JPS59107A - 色分解フイルタの製造方法 - Google Patents

色分解フイルタの製造方法

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Publication number
JPS59107A
JPS59107A JP57110522A JP11052282A JPS59107A JP S59107 A JPS59107 A JP S59107A JP 57110522 A JP57110522 A JP 57110522A JP 11052282 A JP11052282 A JP 11052282A JP S59107 A JPS59107 A JP S59107A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
filter
film
color separation
treatment
vapor deposited
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP57110522A
Other languages
English (en)
Inventor
Eiichiro Tanaka
栄一郎 田中
Yoshitaka Aoki
青木 芳孝
Shinji Fujiwara
慎司 藤原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP57110522A priority Critical patent/JPS59107A/ja
Publication of JPS59107A publication Critical patent/JPS59107A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/201Filters in the form of arrays

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は色分解フィルタの製造方法に関するものであり
、特にカラービデオカメラ等に使用可能で歩留υの小さ
い無機材料半導体膜フィルタの製造方法を提供するもの
である。
従来より、耐熱性に優れた無機材料による色分解フィル
タには、多層膜干渉フィルタ以外にも、半導体の基礎吸
収を用いた半導体膜フィルりが使用できる。例えば第1
図は、半導体膜フィルりを用いた従来の色分解フィルタ
を示しており、同フィルタの製造方法はガラス基板Q]
)上に多層膜干渉フィルタによるシアンストライプフィ
ルり02ヲ形成シ、その後、シアンストライプフィルタ
(6)上に光学的整合層としてAt20.膜03を形成
し、さらに同Al2O3膜0:!j上に第1の反射防止
層としてZrO2膜04)を形成する。さらにZ rO
2膜04上にZnXCd 、−z S (x=0.2 
)膜ストライプフィルタOeを形成する。その後第2の
反射防止層としてZrO2膜OQを形成し、このZrO
2膜Mをガラス膜(17)により被膜した後同ガラス膜
u′7)の表面を研摩によって平滑化を行なう。
このようにして得られた従来の色分解フィルタの分光特
性を第2図に示す。同図の分光透過性は、第1図の白色
部を通過する光りを100%としたときの透過光A、B
、Cに関する分光透過特性である。
ZnxCd、4S(x−02)膜ストライプフィルタ叫
を用いた黄色フィルタは、反射防止層であるZrO2膜
α蜀の効果も手つだって高い透過率を示すが、第2図中
の矢印ケ)で示すように、多層膜干渉フィルタのよう々
、透過帯での短波長側での鋭い透過特性の立上りを示さ
ず、いく分かなまった特性を示す。このだめカメラ特性
では、色再現(緑の彩度等)に難があった。
このような欠点を除去するため、ごくわずかなハロゲン
気体を含む雰囲気中で熱処理を行ない、立上り特性の改
善を行な−〕だ。例えば第3図のように、CCl4中を
通過させたArキャリアガスを開口部(P)よυ熱処理
管賄)に導入し、電気炉(32を用いて試刺(33)を
熱処理した。排気は開口(Qより行なった。
この時400°Cで30分間又は450“Cで10分間
の処理によυはぼ処理効果が飽和する。このようにして
改善された黄色フィルタの分光透過特性を第2図のB′
に示す。このようにして得られた周波数分離用色分解ス
トライプフィルタは、ビデオカラーカメラに実装時も良
好な色再現を示し、緑色の彩度も十分なものでめった。
しかし、上記の処理効果は、その後の同色分解フィルタ
の製造工程中の温度上昇に伴い、効果がを含むArガス
中で熱処理を行なったサンプル450°Cで30分間、
400°Cで60分間の真空中での温度上昇でほぼ完全
に処理前の特性にもどる。
本発明は、上記の欠点を除去し、特性が安定で色再現の
良好な色分解フィルタを再現性よく得られる色分解フィ
ルタの製造方法を提供する6以下本発明の実施例に係る
色分解フィルりの製造方法を説明する。
(実施例1) 第4図に示すようにガラス基板(41)上に金属膜を全
面形成したのちリフトオフ法、又は反応性ス/くツタエ
ツチングによってストライプ状のシアン多層膜干渉フィ
ルタ(4”Aを形成する。その後光学的整合層として膜
厚が約1600XのAe2o, Fl:刈(43)およ
び600Aの膜厚の第1の反射防止層としてZ r O
 2膜(柵を蒸着する。次にZno,l:do,8S膜
を蒸着した後、レジスト膜をマスク材としてスパッタエ
ツチングでヌトライブ化したZno.2Cdo.8S膜
(40を形成する。レジストを除去後第3図に示す熱処
理管にて、室温のCCI4液中を透過させたArガスを
流し、400°Cで30分間の熱処理を行なう。その後
第2の反射防止層として室温から400℃の温度範囲で
Zr02膜t4filを蒸着する。
さらに必要とあらば、ガラス膜(471を150”C〜
350’Cの範囲でスパッタ蒸着を行ない表面を平滑化
する。
(実施例2) 前記実施例1と同様にガラス基板上に、シアンフィルタ
、A7!20,膜、Z r02膜、Zno,Cdo,8
Sストライプフイルタ膜を形成し、約450“′Cの温
度で第2の反射防止層Zr021模を形成する。その後
、CC7?4を含むArガス中で400°Cで30分間
の熱処理を行なう。その後、150°C〜350”Cの
範囲でガラス膜をスパッタ蒸着を行ない、表面を平滑化
して色分解フィルタを形成する。
以上のようにして得られた色分解フィルタは、良好な色
再現を示した。
以上述べたように本発明の色分解フィルタの製造方法に
よ・れば色再現の良好な色分解フィルタが歩留シよく提
供できるもので工業上の利用価値が高い。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の色分解ストライプフィルタの断面図、第
2図は色分解ストライプフィルタの分光透過特性を示す
図、第3図は半導体膜フィルタのi?!!,処理装置を
示す図、第4図は本発明の一実施例に係る色分解フィル
タの断面図である。 (41)・・・透光性基板(ガラス基板L142)・・
・シアン多It’l1METl)フィルp、+431 
・h12o, m、(44)・・・ZrO2111f%
(反射防止膜) 、14Fil ・・・ZnxC.d 
I −xs 、f46i ”・ZrO2(反射防止膜)
、(47)・・・ガラス膜 代理人   森  本  義  弘 第1図 第4図 9

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、 透光性幕板上に少なくとも第1の反射防止層を形
    成する工程と、半導体の基礎吸収を用いた色分解フィル
    タ膜を形成する工程と、上記色分M−フィルタ膜をハロ
    ゲンイオン又はガスを含む雰囲気中で熱処理を行なう工
    程と、第2の反射防止層を形成する工程とを具備してな
    る色分解フィルタの製造方法において、上記熱処理後の
    工程中における上記基板温度を400°C以下とするこ
    とを特徴とする色分解フィルタの製造方法。
JP57110522A 1982-06-25 1982-06-25 色分解フイルタの製造方法 Pending JPS59107A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6119202U (ja) * 1984-07-06 1986-02-04 株式会社クラレ 色選択性と防げん性を有するフイルタ−
CN109574065A (zh) * 2019-01-22 2019-04-05 陕西科技大学 一种类叶片状的Zn0.2Cd0.8S材料的制备方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6119202U (ja) * 1984-07-06 1986-02-04 株式会社クラレ 色選択性と防げん性を有するフイルタ−
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