JPS5878514A - 温室の操業方法及び温室 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は温室の操業方法及びこの方法を実施するための
温室に係る。　　　　” 温室は大量のエネルギを費消するものである。

この温室の必要エネルギを低減し、又必要エネルギの全
部又は一部を太陽エネルギ、地下水等の天なされている
。又、場合によっては、殊に特別の植物に２いては単に
成る季節のみ温室操業する必要がある。それにも拘らず
、使用されるべきエネルギの一部のみをその植物及びこ
の成長のために使用するという訳にはいかなり。供給さ
れるエネルギの極めて多くの部分が温室の基礎地面、温
室の壁面及び屋根から無駄に散逸する。

予め定められた態様で温室内雰囲気中の炭酸ガス分を調
節することにより、植物の成長を促進すると同時にエネ
ルギ使用量を低減し得ることは既に知られている所であ
る。日光のとぼしい地域或は季節において、炭酸ガスに
よる育生は特に好ましい結果をもたらす。

加熱処理、ことにガス燃焼から生ずる廃ガスを温室内に
導入してこのような炭酸ガス含有分の調節を行う提案も
既になされている。

しかしながら、とのために使用されるべき設備はその建
設についても操業についてもコスｂが高く、従って極め
て大規模な操業の場合においてのみ経済的に引き合うに
過ぎない。更に又熱量及び炭酸ガスの必要量の時間的経
過が相対応しないという点も問題となる。ことに、炭酸
ガス含有量を余り大きくすることは植物にとっても人に
とっても有害であって、適確に含有量を調節することは
困難である。特に、導入された炭酸ガスの大部分は植物
に費消されずに散逸するのであるから、炭酸ガスの導入
及び配分の調節は極めて困難であり、又高いコストを必
要とする。

更に他の問題は、動物的及び植物的菌類による被害と病
害に対処しなければならないことであって、温室内の雰
囲気は特にこれ等を増大させる。

多くの労働力を費消して罹病植物を選択除去し、病気の
拡散を阻止するため化学的消毒剤を施さねばならない。

以上の諸点にかんがみて、本発明の目的は上述した問題
を解決し得る方法及び温室を提供することである。更に
このような温室操業方法は、種々の植物及び種々の需要
に王台よく適合させることを可能とする。又、古く非経
済的な温室も余りコストをかけずに再び操業可能となし
、その収益も新しい温室により得られると同等にまで高
めることが可能となる。更にこのようにして殺菌剤、除
草剤の使用量を著しく少くし或は全くこれを使用しない
ことも可能になされる。

上述した目的は、本発明により、温室内の各栽培区分域
を地面に対し、又温室内空間に対し空間的に遮断し、熱
的に絶縁し、この区域のみに必要とされる熱、湿気及び
炭酸ガスを供給することにより達成される。

温室内において各栽培区分域は互に分離される。

この分離は、空間的な遮断だけでなく、熱、湿気、炭酸
ガスの供給に関しても同様である。各栽培区分域は同じ
温室内において他の栽培区分域と相互に独立無関係にな
される。従って、この遮断絶縁された栽培区分域の条件
は、ここで栽培されるべき植物に適応するように選択さ
れ得る。このことは、温度、湿度、肥料養素及び炭酸ガ
ス量についても同様である。

温室内の他の部分に対し温室内で個々の栽培区分域に分
離することによって、所要熱量のみならず所要炭酸ガス
量も著しく少くすることができる。

温室全体の容積に比し熱及び炭酸ガスを供給すべき容積
範囲が極めて小さくなされるからである。

これにより、簡単で生態学的に完全に無害な態様でしか
も健康を損うことなく、病虫害を初期のうちに阻止する
ことが始めて可能となる。そのために、植物育生のため
の炭酸ガス濃度最大限度の複数倍の濃度で限定された時
間だけ炭酸ガスを栽培区分域に供給する。例えば炭酸ガ
ス育生の際の最大限濃度が約０’、１５容量％であると
すれば、栽培区分域雰囲気中の濃度がその１０乃至１０
０倍に達する量の炭酸ガスを短時間だけ供給することが
できる。実験によれば、このような高い濃度は一般的に
植物に対し何等の害を及ぼさない。他方において害虫病
菌は酸素を必要とし、湿度を適当に調整すればこのよう
な濃度の炭酸ガスのショックにより害虫病菌は死滅する
。慣用の化学的殺虫殺菌剤の使用はこのため不用になる
。炭酸ガスによる殺虫殺菌は生態学的に無害であり、簡
単であり、炭酸ガスを遮断絶縁された栽培区分域に導入
するために、炭酸ガス含有気体を搬送流体により温室内
土壌表面近くまで給送し、ここで気体が釈放され土壌表
面近くにおいて安定した気体層を形成するようにするこ
とが好ましい。この場合搬送流体として、空気などを使
用することもできるが、好ましいのは水、特に予め処理
した水である。

本発明方法において、炭酸ガス、ことに植物育生用炭酸
ガスは、気体状、例えばブロワ〜などで給送される燃焼
廃ガス等の如き状態ではなく、物理的に水と結合された
状態、部分的には化学的にも結合された状態で、植物育
生帯域に搬送され、土壌表面近くにおいて釈放され気体
層を形成する。

即ちガスの大部分は搬送流体である水から土壌面上に釈
放されるのである。従って、個々の栽培区分域が遮断絶
縁されることとも関係して、炭酸ガス用量は大いに節約
される。

同時に土壌表面近くの炭酸ガス層は、カビの成長を阻止
する作用を果し、殺菌膜カビ剤の使用を不必要ならしめ
る。

本発明によれば、大量のビートを使用することなく簡単
に且つ廉価で必要な土壌の酸性化を達成することができ
る。部分的に水と化学的結合した二酸化炭素は、水と共
に土壌中に滲入し、ｐＨ値咳影響を与えるからである。

このような炭酸ガス搬送導入方法により、高価な装置を
設置する必要なく、高圧ボンベ乃至タンクに充填して供
給される炭酸ガスを使用して、著しく費用を節減するこ
とができる。一般的には慣用のシャワー装置゛乃至潅注
装置を使用することも可能である。更に又、炭酸ガスを
含有する他のガス源、例えばガス燃焼ヒートポンプから
の廃ガスの如きを利用することもでき、このようなガス
を捕集して圧力容器中に入れ、加圧炭酸ガスボンベの圧
力を上記容器内に及ぼす。

上記した方法を実施するため、本発明によれば、外部に
対し閉鎖された温室内において栽培土壌と下方土層との
間に熱絶縁材を設け、温室内の個々の栽培区分域を温室
様遮断材で温室内の空間に対して遮断し、この遮断絶縁
された栽培区分域を遮断材を貫通して、熱、流水及び炭
酸ガス供与のための給送設備と接続する。この温室内の
各栽培区分域に盤状槽体の底部絶縁材を設け、その周縁
が温室内において土壌表面より高くなるように構成する
ことが好ましい。この場合、盤状槽体底部絶縁材の周縁
が、それを超えて延びている温室様遮断材と係合するよ
うに構成するのが有利である。

本発明の教示する所を実施するとｊＧマ、温室全体を加
温する必要がなくなる。温室の熱損失は大幅に低減され
るので、比較的わずかな温度上昇をもたらすためときど
き臨時に温室の加温をすればよいことになる。

温室内において１個の或は複数個の栽培区分域をそれぞ
れ遮断絶縁するため、二重壁の透明なフード、周壁、被
蓋を設ける。

上記のフード状被蓋に懸吊紐を取付けて必要に応じ昇降
させ得るように構成し、植物の成長に対応して遮断絶縁
された栽培区分域内の空間容積を調整し、この容積を絶
えず必要最小限度にとどめ得るようにするのが有利であ
る。これに依り熱エネルギ及び炭酸ガスの最も有効な利
用と、遮断絶縁区分域内の雰囲気に影響を与えるすべて
のパラメータの正確な制御とが可能となる。

上述した個々の栽培区分域の温室内空間に対する遮断絶
縁により、内部空気を調整してそれぞれの栽培区分域内
の湿度を所望の値に調節し得るという追加的利益がもた
らされる。これに関連して遮断絶縁手段を構成する分離
部材表面における凝縮水分に対する処理も重要である。

このような凝縮は、内外の空気温度差がある場合、潅注
、潅概、噴霧を行う場合に生起する。

被蓋は二重壁構造であるので、内壁内面における大きな
温度差の影響は著しく軽減され、従って凝縮現象が生起
するおそれも軽減される。凝縮による過剰水分の完全な
除去は、一群の或は個々の栽培区分域と接続されている
空気循環系により行われる。この系は空気を循環させる
手段のほかに、凝縮水分除去の作用をする冷却熱交換器
と、乾燥された空気を加温するための少くとも１台の他
の熱交換器を具備し、この系は直列に配置される。

温室にこれと連結された冷却室を設けることにより、循
、環空気流に捕捉された湿気を凝縮により除去すること
が簡単に行われ得る。これにより得られる水分は栽培区
分域への給水として利用される。

このため例えばヒートポンプの一次側を利用することが
できる。又、外気の低温を利用することも可能である。

このようにして冷却された空気は、遮断絶縁栽培区分域
に再給送する前に、熱交換器により当該栽培区分域内の
温度まで加熱することが好ましい。このため循環空気流
を蓄熱ボイラ或は加熱ボイラの機体面上に流すことも可
能である。

遮断絶縁栽培区分域の被蓋は、その側壁部材が相互間に
おいて、又端壁部材に対して望遠鏡式に伸縮できるよう
に構成することもできる。即ち、上記側壁及び端壁部材
が盤状槽体周壁により摺動可能に支承され、この周壁が
盤状槽体周壁に対し、又その相互間において少くとも盤
状槽体周縁で気密状に接触するようになされ、一方では
栽培植物に近接でき他方では植物のためのできるだけ小
ざな空間を形成するようになされる。

遮断絶縁栽培区分域内の温度の制御は、この区分域を加
熱冷却装置と直接結合することにより行われる。これに
より従来の温室で慣用されて来た日除けを設ける必要が
なくなり、植物の成長を促進するに適当な状態で十分な
日照を得ることができる。

個々の栽培区分域の底部を熱絶縁するため、シート状の
絶縁材と一体的に加熱手段を設けた市販の表面加熱器を
使用することも可能である。このような加熱器は各栽培
区域の土壌中適当な深さに配置し、土壌を周辺から熱絶
縁すると共に任意適宜に土壌を加温し得るようにするこ
とができる。

盤状槽体周縁と上記周壁との間の気密接触をもたらすた
め、樋溝状になされた周縁を有する槽体を使用し、この
樋溝部分が単に摺動可能になされた上記周壁を案内する
だけでなく、水を収容して極めて簡単に上述した気密係
合をもたらすことができる。この樋溝から水が溢流して
無駄に逸出することを阻止するため、樋溝に溢流壁を設
けて溢流水を盤状槽体内に導入するのが有利である。

炭酸ガスと熱エネルギの消費量を更に軽減するため、土
壌を収容する各盤状槽体を横方向、即ちその長手方向に
直交する方向に運動し得るように横ならびに配置し、必
要に応じてすべての槽体をコンパクトな１個の栽、培区
分域ブロックに結集し得るように構成するのが有利であ
る。これにより、特に夜間において栽培区分域内から温
室内への熱の移動を著しく低減することが可能となる。

これを具体的に可能とするため、盤状槽体に可撓性導管
を装着し、必要に応じて槽体を熱、水、炭酸ガス、循環
空気及び冷気の供給源と接続できるようにする。

各栽培区分域に、日光遮蔽のためではなく成長休止の間
栽培区域からの熱損失を阻止するため夜間に使用するた
めの遮蔽材を装着することができる。このための遮蔽材
としてローラシャッタ或ハブラインドシャッタが各栽培
区域の被蓋上方の水平面内において調節可能、解放可能
に展張される。

このシャッタの幅はそれぞれの栽培区分域の幅より大き
くなされており、夜間に各盤状槽体を結集し、シャッタ
を展張するとき、このシャッタは相互に重畳し、このｌ
ブロックの完全な熱絶縁構造体を構成する。

上述した本発明の特徴的構成を採用することにより、大
量のエネルギを節約することができ、又寒い季節におい
ても連続して温室を使用操業することが可能となる。温
室外壁に板ガラスを使用して光のロスを最少限にするが
、不可避的な光のロスは連続的な炭酸ガス供給により補
償される。断面Ｕ字状の大部分が二重の透明材から構成
されている栽培区分域については、人工光源を使用する
ことも可能である。或は又、各盤状槽体に遮蔽材を設け
る代りに、屋内プールの屋根のような光透過度調節手段
を設けた全体を遮蔽する。（ネルを設けることもできる
。

栽培区分域内のニアコンディショニングをそれぞれ別個
に行う場合には、暖気乃至冷気を供給し、又周縁の不透
明部分に形成された閉鎖中空空間を利用して追加的絶縁
効果をもたらすこともできる。

各栽培区分域間を相互に導管で連結し、更に熱、潅注水
、炭酸ガスの中央供給装置に連結して、個々の栽培区分
域に或はその集合体に供給して、異なる植物の種類に適
応させることができる。更にこのような構成により、適
当な個所に温度、湿度及び炭酸ガスの感知装置を設けて
簡単に自動制御を゛行うようにすることができる。

本発明により古い温室も簡単に近代化して、年間を通じ
効率的な操業をすることができる。

上述のようにして植物の生育を促進する熱エネルギを完
全に利用することができる。即ち、慣用の加熱方法を使
用して、即ち天然エネルギを利用することなく、比較的
低コストで温室を運用操業することが可能である。他の
特徴として、空気中の炭酸ガス量を正確に計量給送し、
特に光量の少い季節においても植物成長を著しく促進し
、その結果植物の品質も著しく改善することができる。

夏季には光量も熱量も十分であるから、状況によっては
通常の方法で、或は又被蓋を開放して操業することも可
能である。光量の少ない季節において、本発明による温
室はこれを補うように正確に熱、水分、炭酸ガスの供給
量を制御することができる。

従来の温室に使用されている植物温床の寸法を、本発明
の盤状槽体の寸法とすることができる。個々の遮断絶縁
区分域は直列或は並列に中央給送装置に連結されるが、
各区分域に加熱媒体のための、場合により更に潅概用水
、肥料養素溶液、炭酸ガス含有水乃至炭酸ガスのための
給送口及び排出口を少くとも２個宛設ける。

潅概用給水管が飢に設けられているかその設置が容易な
場合には、これに加圧炭酸ガス源、例えば圧力ガスボン
ベと連結されるべき加圧充填装置を装着することができ
る。

水に炭酸ガスを充填し含有させるため、慣用のカーボナ
イザを使用することができる、冷却され、炭酸ガスを充
填された水は、まず潅概用圧までその圧力を降下させ、
適当な温度となるまで普通の水を混和した後、栽培土壌
の上におだやかに潅注する。

水を冷却することなく、圧力ボンベ乃至タンク中に充填
し、炭酸ガスボンベ乃至タンクの圧力を利用し工、炭酸
ガスを水に含有させることもできる。

ガス圧は水を循環させ潅概するために利用され得る。水
の代りにミネラル及びマイクロニュートリエンド即ち微
量養素を含有する養素溶液を利用することも可能である
。物理的に結合されたガスが釈放されて土壌の上に炭酸
ガス層を形成するのは、潅概水が土壌に接触したときで
あり、化学的に結合すれた二酸化炭素は水と共にそのま
ま土壌中に浸入しｐＨ値制御に役立つ。約０．１％のＨ
，Ｃｏ。

が水と共に土壌内部に供給される。

以下において本発明による温室の実施形を添附図面に従
って更に具体的に説明する。第１図はこの温室の概略を
示す斜視図であって、内部を見得るように一部分が切欠
かれており、第２図は温室内部の遮断絶縁された単一の
栽培区分域を示す断面図である。

第１図の温室ｌは、公知慣用の態様で、即ち）レーム式
に構成され、ガラス張りされたものである。従来の温室
に本発明による処理を施こすこともできる。

温室内において、それぞれの栽培区分域を他の栽培区分
域に対し、温室内の空間に対し、又基盤地面に対して、
空間的にも熱的にも分離し、絶縁する。図示の実施形に
おいては、このように遮断絶縁された栽培区分域が２群
配列されており、その一方の群は側壁３及び屋根面２か
ら成る温室の長手方向に対し横向きに配置されており、
他方の群では長手方向に配置されている。個々の栽培区
分域は４で示されている。

第２図において、各栽培区分域は、栽培土壌を内部９に
収納する盤状槽体８から構成される。この盤状槽体は温
室の基盤地面上に直装置いてもよいし、又これに埋め込
んでもよい。この盤状槽体内には絶縁された加熱装置を
配置することができる。それぞれの栽培区分域お取扱及
び保護を簡単にするため、各盤状槽体８を地面６上にお
いて矢印７の方向に前進後退し得るワゴン５上に載置し
、しかも相互間に間隔を置くようにすることもできる。

コノコとは、固定設置したテーブルに、限定された範囲
で転動し得るテーブル上部構造体を設けたもので同様に
行うことができる。

図示の実施形において、各盤状槽体に断面Ｕ字状の上端
が開放されているエプロン８ａを設け、これを水溜８ｂ
とすることができる。第２図においては、このエプロン
は盤状槽体の一方側のみに図示されているが、実際は両
方側に設けられる。

槽体の狭い局面、即ち正面には端壁１２を装着する。

図示の実施形では、栽培区分域の上方長手方向において
断面Ｕ字状のフード１０で被Ｎされており、その側壁部
１３は、盤状槽体８の側壁上に重畳配置されており、盤
状槽体のエプロン８ａの水溜８ｂ内に陥入して、その簡
単な閉塞を可能ならしめる。

フードｌＯの矢印１１に示される昇降運動が可能となる
ように構成される。フードの端壁は盤状槽体に対して上
方に延びており、槽体はどの高さ位置においても７一ド
端壁内面に密接するようになされる。必要の場合には、
両者間の密閉摺動を可能にすることができる。端壁と槽
体とは透視可能の二重壁構造材料で形成され、温室内空
間に対し空間的、熱的に遮断絶縁される。個々の栽培区
分域は、可撓性ホース或は導管により、例えば１６にお
いて接続されるべき加熱装置、炭酸ガス導入用導管１９
、炭酸ガス含有流水給送用導管２０、流水或は肥料養素
溶液を栽培区分域に導入するための導管２１とそれぞれ
接続される。炭酸ガス養分は流水と共に導管２０を通る
が、高い割合の炭酸ガスのインパクト導入は導管１９を
経て行う。

湿気は個々の栽培区分域において小型除湿器１７により
除去するが、凝縮した残余の水分は流水の利得に役立つ
。除湿器１７は導管１８から空気循環系に接続される。

各栽培区分域では、例えば盤状槽体の桟２２上にシャッ
タブラインド２３を支承し、−日中は常態的に開放し日
光の照射を妨害しないようにすることができる。夜間は
第２図に鎖線で示される態様で栽培区分域を遮蔽し、閉
鎖されたブラインド被蓋２３は、温室内の空間に対し栽
培植物のための追加的温度保持を行う。

第１０図において栽培区分域の一群が符号３ｏで示され
る。

植物は薬の裏面にある気孔から炭酸ガスを摂取する。こ
の摂取能力は、特に雰囲気中の湿度に依り影響を受ける
。気孔の閉鎖度は、特に植物中の及び雰囲気中の水分に
より決定される。即ち空気及び植物が乾燥すればする程
、閉鎖細胞の水分含量は少くなり、気孔の閉鎖度は大き
くなる。雰囲気中の水分を上述のように調節して、植物
の炭酸ガス摂取量に対し追加的な影響を与えることがで
きるのである。

【図面の簡単な説明】

添附図面中、第１図は本発明による温室の概略を示す斜
視図であって、内部を見得るように一部分が切欠かれて
おり、第２図は温室内部の遮断絶縁された単一の栽培区
分域を示す断面図であって、主要部分と符号との対応関
係は下記の通りである。 ｌ・・・温室、２−・・屋根、３・・・側壁、４・・・
栽培区分域、８・・・盤状槽体、１０・・−フード、１
２・・・端壁、１３・・・側壁、１６・・・加熱装置接
続部、１９・・・炭酸ガス用導管、２０・・・炭酸ガス
含有流水用導管、２１・・・、流水或は肥料養素溶液用
導管、２３・・・ブラインド シャフト

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）温室内め一定の栽培区分域を地面に対し又温室内
   部に対し空間的及び熱的に遮断絶縁し、この遮断絶縁さ
   れた区域に対してのみ意図する温度、湿度及び炭酸ガス
   を供与することを特徴とする温室の操業方法。 （２、特許請求の範囲（１）に記載された方法において
   、上記の遮断絶縁された栽培区分域に対し、炭酸ガスの
   育生のための最大濃度の複数倍、殊に１０乃至１００倍
   の濃度の炭酸ガスをそれぞれ限定された時間だけ供与す
   ることを特徴とする方法。 （３）特許請求の範囲（１）或は（２）に記載された方
   法において、炭酸ガス含有気体を搬送流体に依り温室土
   壌のすぐ近傍まで搬送し、こ＼で釈放して土壌表面上に
   ガス層を形成させることを特徴とする方法。 （４）特許請求の範囲（２）或は（３）に記載された方
   法において、栽培区分域の空気中に於て１．５乃至１５
   容量％を占めるようになるまで炭酸ガスを気体状態で限
   定された時間だけ供与することを特徴とする方法。。 （５）特許請求の範囲（３）に記載された方法において
   、加圧下において炭酸ガスを流水に充填含有させ、この
   ガス含有流水を温室土壌上に潅概し或は潅注することを
   特徴とする方法。 （６）特許請求の範囲（５）に記載された方法において
   、ガス含有流水を炭酸ガスタンク乃至これに類する部分
   からの圧力に依り搬送し、潅概し或は潅注することを特
   徴とする方法。 （７）特許請求の範Ｍ（５）或は（６）に記載された方
   法において、炭酸ガス及び流水を炭酸ガスボンベの圧力
   下において加圧ガスボンベ乃至タンク中に貯蔵し、圧力
   を維持しつつ流水に炭酸ガスを充填含有させ、このガス
   含有水を通常の潅概用圧にもどして、そのまま或は調節
   流水と混合しつつ土壌面上に潅概し或は潅注することを
   特徴とする方法。 （８）特許請求の範Ｍ（５）或は（６）に記載された方
   法において、加圧下、室温より相対的に低い温度におい
   て炭酸ガスを充填含有させた冷水を潅概用圧にもどし、
   炭酸ガス含有量と温度を調節するため調節流水と混合す
   ることを特徴とする方法。 （９）特許請求の範囲（５）或は（６）に記載された方
   法において、炭酸ガ、ス含有廃ガスを圧力容器中に捕集
   し、加圧−ガスボンベ乃至タンクからの炭酸ガスにより
   充填圧まで圧力を高め、貯水槽に給送することを特徴と
   する方法。 ００）特許請求の範囲（１）乃至（５）の何れかに記載
   された方法において、遮断絶縁された栽培区分域に循環
   空気流を通して過剰の湿気を除去し、この区分域から流
   出する空気をまず低温の或は冷却した平面体に接触させ
   湿分を凝縮させて乾燥し、上記栽培区分域に還流する前
   に加熱することを特徴とする方法。 （ｌｌ）外部に対し閉鎖された温室内において栽培土壌
   とその下方土層との間に熱絶縁材を設け、温室内の個々
   の栽培区分域を温室様遮断材で温室内空間に対して遮断
   し、この遮断絶縁された栽培区分域を、遮断材を貫通し
   て、熱、流水及び炭酸ガスる温室。 （財）特許請求の範囲（１υに記載された温室において
   、温室内の１個或は複数個の遮断絶縁栽培区分域に盤状
   槽体様の底部絶縁材を設け、その周縁が温室内において
   土壌表面より高くなるように構成したことを特徴とする
   温室。 ０３）特許請求の範＠（Ｉυ或は（ロ）に記載された温
   室において、１個或は複数個の遮断絶縁栽培区分域を、
   透明の二重壁に構成された７−ド、周壁、被蓋により、
   温室の内部に対して遮断絶縁することを特徴とする温室
   。 ０→特許請求の範囲０３）に記載された温室において、
   上記側方周壁が盤状槽体の周縁上において摺動し得るよ
   うになされた部材から成り、この周壁部材が相互に又端
   壁部材に対して運動可能であり、少くとも盤状槽体周一
   附近の帯域において盤状槽体周縁に対し文相瓦間におい
   て気密状態に接合するようになされていることを特徴と
   する温室。 ０５）特許請求の範囲（１３）或は（ロ）に記載された
   温室において、植物の種類あるいは植物の高さに適応す
   るように、側方閉塞部材に対し上方被蓋が上昇下　、、
   １降し得るようになされていることを特徴とする温室。 ０６）特許請求の範囲０４）に記載された温室において
   、１個或は複数個の遮断絶縁された栽培区分域に底部加
   熱器を備えた底部熱絶縁部材を設けたことを特徴とする
   温室。 （１？）特許請求の範囲（１３）乃至０６）の何れかに
   記載された温室において、盤状槽体周縁の断面が樋溝状
   であり、盤状槽体と゛これに係合する温室様遮断部材と
   の間を密封するため上記樋溝部を液体、殊に水で充満す
   ることを特徴とする温室。 （ト）特許請求の範囲（１７）に記載された温室におい
   て、盤状槽体の樋溝部に盤状槽体内方に向けて溢流堰を
   設けたことを特徴とする温室０ （１９）特許請求の範囲θ場に記載された温室において
   ・遮断絶縁された栽培区分域がそれぞれ必要に応じて昇
   降し得るフードを有し、このフードが盤状槽体周縁を包
   囲し、その下端が密封な行うため上下方向に調整される
   一定の範囲内において水を充満した樋溝部内に浸漬され
   ることを特徴とする温室。 （財）特許請求の範囲（１１）に記載された温室におい
   て、地面及び温室内空間に対して遮断絶縁された各栽培
   区分域が、熱、水、肥料養素液、炭酸ガスを供給する中
   実装置と個々的に接続され或は直列的に接続されること
   を特徴とする温室。 ψ◇特許請求の範囲（１１）乃至（１３）の何れかに記
   載された温室において、遮断絶縁された各栽培区分域が
   個々的に或は一群として空気循環装置と接続され、供給
   装置のほかに凝縮により空気から湿気を除去するための
   冷却熱交換器と、除湿された空気を加熱するための加熱
   熱交換器とを設けたことを特徴とする温室。 （ｆ’ｌｉ特許請求の範囲０１）乃至（１３）の何れか
   に記載された温室において、平行に側方をならべて置か
   れた複数個の盤状槽体が、その長辺に対し横方向に移動
   して隣接する各盤状槽体間に空間を残ざない状態になし
   得るようにされた温室。 に）特許請求の範囲Ｑ枠に記載された温室において、各
   栽培区分域が水平方向に収縮し得るように或は巻取られ
   得るようになされたブラインドシャッター或はロールシ
   ャッターを有し、このシャッターが展張され或は巻戻さ
   れてフード上方を被覆し、このシャッター９幅が栽培区
   分域のそれより大きくなされているので、盤状槽体を密
   集させた場合にシャッターが重畳して栽培区分域を完全
   に被覆して追加的熱絶縁手段となるようにしたことを特
   徴とする温室。 （ハ）特許請求の範囲に）に記載され傅温室において、
   各盤状槽体が可撓性導管により加熱源、冷却源、炭酸ガ
   ス源、潅概水源及び必要に応じて循環空気源と接続され
   得るようにされていることを特徴とする温室。