JPS588636A - Photo polymerizing element wound in roll form - Google Patents
Photo polymerizing element wound in roll formInfo
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- JPS588636A JPS588636A JP10566481A JP10566481A JPS588636A JP S588636 A JPS588636 A JP S588636A JP 10566481 A JP10566481 A JP 10566481A JP 10566481 A JP10566481 A JP 10566481A JP S588636 A JPS588636 A JP S588636A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はフレキシブルプリント回路板を製造するための
ロール状に巻取られた光重合性エレメントに関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a photopolymerizable element wound into a roll for manufacturing flexible printed circuit boards.
フレキシブルプリント回路板はハード基板に比べると様
々な利点を持っている。第1に柔軟で屈曲性に富むため
5曲面や角に合わせた立体的な配線が可能であること、
第2に薄いため薄膜化が可能であること、第3に動くも
のへの配線が可能な事である。又、更に特徴的なことは
、基板の一部に補強板を当てて硬い部分を作91部品を
実装してハード基板の役目を持たせ、補強しない部分は
その柔軟性を生かして接続ケーブルとして1枚の基板を
使い分けることができることである。Flexible printed circuit boards have various advantages over hard circuit boards. Firstly, it is flexible and highly flexible, allowing three-dimensional wiring to fit around five curved surfaces and corners.
Second, since it is thin, it can be made into a thin film, and third, it can be wired to moving objects. What is even more unique is that a reinforcing plate is applied to a part of the board to create a hard part, and 91 parts are mounted on it to serve as a hard board, while the part that is not reinforced can be used as a connection cable by taking advantage of its flexibility. The ability to use one board for different purposes.
以上の様な利点のため、フレキシブルプリント回路板は
近年共々その使用が増えている。Due to the advantages mentioned above, flexible printed circuit boards have been increasingly used in recent years.
フレキシブルプリント回路板を製造する方法はフレキシ
ブル銅張シ板に液状レジストを塗布するか、又はドライ
フィルムレジストを加圧積層し、画像露光、現像して所
望のパターンを作成し、最後にエツチング処理又はメッ
キ処理して最終の金属パターンを得ることである。The method of manufacturing a flexible printed circuit board is to apply a liquid resist to a flexible copper-clad board or to laminate a dry film resist under pressure, to create a desired pattern by image exposure and development, and finally to perform an etching process or The process involves plating to obtain the final metal pattern.
しかしながら、従来方法に於ては液状のレジストの場合
、均一な厚みの塗布には熟練を要し、ドライフィルムレ
ジストの場合、銅面に積層する時に、積層装置の振動や
くるいによシフイルムにしわが発生した9、銅面に貼9
つけた時空気を抱き込んだりするという様々不都合が生
ずる。However, in the conventional method, in the case of a liquid resist, skill is required to apply it to a uniform thickness, and in the case of a dry film resist, when laminating it on a copper surface, vibrations of the laminating equipment and swivels of the film may occur. I was born 9, pasted on the copper surface 9
There are various inconveniences such as air being trapped when the product is attached.
そして、いずれの場合でも、その為の塗布装置、積層装
置が必要である。In either case, a coating device and a laminating device are required.
本発明は以上の欠点を克服し、効率良くフレキシブルプ
リント回路板を作成するための光重合性エレメントに関
するものであシ、そのエレメントは、(1)保護フィル
ム、(2)光重合性のレジスト形成層及び(5)フレキ
シブル銅張シ基板を順次積層して成るフレキシビリティ
があり、ロール状に巻取られたものである。The present invention overcomes the above drawbacks and relates to a photopolymerizable element for efficiently producing a flexible printed circuit board, which element comprises: (1) a protective film; (2) photopolymerizable resist formation It has flexibility, consisting of layers and (5) a flexible copper-clad substrate that are sequentially laminated, and is wound into a roll.
本発明のエレメントによれば、最初からレジスト形成層
がフレキシブル基板上に積層されている4 ので、従来
の様な塗布又は積層という工程は必要でないし、そのた
めの装置も不要でその工程で生じる損失もなくなり、非
常に効率的で便利である。フレキシブルプリント世路板
の製造者は従来の作業をすることなくプリント回路板を
製造することができる。According to the element of the present invention, the resist forming layer is laminated on the flexible substrate from the beginning4, so there is no need for the conventional coating or laminating process, and there is no need for any equipment for that process, resulting in loss caused by that process. It is very efficient and convenient. Manufacturers of flexible printed circuit boards can manufacture printed circuit boards without traditional operations.
又、従来フレキシブルプリント回路板を製造するための
この様なエレメントは発明されていない。Moreover, such an element for manufacturing flexible printed circuit boards has not been invented to date.
本発明のエレメントに使用される保護フィルムはレジス
ト形成層から容易に剥離することができるフィルムが好
ましく1例えばポリエチレン、ポリプロピレン等のポリ
オレフィンフィルム、あるいは2軸延伸ポリエチレンテ
レフタレートフイルム、ポリアミドフィルム、ポリアセ
タールフィルム等がある。The protective film used in the element of the present invention is preferably a film that can be easily peeled off from the resist forming layer. For example, a polyolefin film such as polyethylene or polypropylene, a biaxially oriented polyethylene terephthalate film, a polyamide film, a polyacetal film, etc. be.
保護フィルムを剥離する時には保護フィルムとレジスト
形成層との密着力がレジスト形成層と銅゛面との密着力
よシも小さくなるように保護フィルムを選択しなけれは
ならない。When removing the protective film, the protective film must be selected so that the adhesion between the protective film and the resist forming layer is smaller than the adhesion between the resist forming layer and the copper surface.
光重合性のレジスト形成層は保護フィルムとフレキシブ
ル銅張り基板に挾まれた構造であシ、保存される場合が
あり、取扱い上の点からも固体状のものが好ましい、。The photopolymerizable resist forming layer has a structure in which it is sandwiched between a protective film and a flexible copper-clad substrate, and may be stored, so it is preferable to use a solid form from the viewpoint of handling.
レジスト形成層の組成としては、ドライフィルムレジス
トの組成が最適であり、■有機重合体バインダー、■不
飽和結合を2個以上持つエチレン性不飽和化合物、■光
重合開始剤から成るレジスト組成が一般的である。具体
的には1%公昭45−25231号公報、特開昭54−
18732号公報中に開示されている組成物が使用でき
る。As for the composition of the resist forming layer, the composition of a dry film resist is optimal, and the resist composition generally consists of: ■ an organic polymer binder, ■ an ethylenically unsaturated compound having two or more unsaturated bonds, and ■ a photopolymerization initiator. It is true. Specifically, 1% Publication No. 45-25231, JP-A-54-
The composition disclosed in Publication No. 18732 can be used.
フレキシブル銅張り基板に使用される材料は2軸延伸ポ
リエチレンテレフタレートフイルム、ポリイミドフィル
ム、エポキシ樹脂を含浸した薄いガラスクロス膜等のベ
ースフィルムに銅箔を接着したものである。フィルムの
厚みは20〜200μ。The material used for the flexible copper-clad board is a base film such as a biaxially oriented polyethylene terephthalate film, a polyimide film, or a thin glass cloth film impregnated with epoxy resin, to which copper foil is bonded. The thickness of the film is 20-200μ.
銅箔の厚みは18〜200μが一般的である。The thickness of copper foil is generally 18 to 200μ.
このフレキシブル基板は銅箔が片側に接着されたものに
限定されるものではなく、ベースフィルムの両面に銅箔
を接着した両面銅張基板も使用でき、本発明のエレメン
トとして両面に光重合性層を設けたエレメントも存在す
る。This flexible board is not limited to one in which copper foil is bonded to one side; a double-sided copper-clad board in which copper foil is bonded to both sides of a base film can also be used. There are also elements with .
6一
本エレメントは、フレキシブル銅張シ基板の銅面上に光
重合性溶液を塗布、乾燥し、保護フィルムを加圧積層す
るか、又は、保護フィルム上に同様に光重合性溶液を塗
布、乾燥し、フレキシブル銅張シ基板の銅面とレジスト
面とを加圧積層して製造する。6 One element can be prepared by applying a photopolymerizable solution on the copper surface of a flexible copper-clad board, drying it, and laminating a protective film under pressure, or by applying a photopolymerizable solution on the protective film in the same way. After drying, the copper surface and the resist surface of the flexible copper-clad substrate are laminated under pressure to manufacture the substrate.
以上に述べたように、本発明のエレメントにより、従来
の方法より簡便に能率良くフレキシブルプリント回路板
を作ることができる。As described above, with the elements of the present invention, flexible printed circuit boards can be manufactured more easily and efficiently than with conventional methods.
実施例1 下記のレジスト組成物を調合した。Example 1 The following resist composition was prepared.
ポリメチルメタクリレート(MW=12万)
soo?トリメチロールプロパントリアクリレート
300 fトリエチレングリコールジアセテート
40?ベンゾフエノン 30
f
ミ ヒ ラ − ケ ト ン
10Fビクトリアピユアブルー
1fメチルエチルケトン
2000 f上記の溶液を第1図に示すように、レジス
ト溶液槽(2人)から厚さ25μ、巾30tMの2軸延
伸ポリ 6−
エチレンテレフタレートフィルム(1)上に塗布シ、乾
燥機(3A)を通して80℃で乾燥し、厚さ25μのレ
ジスト層(2)を形成した。そして連続的にベースフィ
ルムのポリイミド厚み100μ(4)S銅箔埋み35μ
(3)のフレキクプル基板゛(5)に加圧積層し、ロー
ル状(6)に巻取り、最終的に100m巻取った本エレ
メントの断面を第2図に示した。このエレメントを30
anに裁断し、透明画像を通して、オーク社製の超高圧
水銀灯(フェニックス3000.出力3KW)にて15
秒間露光した。Polymethyl methacrylate (MW=120,000)
Sooo? trimethylolpropane triacrylate
300 f triethylene glycol diacetate 40? Benzophenone 30
f mi hira ke ton
10F Victoria Pure Blue 1F Methyl Ethyl Ketone
2000 f The above solution was coated from a resist solution tank (2 people) onto a biaxially stretched poly 6-ethylene terephthalate film (1) with a thickness of 25 μm and a width of 30 tM as shown in Figure 1, and then dried in a dryer (3A). ) and dried at 80° C. to form a resist layer (2) with a thickness of 25 μm. Then, the polyimide thickness of the base film is 100μ (4) S copper foil embedded 35μ
Figure 2 shows the cross section of this element, which was laminated under pressure on the flexible pull board (3) (5), wound up into a roll (6), and finally rolled up to 100 m. 30 of this element
It was cut into 15cm squares and exposed through a transparent image using an ultra-high pressure mercury lamp manufactured by Oak (Phoenix 3000. Output 3KW).
Exposure for seconds.
次に、 ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し
、1・1弓−トリクロルエタンをシャワー装置により噴
きかけ、未露光部を除去し画像を形成した。そして、塩
化第2鉄溶液(ボーア45°)に浸漬して、露出した銅
面をエツチング除去し・レジストの下の銅のみを残した
。更にこのレジストを塩化メチレンにて除去し、銅のパ
ターンを得た。Next, the polyethylene terephthalate film was peeled off, and 1.1-trichloroethane was sprayed onto it using a shower device to remove the unexposed areas and form an image. Then, the exposed copper surface was etched away by immersion in a ferric chloride solution (Bohr 45°), leaving only the copper under the resist. Furthermore, this resist was removed with methylene chloride to obtain a copper pattern.
得られた回路板は柔軟で屈曲性があシ、180°に屈曲
させても回路板の割れ等の現象は発生しなかった。The obtained circuit board was flexible and had good flexibility, and no phenomena such as cracking of the circuit board occurred even when it was bent at 180°.
一 実施例2 下記のレジスト組成物を調合した。One Example 2 The following resist composition was prepared.
ポリメチルメタクリレ−)(MW=8万) e
oo fトリメチロールプロパントリアクリレート
150 fテトラエチレングリコールジアクリレー
ト 150t2−エチルアントラキノン
369クリスタルバイオレツト 1fメチル
エチルケトン 2000 を
上記の溶液を均一に攪拌し、巾20tn1の7レキシプ
ル基板(2軸延伸ポリエチレンテレフタレート50μ、
銅箔18μ)に塗布、乾燥し、20μの厚さのレジスト
形成層を形成し、このレジスト面に連続的に厚さ20μ
の2軸延伸ポリプロピレンフイルムを加圧積層し1巻取
って本発明のエレメントを得た。Polymethyl methacrylate) (MW=80,000) e
oo f trimethylolpropane triacrylate
150 f Tetraethylene glycol diacrylate 150t2-ethylanthraquinone
369 Crystal Violet 1f Methyl Ethyl Ketone 2000 was uniformly stirred into the above solution, and a 7 lexiple substrate with a width of 20tn1 (biaxially stretched polyethylene terephthalate 50μ,
Coat the copper foil (18μ) and dry to form a resist forming layer with a thickness of 20μ.
The biaxially oriented polypropylene films were laminated under pressure and wound once to obtain an element of the present invention.
このエレメントを実施例1と同様に画像露光。This element was subjected to image exposure in the same manner as in Example 1.
現像してパターンを得た。A pattern was obtained by developing.
得られた回路板は柔軟で屈曲性に富む。The resulting circuit board is flexible and highly flexible.
第1図は本発明エレメントの製造工程を説明する装置略
図、第2図は本発明エレメントの部分断8−
面図である。
1・・・・・・・・・ 保護フィルム
2・・・・・・・・・ レジスト層
2人・・・・−・ レジスト溶液槽
3・・・・・・・・・銅 箔
3A・・−・・・乾燥機
4・川・・・・・ ベースフィルム
5・・・・・・・・・ フレキシブル銅張り基板6・・
・・・・・・・ ロール状に巻取られた光重合性エレメ
ント
特許出願人 旭化成工業株式会社FIG. 1 is a schematic diagram of an apparatus for explaining the manufacturing process of the element of the present invention, and FIG. 2 is a partially sectional 8-sectional view of the element of the present invention. 1... Protective film 2... Resist layer 2...- Resist solution bath 3... Copper foil 3A... -... Dryer 4, River... Base film 5... Flexible copper-clad board 6...
・・・・・・ Photopolymerizable element wound into a roll Patent applicant Asahi Kasei Corporation
Claims (1)
形成層及び(5)フレキシブル銅張り基板を順次積層し
て成るロール状に巻取られた光重合性エレメント 2 レジスト形成層(2)とフレキシブル銅張シ基板(
5)との接着力が保護フィルムとレジスト形成層との接
着力よ多大きいものでおる特許請求の範囲第1項記載の
ロール状に巻取られた光重合性エレメント λ 保護フィルム(1)が活性光を実質的に透過するフ
ィルムである特許請求の範囲第1項記載のロール状に巻
取られた光重合性エレメント本 フレキシブル銅張す基
板(5)がベースフィルム(4)を中心に両面に銅箔(
3)を貼りつけた両面銅張り基板である特許請求の範囲
第1項記載のロール状に巻取られた光重合性エレメント 1−[Scope of Claims] L A photopolymerizable element 2 wound into a roll formed by sequentially laminating (1) a protective film, (2) a photopolymerizable resist forming layer, and (5) a flexible copper-clad substrate. Forming layer (2) and flexible copper-clad substrate (
5) The photopolymerizable element λ wound into a roll according to claim 1, wherein the adhesive force with the protective film (1) is much greater than the adhesive force between the protective film and the resist forming layer. A photopolymerizable element book wound into a roll according to claim 1, which is a film that substantially transmits active light; Copper foil (
1-
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10566481A JPS588636A (en) | 1981-07-08 | 1981-07-08 | Photo polymerizing element wound in roll form |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10566481A JPS588636A (en) | 1981-07-08 | 1981-07-08 | Photo polymerizing element wound in roll form |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS588636A true JPS588636A (en) | 1983-01-18 |
Family
ID=14413697
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10566481A Pending JPS588636A (en) | 1981-07-08 | 1981-07-08 | Photo polymerizing element wound in roll form |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS588636A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62261434A (en) * | 1986-05-08 | 1987-11-13 | 三菱化学株式会社 | Substrate on which film for protecting surface is stuck and manufacture thereof |
JPH02307296A (en) * | 1989-05-05 | 1990-12-20 | Gould Inc | Processing method for protecting protected conductive foil and electr- -odeposited metallic foil in processing |
-
1981
- 1981-07-08 JP JP10566481A patent/JPS588636A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62261434A (en) * | 1986-05-08 | 1987-11-13 | 三菱化学株式会社 | Substrate on which film for protecting surface is stuck and manufacture thereof |
JPH02307296A (en) * | 1989-05-05 | 1990-12-20 | Gould Inc | Processing method for protecting protected conductive foil and electr- -odeposited metallic foil in processing |
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