリシクロへ
キシルホスフィン）２ＰｄＣ１２、（トリフェニルホス
フィン）２ＰｄＣ１２、テトラキス−（トリエチルホス
ファイトｌ＃（（Ｊ）及びテトラキス−（トリフェニル
ホスフィン）Ｐｄ（Ｃｊ）。
ンゾニトリル）２ｐｄｃ’ｌ、、 （ベンゾニトリル）
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シタローベキでンーｐｄｃＬ、Ｉ２、 （１，５−シ
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Ｐｄ （ＡｌＢ２）２Ｃ１２、ｐｄ（、〜ｚｒ、）、
、 （Ｊ”０２）２ 、Ｐｄ（２，２−ビピ＋）−、
ｙル）ｃｔ２、 （ＩＶＥ４）２ＰｄＣ１４、（））、
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Ｋ２ＰｄＣ１６、（エチレンジアミン） Ｐ ｄ （Ｎ
Ｏ２Ｃｌ −けミルアミ／）２Ｐｄ （八′０２）２、
＜ＩＶＨ３）、Ｐｄ （ＩＶＯ３）２、ｐｄ（サリシル
アルドキシム）２、（コハク酸ジニトリル）ＰａＣｌ２
、 （シクロオクタテトラエン）ＰｄＣ１２、（アゾベ
ンゼン）２ｐｄｃ１２、（ビピリジルＩｐｄ （Ａ’０
２１２、 Ｋ２Ｐｄ（マロネー１）２、（トリシクロへ
キシルホスフィン）２ＰｄＣ１２、（トリフェニルホス
フィン）２ＰｄＣ１２、テトラキス−（トリエチルホス
ファイトｌ＃（（Ｊ）及びテトラキス−（トリフェニル
ホスフィン）Ｐｄ（Ｃｊ）。
またぐロジウムの同様な塩または錯体を用いることもで
きる。
きる。
本発明の他の歓点によれば、触媒的異性化は、ノぐラジ
ウム（Ｉｉ）塩をトリ （１斤級アルキル）アミンの存
在下におい゛Ｃ不活性有僚溶媒イイー：’ｔＬ＜はアセ
トニトリル中でトリ （低級アルキル）゛止／こはトリ
（アリールホスフィ／）、好ましく（はトリ （アリー
ルホスフィン）と反応させることにより生ずる触媒によ
って、再循環の必要なく極めて高収率で生じることが見
い出された。トリ（低級アルキル）アミンの存在は柑い
る触媒を改善し、従って異性化反応によって得られる収
率を改善する。
ウム（Ｉｉ）塩をトリ （１斤級アルキル）アミンの存
在下におい゛Ｃ不活性有僚溶媒イイー：’ｔＬ＜はアセ
トニトリル中でトリ （低級アルキル）゛止／こはトリ
（アリールホスフィ／）、好ましく（はトリ （アリー
ルホスフィン）と反応させることにより生ずる触媒によ
って、再循環の必要なく極めて高収率で生じることが見
い出された。トリ（低級アルキル）アミンの存在は柑い
る触媒を改善し、従って異性化反応によって得られる収
率を改善する。
本発明に・匠えば、最良のｆＸｉ来を得るため（（、パ
ラジウム塩は硝酸・ぐラジウノ・（Ｕ）であることが好
址しい。好ましいトリアリールホスフィンはトリフェニ
ルホスフィンである。筒体を生成させる！京に普通の任
意の低級アルキルアミンを用いることができ、好丑しい
低級アルキルアミンはトリエチルアミンである。
ラジウム塩は硝酸・ぐラジウノ・（Ｕ）であることが好
址しい。好ましいトリアリールホスフィンはトリフェニ
ルホスフィンである。筒体を生成させる！京に普通の任
意の低級アルキルアミンを用いることができ、好丑しい
低級アルキルアミンはトリエチルアミンである。
本発明の好ましい具体化例によれば、硝酸・り２ソウム
（■）及びトリアリールホスフィンをアセトニトリルに
１Ｖｌ＝Ｆ４する。このアセトニトリルの浴液にトリ
（低級アルキル）アミンを加える。トリ（低級アルキル
）アミンを添加した際、アセトニトリル溶液中に触媒が
沈殿物として生じる。必要に応じて沈殿物を浴液から渥
過し、１１．１３−ジ−シス異性体を単独でまたは１３
−シス異性体との混合物を１３−シス異性体に異性化す
る際に用いることができる。一方、溶液及び沈殿物を異
性化する基質に加えることができる。好ましい触媒を製
造する際に、硝酸パラジウム（■）１モルを少なくとも
４モルのトリアリールホスフィンと反Ｌｉｄ、（ｉせる
。この反応を行う際に、硝酸ツクラジウム（■）１モル
当、りトリフェニルホスフィンの４モル以上の過剰量を
用いることができる。しかしながら、トリフェニルホス
フィンの大過剰量を用いても利益がないために、パラジ
ウム塩１モル当９トリフェニルホスフィンの１０モル以
上の情はめったに用いない。トリフェニルホスフィンと
ＩｉＮ噸パラジウム（ｎ）との反応を行う際に、トリフ
ェニルポスフィン及び硝酸・ぐラジウムに対する普通の
ｍ媒を用いることができる。しかしながら、溶媒として
アセトニトリルを用いた場合に最良の結果が得られる。
（■）及びトリアリールホスフィンをアセトニトリルに
１Ｖｌ＝Ｆ４する。このアセトニトリルの浴液にトリ
（低級アルキル）アミンを加える。トリ（低級アルキル
）アミンを添加した際、アセトニトリル溶液中に触媒が
沈殿物として生じる。必要に応じて沈殿物を浴液から渥
過し、１１．１３−ジ−シス異性体を単独でまたは１３
−シス異性体との混合物を１３−シス異性体に異性化す
る際に用いることができる。一方、溶液及び沈殿物を異
性化する基質に加えることができる。好ましい触媒を製
造する際に、硝酸パラジウム（■）１モルを少なくとも
４モルのトリアリールホスフィンと反Ｌｉｄ、（ｉせる
。この反応を行う際に、硝酸ツクラジウム（■）１モル
当、りトリフェニルホスフィンの４モル以上の過剰量を
用いることができる。しかしながら、トリフェニルホス
フィンの大過剰量を用いても利益がないために、パラジ
ウム塩１モル当９トリフェニルホスフィンの１０モル以
上の情はめったに用いない。トリフェニルホスフィンと
ＩｉＮ噸パラジウム（ｎ）との反応を行う際に、トリフ
ェニルポスフィン及び硝酸・ぐラジウムに対する普通の
ｍ媒を用いることができる。しかしながら、溶媒として
アセトニトリルを用いた場合に最良の結果が得られる。
本発明によれは、触媒を生成する際にトリ（低級アルキ
ル）アミ、ン、例えはトリエチルアミンを用いる場合、
一般にパラジウム塩または錯体１モル当り少なくとも２
モルのトリエチルアミンを用いる。必罰に［Ｓじてパラ
ジウム塩または錯体１モル当９２０モルの如き多量でト
リ（低級アルキル）アミンを用いることができる。しか
しながら、かかる多量を用いても、はとんど追加的な利
点は生じない。
ル）アミ、ン、例えはトリエチルアミンを用いる場合、
一般にパラジウム塩または錯体１モル当り少なくとも２
モルのトリエチルアミンを用いる。必罰に［Ｓじてパラ
ジウム塩または錯体１モル当９２０モルの如き多量でト
リ（低級アルキル）アミンを用いることができる。しか
しながら、かかる多量を用いても、はとんど追加的な利
点は生じない。
異性化反応を行う際に、触媒は触媒量で存在する。一般
にこの異性化反応は不活性Ｍ機溶媒中で行われる。この
反応を行う際に普通の任意の不活性有機溶媒を用いるこ
とができる。好ましい溶媒にはなかでもエーテル、例え
Ｕ：テトラヒドロフラン；ニトリル、例えばアセトニト
リル及び低級アルカン酸の低級アルキルエステル、例え
ば酢酸エチルが含１れる。好ましい溶媒はなかでも低級
アルキルエステルでちゃ、その際に低級アルカン酸は炭
素原子２〜４個を含むものである。溶媒として用いるア
ルカン酸の好ましいエステルは酢酸エチルでるる。この
反応において、パラジウム触媒は触媒量で存在する。一
般に触媒は異性化する１１．１３−ジーシスーレチノン
酸１モル当ｐ 約ｏ。
にこの異性化反応は不活性Ｍ機溶媒中で行われる。この
反応を行う際に普通の任意の不活性有機溶媒を用いるこ
とができる。好ましい溶媒にはなかでもエーテル、例え
Ｕ：テトラヒドロフラン；ニトリル、例えばアセトニト
リル及び低級アルカン酸の低級アルキルエステル、例え
ば酢酸エチルが含１れる。好ましい溶媒はなかでも低級
アルキルエステルでちゃ、その際に低級アルカン酸は炭
素原子２〜４個を含むものである。溶媒として用いるア
ルカン酸の好ましいエステルは酢酸エチルでるる。この
反応において、パラジウム触媒は触媒量で存在する。一
般に触媒は異性化する１１．１３−ジーシスーレチノン
酸１モル当ｐ 約ｏ。
０００１モル〜約０．０１モルの量で存在することが好
ましい。異性化する１１．１３−ジーシスーレテノン酸
１モル当り約１モルの皺における過剰量の触媒を用いる
ことができる。しかしながら、多量の触媒を用いること
によって追加的な利点がなく且つ触媒が高価なために、
多量の触媒はめったに用いられ彦い。一般に異性化する
１１．１３−ジーシスーレチノン酸１モル当５約０．０
０１モル〜約００１モルの触媒を用いることが好ましい
。
ましい。異性化する１１．１３−ジーシスーレテノン酸
１モル当り約１モルの皺における過剰量の触媒を用いる
ことができる。しかしながら、多量の触媒を用いること
によって追加的な利点がなく且つ触媒が高価なために、
多量の触媒はめったに用いられ彦い。一般に異性化する
１１．１３−ジーシスーレチノン酸１モル当５約０．０
０１モル〜約００１モルの触媒を用いることが好ましい
。
異性化が終了した後、１３−シスーレチノン酸を結晶化
の如き晋堰の方法によって高収率で反応混合物から回収
することができる。この結晶化は、反応混合物に水を加
えて懸濁させ、その後に懸濁液を０〜−５℃の温度に冷
却することによって行９ことができる。
の如き晋堰の方法によって高収率で反応混合物から回収
することができる。この結晶化は、反応混合物に水を加
えて懸濁させ、その後に懸濁液を０〜−５℃の温度に冷
却することによって行９ことができる。
本明細書において用いる「低級アルキル」なる用語には
炭素原子１〜７個を有する直鎖状及び分枝鎖状の双方の
アルキル基、例えばメチル、エチル及びプロピルが含ま
れ、メチルが好ましい。本明細書においてハコいる「低
級アルコキシ」なる用語は戻累原子１〜７個をゼする低
級アルコキシ基、例えばメトキシ及びエトキシを包含す
る。また本明細１ＦＦにおいて用いる「低級アルカン酸
」なる用語には炭素原子２〜７個を有するアルカン酸、
例えば酢酸、酪酸及びプロピオン酸を包含する。更に本
明細書において用いる「ハロヶ゛ン」なる用語には特記
せぬ限り全てのハロケ゛ン、例えばフッ素、塩素、臭素
及びヨウ素が含まれる。
炭素原子１〜７個を有する直鎖状及び分枝鎖状の双方の
アルキル基、例えばメチル、エチル及びプロピルが含ま
れ、メチルが好ましい。本明細書においてハコいる「低
級アルコキシ」なる用語は戻累原子１〜７個をゼする低
級アルコキシ基、例えばメトキシ及びエトキシを包含す
る。また本明細１ＦＦにおいて用いる「低級アルカン酸
」なる用語には炭素原子２〜７個を有するアルカン酸、
例えば酢酸、酪酸及びプロピオン酸を包含する。更に本
明細書において用いる「ハロヶ゛ン」なる用語には特記
せぬ限り全てのハロケ゛ン、例えばフッ素、塩素、臭素
及びヨウ素が含まれる。
甘た本明細貞、において用いる「アリール」なる用語は
、未置換棟たは１もしくはそれ以上の位置において低級
アルキレンツオキシ、ハロゲン、ニトロ、低級アルキル
もしくは低級アルコキシ置換基で置換されていてもよい
単核の芳香族炭化水素基、フェニル等及び上記の基の１
つまたはそれ以上で置換されていてもよい多核のアリー
ル基、例えばナフチル、アンスリル、フェナンスリル、
アズリル等を表わす。好ましいアリール基は置換された
及び未置換の単核のアリール基、殊にフェニル及びトリ
ルである。
、未置換棟たは１もしくはそれ以上の位置において低級
アルキレンツオキシ、ハロゲン、ニトロ、低級アルキル
もしくは低級アルコキシ置換基で置換されていてもよい
単核の芳香族炭化水素基、フェニル等及び上記の基の１
つまたはそれ以上で置換されていてもよい多核のアリー
ル基、例えばナフチル、アンスリル、フェナンスリル、
アズリル等を表わす。好ましいアリール基は置換された
及び未置換の単核のアリール基、殊にフェニル及びトリ
ルである。
本発明を以下の実施例に従って更に説明する。
該実施り１」は本発明を説明するものであり、本発明を
限定するものではない。
限定するものではない。
実施例１
イソフ０ロノぐノール１０００ｍ／！中の［３−メチル
−ｓ−（２，６，６−ドリメチルー１−７クロヘキセン
ー１−イル）−２，４−ペンタジェニルツートリフェニ
ルホスホニウムクロライド〔ビツテイヒＩｉ：］２５７
．５ｒ及びブテノリド、５−ヒドロキシ−４−メチル−
２（ｓ＃） −フラノン５７．０７の攪拌された溶液
を窒素雰囲気下で一３０℃に冷却した。この溶液にイソ
プロパツール中の２７′ｖ水酸化力リウム水溶液６２５
ｍ１を一り０℃±２℃で１〜Ｌ５時間にわたって加えた
。添加終了後、反応混合物を１０分間攪拌し、水２５０
０ｍ−に注いだ。このアルカリ性（ｐＥ値ｌＯ）溶液を
ヘキサン２Ｘ５００ｒｎｌで抽出した。置数したヘキサ
ン抽出液をメタノール−水（７：３容量部）２×１００
ｍｌ！で洗浄し、洗液を最初の水浴液に加えた。
−ｓ−（２，６，６−ドリメチルー１−７クロヘキセン
ー１−イル）−２，４−ペンタジェニルツートリフェニ
ルホスホニウムクロライド〔ビツテイヒＩｉ：］２５７
．５ｒ及びブテノリド、５−ヒドロキシ−４−メチル−
２（ｓ＃） −フラノン５７．０７の攪拌された溶液
を窒素雰囲気下で一３０℃に冷却した。この溶液にイソ
プロパツール中の２７′ｖ水酸化力リウム水溶液６２５
ｍ１を一り０℃±２℃で１〜Ｌ５時間にわたって加えた
。添加終了後、反応混合物を１０分間攪拌し、水２５０
０ｍ−に注いだ。このアルカリ性（ｐＥ値ｌＯ）溶液を
ヘキサン２Ｘ５００ｒｎｌで抽出した。置数したヘキサ
ン抽出液をメタノール−水（７：３容量部）２×１００
ｍｌ！で洗浄し、洗液を最初の水浴液に加えた。
全体の水溶液を注意して４Ａ’５酸２５０ｍ１の添加に
よって酸性（ｐＲ値〜２）にし、酢酸エチルーヘキザ”
（２： ８’４ｆｔｒ部）２０００ｍｌ及び２×１０
１００Ｏで抽出した。酢酸エテル−ヘキサン抽出液を分
湘さぜ、各々を順次メタノール−水（７：３′８荀部）
６Ｘ４００ｙｌｅで洗浄した。各メタノール−水洗液を
次の処理前に酢酸エテル−ヘキサン（２＝８芥ｆ’ｉｉ
％） ３ Ｘ １０００ ｍｌで抽出した。最終結果
は台ぎ１６回の不接（酢酸エチルーヘギッン）抽出液、
６回の水性（メタノール−水） ：ｎｊ出液であり、Ｔ
ＬＣ分析は全て水相中にトリフェニルボスフィンオキシ
ド、そして有機相中に１１．１３−ソーンスー７チノン
酸及び１６．７ Ｎ量％の１３−シスーレナノン酸盆示
した。有機抽出液を合液し、水７×５ｏｏゴで洗浄した
。溶媒を蒸発させ、１１．１３−ソーシスーレチノン酸
７５９Ｎ晴係及び１３−シスーレチノン酸１６７重惰′
係を含有する結晶性混合物１３７．２ ｆ （９１，５
％）を得た。
よって酸性（ｐＲ値〜２）にし、酢酸エチルーヘキザ”
（２： ８’４ｆｔｒ部）２０００ｍｌ及び２×１０
１００Ｏで抽出した。酢酸エテル−ヘキサン抽出液を分
湘さぜ、各々を順次メタノール−水（７：３′８荀部）
６Ｘ４００ｙｌｅで洗浄した。各メタノール−水洗液を
次の処理前に酢酸エテル−ヘキサン（２＝８芥ｆ’ｉｉ
％） ３ Ｘ １０００ ｍｌで抽出した。最終結果
は台ぎ１６回の不接（酢酸エチルーヘギッン）抽出液、
６回の水性（メタノール−水） ：ｎｊ出液であり、Ｔ
ＬＣ分析は全て水相中にトリフェニルボスフィンオキシ
ド、そして有機相中に１１．１３−ソーンスー７チノン
酸及び１６．７ Ｎ量％の１３−シスーレナノン酸盆示
した。有機抽出液を合液し、水７×５ｏｏゴで洗浄した
。溶媒を蒸発させ、１１．１３−ソーシスーレチノン酸
７５９Ｎ晴係及び１３−シスーレチノン酸１６７重惰′
係を含有する結晶性混合物１３７．２ ｆ （９１，５
％）を得た。
実施例２〜３５
央７ｍ例２〜３５においては、ピツティヒ塩及びブテノ
リドを実施例１の方法によって反Ｌｃ：、させ、１１．
１３−ジーシスーレチノン酸及び１３−シスーレチノン
酸の結晶性混合物を製造した。実施例２〜３５において
、ブテノリドとビツテイヒ塩との反ＬＬ：を行うために
異なる温度を用いて上記の結晶性混合物を生成させた際
の結果を次の紀１表に示した。収量係は重量基準で示し
た。表中、「スケール−」は用いたブテノリドのモル数
である。
リドを実施例１の方法によって反Ｌｃ：、させ、１１．
１３−ジーシスーレチノン酸及び１３−シスーレチノン
酸の結晶性混合物を製造した。実施例２〜３５において
、ブテノリドとビツテイヒ塩との反ＬＬ：を行うために
異なる温度を用いて上記の結晶性混合物を生成させた際
の結果を次の紀１表に示した。収量係は重量基準で示し
た。表中、「スケール−」は用いたブテノリドのモル数
である。
実施例２〜２３及び２６〜３５においては、ブテノリド
対ビンテイピ塩のモル比は実施例１と同一に保持した。
対ビンテイピ塩のモル比は実施例１と同一に保持した。
従って、ブテノリドのモル数が実施例１のモル数よシも
増加した場合、才だビツテイヒ塩のモル数を増加させて
実施νｌＩｌと同様なモル比にした。実施例２４におい
ては、実施ｆ！ｌ １よりもビツテイヒ塩の１０％モル
過剰量を用いた。実施例２５においては、実施例１より
もヒッティヒ塩の２０チモル過剰量を用いた。これらの
実施例の結果金弟１表に示した。
増加した場合、才だビツテイヒ塩のモル数を増加させて
実施νｌＩｌと同様なモル比にした。実施例２４におい
ては、実施ｆ！ｌ １よりもビツテイヒ塩の１０％モル
過剰量を用いた。実施例２５においては、実施例１より
もヒッティヒ塩の２０チモル過剰量を用いた。これらの
実施例の結果金弟１表に示した。
第１表
２ ０、０ ２ ０
６ １．５３ ０、０２
０ ６０．０４ ０．０２
−２０ ９１．７５ ’
０．０ ２ ０ ５
５．０６ ０、０２ −２０ ８１．７
７ ０、１ − ２ ０
９ ０．０８ ０、１ −２０
８８．７９ ０、１
− ２ ０ ８ ４．７１０
０．１ −１０ ８０．７１１
０、１ −２０ ９１．０１２
０、 ］、 −１０８’；ｌ
３１３ ０、１ −３０
９３．７１４ ０、１ −３０
９９．３１５ ０．１
−２０ ８６．０１６ ０．１
−３０ ９８．３１７ ０、１
−３０ ９ ５．０１ ８
０、 ｉ −３０９５，７１９０、
１−３０９６，７ ２００、１−３０９２，３ ２１０、１−３０９８，７ ２２０、１−３０９９，３ ２３０、１−３０９２，３ ２４０、１−２伊 ９３．３ ２５ ０、１ ０
９１．３２６ ０．１ −２０
６Ｚ０２７ ０．５
−２５ ８８．３２８ ０．
５ −３０ ９１．５２９
０．５ −２０ ９０．０３
０ ０．５ −３０
９１．７３１ ０．５ −３
０ ９０．７３２ ０．５
−３０ ８９．６３３ ０
．５ −３０ ９３．５３４
０．５ −３０ ９３
．１３５ ０．５ −３
０ ９３．２実施例３７ テトラヒドロ７ラン２５０彪及びアセトニトリル５００
ｍｅ中のｙＨ流何例１製造したレチノン酸異性体の結
晶性混合物１３．７．２ ｆｉ’の）％ ＜ ｌ’Ｐｆ
、拝された溶液を望素雰囲気下で５０℃に加温しまた。
６ １．５３ ０、０２
０ ６０．０４ ０．０２
−２０ ９１．７５ ’
０．０ ２ ０ ５
５．０６ ０、０２ −２０ ８１．７
７ ０、１ − ２ ０
９ ０．０８ ０、１ −２０
８８．７９ ０、１
− ２ ０ ８ ４．７１０
０．１ −１０ ８０．７１１
０、１ −２０ ９１．０１２
０、 ］、 −１０８’；ｌ
３１３ ０、１ −３０
９３．７１４ ０、１ −３０
９９．３１５ ０．１
−２０ ８６．０１６ ０．１
−３０ ９８．３１７ ０、１
−３０ ９ ５．０１ ８
０、 ｉ −３０９５，７１９０、
１−３０９６，７ ２００、１−３０９２，３ ２１０、１−３０９８，７ ２２０、１−３０９９，３ ２３０、１−３０９２，３ ２４０、１−２伊 ９３．３ ２５ ０、１ ０
９１．３２６ ０．１ −２０
６Ｚ０２７ ０．５
−２５ ８８．３２８ ０．
５ −３０ ９１．５２９
０．５ −２０ ９０．０３
０ ０．５ −３０
９１．７３１ ０．５ −３
０ ９０．７３２ ０．５
−３０ ８９．６３３ ０
．５ −３０ ９３．５３４
０．５ −３０ ９３
．１３５ ０．５ −３
０ ９３．２実施例３７ テトラヒドロ７ラン２５０彪及びアセトニトリル５００
ｍｅ中のｙＨ流何例１製造したレチノン酸異性体の結
晶性混合物１３．７．２ ｆｉ’の）％ ＜ ｌ’Ｐｆ
、拝された溶液を望素雰囲気下で５０℃に加温しまた。
アセトニトリル２５Ｗ・中の硝酸パラジウム（■）ｌｉ
ｌａｐ、トリフェニルホスフィン５０９ｍｇ及びトリエ
チルアミン９８ｍ９の混合物を一度に加え、次いでアセ
トニトリル２５ゴですすいた。この混合物を５０℃で１
時間攪拌した。触媒の添加直後に、反応溶液は暗色にガ
つだ。１分以内に、最初の結晶化を起こした。２分以内
に、濃い橙色の懸濁液を生じた。生じた橙色の懸濁液を
水５００−を訓えながら冷却した。この懸濁液をＯ〜＋
５℃に２時間保持し、そしてｐ過しだ。触媒を冷゛ｒセ
トニｌ−’Ｊル〜水（２５： ’７５Ｊ量部）４Ｘ１０
０ｍＡで洗浄し、兵壁下にて室温で乾燥し、１３−シス
ーレチノン酸１２８．５ ｉｉ’を得た（９３．７伊モ
ル；ブテノリドを基準にしてＢ５．Ｈ４ｊ：Ｊｃ％）。
ｌａｐ、トリフェニルホスフィン５０９ｍｇ及びトリエ
チルアミン９８ｍ９の混合物を一度に加え、次いでアセ
トニトリル２５ゴですすいた。この混合物を５０℃で１
時間攪拌した。触媒の添加直後に、反応溶液は暗色にガ
つだ。１分以内に、最初の結晶化を起こした。２分以内
に、濃い橙色の懸濁液を生じた。生じた橙色の懸濁液を
水５００−を訓えながら冷却した。この懸濁液をＯ〜＋
５℃に２時間保持し、そしてｐ過しだ。触媒を冷゛ｒセ
トニｌ−’Ｊル〜水（２５： ’７５Ｊ量部）４Ｘ１０
０ｍＡで洗浄し、兵壁下にて室温で乾燥し、１３−シス
ーレチノン酸１２８．５ ｉｉ’を得た（９３．７伊モ
ル；ブテノリドを基準にしてＢ５．Ｈ４ｊ：Ｊｃ％）。
央〃１０列３８〜４３
芙施ψ１ｊ３８〜４３においては、１１．１３−ソーシ
スーレチノンｉ７ ｓ、９ 冨僧％及０： ｔ ａ−シ
スーレチノン酸１６．７庶ｌ ％を含Ｍする実施例１の
結晶性混合物を、硝酸パラジウム及びトリフェニルホス
フィン以外の触６を用いて実ｈａｆｌｒの方法により、
】３−シスーレチノン酸に転化した。実施例３８〜４３
においては、全ての反応を触媒を基準にしてトリエチル
アミン２当量と触媒０１モルｃｌ、ｏを用いて、５０°
Ｃで３時間行うことを除いて同一条件であった。最初の
１３−シスーレチノン酸の単離は過剰量の水の添加（最
終溶媒含量６２．。
スーレチノンｉ７ ｓ、９ 冨僧％及０： ｔ ａ−シ
スーレチノン酸１６．７庶ｌ ％を含Ｍする実施例１の
結晶性混合物を、硝酸パラジウム及びトリフェニルホス
フィン以外の触６を用いて実ｈａｆｌｒの方法により、
】３−シスーレチノン酸に転化した。実施例３８〜４３
においては、全ての反応を触媒を基準にしてトリエチル
アミン２当量と触媒０１モルｃｌ、ｏを用いて、５０°
Ｃで３時間行うことを除いて同一条件であった。最初の
１３−シスーレチノン酸の単離は過剰量の水の添加（最
終溶媒含量６２．。
５容すｑ６）及びびｉ過によって行った。第２表に示し
た回収頒は、出発ｅａｔ質として用いた結晶性混合物の
重量を基準にして、生じた１３−シスーレチノン酸の乗
継φである。
た回収頒は、出発ｅａｔ質として用いた結晶性混合物の
重量を基準にして、生じた１３−シスーレチノン酸の乗
継φである。
実施例４４〜５３
実施例４４〜５３においては、実施例３７の方−法に従
い、実施例１で製造したレチノン酸の結晶性混合物を異
なる量の触媒〔硝酸・ぐラジウム（■）〕を用いて１３
−シスーレテノン酸に転化した。実施例３７の方法を、
下に示した如きことを除いて行った。
い、実施例１で製造したレチノン酸の結晶性混合物を異
なる量の触媒〔硝酸・ぐラジウム（■）〕を用いて１３
−シスーレテノン酸に転化した。実施例３７の方法を、
下に示した如きことを除いて行った。
α、実施例１に用いたブテノリドのモル数として定義し
たスケール。
たスケール。
ｂ、レチノン酸の結晶性混合物からの回収重量％。
Ｃ，ブテノリドに基づく全体の多収率。
ｄ、１１．１３−ジーシスーレチノン酸１．４％を含有
する生成物。
する生成物。
１１１．１３−ソーシスーレチノン酸０８％を含イ１す
る生成物。
る生成物。
ｆ、全トランス０．７％及び１１．１３−ソーシスーレ
チノン酸０．５％を含有する生成物。
チノン酸０．５％を含有する生成物。
ｑ、１１．１３−ジーシスーレチノン酸０．７％を含有
する生成物。
する生成物。
実施例５４
全ての操作を窒素下で行った。容＠１９０ｔのステンレ
ス−スチール製のタービン駆動攪拌サレ、ドライアイス
−アセトン冷却された反応器に、イソプロパツール３４
．３にり、５−ヒドロキシ−４−メチル−２（５７＃）
−フラノン５．０ Ｋｑ及び〔３−メチル−５−（
２，６，６−トＩ）メラール−１−シクロヘキセン−１
−イル） −２、４−ヘア 夕Ｊ エニル） −）
ＩＪフエニルシトスホニウムクロライｒｚ３、 ＯＫｙ
（［：充填した。この混合物を攪拌して浴ンダにし、
−２２〜−２５°Ｃに冷却し、そし−ここの６へ、ｌｉ
度艮１永持した。この・々ツテＶこ、−２２〜−２５°
Ｃ′″ご約１．５時間にわたって′２．．０７Ｖ水酸イ
ヒカ１ノワムーインプロ／リール溶？俣（＋５〜＋１０
°Ｃ）４９．９Ｋｆを加え１こ。添加終了後、この１ツ
チを−２２〜−２５°Ｃで更に１時間攪拌した。このｉ
Ｎラッチ室温で脱イオン水１５１．４に９及びヘキサン
５４．６ Ｋｑに那えた。この混合ｖｌＪを１０分間１
ｊｃ拌し、沈降させ、底部層（・マツチを含葡ン を分
離した。ヘキサン層をメタノール４８ Ｋｇ及び脱イオ
ン水Ｚ ６ Ｋｑの混合物で抽出した。メタノール−水
通ｊ由出１’ｌ及びバッチを窒素下にて００〜＋１０°
Ｃに保持した。
ス−スチール製のタービン駆動攪拌サレ、ドライアイス
−アセトン冷却された反応器に、イソプロパツール３４
．３にり、５−ヒドロキシ−４−メチル−２（５７＃）
−フラノン５．０ Ｋｑ及び〔３−メチル−５−（
２，６，６−トＩ）メラール−１−シクロヘキセン−１
−イル） −２、４−ヘア 夕Ｊ エニル） −）
ＩＪフエニルシトスホニウムクロライｒｚ３、 ＯＫｙ
（［：充填した。この混合物を攪拌して浴ンダにし、
−２２〜−２５°Ｃに冷却し、そし−ここの６へ、ｌｉ
度艮１永持した。この・々ツテＶこ、−２２〜−２５°
Ｃ′″ご約１．５時間にわたって′２．．０７Ｖ水酸イ
ヒカ１ノワムーインプロ／リール溶？俣（＋５〜＋１０
°Ｃ）４９．９Ｋｆを加え１こ。添加終了後、この１ツ
チを−２２〜−２５°Ｃで更に１時間攪拌した。このｉ
Ｎラッチ室温で脱イオン水１５１．４に９及びヘキサン
５４．６ Ｋｑに那えた。この混合ｖｌＪを１０分間１
ｊｃ拌し、沈降させ、底部層（・マツチを含葡ン を分
離した。ヘキサン層をメタノール４８ Ｋｇ及び脱イオ
ン水Ｚ ６ Ｋｑの混合物で抽出した。メタノール−水
通ｊ由出１’ｌ及びバッチを窒素下にて００〜＋１０°
Ｃに保持した。
上記の操作を合計４回の反応に対して３回くり返し行っ
た（Ｃ′、−ブテノリド２０．０ Ｋｑを消費した）。
た（Ｃ′、−ブテノリド２０．０ Ｋｑを消費した）。
４つのバッチを合わせ、注意して８５重重量の水性リン
酸３２５〜３５．６ Ｋｇの添加によってｐＢ値４．０
〜４．５の酸性にした。正した・マツチを酢酸エチル１
１５．８ Ｋｓ＋及ヒヘキサン３４３．９ Ｋｑの混合
物で抽出した〔抽出液＋−１〕。
酸３２５〜３５．６ Ｋｇの添加によってｐＢ値４．０
〜４．５の酸性にした。正した・マツチを酢酸エチル１
１５．８ Ｋｓ＋及ヒヘキサン３４３．９ Ｋｑの混合
物で抽出した〔抽出液＋−１〕。
抽出液≠１を脱イオン水９４．６ Ｋ７で並びにメタノ
ール５４．４ Ｋｑ及び脱イオン水２９．５ Ｋｑの混
合物で６回洗浄した。各洗液を酢酸エチル４４．２ Ｋ
ｑ及びヘキサン１３１．３Ｋｇの混合物で５回抽出した
。
ール５４．４ Ｋｑ及び脱イオン水２９．５ Ｋｑの混
合物で６回洗浄した。各洗液を酢酸エチル４４．２ Ｋ
ｑ及びヘキサン１３１．３Ｋｇの混合物で５回抽出した
。
酢酸エテル−ヘキサン抽出液を合液し、５０〜１１００
Ｂｉｉ及び浴温２０〜３０℃で真空蒸留によって濃縮し
、最終容量約５７０ｔにした。窒素下で其空を解除し、
木炭２． ＯＫｑを加えた。・マツチを木炭と共に２０
〜２５℃で３０分間攪拌し、ケインウ土でおおったフィ
ルターを通して濾過した。
Ｂｉｉ及び浴温２０〜３０℃で真空蒸留によって濃縮し
、最終容量約５７０ｔにした。窒素下で其空を解除し、
木炭２． ＯＫｑを加えた。・マツチを木炭と共に２０
〜２５℃で３０分間攪拌し、ケインウ土でおおったフィ
ルターを通して濾過した。
フィルターケーキを酢酸エチル３４．１ ｔｃ、、＋で
すすぎ、とのイーすぎ液をバッチに加えた。バッチを上
記の如く真空蒸留によって濃縮し、最終容量９５７にし
た。このバッチを酢酸エチル３４．１ Ｋｑに加え、再
ひ最終容量９５７に濃縮した。バッチの温度を５０°Ｇ
Ｋａｌｌした。このパンチに、硝酸パラゾウム（Ｉｉ）
３３．７ ？、トリノエニルホスフィン１６２．４２及
びトリエチルアミン３１．８ ′？を含むアセトニトリ
ル２．６５ ｋの浴′＆を加えた。この溶液を追加のげ
１、酸エチル１． Ｏｔと共に上記のバンチに加えた。
すすぎ、とのイーすぎ液をバッチに加えた。バッチを上
記の如く真空蒸留によって濃縮し、最終容量９５７にし
た。このバッチを酢酸エチル３４．１ Ｋｑに加え、再
ひ最終容量９５７に濃縮した。バッチの温度を５０°Ｇ
Ｋａｌｌした。このパンチに、硝酸パラゾウム（Ｉｉ）
３３．７ ？、トリノエニルホスフィン１６２．４２及
びトリエチルアミン３１．８ ′？を含むアセトニトリ
ル２．６５ ｋの浴′＆を加えた。この溶液を追加のげ
１、酸エチル１． Ｏｔと共に上記のバンチに加えた。
バッチを１晩、１司５０℃で攪拌し、２時間にわたって
−１０〜−１５゛Ｃに冷却し、この温度に一夜保拘゛シ
、た。粗製の１３−シスーレチノン酸の結晶を沢過し、
−１０〜−１５℃で酢酸エチル３ Ｘ １０゜２ＫＳ＋
によって噴霧洗浄した。結晶を遠心分離器でできるだけ
乾燥した。酢酸エテル３ ｓ ６．４ Ｋｑ並びに上で
製造した１３−シスーレチノン酸で湿った酢酸エチル３
９．７ ！＜７及び木炭Ｚ ＯＫ９でＭ流下で加熱しく
７５〜８０°Ｃ）、粗製の１３−シスーレテノン酸の結
晶金心解し、この混＠物全還υ毘下で３０分間ｉｋ拌し
７た。この酢液をケイソウ土でおおった加圧フィルター
をｉａｂて濾過することによって透明にした。フィルタ
ーを酢酸エテル６８．１ Ｋ７ですすき゛、このすすき
液ケ・ぐツテに加えた。この・マツチを象素雰囲気下で
蒸留（ポット温度７５〜８０“”Ｃ）によって涙崗し、
最Ｆ：谷知１１．５Ａにし７ヒ。
−１０〜−１５゛Ｃに冷却し、この温度に一夜保拘゛シ
、た。粗製の１３−シスーレチノン酸の結晶を沢過し、
−１０〜−１５℃で酢酸エチル３ Ｘ １０゜２ＫＳ＋
によって噴霧洗浄した。結晶を遠心分離器でできるだけ
乾燥した。酢酸エテル３ ｓ ６．４ Ｋｑ並びに上で
製造した１３−シスーレチノン酸で湿った酢酸エチル３
９．７ ！＜７及び木炭Ｚ ＯＫ９でＭ流下で加熱しく
７５〜８０°Ｃ）、粗製の１３−シスーレテノン酸の結
晶金心解し、この混＠物全還υ毘下で３０分間ｉｋ拌し
７た。この酢液をケイソウ土でおおった加圧フィルター
をｉａｂて濾過することによって透明にした。フィルタ
ーを酢酸エテル６８．１ Ｋ７ですすき゛、このすすき
液ケ・ぐツテに加えた。この・マツチを象素雰囲気下で
蒸留（ポット温度７５〜８０“”Ｃ）によって涙崗し、
最Ｆ：谷知１１．５Ａにし７ヒ。
このバッチを−１０〜−１５℃に６却し、この温度を一
夜保持した。純粋な１３−シスーレチノン酸の結晶を濾
過し、−１０〜−１５℃で酢酸エチル１０．２ Ｋ９に
よって３回哩霧洗浄した。結晶を５０〜１００簡Ｂｇ及
び３５℃で、わずかに屋素を吹き込みながら２４時ｔｆ
４ｊ乾燥した。
夜保持した。純粋な１３−シスーレチノン酸の結晶を濾
過し、−１０〜−１５℃で酢酸エチル１０．２ Ｋ９に
よって３回哩霧洗浄した。結晶を５０〜１００簡Ｂｇ及
び３５℃で、わずかに屋素を吹き込みながら２４時ｔｆ
４ｊ乾燥した。
実施例５５
撹拌機、低温用温度計及び滴下ロートを備えた容量２０
００ｍのジャケット付樹脂製フラスコに、〔３−メチル
−５−（２，６，６−）リフチル−２−シクロヘキセン
−１−イル）−２，４−ペンタジェニル’：］ −）
’Ｊフェニルホスホニウムクロライド２６２．５ ？、
Ｃ，−ブテノリド５７．（１（０，５００モル）及
びインプロア女ノール１０００ ｍｌヲ窒素雰囲気下で
加えた。生じた溶液を一２５℃に冷却し、２．０１Ｖ水
酸化カリウム−イソプロパツール６２５ ｎｔｅ （１
，２５モル）を−２０〜−２５℃で１時間にわたって加
えた。添加終了後、混合物を一２５℃で更に１時間攪拌
し、次に脱イオン水２５００ｍに注いだ。生じた混合物
をヘキサン２×５００ ｍｌで抽出しｆｃ（無極性不純
物を除去するため）。
００ｍのジャケット付樹脂製フラスコに、〔３−メチル
−５−（２，６，６−）リフチル−２−シクロヘキセン
−１−イル）−２，４−ペンタジェニル’：］ −）
’Ｊフェニルホスホニウムクロライド２６２．５ ？、
Ｃ，−ブテノリド５７．（１（０，５００モル）及
びインプロア女ノール１０００ ｍｌヲ窒素雰囲気下で
加えた。生じた溶液を一２５℃に冷却し、２．０１Ｖ水
酸化カリウム−イソプロパツール６２５ ｎｔｅ （１
，２５モル）を−２０〜−２５℃で１時間にわたって加
えた。添加終了後、混合物を一２５℃で更に１時間攪拌
し、次に脱イオン水２５００ｍに注いだ。生じた混合物
をヘキサン２×５００ ｍｌで抽出しｆｃ（無極性不純
物を除去するため）。
合液したヘキサン層をメタノール−水（７０〜３０容ｔ
％） ２ｘｔｏｏｙで洗浄した。ヘキサン抽出液を濃
縮し、黄色油９．８２を生じ、このものはすてた。合液
した水層を注意して８５係リン酸５５ゴの添加によって
ｐＢ値４に調節した。生じた懸濁液を酢酸エテル−ヘキ
サン（２０〜ｂ當％）２０００ｍｌで抽出した。この抽
出液を続いてメタノール−水（７０〜３０容量％）ｆｉ
Ｘ４００ｄで洗浄した。各洗液を別個に保持し、酢酸エ
チル−ヘキサン（２０〜８０番ｉ％）５Ｘ１０００彪で
逆抽出した。全ての抽出が終了した後、６つの酢酸エテ
ル−ヘキサン抽出液を合液し、脱イオン水２ Ｘ ５０
０ ｍｌで洗浄し、真空下で濃縮し、１１．１３−ジー
シスーレチノン酸約７０〜８５重ｇ％及び１３−シスー
レチノン酸約１５〜３０重量係を含有する結晶性混合物
１３０．４ｒ（収率８６．９％）を得た。
％） ２ｘｔｏｏｙで洗浄した。ヘキサン抽出液を濃
縮し、黄色油９．８２を生じ、このものはすてた。合液
した水層を注意して８５係リン酸５５ゴの添加によって
ｐＢ値４に調節した。生じた懸濁液を酢酸エテル−ヘキ
サン（２０〜ｂ當％）２０００ｍｌで抽出した。この抽
出液を続いてメタノール−水（７０〜３０容量％）ｆｉ
Ｘ４００ｄで洗浄した。各洗液を別個に保持し、酢酸エ
チル−ヘキサン（２０〜８０番ｉ％）５Ｘ１０００彪で
逆抽出した。全ての抽出が終了した後、６つの酢酸エテ
ル−ヘキサン抽出液を合液し、脱イオン水２ Ｘ ５０
０ ｍｌで洗浄し、真空下で濃縮し、１１．１３−ジー
シスーレチノン酸約７０〜８５重ｇ％及び１３−シスー
レチノン酸約１５〜３０重量係を含有する結晶性混合物
１３０．４ｒ（収率８６．９％）を得た。
実施例５６
実施例５５で製造した結晶性混合物１３０．４ ｒ及び
酢酸エチル２００ｒＩｄ！、を窒素雰囲気下にて５０℃
で攪拌し、硝酸・ぐラジウム（Ｉｔ） １００ダ、トリ
フェニルホスフィン４８２叩、トリエチルアミン９４４
■及びアセトニトリル２５ｍ６の混合物を加えた。反応
溶液は直ちに暗色となシ、１分で濃い橙色の懸濁液に結
晶化した。この混合物を５０℃で１時間攪拌し、−１０
〜−１５℃に２時間冷却し、ロート上で濾過し、冷酢酸
エチル３Ｘ５０ｍＪで洗浄し、真空下で乾燥し、純粋な
１３−シスーレチノン酸１１７．７ Ｆを倚た（実施例
５５で製造した結晶性混合物の収率９０．３％；Ｃ３−
ブテノリドから全体の７８．４φ）。
酢酸エチル２００ｒＩｄ！、を窒素雰囲気下にて５０℃
で攪拌し、硝酸・ぐラジウム（Ｉｔ） １００ダ、トリ
フェニルホスフィン４８２叩、トリエチルアミン９４４
■及びアセトニトリル２５ｍ６の混合物を加えた。反応
溶液は直ちに暗色となシ、１分で濃い橙色の懸濁液に結
晶化した。この混合物を５０℃で１時間攪拌し、−１０
〜−１５℃に２時間冷却し、ロート上で濾過し、冷酢酸
エチル３Ｘ５０ｍＪで洗浄し、真空下で乾燥し、純粋な
１３−シスーレチノン酸１１７．７ Ｆを倚た（実施例
５５で製造した結晶性混合物の収率９０．３％；Ｃ３−
ブテノリドから全体の７８．４φ）。
実施例５７
実施ｆｊ１５５における如き１３−シスーレチノン酸及
び１１．１３−ジーシスーレナノン酸の結晶性混合物１
２１．２！ｉ’のバッチをジエチルエーテル５００ゴに
溶解した。この后液を、等各所のヘキサンと入れ替えな
がら、エーテル２５０ｄの蒸留によって濃縮した。更に
ヘキサン２５０ｄを加え、生じた溶液を室温に冷却し、
約４時間放買した。
び１１．１３−ジーシスーレナノン酸の結晶性混合物１
２１．２！ｉ’のバッチをジエチルエーテル５００ゴに
溶解した。この后液を、等各所のヘキサンと入れ替えな
がら、エーテル２５０ｄの蒸留によって濃縮した。更に
ヘキサン２５０ｄを加え、生じた溶液を室温に冷却し、
約４時間放買した。
（−夜装置した場合、１３−シスーレテノン酸の暗Ｊｔ
色結晶が１１．１３−ジーシスーレチノン酸の黄色結晶
の表面に沈着した）。結晶を濾過し、冷ヘキザン３Ｘ１
００ｍ／！で洗浄し、真空下にて室温で乾燥シた。１１
．１３−ジーシスーレチノン酸のかかる３つのバッチを
合わせ、エーテル−ヘキサンからの合計３回の再結晶化
に対して、上記の再結晶化操作を２回くｐ返し行った。
色結晶が１１．１３−ジーシスーレチノン酸の黄色結晶
の表面に沈着した）。結晶を濾過し、冷ヘキザン３Ｘ１
００ｍ／！で洗浄し、真空下にて室温で乾燥シた。１１
．１３−ジーシスーレチノン酸のかかる３つのバッチを
合わせ、エーテル−ヘキサンからの合計３回の再結晶化
に対して、上記の再結晶化操作を２回くｐ返し行った。
これによって結晶性１１．１３−ジーシスーレチノン酸
７４．６２を祠だ。エーテル−ヘキサン再結晶化による
１ １’ 、 ｌ ３−ジーシスーレチノン酸７４．６
ｒヶ加温しながら酢酸エチル２５０ゴに溶解し、この
温溶液（５５〜６０６Ｃ）をケイソウ士を逼して濾過し
、異物を除去した。フィルターケーキを熱（８０〜７５
°Ｃ）酢酸エチル２ｘ１ｏｏｙで洗浄した。合液した涙
液及び洗液を最終容量約２００ｍ１に濃縮し、上記の如
く放冷した。生じた結晶を濾過し、冷酢酸エチル２Ｘ１
００ｍ７！で洗浄し、真空下で乾燥し、純粋な１１．１
３−ソーシスーレチノン酸３９３２を僅た、融点１２４
５〜１２６゜０℃。
７４．６２を祠だ。エーテル−ヘキサン再結晶化による
１ １’ 、 ｌ ３−ジーシスーレチノン酸７４．６
ｒヶ加温しながら酢酸エチル２５０ゴに溶解し、この
温溶液（５５〜６０６Ｃ）をケイソウ士を逼して濾過し
、異物を除去した。フィルターケーキを熱（８０〜７５
°Ｃ）酢酸エチル２ｘ１ｏｏｙで洗浄した。合液した涙
液及び洗液を最終容量約２００ｍ１に濃縮し、上記の如
く放冷した。生じた結晶を濾過し、冷酢酸エチル２Ｘ１
００ｍ７！で洗浄し、真空下で乾燥し、純粋な１１．１
３−ソーシスーレチノン酸３９３２を僅た、融点１２４
５〜１２６゜０℃。
実施例５８
窒素雰囲気下で容量ｌｏｏｍのフラスコに１１゜１３−
ジーシスーレチノン酸ｓ、ｏｒ及び酢酸エチル２５１ｎ
ｌを加えた。生じた浴液に５０℃で硝＠パラジウム（ｎ
）１ｏ、ｏ〜、トリフェニル小スフィン６００■、トリ
エチルアミン９．４Ｉ８９及びア虫トニトリル２．５
ｎｆ、の混合物１を加えた。−４壱晶化が５分以内に起
こった。この混合物を５０℃で１時間撹拌し、−１０℃
に冷却し、セして濾過した。結晶を冷（−２０℃）酢酸
エチル３Ｘ２０ｍ１．で洗浄し、真空下で乾燥し、１３
−シスーレチノン酸７．２８ ｒ（９１，５係）を得た
。
ジーシスーレチノン酸ｓ、ｏｒ及び酢酸エチル２５１ｎ
ｌを加えた。生じた浴液に５０℃で硝＠パラジウム（ｎ
）１ｏ、ｏ〜、トリフェニル小スフィン６００■、トリ
エチルアミン９．４Ｉ８９及びア虫トニトリル２．５
ｎｆ、の混合物１を加えた。−４壱晶化が５分以内に起
こった。この混合物を５０℃で１時間撹拌し、−１０℃
に冷却し、セして濾過した。結晶を冷（−２０℃）酢酸
エチル３Ｘ２０ｍ１．で洗浄し、真空下で乾燥し、１３
−シスーレチノン酸７．２８ ｒ（９１，５係）を得た
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 （α） ５−ヒドロキシ−４−メチル−２（５
Ｂ）−フラノンを低級アルカノール溶媒中でアルカリ金
属水酸化物の存在下において−１０〜−５０℃の温度で
式 式中へＲ１、Ｒ２及びＲ３はアリールまたはジ（低級ア
ルキル）アミンであり、そしてＸはハロケラである、 の塩と反応させ；そして （６） 脣機醇媒媒質中の工程（α）の反応生成物を
触媒と接触させることからなり、該触媒がノぐラジウム
モジくはロジウムフタロシアニン以外の或いはシアナイ
ドイオンを含むパラジウムもしくはロジウム化合物以外
のロジウムまたはパラジウムの化合物または錯体である
ことを特徴とする１３−シスーレチノン酸の製造方法。 ２ 該反応を−２０〜−５０℃で行う特許請求の範囲第
１項記載の方法。 ３、該反応を一３０℃〜−４５℃で行う特許請求の範囲
第１項記載の方法。 ４、該触媒を、溶媒中にて硝酸パラジウム（■）を低級
アルキルアミンの存在下においてドリアＩＪ−ルまたは
トリアルキルホスフィンと反応させることによって生成
させる特許請求の範囲第１項記載の方法。 ５、該ホスフィンがトリフェニルホスフィンであり、そ
してアミンがジエチルアミンである特許請求の範囲第４
項記載の方法。 ６ 触媒生成のための該醇媒がアセトニ） ＩＩルであ
る特許請求の範囲第５項記載の方法。 ７、 不活性刊機溶媒中の１１．１３−ソーシスーレチ
ノン酸を触媒と接触させることからなり、該触媒がパラ
ジウムもしくはロジウムフタロシアニン以外の或いはシ
アナイドイオンを含む・ぐラジウムもしくはロジウム錯
体または化合物以外のロジウムまたけパラジウムの化合
物′＝！、たけ錯体であることを特徴とする１３−シス
ーレチノン酸の製造方法。 ８ 該触媒が・ぐラジウムの塩または錯体である特許請
求の範囲第７項記載の方法。 ９、 該触媒を、溶媒中にて硝酸・ぐラジウム（ｎ）を
低級アルキルアミンの存在下においてトリアリールまた
はトリアルキルホスフィンと反応させることによって生
成させる特許請求の範囲第８項記載の方法。 ｌ Ｑ、 接手スフィンがトリフェニルホスフィンで
あり、そしてアミンかソエチルアミンである特許請求の
範囲第９項記載の方法。 １］、 触媒生成の太めの該溶媒７アセトニト１ノルで
ある棺計計４求の範囲第９項％己賊の方法。 １２、５−ヒドロキシ−４−メチル−２（５１１）−フ
ラノンを低級アルカノール 金属水酸化物の存在下において一１０°Ｃ〜−５０℃の
温ルーで式 式中、Ｊ７，、Ｒ２及びＲ３ はアリールまたはジ（低
級アルキル）アミンであり、そしてＸはハロゲノである
、 の塩と反応させることを特徴とする１３−シスーレチノ
ン酸及び１１ 、１ ３−ｙ−シスーレテノン酸を金石
する混合物の製造方法。 １３、該反応を一２０°Ｃ〜−５０℃で行う特許請求の
範囲第１２項記載の方法。 １４ 該反応を一３０°Ｃ〜−４５°Ｇで何う特許請求
の範囲第１３項記載の方法。 １５、該反応をアルカリ金属水酸化物の存在下において
インプロパノール中で行う材許請求の範囲第１３項記載
の方法。 １ ６、 シアン化パラジウム（ＩＩ）また（グパラ
ジウム（ＩＩ）フタロシアニン以外のパラジウム（［１
）塩１モルを有機溶媒中で少なくとも４モルのトリアリ
ールホスフィンと反応させ、そしてその後、該パラジウ
ム（Ｉｔ）塩１モル当り少なくとも２モルのトリ（低級
アルキル）アミンを与える量で該アミンを加えることを
特徴とするパラジウム触媒の製造方法。 １７、 該トリアリールホスフィンが該ノぐラジウム
（ＩＩ）塩１モル当り４〜１０モルの量で存在し、そし
て該トリ （低級アルキル）アミンが該パラジウム（Ｉ
Ｉ）塩１モル当り２〜２０モルの量で存在する特許請求
の範囲第１６項記載の方法。 １８、 該パラジウム（「）塩が硝酸・ぐラジウム（
ＩＩ）であり、そして該ホスフィンがトリフェニルホス
フィンである％奸「＾求の範囲第１５項記載の方法。 １９、該溶媒がアセトニトリルである％訂趙求の範囲第
１８項記載の方法。 ２０、 該′アミンがトリエチル′アミンでめる特許
請求の範囲第１９項記載の方法。 ２ １、 ％ｆ’Ｆ趙求の範囲第１６〜２０項のいず
れかに記載の方法で製造したパラジウム触媒。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US44866082A | 1982-12-10 | 1982-12-10 | |
| US448660 | 1982-12-10 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59116263A true JPS59116263A (ja) | 1984-07-05 |
| JPH0425263B2 JPH0425263B2 (ja) | 1992-04-30 |
Family
ID=23781154
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58231628A Granted JPS59116263A (ja) | 1982-12-10 | 1983-12-09 | １３―シス―レチノン酸の製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0111325B1 (ja) |
| JP (1) | JPS59116263A (ja) |
| AT (1) | ATE32217T1 (ja) |
| DE (1) | DE3375480D1 (ja) |
| DK (1) | DK170945B1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002507596A (ja) * | 1998-03-25 | 2002-03-12 | アボット・ラボラトリーズ | １３−シスレチン酸を製造する方法 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4313089A1 (de) * | 1993-04-22 | 1994-10-27 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von 13-(Z)-Retinsäure |
| US5534261A (en) * | 1995-01-17 | 1996-07-09 | University Of Southern California | Retinoid-based compositions and method for preventing adhesion formation using the same |
| IT1274494B (it) * | 1995-05-12 | 1997-07-17 | Lab Mag Spa | Procedimento fotochimico per la preparazione dell'acido 13-cis-retinoico |
| EP1564209A1 (en) * | 2004-02-17 | 2005-08-17 | Helsinn Advanced Synthesis SA | Process for the preparation of 13-cis-retinoic acid |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4051174A (en) * | 1973-08-21 | 1977-09-27 | Hoffmann-La Roche Inc. | Isomerization process |
-
1983
- 1983-12-08 DE DE8383112376T patent/DE3375480D1/de not_active Expired
- 1983-12-08 EP EP83112376A patent/EP0111325B1/de not_active Expired
- 1983-12-08 DK DK565683A patent/DK170945B1/da not_active IP Right Cessation
- 1983-12-08 AT AT83112376T patent/ATE32217T1/de not_active IP Right Cessation
- 1983-12-09 JP JP58231628A patent/JPS59116263A/ja active Granted
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|---|---|---|---|---|
| JP2002507596A (ja) * | 1998-03-25 | 2002-03-12 | アボット・ラボラトリーズ | １３−シスレチン酸を製造する方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3375480D1 (en) | 1988-03-03 |
| JPH0425263B2 (ja) | 1992-04-30 |
| DK565683A (da) | 1984-06-11 |
| EP0111325A3 (en) | 1985-07-03 |
| ATE32217T1 (de) | 1988-02-15 |
| EP0111325A2 (de) | 1984-06-20 |
| DK565683D0 (da) | 1983-12-08 |
| DK170945B1 (da) | 1996-03-25 |
| EP0111325B1 (de) | 1988-01-27 |
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