JPS587822A - 回転位置合せ装置 - Google Patents
回転位置合せ装置Info
- Publication number
- JPS587822A JPS587822A JP56104408A JP10440881A JPS587822A JP S587822 A JPS587822 A JP S587822A JP 56104408 A JP56104408 A JP 56104408A JP 10440881 A JP10440881 A JP 10440881A JP S587822 A JPS587822 A JP S587822A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- line
- substrate
- rotary table
- pattern
- rotary
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- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic System or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ウェハ等の基板にパターンを形成したり、形
成されたパターンを検査したりする際に用いられる、パ
ターン等の回転位置合せ装置に関する。
成されたパターンを検査したりする際に用いられる、パ
ターン等の回転位置合せ装置に関する。
一般にフォトマスク、Ｓｉウェハ、プリント基板、゛フ
ィルム等（以下基板と称す）にパターンを形成したり該
パターンの検査を行なったりする場合、基板もしくはパ
ターンが所定位置（例えば検査用カメラの視野下）で一
定の姿勢をとるように整置する必要がらり、このため第
１図で示すような回転位置合せ装置が用いられている。
ィルム等（以下基板と称す）にパターンを形成したり該
パターンの検査を行なったりする場合、基板もしくはパ
ターンが所定位置（例えば検査用カメラの視野下）で一
定の姿勢をとるように整置する必要がらり、このため第
１図で示すような回転位置合せ装置が用いられている。
該回転位置合せ装置は、基板１を載置し回転するテーブ
ル２と、回転テーブル２を載設したＸ、−Ｙステージ３
と、基板１もしくはこれに形成されたパターン４の姿勢
を検出する光学手段５とを備えており、光学手段５で基
板１を目視しながら回転テーブル２を微回転して、例え
ばパターン４の直線部６がＸ−Ｙステージ３のＸ軸７に
平行になるよう位置合せする。
ル２と、回転テーブル２を載設したＸ、−Ｙステージ３
と、基板１もしくはこれに形成されたパターン４の姿勢
を検出する光学手段５とを備えており、光学手段５で基
板１を目視しながら回転テーブル２を微回転して、例え
ばパターン４の直線部６がＸ−Ｙステージ３のＸ軸７に
平行になるよう位置合せする。
ここで光学手段５はＸ−Ｙステージ３のＸ軸７に平行に
配設された拡大レンズ８．８′、該レンズ８．８′を通
った光を反射するミラー９．９′、ミラー ９．９’の
中間に位置しミラー９．９．′がらの光を分光するスプ
リッタ１０．該スプリッタ１ｏがらの光が入射する接眼
レンズ１１がらなり、接眼レンズ１１を通してレンズ８
．８′の対象物をスプリットイメージとして見ることが
できるようになっている。上記光学手段５で°回転テー
ブル３上の基板１のパターン４を検鏡すると、第２図（
イ）に示すレンズ８．８′の視野に対応するパターン４
の直線部６の縁６′を含む領域Ａ、Ｂは、同図（ロ）に
示す如くスプリットイメージＡ′、Ｂ′に形成され、パ
ターン４がＸ軸Ｔと平行になっていないときズレ量Ｒを
生じる。接眼レンズ１１を通してこのスプリットイメー
ジＡ′、Ｂ′を見ながら回転テーブル２の回転を行ない
ズレ量Ｒを零にするとパターン直線部の縁６′はＸ軸に
平行になり、パターン４はカメラ（図示せず）の視野下
となる所定位置でカメラに対して整置される。
配設された拡大レンズ８．８′、該レンズ８．８′を通
った光を反射するミラー９．９′、ミラー ９．９’の
中間に位置しミラー９．９．′がらの光を分光するスプ
リッタ１０．該スプリッタ１ｏがらの光が入射する接眼
レンズ１１がらなり、接眼レンズ１１を通してレンズ８
．８′の対象物をスプリットイメージとして見ることが
できるようになっている。上記光学手段５で°回転テー
ブル３上の基板１のパターン４を検鏡すると、第２図（
イ）に示すレンズ８．８′の視野に対応するパターン４
の直線部６の縁６′を含む領域Ａ、Ｂは、同図（ロ）に
示す如くスプリットイメージＡ′、Ｂ′に形成され、パ
ターン４がＸ軸Ｔと平行になっていないときズレ量Ｒを
生じる。接眼レンズ１１を通してこのスプリットイメー
ジＡ′、Ｂ′を見ながら回転テーブル２の回転を行ない
ズレ量Ｒを零にするとパターン直線部の縁６′はＸ軸に
平行になり、パターン４はカメラ（図示せず）の視野下
となる所定位置でカメラに対して整置される。
そして光学手段５とカメラとをスライドして切換え、パ
ターンを撮像してパターン検査が行なわれる。
ターンを撮像してパターン検査が行なわれる。
なおパターンの回転位置合せにあたってはパターン直線
部６の縁６′は光学手段５のレンズ８．８′下になけれ
ばならず、必要ならば基板１に予めＸ−Ｙステージ３に
よって適宜の移送を行なう。
部６の縁６′は光学手段５のレンズ８．８′下になけれ
ばならず、必要ならば基板１に予めＸ−Ｙステージ３に
よって適宜の移送を行なう。
しかしながらかかる回転位置合せ装置はパターンの検出
手段としてレンズその他からなる光学系を媒介している
ものの目視によるので、精度を上げるためには高倍率の
拡大レンズを必要とし、またその結果焦点を合せづらく
なるため位置合せ作業の能率が悪かった。
手段としてレンズその他からなる光学系を媒介している
ものの目視によるので、精度を上げるためには高倍率の
拡大レンズを必要とし、またその結果焦点を合せづらく
なるため位置合せ作業の能率が悪かった。
本発明はかかる従来の難点に鑑みなされたもので、ウェ
ハ等の基板を載置し回転するテーブルと、該回転テーブ
ルを載設したＸ−Ｙステージと、前記基板もしくはこれ
に形成されたパターンの姿勢を検出する手段とを備え、
前記基板を前記Ｘ−Ｙステージで所定位置へ移送したの
ち前記回転チー ゛プルを回転して前記基板もしく
はこれに形成されたパターンを整置するようにさせた回
転位置合せ装置において、前記検出手段は前記基板に予
め設けら些た検査用ラインを照射する２個の放射エネル
ギー照射部およびこれに対応し、がり前記検査用ライン
の姿勢を検知するラインセンサーで形成されるとともに
、さらに該ラインセンサーで得られた検知信号を演算す
る処理部を設けて前記回転テーブルの回転を制御し、前
記検査用ラインの姿勢を制御して前記基板等を整置する
ようにさせた回転位置合せ装置を提供することを目的と
する。
ハ等の基板を載置し回転するテーブルと、該回転テーブ
ルを載設したＸ−Ｙステージと、前記基板もしくはこれ
に形成されたパターンの姿勢を検出する手段とを備え、
前記基板を前記Ｘ−Ｙステージで所定位置へ移送したの
ち前記回転チー ゛プルを回転して前記基板もしく
はこれに形成されたパターンを整置するようにさせた回
転位置合せ装置において、前記検出手段は前記基板に予
め設けら些た検査用ラインを照射する２個の放射エネル
ギー照射部およびこれに対応し、がり前記検査用ライン
の姿勢を検知するラインセンサーで形成されるとともに
、さらに該ラインセンサーで得られた検知信号を演算す
る処理部を設けて前記回転テーブルの回転を制御し、前
記検査用ラインの姿勢を制御して前記基板等を整置する
ようにさせた回転位置合せ装置を提供することを目的と
する。
以下本発明を図面に基づいて実施例につき詳細に説明す
る。なお以下の図で第１〜第２図と同一のものは同一の
符号を使用するものとする。
る。なお以下の図で第１〜第２図と同一のものは同一の
符号を使用するものとする。
本発明の回転位置合せ装置は、第３図に示すように回転
テーブル２上の基板１に形成されたパターン４の姿勢の
検出手段として、該基板１に予め設けられた検査用ライ
ン１２を照射する２個の放射エネルギー照射部１３．１
３′およびこれに対応しかつ前記検査用ライン１２の姿
勢を検知するラインセンサー１４．１４′で形成すると
ともに、さらに該ラインセンサー１４．１４′で得られ
た検知信号を演算する処理部１５を設けて前記回転テー
ブル２の回転を制御し前記検査用ライン１２の姿勢を制
御することによってパターン４の位置合せを行なうよう
構成されている。
テーブル２上の基板１に形成されたパターン４の姿勢の
検出手段として、該基板１に予め設けられた検査用ライ
ン１２を照射する２個の放射エネルギー照射部１３．１
３′およびこれに対応しかつ前記検査用ライン１２の姿
勢を検知するラインセンサー１４．１４′で形成すると
ともに、さらに該ラインセンサー１４．１４′で得られ
た検知信号を演算する処理部１５を設けて前記回転テー
ブル２の回転を制御し前記検査用ライン１２の姿勢を制
御することによってパターン４の位置合せを行なうよう
構成されている。
回転テーブル２はＸ−Ｙステージ３上に回転支点１６に
よって回転可能に載設されており、回転駆動用モータ１
７および送りネジ、１８を含む回転手段１９によって支
点１６を中心に左右に回転する。放射エネルギー照射部
１３．１３′は、それぞれコンデンサーレンズ１３ａと
ミラー１３ｂ、コンデンサーレンズ１３ａとハーフミラ
−１３ｂ′で構成されＸ軸７に平行に配設されている。
よって回転可能に載設されており、回転駆動用モータ１
７および送りネジ、１８を含む回転手段１９によって支
点１６を中心に左右に回転する。放射エネルギー照射部
１３．１３′は、それぞれコンデンサーレンズ１３ａと
ミラー１３ｂ、コンデンサーレンズ１３ａとハーフミラ
−１３ｂ′で構成されＸ軸７に平行に配設されている。
そしてレンズ２０を通して来た光源の照明ランプ２１か
らの光を２分割して基板１に設けられた検査用ライン１
２に下方から照射するようになっている。
らの光を２分割して基板１に設けられた検査用ライン１
２に下方から照射するようになっている。
ラインセンサー１４．１４′は上記照射部１３．１３′
に対応するようＸ−Ｙステージ・３の上方に設けられ、
検査用ライン１２を照射して透過された光が拡大レンズ
−２２，２２′を通して入射されるようになっており、
該センサ１４．１４′では透過像をＹ方向にスキャンし
て検査用ラインを撮像する。演算処理部１５は、上記ラ
インセンサーで撮像して検知された検査用ラインの検知
信号をラインセンサー、制御部２３を通して入力され４
、検査用ライン１２の回転ズレ量Ｒを算出しモータ制御
部２４を通して回転テーブル２０回転駆動用モータ１７
にモータ制御信号を出力するようになっている。
に対応するようＸ−Ｙステージ・３の上方に設けられ、
検査用ライン１２を照射して透過された光が拡大レンズ
−２２，２２′を通して入射されるようになっており、
該センサ１４．１４′では透過像をＹ方向にスキャンし
て検査用ラインを撮像する。演算処理部１５は、上記ラ
インセンサーで撮像して検知された検査用ラインの検知
信号をラインセンサー、制御部２３を通して入力され４
、検査用ライン１２の回転ズレ量Ｒを算出しモータ制御
部２４を通して回転テーブル２０回転駆動用モータ１７
にモータ制御信号を出力するようになっている。
かかる回転位置合せ装置を用いてのパターンの姿勢制御
は次のようにして行なう。すなわち予め検査用ライン１
２が設けられている基板１を回転テーブル２に載置する
。該検査用ライン１２はパターン牛のＸ方向の直線部６
（第２図ヒ））に対して平行に設けられている。そして
第４図に示すように検出手段の拡大レンズ２２．２２′
の視野Ｄ、Ｅ内に入った検査用ライン１２がＸ−Ｙステ
ージのＸ軸に対してズレを生じていて平行になっていな
いとする。このとき第５図イ）の如く視野り、Ｅ内の検
査用ライン１２の拡大像１２Ｄ、１２Ｂはその中心１２
Ｄ′、１２Ｅ′に回転ズレｉｌＲを生じ、該拡大像１２
Ｄ、１２Ｂをラインセンサー１４．１４′内でＹ方向に
スキャンして撮像すると第５図（ロ）に示すように検査
用ライン１２Ｄ、１２Ｅに対する出力Ｆ、Ｃｒが得られ
、スキャン原点からその中心Ｃ）−Ｃ（３までの距離は
ＦＥＦ、ＲＧとなってその差△Ｒ＝Ｒｐ −Ｒ（３は上
記回転ズレ−ｊ［Ｌに対応したものとなる。上記出力Ｆ
、Ｇを演算処理部１５に入力して出力Ｆ、Ｇの中心Ｃｐ
、 Ｃ（３を算出し、この値に基づいてモータ制御部２
４を通して回転テーブル２のモータ１７の回転を調整し
ＲＦ ＝ Ｒ（３となるように制御する。その結果慌査
用ライン１２はＸ軸７に対して平行になり、パターン４
はＸ軸に対してそのＸ方向の直線部６が平行に位置合せ
され整置される。
は次のようにして行なう。すなわち予め検査用ライン１
２が設けられている基板１を回転テーブル２に載置する
。該検査用ライン１２はパターン牛のＸ方向の直線部６
（第２図ヒ））に対して平行に設けられている。そして
第４図に示すように検出手段の拡大レンズ２２．２２′
の視野Ｄ、Ｅ内に入った検査用ライン１２がＸ−Ｙステ
ージのＸ軸に対してズレを生じていて平行になっていな
いとする。このとき第５図イ）の如く視野り、Ｅ内の検
査用ライン１２の拡大像１２Ｄ、１２Ｂはその中心１２
Ｄ′、１２Ｅ′に回転ズレｉｌＲを生じ、該拡大像１２
Ｄ、１２Ｂをラインセンサー１４．１４′内でＹ方向に
スキャンして撮像すると第５図（ロ）に示すように検査
用ライン１２Ｄ、１２Ｅに対する出力Ｆ、Ｃｒが得られ
、スキャン原点からその中心Ｃ）−Ｃ（３までの距離は
ＦＥＦ、ＲＧとなってその差△Ｒ＝Ｒｐ −Ｒ（３は上
記回転ズレ−ｊ［Ｌに対応したものとなる。上記出力Ｆ
、Ｇを演算処理部１５に入力して出力Ｆ、Ｇの中心Ｃｐ
、 Ｃ（３を算出し、この値に基づいてモータ制御部２
４を通して回転テーブル２のモータ１７の回転を調整し
ＲＦ ＝ Ｒ（３となるように制御する。その結果慌査
用ライン１２はＸ軸７に対して平行になり、パターン４
はＸ軸に対してそのＸ方向の直線部６が平行に位置合せ
され整置される。
なお上記パターンの位置合せは検出手段のレンズ２２．
２２′の視野り、Ｅ内で＠食用ライン１２を微回転して
行なわれるが、その場合視野り、 Ｅの双方に検査用ラ
イン１２が入らないときはＸ−Ｙステージ３を予め適宜
駆動して回転位置合せが ゛できるようにしてお
く。
２２′の視野り、Ｅ内で＠食用ライン１２を微回転して
行なわれるが、その場合視野り、 Ｅの双方に検査用ラ
イン１２が入らないときはＸ−Ｙステージ３を予め適宜
駆動して回転位置合せが ゛できるようにしてお
く。
以上では基板に形成された］くターンの回転位置合せを
例にとって説明したが、基板そのものについても同様に
して回転位置合せすることができることはいうまでもな
い。また検査用ラインの検出には透過光を検知して行な
っているが、上方から光を照射して反射光を検知するよ
うにしてもよい。
例にとって説明したが、基板そのものについても同様に
して回転位置合せすることができることはいうまでもな
い。また検査用ラインの検出には透過光を検知して行な
っているが、上方から光を照射して反射光を検知するよ
うにしてもよい。
以上説明したように本発明の回転位置合せ装置では、基
板もしくはこれに形成されたノ（ターンの姿勢の検出す
る手段を、基板に予め設けられた所定の検査用ラインを
照射する２個の放射エネルギー照射部およびこれに対応
しかつ検査用ラインの姿勢を検知するラインセンサーで
形成するとともに、さらに該センサーで得られた信号を
演算処理し回転テーブルの回転を制御する処理部を設け
、検査用ラインの位置合せを行なうことによって）（タ
ーン等の位置合せを行なっているので、）（ターン等の
回転位置合せを完全自動化できるとともにラインセンサ
ーは分解能が良いため高精度な位置合せが行えかつその
信号処理も容易なものとなる。
板もしくはこれに形成されたノ（ターンの姿勢の検出す
る手段を、基板に予め設けられた所定の検査用ラインを
照射する２個の放射エネルギー照射部およびこれに対応
しかつ検査用ラインの姿勢を検知するラインセンサーで
形成するとともに、さらに該センサーで得られた信号を
演算処理し回転テーブルの回転を制御する処理部を設け
、検査用ラインの位置合せを行なうことによって）（タ
ーン等の位置合せを行なっているので、）（ターン等の
回転位置合せを完全自動化できるとともにラインセンサ
ーは分解能が良いため高精度な位置合せが行えかつその
信号処理も容易なものとなる。
第１図は従来の目視による）々ターン回転位１改合せ装
置の概念図、第２図け）、（μ）はノ（ターンの位置合
せの仕方の説明図で、Ｉ（）はノくターンの姿勢検出を
説明する平面図、（ロ）は（イ）におけるスフ−リット
１象を示す平面図、第３図は本発明のノくターン回転位
置合せ装置の一実施例を示す概念図、第４図は検査用ラ
インの姿勢検出を説明する平面図、第５図曾）、（ロ）
はパターンの位置合せの仕方の説明図で、（イ）は検査
用ラインの光学像、ｔｐ）は＠）の光学像をラインセン
サーで撮像したときの出力を示すグラフである。 １・・・・・・基板 ２・・・・・・回転テーブル ３・・・・・・Ｘ−Ｙステージ ４・・・・・・パターン 了・・・・・・Ｘ−ＹステージのＸ軸 １２・・・検査用ライン １３．１３′・・・放射エネルギー照射部１４．１４′
・・・ラインセンサー １５・・・演算処理部
置の概念図、第２図け）、（μ）はノ（ターンの位置合
せの仕方の説明図で、Ｉ（）はノくターンの姿勢検出を
説明する平面図、（ロ）は（イ）におけるスフ−リット
１象を示す平面図、第３図は本発明のノくターン回転位
置合せ装置の一実施例を示す概念図、第４図は検査用ラ
インの姿勢検出を説明する平面図、第５図曾）、（ロ）
はパターンの位置合せの仕方の説明図で、（イ）は検査
用ラインの光学像、ｔｐ）は＠）の光学像をラインセン
サーで撮像したときの出力を示すグラフである。 １・・・・・・基板 ２・・・・・・回転テーブル ３・・・・・・Ｘ−Ｙステージ ４・・・・・・パターン 了・・・・・・Ｘ−ＹステージのＸ軸 １２・・・検査用ライン １３．１３′・・・放射エネルギー照射部１４．１４′
・・・ラインセンサー １５・・・演算処理部
Claims (1)
- ウェハ等の基板を載置し回転するテーブルと、該回転テ
ーブルを載置したＸ−Ｙステージと、前記基板もしくは
これに形成されたパターンの姿勢を検出する手段とを備
え、前記基板を前記Ｘ−Ｙステージで所定位置へ移送し
たのち前記回転テーブルを回転して前記基板もしくはこ
れに形成されたパターンを整置するようにさせた回転位
置合せ装置において、前記検出手段は前記基板に予め設
けられた検査用ラインを照射する２個の放射エネルギー
照射部およびこれに対応しかつ前記検査用ラインの姿勢
を検知するラインセンサーで形成されるとともに、さら
に該ラインセンサーで得られた検知信号を演算する処理
部を設けて前記回転テーブルの回転を制御し、前記検査
用ラインの姿勢を制御して前記パターン等を整置するよ
うにさせたことを特徴とする回転位置合せ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56104408A JPS587822A (ja) | 1981-07-06 | 1981-07-06 | 回転位置合せ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56104408A JPS587822A (ja) | 1981-07-06 | 1981-07-06 | 回転位置合せ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS587822A true JPS587822A (ja) | 1983-01-17 |
Family
ID=14379882
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56104408A Pending JPS587822A (ja) | 1981-07-06 | 1981-07-06 | 回転位置合せ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS587822A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8900020B2 (en) | 2010-03-23 | 2014-12-02 | Yazaki Corporation | Crimping terminal, and crimping structure of crimping terminal against electric wire |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54133076A (en) * | 1978-04-07 | 1979-10-16 | Hitachi Ltd | Set system for pattern rotation location |
-
1981
- 1981-07-06 JP JP56104408A patent/JPS587822A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54133076A (en) * | 1978-04-07 | 1979-10-16 | Hitachi Ltd | Set system for pattern rotation location |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8900020B2 (en) | 2010-03-23 | 2014-12-02 | Yazaki Corporation | Crimping terminal, and crimping structure of crimping terminal against electric wire |
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