JPS5882568A - 多結晶シリコン薄膜トランジスタおよびその製造方法 - Google Patents

多結晶シリコン薄膜トランジスタおよびその製造方法

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JPS5882568A JP56179696A JP17969681A JPS5882568A JP S5882568 A JPS5882568 A JP S5882568A JP 56179696 A JP56179696 A JP 56179696A JP 17969681 A JP17969681 A JP 17969681A JP S5882568 A JPS5882568 A JP S5882568A
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Kazuo Sunahara
砂原 和雄
Hideo Tanabe
英夫 田辺
Akira Misumi
三角 明
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    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • H10D30/00Field-effect transistors [FET]
    • H10D30/60Insulated-gate field-effect transistors [IGFET]

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH06196503A (ja) * 1992-09-29 1994-07-15 Hyundai Electron Ind Co Ltd 薄膜トランジスタの製造方法
CN102400091A (zh) * 2010-09-10 2012-04-04 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 铝合金的表面处理方法及由铝合金制得的壳体

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH06196503A (ja) * 1992-09-29 1994-07-15 Hyundai Electron Ind Co Ltd 薄膜トランジスタの製造方法
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