JPS59114874A - Semiconductor pressure transducer - Google Patents

Semiconductor pressure transducer

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JPS59114874A
JPS59114874A JP21674982A JP21674982A JPS59114874A JP S59114874 A JPS59114874 A JP S59114874A JP 21674982 A JP21674982 A JP 21674982A JP 21674982 A JP21674982 A JP 21674982A JP S59114874 A JPS59114874 A JP S59114874A
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sensors
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は半導体圧力トランスデユーサに関するものであ
り、更に詳しくいえば、圧力差が零の時に生ずる信号を
補償するように作られた半導体圧カドランスデューサに
関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to semiconductor pressure transducers, and more particularly to semiconductor pressure transducers designed to compensate for signals generated when the pressure difference is zero. .

従来の半導体圧カドランスデューサは、トランスデユー
サの2つの表面にかかる圧力の差に応答するダイアフラ
ムを用いている。そのダイアフラムは、1つの表面に応
力センサが配置されている単結晶半導体チップで形成さ
れる。この目的のために広く用いられている応力センサ
は圧抵抗特性を示す。チップ内に生ずる応力が差圧によ
シ変化するから、センサの抵抗値はセンサ内に生ずる応
力により変化させられる。ダイアフラムを形成するため
にチップの他の面に円形の空洞が形成され、その空洞を
囲むために前記他の面に円筒形のチューブの一端が接合
される。
Conventional semiconductor pressure quadrature transducers employ a diaphragm that responds to a difference in pressure across two surfaces of the transducer. The diaphragm is formed of a single crystal semiconductor chip on one surface of which a stress sensor is arranged. Stress sensors widely used for this purpose exhibit piezoresistive properties. Since the stress generated within the chip changes depending on the differential pressure, the resistance value of the sensor is changed by the stress generated within the sensor. A circular cavity is formed on the other side of the chip to form a diaphragm, and one end of a cylindrical tube is joined to said other side to surround the cavity.

通常は、少くとも一対の半径方向応力センナと、少くと
も一対の円周方向応力センサがチップの表面上に配置さ
れる。
Typically, at least one pair of radial stress sensors and at least one pair of circumferential stress sensors are disposed on the surface of the chip.

もともとは円形のダイアフラムを有する円形のチップが
採用されており、そのために全体のトランスデユーサは
チューブとを洞、およびチップの共通軸線に関、して対
称的でめった。しかし、最近は、結晶ウェイ1−を切断
することにより複数の正方形チップを容易に得ることが
できるから、正方形のチップを用いることが一般的にな
ってきた。
Originally a circular tip with a circular diaphragm was employed so that the entire transducer was symmetrical about the tube, the cavity, and the common axis of the tip. However, recently, it has become common to use square chips because a plurality of square chips can be easily obtained by cutting the crystal way 1-.

しかし、そのような半導体チップは、それに接合されて
いる円筒形チューブの軸線に関する対称性をもはや示さ
ない。
However, such a semiconductor chip no longer exhibits symmetry about the axis of the cylindrical tube to which it is joined.

このような従来の牛用体圧カドランスデューサでは、軸
対称性がないことと、チューブとチップとの材料が異な
ることのために、トランスデユーサにがかる静圧(すな
わち、ダイアフラムの両面に共通にかかる圧力つまたは
トランスデユーサの温度が変化するために、「零シフト
」と名づけられている偽の信号すなわちスプリアス信号
が生ずることになる。とくに「零シフト」信号というの
は、トランスデユーサのダイアフラムの両面にかかる圧
力の差が零の時に生ずる何らかの作用の結果として変化
する信号を意味する。従来の半導体圧カドランスデュー
サに生ずるとの零シフト現象のために、差圧を高い確度
で検出することを求められる場合には、信号を電子的に
補償する必要がある。
In these conventional cattle pressure quadrature transducers, the lack of axial symmetry and the different materials of the tube and tip result in static pressure (i.e., common pressure on both sides of the diaphragm) on the transducer. Changes in the pressure on the transducer or the temperature of the transducer will result in false or spurious signals, termed "zero shift". A signal that changes as a result of some action that occurs when the difference in pressure on both sides of the diaphragm is zero.Due to the zero shift phenomenon that occurs in conventional semiconductor pressure quadrature transducers, it is possible to measure the differential pressure with high accuracy. If required to be detected, the signal must be compensated electronically.

したがって、本発明の目的は、改良した半導体圧カドラ
ンスデューサを得ることである。
It is therefore an object of the present invention to provide an improved semiconductor pressure quadrature transducer.

本発明の他の目的は、零シフト%性が最小である半導体
圧カドランスデューサを得ることである。
Another object of the invention is to obtain a semiconductor pressure quadrature transducer with minimal zero shift percentage.

本発明の別の目的は、スプリアス信号が非常に小さい生
得体圧カドランスデューサを得ることである。
Another object of the invention is to obtain an innate body pressure quadrature transducer with very low spurious signals.

本発明の更に別の目的は、従来のものよりも高い確度で
圧力差を測定できる半導体圧カドランスデューサを得る
ことである。
Yet another object of the invention is to provide a semiconductor pressure quadrature transducer that is capable of measuring pressure differences with greater accuracy than conventional ones.

本発明によれば、正方形のチップ・ダイアフラムを備え
、そのチップの1つの縁部がチップの所定の結晶軸、ま
たはトランスデユーサの特定のセンサ軸に対して独特の
角度を成すような種類の半導体圧カドランスデューサを
得ることにより、前記目的は達成される。
According to the invention, a type of chip diaphragm having a square tip diaphragm with one edge of the tip forming a unique angle with respect to a given crystallographic axis of the tip or a particular sensor axis of a transducer is provided. By providing a semiconductor pressure quadrature transducer, the object is achieved.

本発明の一実施例によれば、正方形チップの1つの縁部
は、チップの<110> 結晶軸に対してほぼ22.5
度の角度を成す方向に向けられる。本発明によシ、温度
変化または静圧の変化によりダイアフラム中にひき起さ
れる半径方向と円周方向の応力の変化は等しいから、温
度変化または圧力変化によりひき起される零シフト信号
は非常に小さくされる。
According to one embodiment of the invention, one edge of the square chip is approximately 22.5
oriented at an angle of degrees. According to the invention, since the radial and circumferential stress changes induced in the diaphragm by temperature or static pressure changes are equal, the zero-shift signal caused by temperature or pressure changes is very be made smaller.

以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第1図に示されている半導体圧カドランスデューサは、
薄い正方形の半導体チップ1を有する。
The semiconductor pressure quadrature transducer shown in FIG.
It has a thin square semiconductor chip 1.

このチップ1はシリコンのような単結晶半導体材料で作
られる。仁のチップ1の第1の表面上に半径方向の応力
センサ3,4が配置される。その第1の表面上には円周
方向の応力センサ1,8も配置される。それらのセンサ
3,4,7.8はホウ素のような不純物をチップ1の表
面上の、センサの希望する形状に従って定められた領域
内に、たとえば拡散技術により注入することにより、チ
ップ1と一体になって形成される。そのセンサは圧抵抗
特性を示し、センサの抵抗値はそのセンサに加えられた
圧力に応じて変化する。
This chip 1 is made of a single crystal semiconductor material such as silicon. Radial stress sensors 3, 4 are arranged on the first surface of the solid chip 1. A circumferential stress sensor 1, 8 is also arranged on the first surface thereof. These sensors 3, 4, 7.8 are integrated into the chip 1 by implanting impurities such as boron on the surface of the chip 1 in areas defined according to the desired shape of the sensor, for example by diffusion techniques. It is formed by becoming. The sensor exhibits piezoresistive properties, and the resistance of the sensor changes depending on the pressure applied to the sensor.

第1図に破線で示されている円形空洞がチップ1の第2
の表面に形成される。その空洞を囲むようにして、円筒
形のチューブ(図示せず)がその第2の表面に接合され
る。そのチューブは検出すべき圧力を空洞へ伝えるよう
に機能する。空洞へ圧力が伝えられると、チップ1のう
ち、空洞の上に位置する部分がダイアフラムを形成する
。そのダイアフラムの内部にひき起される応力は、チュ
ーブにより伝えられた圧力と、第1の表面に加えられて
いる圧力との差に関係する。
The circular cavity indicated by the dashed line in FIG.
formed on the surface of A cylindrical tube (not shown) is bonded to the second surface surrounding the cavity. The tube serves to transmit the pressure to be detected into the cavity. When pressure is transmitted to the cavity, the part of the chip 1 located above the cavity forms a diaphragm. The stress induced inside the diaphragm is related to the difference between the pressure carried by the tube and the pressure being applied to the first surface.

第1図ではセンサは細長い片状に示されている。In FIG. 1, the sensor is shown as a strip.

しかし、実際には、ある特定のセンサを、直列につなが
れた複数の平行な細長い片の形に作ることができる。従
来は、それらのセンサは空洞の円筒座標、または圧力を
伝えるチューブの円筒座標に一致する方向に向けられて
いた。したがって、第1図のセンサ3,4は、その長手
方向が円筒座標の半径方向に沿うように向けられる。セ
ンサ3゜4に平行であるように示されているセンナ7.
8は、長手方向が円拘座樟の円周方向に沿い、かつその
円筒座標の半径方向を中心として対称的となるようにし
て配置される。
However, in practice, certain sensors can be made in the form of a plurality of parallel strips connected in series. Traditionally, these sensors have been oriented to match the cylindrical coordinates of the cavity, or the cylindrical coordinates of the tube carrying the pressure. The sensors 3, 4 of FIG. 1 are therefore oriented with their longitudinal directions along the radial direction of the cylindrical coordinates. Senna 7. shown parallel to sensor 3.4.
8 is arranged so that its longitudinal direction is along the circumferential direction of the circular constrictor and is symmetrical about the radial direction of its cylindrical coordinates.

チップ1の内部にひき起された応力は応力センサにより
検出される。このセンサの抵抗値はその応力に対応して
変化する。それらの応力はセンサの軸線に関して一般的
に記述される。応力の向きを表すベクトルが第1図に示
されている。それらのベクトルにより表されている応力
の振幅は記号σにより表され、その単位はダイン/平方
センチメートルである。したがって、半径方向に向けら
れているセンサ3,4の長手方向に沿ってひき起された
応力を半径方向応力σrと名づけ、センサ3.4の長手
方向に直角な方向の応力を円周方向応力(時には接線方
向応力とも呼ぶうσ。と名づける。したがって、円周方
向応力センサ1,8の長手方向に沿ってひき起される応
力を円周方向応力σ。と呼び、センサ7.8の長手方向
に対して直角な方向にひき起される応力を半径方向応力
σ。
The stress induced inside the chip 1 is detected by a stress sensor. The resistance value of this sensor changes in response to the stress. Those stresses are generally described with respect to the axis of the sensor. A vector representing the direction of stress is shown in FIG. The amplitude of the stress represented by these vectors is denoted by the symbol σ, and its units are dynes per square centimeter. Therefore, the stress induced along the longitudinal direction of sensors 3,4 oriented in the radial direction is termed radial stress σr, and the stress in the direction perpendicular to the longitudinal direction of sensor 3.4 is termed circumferential stress. (sometimes referred to as tangential stress). Therefore, the stress caused along the longitudinal direction of the circumferential stress sensors 1, 8 is called the circumferential stress σ. The stress induced in the direction perpendicular to the direction is the radial stress σ.

と呼ぶ。It is called.

4個のセンサ3,4,7.8が定電流ホイートストン・
ブリッジ状に接続された時に発生される出力信号により
ひき起される零シフトは次式により与えられる。
Four sensors 3, 4, 7.8 are constant current Wheatstone
The zero shift caused by the output signal produced when connected in a bridge configuration is given by:

e二1/2i、Rπ44(σ1−σC)ここに、lはブ
リッジに供給された電流、MRπ44はトランスデユー
サの温度のみに関係して変化する関数である。完全に軸
対称であるトランスデユーサの場合には、チップとチュ
ーブが異なる材料で作られているとしても、零シフト信
号が発生されないことを示すことができる。その場合に
は、チップ・ダイアフラムの表面に生ずる応力は一様で
あって、方向には関係しないから、ブリッジの出力は発
生されない。しかし、トランスデユーサ・チップが円形
でなくて正方形であり、円筒形のチューブが接合されて
いる場合には、軸対称性構造に欠けることになる。
e21/2i, Rπ44(σ1−σC) where l is the current supplied to the bridge and MRπ44 is a function that varies only with respect to the temperature of the transducer. It can be shown that in the case of a transducer that is completely axially symmetrical, no zero-shift signal will be generated even if the tip and tube are made of different materials. In that case, no bridge output is generated because the stress on the surface of the tip diaphragm is uniform and independent of direction. However, if the transducer tip is square rather than circular, and a cylindrical tube is joined, it will lack an axially symmetric structure.

先に示した式は、半径方向と円周方向との圧力の差が零
シフト信号に直接影響することを示している。更に、そ
のような圧力差が存在する時は、(Rπ44)に影響を
及はす温度変化も零シフト信号に寄与する。しかし、先
に示した式は、σ1とσ。を等しくすることにより零シ
フト信号を最小にでき、あるいは完全になくすことがで
きることも示している。
The equation shown above shows that the difference in radial and circumferential pressure directly affects the zero shift signal. Furthermore, when such a pressure difference exists, temperature changes that affect (Rπ44) also contribute to the zero shift signal. However, the equation shown earlier is σ1 and σ. It is also shown that the zero shift signal can be minimized or even completely eliminated by making .

従来のトランスデユーサでは、センサは、第1図に示さ
れているように、チップの縁部に平行または垂直に向け
られている。一般的に、センサをそのような向きに配置
すると、応力σ、と σ。は等しくなる。
In conventional transducers, the sensor is oriented parallel or perpendicular to the edge of the chip, as shown in FIG. In general, when the sensor is placed in such an orientation, the stresses σ, and σ. are equal.

そのような従来のトランスデユーサの問題を解消するた
めに、本願発明者は実験的な解析により、センサの向き
が変えられると、ある特定の形のトランスデユーサの応
力のσ、と σ。の差が変化することを認めた。それぞ
れシリコン製のチップとパイレックス(商品名)製のチ
ューブを有する種々のトランスデユーサ・モデルについ
てこの解析を行って得た結果を第2図に示す。解析を行
った各モデルについて、半径方向と円周方向の応力セン
サを正方形チップの縁部に関して回転させた時の半径方
向応力と円周方向応力との差をプロットした。各モデル
に対して、とりつけられている円筒形チューブのそれぞ
れの内径と外径および長さを各モデルのカーブの近くに
記載しである。用いたチップの辺の長さは約0.27セ
ンチ(約0.10 フインチ)であった。3種類のモデ
ルが等方性材料製のチップを用い、1つの種類が直方性
材料製のチップを用いた。
In order to solve such problems with conventional transducers, the present inventor conducted an experimental analysis to determine the stress σ and σ of a certain shape of transducer when the orientation of the sensor is changed. It was acknowledged that the difference in The results of this analysis are shown in FIG. 2 for various transducer models each having a silicon tip and a Pyrex tube. For each model analyzed, the difference between radial and circumferential stress was plotted when the radial and circumferential stress sensors were rotated about the edge of the square chip. For each model, the inner and outer diameters and lengths of the attached cylindrical tubes are listed near the curve of each model. The side length of the chip used was approximately 0.27 cm (approximately 0.10 finch). Three models used tips made of isotropic material and one type used tips made of rectangular material.

解析した全てのモデルのトランスデユーサに対して、約
22.5度の向き角において半径方向応力と円周方向応
力が等しいことを本願発明者は観察した。この向き角は
、センサの長手軸がチップの直線状縁部に対して成した
角度であった。また、この向き角を、チップの<110
> 結晶方向がチップの縁部に対して成す角度に一致さ
せることにより、センサの抵抗値の変化は半径方向応力
と円周方向応力との差に比例することになる。
The inventors have observed that the radial and circumferential stresses are equal at an orientation angle of about 22.5 degrees for all model transducers analyzed. This orientation angle was the angle that the longitudinal axis of the sensor made with the straight edge of the chip. Also, this orientation angle is set to <110 of the chip.
> By matching the crystal orientation to the angle that it makes with the edge of the chip, the change in resistance of the sensor will be proportional to the difference between the radial and circumferential stresses.

第2図に示す原理を用いる本発明の実施例を第3図およ
び第4図に示す。第3図および第4図に示されている半
導体圧カドランスデューサは、シリコンのような半導体
の単結晶から作られた正方形の半導体チップ10を有す
る。このチップ10の中心を通って、チップの一対の縁
部に対して約22.5度の角度を成す軸線に沿って一対
の半径方向応力センサ12,13が配置される。チップ
10の中心を通って、チップの他の2つの辺に対して約
22.5度の角度を成す別の軸線に沿って一対の円周方
向応力センサ16,17が配置される。それらの円周方
向応力センサはチップの(110>結晶方向にも平行で
ある。各応力センサはチップ10の1つの縁部に対して
22.5度の角度を成す。
An embodiment of the invention using the principle shown in FIG. 2 is shown in FIGS. 3 and 4. The semiconductor pressure quadrature transducer shown in FIGS. 3 and 4 has a square semiconductor chip 10 made from a single crystal of a semiconductor such as silicon. A pair of radial stress sensors 12, 13 are disposed through the center of the chip 10 along an axis forming an angle of approximately 22.5 degrees with respect to the pair of edges of the chip. A pair of circumferential stress sensors 16, 17 are disposed along another axis through the center of the chip 10 and at an angle of approximately 22.5 degrees with respect to the other two sides of the chip. The circumferential stress sensors are also parallel to the (110>crystalline direction of the chip. Each stress sensor makes an angle of 22.5 degrees with respect to one edge of the chip 10.

センサ12,13,16.17はホウ素のような不純物
を、拡散のような注入技術によシ、チップ10の表面の
うち、それらのセ/すの形を定める領域内に注入するこ
とにより、チップ10と一体に作られる。センサ12,
13.16.17は圧抵抗特性を示す。各センサが、直
列連結された複数の平行な圧抵抗材料製の細長い片で構
成できることも本発明の要旨内に含まれる。それらの細
長い片の長手方向は、第3図に示されているセンナの方
向に平行に向けられる。
The sensors 12, 13, 16, 17 are manufactured by implanting an impurity, such as boron, into the surface of the chip 10 in areas defining the shape of their cells, by an implantation technique such as diffusion. It is made integrally with the chip 10. sensor 12,
13, 16, and 17 show piezoresistive characteristics. It is also within the scope of the invention that each sensor can be comprised of a plurality of parallel strips of piezoresistive material connected in series. The longitudinal direction of the strips is oriented parallel to the direction of the senna shown in FIG.

第4図に示されている円形空洞21はチップ1vの、応
力センサ12,13,16.17が配置されている表面
とは反対側の表面に形成される。部分的に横断面で示さ
れている円筒形チューブ23がチップ10の前記反対側
の表面に接合される。
The circular cavity 21 shown in FIG. 4 is formed on the surface of the chip 1v opposite to the surface on which the stress sensors 12, 13, 16, 17 are arranged. A cylindrical tube 23, shown partially in cross section, is joined to said opposite surface of the chip 10.

そのチューブは、たとえばパイレックス(商品各で作る
ことができ、チューブ10の表面上に接合される。チュ
ーブ23は空洞21を囲むものとして示されているが、
チューブ23の内径を空洞21の直径よシ大きくしたり
、小さくすることも本発明の要旨に含まれる。
The tube may be made of, for example, Pyrex and is bonded onto the surface of tube 10. Although tube 23 is shown surrounding cavity 21,
It is also within the scope of the present invention to make the inner diameter of the tube 23 larger or smaller than the diameter of the cavity 21.

したがって、第3図およびM4図に示す本発明の実施例
は半径方向センナ12.13と円周方向センサ16,1
7の内部にほぼ等しい応力をひき起させ、それにより静
圧の変化とトランスデユーサの温度変化とによる零シフ
トをほぼなくしている。本発明の多くの実際的な用途に
対しては、零シフトの影響は15〜30の範囲で選択さ
れた向き角θに対して効果的に最小にされる。
Accordingly, the embodiment of the invention shown in FIGS. 3 and M4 has a radial sensor 12.13 and a circumferential sensor 16,1.
7, thereby substantially eliminating zero shifts due to changes in static pressure and changes in temperature of the transducer. For many practical applications of the invention, the effect of zero shift is effectively minimized for orientation angles θ selected in the range 15-30.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

M1図は従来のトランスデユーサの概略線図、第2図は
正方形チップで構成された半導体圧カドランスデューサ
の種々のモデルに対する半径方向応力と円周方向応力と
の差を、チップにかかる圧力の差が零の場合に、センナ
の向きとチップの縁部との間の角度の関数として描いた
カーブ、第3図は本発明の実施例の平面図、第4図は第
3図の■−■線に沿う断面図である。 1・・・・チップ、j、 4 、12 、13・−・・
半径方向センサ、7,8,16.17・・・・円周方向
センサ、21・・・・空洞、23・・・・チューブ。 特許出願人 ハネウェル・インコーボレーテツド領代理
人 山川数構(ほか1名) 1’tG、 1 Etc、、3 F’tc;、4
Figure M1 is a schematic diagram of a conventional transducer, and Figure 2 shows the difference between radial stress and circumferential stress for various models of semiconductor pressure quadrature transducers composed of square chips, and the pressure applied to the chip. A curve drawn as a function of the angle between the orientation of the senna and the edge of the chip when the difference between It is a cross-sectional view along the -■ line. 1...chip, j, 4, 12, 13...
Radial direction sensor, 7, 8, 16. 17... Circumferential direction sensor, 21... Cavity, 23... Tube. Patent Applicant Honeywell Incorporated Territory Agent Kazuka Yamakawa (and 1 other person) 1'tG, 1 Etc, 3 F'tc;, 4

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)少くとも1つの直線状縁部を有する単結晶半導体
チップと、このチップの1つの表面上に配置され、圧抵
抗特性を有する一対の半径方向応力センサと、前記チッ
プの前記1つの表面上に配置され、圧抵抗特性を有する
一対の円周方向応力センサと、を備え、前記チップの少
くとも前記直線状縁部は、前記チップの(110)結晶
方向に対してI−tは225度の角度で向けられ、前記
センサ対は前記<110>結晶方向に沿って向けられる
ことを特徴とする半導体圧カドランスデューサ。
(1) a single crystal semiconductor chip having at least one straight edge; a pair of radial stress sensors disposed on one surface of the chip and having piezoresistive properties; and a pair of radial stress sensors having piezoresistive properties; a pair of circumferential stress sensors having piezoresistive properties disposed on top of the chip, wherein at least the linear edge of the chip has an I-t of 225 with respect to the (110) crystal direction of the chip; 2. A semiconductor pressure quadrature transducer oriented at an angle of 100 degrees, the sensor pair being oriented along the <110> crystal direction.
(2)縁部が平行四辺形′を形成している単結晶半導体
チップと、このチップの1つの表面上に配置され、圧抵
抗特性を有する一対の半径方向応力センサと、前記チッ
プの前記1つの表面上に配置され、圧抵抗特性を有する
一対の円周方向応力センサとを備え、前記センナ対のう
ちの一方は前記チップのく110〉結晶方向に平行に向
けられるようにされる半導体圧カドランスデューサであ
って、前記チップの一方の縁部は前記<110>結晶方
向に対してほぼ22.5度の角度で向けられることを特
徴とする半導体圧カド2/スデユーサ。
(2) a single crystal semiconductor chip whose edges form a parallelogram', a pair of radial stress sensors arranged on one surface of this chip and having piezoresistive properties; a pair of circumferential stress sensors disposed on one surface and having piezoresistive characteristics, one of the sensor pairs being oriented parallel to the crystal direction of the chip; A semiconductor pressure quadrature transducer characterized in that one edge of said chip is oriented at an angle of approximately 22.5 degrees with respect to said <110> crystal direction.
(3)少くとも1つの直線状縁部および1つの表面に形
成された円形の空洞を看する1つの半導体チップと、仁
のチップの他の表面上に配置され、圧抵抗特性を有する
第1と第2のセンサ対とを備え、前記第1のセンサ対は
前記チップ内で前記空洞に対して主として第1の極座標
方向に沿う応力を検出し、前記第2のセンサ対は前記チ
ップ内で前記空洞に対して王として第2の極座標方向に
沿う応力を検出し、前記第2の方向は前記第1の方向に
対して垂直である、半導体圧カドランスデューサであっ
て、前記第1の方向は、前記縁部に対してほぼ22.5
度の角度を成す軸線を定めることを特徴とする半導体圧
カドランスデューサ。
(3) one semiconductor chip having at least one linear edge and a circular cavity formed on one surface; a first semiconductor chip disposed on the other surface of the chip and having piezoresistive properties; and a second pair of sensors, wherein the first pair of sensors detects stress mainly along a first polar coordinate direction with respect to the cavity within the chip, and the second pair of sensors detects stress mainly along a first polar coordinate direction within the chip. a semiconductor pressure quadrature transducer for detecting stress along a second polar coordinate direction as the axis relative to the cavity, the second direction being perpendicular to the first direction; The direction is approximately 22.5 to said edge.
A semiconductor pressure quadrature transducer characterized by defining an axis forming an angle of degrees.
(4)少くとも1つの直線状縁部が形成され、1つの表
面上に少くとも1つのセンサが配置される1つの半導体
チップを備え、前記センサは圧抵抗特性を有し、そのた
めに、前記センサの抵抗値は、前記チップ内に誘起され
た相互に垂直な応力の差に応じで変化し、前記チップの
間にかかる圧力の差が零の時に、相互に垂直な応力の間
の前記差が零であるように、前記センサは前記表面の上
に配置されることを特徴とする半導体圧カドランスデュ
ーサ。
(4) comprising one semiconductor chip on which at least one straight edge is formed and on one surface of which at least one sensor is arranged, said sensor having piezoresistive properties, so that said The resistance value of the sensor changes depending on the difference in mutually perpendicular stresses induced in the chips, and when the difference in pressure between the chips is zero, the difference between the mutually perpendicular stresses A semiconductor pressure quadrature transducer, characterized in that the sensor is disposed on the surface such that is zero.
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS53114688A (en) * 1977-03-17 1978-10-06 Hitachi Ltd Diaphragm type strain gauge
JPS5643771A (en) * 1979-09-17 1981-04-22 Omron Tateisi Electronics Co Semiconductor pressure sensor

Patent Citations (2)

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