JPS59101603A - 鏡面体の製造方法 - Google Patents
鏡面体の製造方法Info
- Publication number
- JPS59101603A JPS59101603A JP21147682A JP21147682A JPS59101603A JP S59101603 A JPS59101603 A JP S59101603A JP 21147682 A JP21147682 A JP 21147682A JP 21147682 A JP21147682 A JP 21147682A JP S59101603 A JPS59101603 A JP S59101603A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- protective film
- specular surface
- base body
- mirror
- thickness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
- C25D11/02—Anodisation
- C25D11/04—Anodisation of aluminium or alloys based thereon
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、鏡面体の製造方法に関するもので、特にアル
ミニウム又はアルミニウム合金等の軟質金属を使用して
少なくとも１個以上の鏡面を有する鏡面体を製造する方
法に関するものである。
ミニウム又はアルミニウム合金等の軟質金属を使用して
少なくとも１個以上の鏡面を有する鏡面体を製造する方
法に関するものである。
複写機、ファクシミリ等の光学系における各種反射鏡や
、レーザプリンタ等のスキ、ヤナ用回転多面Ｒ（ポリゴ
ンミラ）の如く、ＯＡ概Ｆｔの開発と共に各種の鏡面体
が必要とされている。第１図に、ポリゴンミラを使用し
たレーザプリンタの概略を示しである。即ち、レーザ発
振器１がら射出されたレーザビームは偏向ミラー２及び
３によって方向変換された後に、変調！１４内を通過さ
れる。変１ｇ器４には画像情報源（不図示）から画像信
号が印加され、変調器４を通過するレーザビームを画像
信号に応じて変調させる。
、レーザプリンタ等のスキ、ヤナ用回転多面Ｒ（ポリゴ
ンミラ）の如く、ＯＡ概Ｆｔの開発と共に各種の鏡面体
が必要とされている。第１図に、ポリゴンミラを使用し
たレーザプリンタの概略を示しである。即ち、レーザ発
振器１がら射出されたレーザビームは偏向ミラー２及び
３によって方向変換された後に、変調！１４内を通過さ
れる。変１ｇ器４には画像情報源（不図示）から画像信
号が印加され、変調器４を通過するレーザビームを画像
信号に応じて変調させる。
次いで、変調されたレーザビームは、ビームエキスパン
ダ５を通過された後に、モータ６によって回転されてい
るポリゴンミラ７の１鏡面に入射され、「θレンズ８を
介して感光体ドラム９の輻方向に走査される。ポリゴン
ミラ７は、周方向【こ配置させた複数個の鏡面を有して
おり、各鏡面カベ感光体トラム９の幅方向を走査し、且
つ感光体ドラム９かドラム軸周りに駆動回転されること
（こよってドラム９の周面上に潜像が形成される。該潜
像は任意の公知の現像方法によって可視像化され、次い
て転写紙１０に転写して再生像を１ｑる。
ダ５を通過された後に、モータ６によって回転されてい
るポリゴンミラ７の１鏡面に入射され、「θレンズ８を
介して感光体ドラム９の輻方向に走査される。ポリゴン
ミラ７は、周方向【こ配置させた複数個の鏡面を有して
おり、各鏡面カベ感光体トラム９の幅方向を走査し、且
つ感光体ドラム９かドラム軸周りに駆動回転されること
（こよってドラム９の周面上に潜像が形成される。該潜
像は任意の公知の現像方法によって可視像化され、次い
て転写紙１０に転写して再生像を１ｑる。
この様なレーザプリンタに使用されるポリゴンミラ７は
、高速回転されるものであり、且つ高度の寸法情度を必
要とする超精密部品である。従って、ポリゴンミラ７の
材質としては、従来ｎｍであり且つ加工容易なアルミニ
ウム又はアルミニウム合金が使用されている。アルミニ
ウム合金を使用してポリゴンミラを製造する従来の方法
に於Ｑ１ては、アルミニウム合金から成る基体の鏡面を
形成すべき箇所の表面に化部ニッケルメッキ（カニゼン
メッキ）を施し、ラッピング又はボリシング等で鏡面仕
上げをし、次いで真空蒸着によってアルミ反則膜と酸化
硅素保護膜を被着形成させている。この様な従来方法に
於いては、工程数が多く旦つ１帷であって、多くの時間
と設備とを必要とし、！す造コスｌ−ｅ Ｈしく高いも
のとしている。
、高速回転されるものであり、且つ高度の寸法情度を必
要とする超精密部品である。従って、ポリゴンミラ７の
材質としては、従来ｎｍであり且つ加工容易なアルミニ
ウム又はアルミニウム合金が使用されている。アルミニ
ウム合金を使用してポリゴンミラを製造する従来の方法
に於Ｑ１ては、アルミニウム合金から成る基体の鏡面を
形成すべき箇所の表面に化部ニッケルメッキ（カニゼン
メッキ）を施し、ラッピング又はボリシング等で鏡面仕
上げをし、次いで真空蒸着によってアルミ反則膜と酸化
硅素保護膜を被着形成させている。この様な従来方法に
於いては、工程数が多く旦つ１帷であって、多くの時間
と設備とを必要とし、！す造コスｌ−ｅ Ｈしく高いも
のとしている。
ところで、２近の超？ｉｉ密顕械加工技術におけろ技術
開発によって、アルミニウム合金の表面な所望の二尭百
第度に！！械加工する事が可能となってきた。アルミニ
ウム合金の様な吹質月料の精密（４戚加工法としては、
ラッピング１こよるよりも切削加工による加工法が適し
ており、特に軍結晶ダーｒ′Ｎ７モンド切削（・二よる
切削加工等がある。しかしながら、二の：５に切削カロ
エされた鏡面は１３！低的強度に乏しく、キズや汚れが
つき易く、折角高ｎ度に鏡面仕上げした表５性合劣化さ
せてしまう。この劣化氾」込する為に、真空蒸着で保Σ
！膜を付着形成ずろこととすると、真空蒸着によりて形
成丈る保護膜の膜厚の制御上の因？：′ｉ性りの理由に
より鏡面性能の低下及びバラツキを招来する小となるの
で得策ではない。
開発によって、アルミニウム合金の表面な所望の二尭百
第度に！！械加工する事が可能となってきた。アルミニ
ウム合金の様な吹質月料の精密（４戚加工法としては、
ラッピング１こよるよりも切削加工による加工法が適し
ており、特に軍結晶ダーｒ′Ｎ７モンド切削（・二よる
切削加工等がある。しかしながら、二の：５に切削カロ
エされた鏡面は１３！低的強度に乏しく、キズや汚れが
つき易く、折角高ｎ度に鏡面仕上げした表５性合劣化さ
せてしまう。この劣化氾」込する為に、真空蒸着で保Σ
！膜を付着形成ずろこととすると、真空蒸着によりて形
成丈る保護膜の膜厚の制御上の因？：′ｉ性りの理由に
より鏡面性能の低下及びバラツキを招来する小となるの
で得策ではない。
本発明は、Ｊメ上の点に鑑みなされたちのであって、４
面特性が均一であり、月つ製造上の、バ、ラツキを減少
させ、製造コストを著しく低減可能な≦ｎ而面体ツノ造
方法を提供する事を特徴とする特に、アルミニウム合金
を使用して鏡面体を製造する場合に、アルミニウム合金
から成る基体を情密椴械加工し−Ｃ鏡面を形成した後に
、アルマイ１へ化処理を施して少なくとも鏡面上に酸化
アルミニウムから成る保護膜を所定のｇｅｔ厚に制御し
て付む形成さけるものである。この場合に、基体の屈折
率と保護膜の屈折率との相違から、保護膜を付着形成さ
けた鏡面からの反ｎＪ光強度は、保護膜の膜厚に依存し
て変化するので、反射光強度をモニタすることによって
アルマイ１へ化処理を終了さゼ、保護膜を所定の厚さに
制御するものである。
面特性が均一であり、月つ製造上の、バ、ラツキを減少
させ、製造コストを著しく低減可能な≦ｎ而面体ツノ造
方法を提供する事を特徴とする特に、アルミニウム合金
を使用して鏡面体を製造する場合に、アルミニウム合金
から成る基体を情密椴械加工し−Ｃ鏡面を形成した後に
、アルマイ１へ化処理を施して少なくとも鏡面上に酸化
アルミニウムから成る保護膜を所定のｇｅｔ厚に制御し
て付む形成さけるものである。この場合に、基体の屈折
率と保護膜の屈折率との相違から、保護膜を付着形成さ
けた鏡面からの反ｎＪ光強度は、保護膜の膜厚に依存し
て変化するので、反射光強度をモニタすることによって
アルマイ１へ化処理を終了さゼ、保護膜を所定の厚さに
制御するものである。
以下、第２図及び第３図を参考に、ポリゴンミラを製造
ブる場合の本発明の具体的実施の態様に付いて詳細に説
明する。第２図は、アルミニウム合金から成る基体に超
精密門械加工（切削加工）を６色し、基体の周５面」二
に複数個の鏡面を形成した後に、アルマイト化処理によ
って鏡面上に醇化アルミニウムの保１１ｉ９を形成させ
る装置の１例を示している。即ち、第２図に於いて、タ
ンク１１内に電解液１２が入れられており、ポリゴンミ
ラの形状に切削加工を施され支持軸１４に一体的に支持
されている基体１３が電解液１２内に浸漬されて位置さ
れている。支持軸１４は、１対のチェーン１５．１５を
介して、モータ１６の駆動軸１７によって駆動回転され
、従って基体１３は電解液１２中で所定方向に回転され
る。尚、電解液としては、例えば硫酸１５％水溶液を使
用することが可能である。
ブる場合の本発明の具体的実施の態様に付いて詳細に説
明する。第２図は、アルミニウム合金から成る基体に超
精密門械加工（切削加工）を６色し、基体の周５面」二
に複数個の鏡面を形成した後に、アルマイト化処理によ
って鏡面上に醇化アルミニウムの保１１ｉ９を形成させ
る装置の１例を示している。即ち、第２図に於いて、タ
ンク１１内に電解液１２が入れられており、ポリゴンミ
ラの形状に切削加工を施され支持軸１４に一体的に支持
されている基体１３が電解液１２内に浸漬されて位置さ
れている。支持軸１４は、１対のチェーン１５．１５を
介して、モータ１６の駆動軸１７によって駆動回転され
、従って基体１３は電解液１２中で所定方向に回転され
る。尚、電解液としては、例えば硫酸１５％水溶液を使
用することが可能である。
基体１３は、直流電圧源１８の正極側に接続されており
、一方電圧源１８の負極側に接続した対向電極１９を電
解液１２中に浸漬させ且つ基体１３に対向させて配設し
である。参照番号２０で示したものはヒータであり、電
解１１２を適温、例えば本実施例に於いては約９０℃に
加熱する。又、電解液１２中に攪拌器２１を設けてあり
、電解液１２の濃度及び温度を各部で一様に保ち、基体
１３上へ形成される保護膜の膜厚の一様性を向上させる
。
、一方電圧源１８の負極側に接続した対向電極１９を電
解液１２中に浸漬させ且つ基体１３に対向させて配設し
である。参照番号２０で示したものはヒータであり、電
解１１２を適温、例えば本実施例に於いては約９０℃に
加熱する。又、電解液１２中に攪拌器２１を設けてあり
、電解液１２の濃度及び温度を各部で一様に保ち、基体
１３上へ形成される保護膜の膜厚の一様性を向上させる
。
上述した溝成に於いて、基体１３を回転させなから基体
１３を陽極酸化させることによって基体］３の周上に形
成されている鏡面上に酸化アルミニウム保護膜を付着形
成させることが可能であるか、この場合に、本発明方法
では保護膜が付′着形成されつつある基体１３の鏡面に
光ビームを照射し、その反射ビームの強度をモニタする
事によって保護膜の膜厚を制御する。即ち、第２図に示
した如く、光ビーム源としてレーザ発振器２２を設けて
あり、レーザ発振器２２から射出されたレーザど−ムは
偏向部材２３によって偏向され、基体１３に入射される
。基体１３から反射された反射ど一ムは、更に偏向部材
で偏向され、パワーメータ等の測定器２４に導かれる。
１３を陽極酸化させることによって基体］３の周上に形
成されている鏡面上に酸化アルミニウム保護膜を付着形
成させることが可能であるか、この場合に、本発明方法
では保護膜が付′着形成されつつある基体１３の鏡面に
光ビームを照射し、その反射ビームの強度をモニタする
事によって保護膜の膜厚を制御する。即ち、第２図に示
した如く、光ビーム源としてレーザ発振器２２を設けて
あり、レーザ発振器２２から射出されたレーザど−ムは
偏向部材２３によって偏向され、基体１３に入射される
。基体１３から反射された反射ど一ムは、更に偏向部材
で偏向され、パワーメータ等の測定器２４に導かれる。
測定器２４は制御器２５に接続されており、測定器２４
からの反射ビーム強度をモニタし、保護膜が所定の膜厚
になった事を検知してアルマイト化処理を終了させる。
からの反射ビーム強度をモニタし、保護膜が所定の膜厚
になった事を検知してアルマイト化処理を終了させる。
基体１３上に付着形成される保護膜の膜厚をｄとし、そ
の屈折率をｎとすると、一般的に、次式か成立する。
の屈折率をｎとすると、一般的に、次式か成立する。
ｎｄ＝ｍ・ λ／４ （１）但し、
ｍ：正整数 λ：入射ビーム波長 ここで、保護膜の光学的膜厚ｎｄと、反射ビームの反射
率、即ちパワーメータ２４の感度は、第３図に示した如
く正弦波曲線となる。従って、制御器２５に於いて、パ
ワーメータ感度の変化特性をモニタすることにより、保
護膜の膜厚の成長度合をモニタすることが可能となり、
常に所定の膜厚に制御する事が可能となる。アルマイト
化処理における酸化膜の成長速度が、電解液の濃度、温
度、電圧源の変動等種々の影響を受けて変化したとして
も、本発明に於いては、反射ビームの強度をモニタする
ことによって直接的に膜厚の制御を行なうものであるか
ら何等悪影響を受けることはない。
ｍ：正整数 λ：入射ビーム波長 ここで、保護膜の光学的膜厚ｎｄと、反射ビームの反射
率、即ちパワーメータ２４の感度は、第３図に示した如
く正弦波曲線となる。従って、制御器２５に於いて、パ
ワーメータ感度の変化特性をモニタすることにより、保
護膜の膜厚の成長度合をモニタすることが可能となり、
常に所定の膜厚に制御する事が可能となる。アルマイト
化処理における酸化膜の成長速度が、電解液の濃度、温
度、電圧源の変動等種々の影響を受けて変化したとして
も、本発明に於いては、反射ビームの強度をモニタする
ことによって直接的に膜厚の制御を行なうものであるか
ら何等悪影響を受けることはない。
レーザ発振器２２としてｌ−１ｅ−Ｎｅレーザを使用し
た場合の１例を挙げると、λ−６３２，８ｎｍであって
、Ａｌ１２０３の屈折率ｎ ＝ １．６７あるから、
ｎ〔ｌ−λ／ ２ ＝ ３１６．４ｎｍｄ＝ ３１
Ｇ、４／ １，６ 侶 ２，０ＯＯＡとなる。
た場合の１例を挙げると、λ−６３２，８ｎｍであって
、Ａｌ１２０３の屈折率ｎ ＝ １．６７あるから、
ｎ〔ｌ−λ／ ２ ＝ ３１６．４ｎｍｄ＝ ３１
Ｇ、４／ １，６ 侶 ２，０ＯＯＡとなる。
以上詳説した如く、本発明方法によれば、當に所定の厚
さに制御された保護膜を形成することが可能となり、特
性上のバラツキの少ない鏡面体を製造することが可能で
ある。本発明をアルマイト処理で行なった場合には、真
空蒸着の場合ど比較し付着性の向上した保護膜を形成す
ることが可能であり、更に真空装置等を必要としないの
で加工特開か短縮され、工程が単純化されると共に、製
造コストを低減化することが可能となる。
さに制御された保護膜を形成することが可能となり、特
性上のバラツキの少ない鏡面体を製造することが可能で
ある。本発明をアルマイト処理で行なった場合には、真
空蒸着の場合ど比較し付着性の向上した保護膜を形成す
ることが可能であり、更に真空装置等を必要としないの
で加工特開か短縮され、工程が単純化されると共に、製
造コストを低減化することが可能となる。
以上、本発明の具体的構成に付いて詳細に説明したが、
本発明は、こ・れら具体例に限定されるべきものではな
く、本発明の技術的範囲を逸脱することなしに、種々の
変形が可能であることは勿論である。
本発明は、こ・れら具体例に限定されるべきものではな
く、本発明の技術的範囲を逸脱することなしに、種々の
変形が可能であることは勿論である。
第１図はレーザプリンタの構成を示した概略図、第２図
は本発明方法に於いてアルマイト処理によってアルミ合
金ポリゴンミラ表面上に酸化アルミニウム保護膜を形成
する装置の１例を示した説明図、第３図は保護膜の光学
的膜厚と反射光強度との関係を示したグラフ図、である
。 （符号の説明） ７：ポリゴンミラ １３：基体（鏡面体） ２２：レーザ発振器 ２３：偏向部材 ２４：測定器（パワーメータ） 特許出願人 株式会社 リ コ 一代
理 人 小 橋 正 明
、 ゛）〜１．／
は本発明方法に於いてアルマイト処理によってアルミ合
金ポリゴンミラ表面上に酸化アルミニウム保護膜を形成
する装置の１例を示した説明図、第３図は保護膜の光学
的膜厚と反射光強度との関係を示したグラフ図、である
。 （符号の説明） ７：ポリゴンミラ １３：基体（鏡面体） ２２：レーザ発振器 ２３：偏向部材 ２４：測定器（パワーメータ） 特許出願人 株式会社 リ コ 一代
理 人 小 橋 正 明
、 ゛）〜１．／
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、少なくとも１個の鏡面を有する鏡面体の製造方法に
於いて、基体の所定表面に観械加工を施して少なくとも
１個の鏡面を形成し、次いで少なくとも前記鏡面上に保
護膜を付着形成すると同詩に前記保護膜が付着形成され
ている前記鏡面からの反射光強度をモニタしながら前記
保護膜の膜厚制御を行なう事を特徴とする鏡面体の製造
方法。 ２、上記第１項に於いて、前記機械加工が切削加工であ
る事を特徴とする鏡面体の製造方法。 ３、上記第１項に於いて、前記鏡面体が複数個の鏡面を
周上に配置させた多面鏡体である事を特徴とする鏡面体
の製造方法。 ４、上記第１項に於いて、前記基体がアルミニウム又は
アルミニウム合金であって、前記保護膜はアルマイト処
理によって形成される醇化アルミニウムである事を特徴
とする鏡面体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21147682A JPS59101603A (ja) | 1982-12-03 | 1982-12-03 | 鏡面体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21147682A JPS59101603A (ja) | 1982-12-03 | 1982-12-03 | 鏡面体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59101603A true JPS59101603A (ja) | 1984-06-12 |
Family
ID=16606573
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21147682A Pending JPS59101603A (ja) | 1982-12-03 | 1982-12-03 | 鏡面体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59101603A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0523677A2 (en) * | 1991-07-16 | 1993-01-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Method and apparatus for anodic oxidation treatment |
| WO2006095817A1 (ja) * | 2005-03-10 | 2006-09-14 | Fujifilm Corporation | 基材処理装置及び基材処理方法 |
-
1982
- 1982-12-03 JP JP21147682A patent/JPS59101603A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0523677A2 (en) * | 1991-07-16 | 1993-01-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Method and apparatus for anodic oxidation treatment |
| EP0523677A3 (en) * | 1991-07-16 | 1994-10-19 | Canon Kk | Method and apparatus for anodic oxidation treatment |
| WO2006095817A1 (ja) * | 2005-03-10 | 2006-09-14 | Fujifilm Corporation | 基材処理装置及び基材処理方法 |
| JP2006284569A (ja) * | 2005-03-10 | 2006-10-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 基材処理装置及び基材処理方法 |
| EP1860212A1 (en) * | 2005-03-10 | 2007-11-28 | Fujifilm Corporation | Base material processing apparatus and base material processing method |
| EP1860212A4 (en) * | 2005-03-10 | 2010-05-26 | Fujifilm Corp | BASE MATERIAL PROCESSING APPARATUS AND BASE MATERIAL PROCESSING METHOD |
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