JPS5882568A - 多結晶シリコン薄膜トランジスタおよびその製造方法 - Google Patents
多結晶シリコン薄膜トランジスタおよびその製造方法Info
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- JPS5882568A JPS5882568A JP56179696A JP17969681A JPS5882568A JP S5882568 A JPS5882568 A JP S5882568A JP 56179696 A JP56179696 A JP 56179696A JP 17969681 A JP17969681 A JP 17969681A JP S5882568 A JPS5882568 A JP S5882568A
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- polycrystalline silicon
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D30/00—Field-effect transistors [FET]
- H10D30/60—Insulated-gate field-effect transistors [IGFET]
Landscapes
- Formation Of Insulating Films (AREA)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56179696A JPS5882568A (ja) | 1981-11-11 | 1981-11-11 | 多結晶シリコン薄膜トランジスタおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56179696A JPS5882568A (ja) | 1981-11-11 | 1981-11-11 | 多結晶シリコン薄膜トランジスタおよびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5882568A true JPS5882568A (ja) | 1983-05-18 |
JPH0336313B2 JPH0336313B2 (enrdf_load_stackoverflow) | 1991-05-31 |
Family
ID=16070271
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56179696A Granted JPS5882568A (ja) | 1981-11-11 | 1981-11-11 | 多結晶シリコン薄膜トランジスタおよびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5882568A (enrdf_load_stackoverflow) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06196503A (ja) * | 1992-09-29 | 1994-07-15 | Hyundai Electron Ind Co Ltd | 薄膜トランジスタの製造方法 |
CN102400091A (zh) * | 2010-09-10 | 2012-04-04 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 铝合金的表面处理方法及由铝合金制得的壳体 |
-
1981
- 1981-11-11 JP JP56179696A patent/JPS5882568A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06196503A (ja) * | 1992-09-29 | 1994-07-15 | Hyundai Electron Ind Co Ltd | 薄膜トランジスタの製造方法 |
CN102400091A (zh) * | 2010-09-10 | 2012-04-04 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 铝合金的表面处理方法及由铝合金制得的壳体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0336313B2 (enrdf_load_stackoverflow) | 1991-05-31 |
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