JPS5885111A - エンコ−ダスリツト板の製造方法 - Google Patents
エンコ−ダスリツト板の製造方法Info
- Publication number
- JPS5885111A JPS5885111A JP18348181A JP18348181A JPS5885111A JP S5885111 A JPS5885111 A JP S5885111A JP 18348181 A JP18348181 A JP 18348181A JP 18348181 A JP18348181 A JP 18348181A JP S5885111 A JPS5885111 A JP S5885111A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- encoder
- quality
- manufacture
- processes
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 17
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims abstract description 6
- -1 Acryl Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 claims description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 5
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000002075 main ingredient Substances 0.000 claims description 3
- 239000012985 polymerization agent Substances 0.000 claims description 3
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 claims 2
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 claims 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 19
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 8
- 238000007747 plating Methods 0.000 abstract description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 4
- 238000000059 patterning Methods 0.000 abstract description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 3
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 abstract description 3
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 abstract description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 2
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 abstract description 2
- 229910002666 PdCl2 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract 1
- RCIJACVHOIKRAP-UHFFFAOYSA-N sodium;1,4-dioctoxy-1,4-dioxobutane-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].CCCCCCCCOC(=O)CC(S(O)(=O)=O)C(=O)OCCCCCCCC RCIJACVHOIKRAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- TVEXGJYMHHTVKP-UHFFFAOYSA-N 6-oxabicyclo[3.2.1]oct-3-en-7-one Chemical compound C1C2C(=O)OC1C=CC2 TVEXGJYMHHTVKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical group C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 210000003127 knee Anatomy 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01D—MEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01D5/00—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
- G01D5/26—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light
- G01D5/32—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light
- G01D5/34—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light the beams of light being detected by photocells
- G01D5/347—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light the beams of light being detected by photocells using displacement encoding scales
- G01D5/34707—Scales; Discs, e.g. fixation, fabrication, compensation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Transmission And Conversion Of Sensor Element Output (AREA)
- Optical Transform (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は比較的、無電解メッキされにくいと言われるガ
ラス、アクリル等の透明プラスチック上に主剤として水
溶性がりビニルプ゛チラール、それに加稿剤メラミン、
界面活性剤ラビゾール、溶媒エチルアルコールと水を加
えた溶液又は、主剤として２ヒドロキシエチルメタアク
リレート、それに重合剤ベンゾインエチルエーテル、界
面活性剤トリオキシエチレンノニルフェノールエーテル
。
ラス、アクリル等の透明プラスチック上に主剤として水
溶性がりビニルプ゛チラール、それに加稿剤メラミン、
界面活性剤ラビゾール、溶媒エチルアルコールと水を加
えた溶液又は、主剤として２ヒドロキシエチルメタアク
リレート、それに重合剤ベンゾインエチルエーテル、界
面活性剤トリオキシエチレンノニルフェノールエーテル
。
溶剤であるエチレングリコールモノエチルエーテルな加
えた溶液をディッピング、スピンナーまたはロールコー
タ−法により塗布し硬化させた後紫外線露光による選択
的無電解メッキによって形状パターニングを行って得ら
れるエンコーダースリット板の製造方法に関している。
えた溶液をディッピング、スピンナーまたはロールコー
タ−法により塗布し硬化させた後紫外線露光による選択
的無電解メッキによって形状パターニングを行って得ら
れるエンコーダースリット板の製造方法に関している。
従来、エンコーダースリット板は金属のエッチ゛ング又
は、ガラス基板にクロム蒸着によりクロム被膜を形成し
、目的とする形状にパターニングすることによって作ら
れていた。しかし金属エツチングの場合、スリット穴径
の微細エツチングには＠崖があり、高分解機能を有する
エンコーダとしては、限度がありた。又、ガラス上にク
ロム蒸着して得られた壺属りロム属を目的とする形状に
バターニングすることによって作られたエンコーダスリ
ット板は一度に大量又大表面積のものを作るにとができ
ず、また真空設備を使用することからも、コス）ダｔン
が困難であった。
は、ガラス基板にクロム蒸着によりクロム被膜を形成し
、目的とする形状にパターニングすることによって作ら
れていた。しかし金属エツチングの場合、スリット穴径
の微細エツチングには＠崖があり、高分解機能を有する
エンコーダとしては、限度がありた。又、ガラス上にク
ロム蒸着して得られた壺属りロム属を目的とする形状に
バターニングすることによって作られたエンコーダスリ
ット板は一度に大量又大表面積のものを作るにとができ
ず、また真空設備を使用することからも、コス）ダｔン
が困難であった。
本発明はかかる欠点を除失したもので、その目的は透明
基板上に有機被膜を設け、紫外露光による選択的無電解
メッキによってバターニングしたことによりエンコーダ
スリットの微細パターンが可能となり、・又、真空装置
を用いないことでコスシダウン、大量生産ができる。さ
らに、紫外ＭＩＥ光による選択的無電解メッキ方法を用
いているので工程短縮品質向上になることを示すもので
ある本発明に用いられる基板としては、ホ透過性基板な
ら何でもかまわないが平面の平滑性、透過率（各エンコ
ーダ中のフォトトランジスタの感応波長で選択）熱膨張
係数の低さ等から、アクリル樹脂、ポリエステル、ポリ
カーボネート樹脂、０Ｒ＝３９樹脂、■ポリマー樹脂、
ポリサル７オン樹脂、ｌリエーテルサル７オン樹脂、ス
ピラン樹脂、ガラス等があ−る。基板としては１００μ
〜数謹厚のものが用いられる。これらの基板に無電解メ
ッキを可能にし、しかも密着を向上させるために、透明
な基板上にポリビニルブチラールを溶剤。
基板上に有機被膜を設け、紫外露光による選択的無電解
メッキによってバターニングしたことによりエンコーダ
スリットの微細パターンが可能となり、・又、真空装置
を用いないことでコスシダウン、大量生産ができる。さ
らに、紫外ＭＩＥ光による選択的無電解メッキ方法を用
いているので工程短縮品質向上になることを示すもので
ある本発明に用いられる基板としては、ホ透過性基板な
ら何でもかまわないが平面の平滑性、透過率（各エンコ
ーダ中のフォトトランジスタの感応波長で選択）熱膨張
係数の低さ等から、アクリル樹脂、ポリエステル、ポリ
カーボネート樹脂、０Ｒ＝３９樹脂、■ポリマー樹脂、
ポリサル７オン樹脂、ｌリエーテルサル７オン樹脂、ス
ピラン樹脂、ガラス等があ−る。基板としては１００μ
〜数謹厚のものが用いられる。これらの基板に無電解メ
ッキを可能にし、しかも密着を向上させるために、透明
な基板上にポリビニルブチラールを溶剤。
加稿剤、界面活性剤を用い、被覆化する。又は２−ヒド
ロキシエチルメタアクリレートを溶剤１重合剤、界面活
性剤を用い、被覆化する。それらのコートの膜厚は、１
０００１〜３ｏｏｏｏ１である。薄すぎた場合のピンホ
ール、厚すぎた場合の平面精度を考慮に入れ通常は３０
００〜１０００ｏＸが用いられる。これらの被膜は、デ
ィッピング法、スピンナー法、スプレー法、ロールコー
タ−法等により塗布され、基板の耐熱上耐える上限温度
で硬化する。この有機被膜は基板表面のぬれ性を向上さ
せメッキを可能にするためとメッキ被膜の密着性、光沢
性を向上させる重要な役割をもつ。
ロキシエチルメタアクリレートを溶剤１重合剤、界面活
性剤を用い、被覆化する。それらのコートの膜厚は、１
０００１〜３ｏｏｏｏ１である。薄すぎた場合のピンホ
ール、厚すぎた場合の平面精度を考慮に入れ通常は３０
００〜１０００ｏＸが用いられる。これらの被膜は、デ
ィッピング法、スピンナー法、スプレー法、ロールコー
タ−法等により塗布され、基板の耐熱上耐える上限温度
で硬化する。この有機被膜は基板表面のぬれ性を向上さ
せメッキを可能にするためとメッキ被膜の密着性、光沢
性を向上させる重要な役割をもつ。
次に、無電解メッキを行う０本製造方法は、低コスト化
、工ｉｉ＊縮も目的〇一つであるため、紫外線露光によ
る選択的無電解メッキによるバターニング方法の確立も
行い、スリットパターンを形成した。紫外線露光による
選択的無電解メッキ方式（ｉｎｋ−述べｔ：’−）基板
をＢｎ０４ （ＨＯｔ＠性）溶液に浸漬し、数分後乾燥
する。乾燥方法は７０〜ＩＯ℃以下が適当。又は、アル
コール、ダイア四ンによる置換乾燥もよい。
、工ｉｉ＊縮も目的〇一つであるため、紫外線露光によ
る選択的無電解メッキによるバターニング方法の確立も
行い、スリットパターンを形成した。紫外線露光による
選択的無電解メッキ方式（ｉｎｋ−述べｔ：’−）基板
をＢｎ０４ （ＨＯｔ＠性）溶液に浸漬し、数分後乾燥
する。乾燥方法は７０〜ＩＯ℃以下が適当。又は、アル
コール、ダイア四ンによる置換乾燥もよい。
（２）基板に石英メフスを用いたフォトマスクを密着し
、２０００１以上の波長をもつ紫外線を適度の時間を持
って照射する。
、２０００１以上の波長をもつ紫外線を適度の時間を持
って照射する。
（ａ）Ｐｄａｔ、＜ｍｏｔＨ性）溶液に基板を浸漬し、
水洗後、無電解ニッケル浴に数分間入れ、メッキする。
水洗後、無電解ニッケル浴に数分間入れ、メッキする。
偽）の紫外線露光によりＢ ｍ ” ”−Ｂ 、 ４＋
となり、 （ａ）のＰ ａ Ｏ４溶液の浸漬により非露光部の反応
はＳｍ ＋ ｌ’ａ”−ａｍ”−１−Ｐａ’となり、
そのパラジウム金属にニッケルが析出すると考えられる
。また紫外、ｍａ露光部は３ｍ となっているためｐ
ａ を還元することは不可能である。それゆえ、眞ツ
ケルが析出されない。
となり、 （ａ）のＰ ａ Ｏ４溶液の浸漬により非露光部の反応
はＳｍ ＋ ｌ’ａ”−ａｍ”−１−Ｐａ’となり、
そのパラジウム金属にニッケルが析出すると考えられる
。また紫外、ｍａ露光部は３ｍ となっているためｐ
ａ を還元することは不可能である。それゆえ、眞ツ
ケルが析出されない。
メッキは硬さ及び密着性、安価を考慮に入れ舅１−ｐを
使用した。被膜厚は５００１〜１μ程度であり、エンコ
ーダースリット板の場合、スリットサイドエツジがしっ
かりでていれば多少のピンホールは問題ないので１ｏｏ
ｏＬ〜３ｏｏｏ１あれば十分である。
使用した。被膜厚は５００１〜１μ程度であり、エンコ
ーダースリット板の場合、スリットサイドエツジがしっ
かりでていれば多少のピンホールは問題ないので１ｏｏ
ｏＬ〜３ｏｏｏ１あれば十分である。
このようにして得られたエンコーダスリット板は微細パ
ターンが可能であり、作成にあたりての低コスト化、工
程短縮もみのがせない。さらに、レジストなどを用いな
いので品質向上にもつながる。
ターンが可能であり、作成にあたりての低コスト化、工
程短縮もみのがせない。さらに、レジストなどを用いな
いので品質向上にもつながる。
次に本発明を実施例により詳細に説明する。
実施例１
コート成分
ムｔｍ−目３
湊媒■にのを混合しよく拡拌を行う。よく洗浄したガラ
スに上の混合液をディッピング法又はスピンナー法によ
り、塗布し、１３５℃で２ｈｒ 乾燥することにより
て硬化させた。この時の膜厚は２ｏｏｏ１でありた。次
に１％Ｂ ！Ｌ Ｏ１１溶液に上の基板を１分間浸漬し
、水洗、７０℃で乾燥し、適度の時間Ｖ、Ｖ照射する。
スに上の混合液をディッピング法又はスピンナー法によ
り、塗布し、１３５℃で２ｈｒ 乾燥することにより
て硬化させた。この時の膜厚は２ｏｏｏ１でありた。次
に１％Ｂ ！Ｌ Ｏ１１溶液に上の基板を１分間浸漬し
、水洗、７０℃で乾燥し、適度の時間Ｖ、Ｖ照射する。
（照射時間は紫外線露光装置の能力により異る。）基板
を一分程度、Ｐ ａ Ｏｔ、溶液（実験では日本カニゼ
ン社製レツドシａ−マー４８ ＱＣ）５倍希釈液）を用
い適当に水洗してから夏ニーＰメッキ浴（日本カニゼン
社製シ凰−マ８４魯０を純水にて８倍希釈）に４５℃性
も良好で、メッキ被膜は均一でありた。
を一分程度、Ｐ ａ Ｏｔ、溶液（実験では日本カニゼ
ン社製レツドシａ−マー４８ ＱＣ）５倍希釈液）を用
い適当に水洗してから夏ニーＰメッキ浴（日本カニゼン
社製シ凰−マ８４魯０を純水にて８倍希釈）に４５℃性
も良好で、メッキ被膜は均一でありた。
実施例２
コート成分
上の成分をよく拡拌混合し、十分洗浄されたガラスに混
合液をディッピング法により塗布し１９０℃±５Ｔ４５
４ｆ重合することにぶり硬化させた。この時のコート厚
はｔ４μ淋であった。以下紫外線露光による選択的無電
解メッキ膜の形成方法は実施例１に上げた通りである。
合液をディッピング法により塗布し１９０℃±５Ｔ４５
４ｆ重合することにぶり硬化させた。この時のコート厚
はｔ４μ淋であった。以下紫外線露光による選択的無電
解メッキ膜の形成方法は実施例１に上げた通りである。
実施例３
実施例１のコート成分を用いてアクリル板上に被膜をつ
くりた。作成方法は、混合拡拌後、スピンナー法により
ｌｋ市し、８０℃で５ｈｒ 乾燥することによって硬化
させた。膜厚は１ａｏｏｌ〜２２００１の間にしぼられ
た。以下紫外線露光による選択的無電解メッキ膜の形成
方法は実施例１に上げた通りである。この方法によって
作成されたエンコーダメリット板は、ガラスよりも、衝
撃に強く、割れに（いとと、また、成形しやすいために
低コスト化ができるなどのメリットがある。
くりた。作成方法は、混合拡拌後、スピンナー法により
ｌｋ市し、８０℃で５ｈｒ 乾燥することによって硬化
させた。膜厚は１ａｏｏｌ〜２２００１の間にしぼられ
た。以下紫外線露光による選択的無電解メッキ膜の形成
方法は実施例１に上げた通りである。この方法によって
作成されたエンコーダメリット板は、ガラスよりも、衝
撃に強く、割れに（いとと、また、成形しやすいために
低コスト化ができるなどのメリットがある。
以 上
出願人 株式会社諏訪精工舎
Claims (1)
- 透明基板上に主剤として水溶性ポリビニルブチ分とした
有機高分子被膜又は主剤に２−ヒドロキシエチルメタア
クリレート、重合剤としてベンゾインエチルエーテル、
界面活性剤としてトリオキシエチレンノニルフェノール
エーテル、溶剤としてエチレングリコールモノエチルエ
ーテルヲ成分とした有機高分子被膜を形成後、紫外露光
において選択的無電解メッキによって形状パターニング
したことを特徴とするエンコーダスリット板の製造方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18348181A JPS5885111A (ja) | 1981-11-16 | 1981-11-16 | エンコ−ダスリツト板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18348181A JPS5885111A (ja) | 1981-11-16 | 1981-11-16 | エンコ−ダスリツト板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5885111A true JPS5885111A (ja) | 1983-05-21 |
| JPH0143025B2 JPH0143025B2 (ja) | 1989-09-18 |
Family
ID=16136559
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18348181A Granted JPS5885111A (ja) | 1981-11-16 | 1981-11-16 | エンコ−ダスリツト板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5885111A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS621875A (ja) * | 1985-06-27 | 1987-01-07 | Tokai Rika Co Ltd | 無電解めつき複合体及びその製造方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014192287A1 (ja) * | 2013-05-28 | 2014-12-04 | 出光興産株式会社 | 無電解めっき下地膜形成用組成物 |
-
1981
- 1981-11-16 JP JP18348181A patent/JPS5885111A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS621875A (ja) * | 1985-06-27 | 1987-01-07 | Tokai Rika Co Ltd | 無電解めつき複合体及びその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0143025B2 (ja) | 1989-09-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3900320A (en) | Activation method for electroless plating | |
| TWI267531B (en) | Catalyst precursor composition for electroless plating, and preparation method of transparent electromagnetic interference shielding material using the same | |
| US4100037A (en) | Method of depositing a metal on a surface | |
| US4451329A (en) | Methods and compositions for producing decorative frosting effects on glass | |
| EP0134697B1 (en) | Method of manufacturing a colour filter on a solid state colour imaging device and a solid state colour imaging device | |
| EP0101587A2 (de) | Positiv arbeitendes Verfahren zur Herstellung von Reliefbildern oder Resistmustern | |
| US3738835A (en) | Electrophoretic photoresist composition and a method of forming etch resistant masks | |
| US3669770A (en) | Method of making abrasion-resistant metal-coated glass photomasks | |
| NZ208325A (en) | Radiation-sensitive compositions containing heat-sensitive dyes | |
| JPS5885111A (ja) | エンコ−ダスリツト板の製造方法 | |
| JPH08286026A (ja) | ブラックマトリクス基板及びそれを用いたカラーフィルタ | |
| US3878007A (en) | Method of depositing a pattern of metal plated areas on an insulating substrate | |
| US2533454A (en) | Method of plating nonmetallic surfaces | |
| US3684569A (en) | Process of producing conductive gold patterns | |
| US3748190A (en) | Laminated aluminum article and method | |
| DE2924745A1 (de) | Additives verfahren zur herstellung von metallmustern auf kunststoffsubstraten | |
| CN113307505A (zh) | 光引发制备的图案化超亲水-超疏水相间表面及制备方法 | |
| US3826651A (en) | Laminated aluminum article and method | |
| JPS5885112A (ja) | エンコ−ダスリツト板の製造方法 | |
| JP2003096572A (ja) | 金属酸化物膜形成用塗布液、及びそれを用いた金属酸化物膜、金属酸化物パターンの形成方法 | |
| JP4876274B2 (ja) | 微細金属配線付き基板の製造方法 | |
| JPH02251801A (ja) | 基板上の機能性パターンの間隙に金属メッキ層を形成する方法 | |
| US4381951A (en) | Method of removing contaminants from a surface | |
| JPS6023346B2 (ja) | 厚膜スクリ−ン印刷版の製造方法 | |
| CN106544654A (zh) | 一种处理液及其应用以及金属化产品和方法 |