JPS5875530A - 曲率測定装置 - Google Patents

曲率測定装置

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JPS5875530A
JPS5875530A JP56173528A JP17352881A JPS5875530A JP S5875530 A JPS5875530 A JP S5875530A JP 56173528 A JP56173528 A JP 56173528A JP 17352881 A JP17352881 A JP 17352881A JP S5875530 A JPS5875530 A JP S5875530A
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light emitting
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は曲面の曲率半径を測定する装置に関しさらに詳
しくは,人眼の角膜の曲率半径を測定するオフサルモメ
ータやコンタクトレンズの曲率半径を測定するラジアス
メータに応用できる曲率測定装置κ関する。
本明細書忙おいては本発明の原理及び実施例を主にオ7
サルモメータについて説明するが本発明はこれに限定さ
れるものでなく,広く光反射性を有する曲面体の曲面の
曲率半径を測定する装置にも本発明が適用できるもので
ある。
人眼角膜自体の屈折力は、層全体の総屈折カの略ざOX
約4(jDの屈折力をもち,また、、1視眼においては
約73嘔が角膜乱視すなわち角膜前面が球面でなくトー
リック面形状をしていることに起因している。まな、コ
ンタクトレンズ処方に際しては,そのペースカーラは,
コンタクトレンズ□ を装用さぜる眼の角膜前面の曲率半径をもとに処方する
必要がある.これら観点から角膜前面の曲率半径を測定
することは重要な意義がある。この要求から,人眼角膜
前面の曲率半径を測定する装置として、種々の形式のオ
フサルモメーターが実用化されている.いずれの型式の
オフサルモメーターも.被検角膜上に1つもしくは複数
の視標を投影し,その投影像の大きさ、あるいけその反
射儂位置を,観察望遠鏡の焦点面で観察し、投影像の大
きさの変化量あるいは視標反射儂の相対的位置ズレ量か
ら被検角膜の曲率半径及び角膜乱視軸を測定するもので
あつ六。
オフサルモメータにおいては,特κ角膜カトーリツク面
形状の乱視眼角膜の測定に際しては,その第l及び第コ
主径線の曲率半径及び主径線方向の軸角度の3つの被測
定量を測定することが必要であり、上述の従来のオフサ
ルモメータはこれら3つの測定値をもとめるのに3段階
の測定を必要としていた。しかしながら、人[KFi生
理的な眼球振動かつねKともなっており,測定時間の長
時間化は眼球撮動にともなう投影像の振動となり。
それゆえに測定誤差や,測定中の頻繁なアライメント調
整操作を必要とするという大きな問題点があった。
この従来の装置の欠点を解決する装置として例えば特開
昭t 4 − tttryり号公報,特開昭夕6一66
コ3j 公報,あるいは米国特許ダ759ざ6り号明細
書κ社,投影儂の角膜からの反射儂をI次元型あるいけ
2次元型のデゾションセンサで検出して。
その検出位置から被検眼角膜の曲率半径及び主径線軸角
質を測定する装置が開示されている。
しかしながら、これら装置も,従来の実用されているオ
フサルモメーターと同様κ,投影視標の角膜からの反射
儂を望遠鏡で結僚す型式であり。
測定精度を上げるには望遠鏡の焦点距離を大きくせねば
ならず,いきおい装置が大型化するという欠点があった
。また結gI!型式であるためその合焦機構を必要とし
ていた.また、装置と被検角膜とのアライメントもとの
合焦望遠鏡を利用してアライメントする九めアライメン
トも不正確であり。
かつ測定時間の短縮化や完全な自動化にはつながらなか
つ虎。
非結像光学系を利用して,光学系の屈折特性。
主にamレンズの球面屈折力や円柱屈折力及びその軸角
度を測定する装置が、米国特許第3ttO!t:13号
明細書に開示されている。この装置は、被検眼鐘レンズ
に平行光束を照射し被検レンズの屈折特性により偏向さ
れた光束を点開口を有するマスク手段で選択し被検レン
ズの焦点距離より短かい距離忙配置された平面型イメー
ジディテクターやTV左カメラ撮偉面に投影し、上記点
開口を通過した光線の該ディテクター上への投影点の位
置から被検レンズの屈折特性をもとめる構成であった。
しかしながら、この米国特許明細書は、屈折光学系にお
ける屈折特性測定を開示するのみであり。
反射光学系の曲面特性、特にその反射曲面の曲率半径の
測定等については何ら開示も示唆もしていない、さらに
、この装置は点開口を使用して屈折特性を一出するため
、検出手段には上述の平面型のイメージディテクタやT
V左カメラ使用せねばならず、装置が高価になるばかり
か、被検レンズや装置光学系あるいは検出面に一/ミ、
ホコリ等が耐着すると点開口を通過すべき光束がデミ、
ホコリ等で透析されると、被検レンズの屈折特性を測定
できない場合も生じるという欠点を有していた。
そこで1本発明は、上述し九従来のオフサルモメータの
欠点を解決し、非結償型光学系を利用して自動測定が可
能な、オフサルモメータやうVアスメータ等に応用でき
る曲率測定装置を提供せんとするものである。
本発明のもう一つの目的岐、非装置型光学系を使用する
ことにより、従来の装置に比較して、小型で、かつ納置
望遠鏡等の検者が観察および操作する必要のある光学部
材を有しない、自動的に曲率半径を測定出来る曲率測定
装置を提供することである。
本発明の更にもう一つの目的は、従来の装置が規準によ
り行なってい九被検曲面と装置光軸とのアライメントの
六めの情報を自動的に出力できる操作性がすぐれそして
測定時間を短縮できる自動曲率測定装置を提供すること
である。
本発明の更にもう一つの目的は、マスク手段の情報量を
多くすることによ抄、従来のオルサモメータはもちろん
自動レンズメータより安価な検出手段が利用でき、しか
も装置光学系や検出dMKf2やホコリがあっても測定
が可能な外乱影響に強く高精度でしかも安価な自動測定
可能な曲率測定装置を提供することである。
すなわち、本発明によるならば、光軸と喬直な実質的も
しくは仮想的な平面内に少なくとも一本の直線で少なく
ともlっの実質的もしくは仮想的な交点を有するように
直線を成す光線と、該光軸上に配置されたピンホールを
通して該直線光源を射出した照明光束の主光線を蚊光軸
と平行にする結像レンズとを有する照明光学系と、この
照明光の被検曲面からの反射光を前記直線光源と光学的
に非共役な面内で検出する検出手段と、この検出手段が
検出した前記反射光の前記r!L!I光源に対応し走置
線投影パターンから被検曲面の曲率半径を演算する演算
手段とから構成されてなる曲率測定装置が提供される。
また、本発明によるならば、光軸と垂直な実質的もしく
は仮想的な平面内において少なくとも一本の直線で少な
くともlっの実質的もしくけ仮想的な交点を有するよう
忙直線をなす光検出手段と、被検曲面からの前記光軸に
平行な光を光軸上に配置されたピンホールを介して前記
光検出手段へ向けるレンズとを有する検出光学系と、同
一平面内に配置された多数の発光単位を有し、前記被検
曲面に向けて、前記光検出手段と光学的に非共役な一つ
の位置から光を照射する発光源と、前記光検出手段が検
出し六光線を発した前記発光源の発光単位の直線軌跡か
ら前記被検曲面の曲率半径を演算する演算手段とから構
成されてなる曲率測定装置が提供される。
更に1本発明によれば、光源と、該光源からの光を平行
光束とするコリメータ手段とを有する照明光学系とこの
照明光学系からの光束で被検曲面によって反射され九光
束を選択する六めに実質的もしくは仮想的な面内で少な
くとも一本の直線を少なくとも1点で実質的もしくは仮
想的に交差させるよう構成され光直線を成すノ4ターン
を有するマスク手段と、このマスク手段で選択された反
射光を検出する検出手段と、この検出手段が検出した前
記反射光の前記直線ノ中ターンに対応し光度線投影ツヤ
ターンから前記被検曲面の曲率半径を演算する演算手段
とからなり、前記直線)4ターンと前記検出手段のいず
れもが前記光源と光学的に共役な互いに異なる面内にそ
れぞれ配置されている曲率測定装置が提供される。
さらにまた1本発明によるならば、多数の発光単位を有
する発光源と、この発光源からの光束を選択するために
実質的もしくは仮想的な面内で少なくとも一本の直線で
少なくとも7点で実質的もしくは仮想的に交差させるよ
うに構成された直線ノ9ターンを有するマスク手段と、
このマスク手段により選択され被検曲面により反射され
た反射光束のうち装置光軸と平行な光源を、この光軸上
に配置されたピンホール手段に導び〈集光手段と。
このピンホール手段を通過した光線を検知する検□ 知手段と、この検知手段が検知し得た骸光線を発光した
前記発光単位が作る直線軌跡から前記被検曲面の曲率半
径を演算する演算手段とから構成されてなる曲率測定装
置が提供される。
本発明において1以上の構成上の特徴により従来の曲率
半径測定装置に比較して、装置が小型とな転、測定時間
が短かく、外乱影響に対し、強くかつ測定精度が高く、
さらに安価で、しかも自動的に被検曲面の曲率半径を測
定できる。さらにアライメント情報を自動的に出力でき
るので、さらに測定時間の短縮と測定精度の向上が実現
できる。
これら本発明の長所は、特にオ7サルモメータに本発明
を応用した場合、@球振動の影響を受けない測定精度が
高く測定時間の短かい小屋で、かつ安価な自動測定を可
能化したオフサルモメータを提供することができる。
マタ本発明をコンタクトレンズのペースカーブあるいは
前面の曲率半径を測定するいわゆるラジアスメータに応
用すれば、ターゲツト像をコンタクトレンズの表輯と、
その自車中心に:1f合焦し。
そのときの対物レンズの移動量からベース・カーブ郷の
曲率半径を測定してい九従来のラジアスメータに比較し
て、従来のラジアスメータがもっていたターゲツト像観
察及びそれによる測定用の顕微鐘光学系を一切必要とせ
ず、ゆえに測定精ばを直接左右する視度調節を一切必要
としないばかりか、測定者間のパーソナルエラーも発生
しない自動測定が出来、測定精度の高い、しかも測定時
間の短い新しいタイプのラジアスメータを提供すること
ができる。
明する。
第1図は1本発明の第1の測定原理を説明するための斜
視図であり、第一図はその平面図である。
これらの図において、装置光軸0.Kg点を有するxo
−y0直交座標系を考える。このXo−Yo 座標系を
含む面に、その頂点を接するように角膜Cが配置されて
いるものとする。この角膜Cはその光学中心OcをX0
軸方向にEH,Y0軸方向にEvずらして配置されてお
りかつ曲率半径r1の第1主径線がX0軸と角[#、、
だけ傾けて配置されているものとする。tたその第コ主
径線の曲率半径をr、とする、今、このxo −y0座
標系から装置光軸01にそって距離1@れた位置に、そ
の装置光軸o1上に原点0をもっx−y直交座標系を想
定し、とのX−Y座標面に検出面りを配置したとする。
さらに、直線状光源A、Bを想定する。この直線状光源
A及びBはI点iで互いに交差し、それぞれの端点をj
、にとする、直線−光源AはX0軸と平行な直1!X、
に対し角度#工傾斜しており。
まな直線光#Bけ直線XpK対し、角度θ:で傾斜して
いるものとする。また両度線光源A、Hの交差角は0と
する。
この直線光源A、Bからの光がその主光線を装置光軸0
1に対し平行になるようにxo−y0座標面に装置投影
されたとすると、光源A、Bがらの主光線は角膜Cで反
射され、前記直線光源A。
Bと光学的に非共役な検出面りに到達する。直線光源A
が角膜Cで反射して検出面DK投影され九投影直線をA
′、直線光源Bが角膜Cで反射して検出面DK投影され
た投影直線を特徴とする特許角膜Cの前面のトーリック
面の形状特性、すなわちそれぞれの主径線の方向および
曲率半径によって、投影直線A′ とB′の交点は1′
に、投影直aA′の端点けj′に、その傾きはY軸と0
1′の角[K変化し、投影直線B′の端点けに′、その
Y軸との傾きはθ雪′に変化している。そしてまた。
直線光源Aの長さ、すなわち交点量と端点jとの間の長
さ 。lAは、交点l′ と端点j′の間の長さ。IA
Iに変化しており、同様に直線光源Bの長さ。
すなわち交点iと端点にとの間の長さ。lB は。
交点1′ と端点に′の間の長。1BIyc変化してい
る。ここでtanθ1MaomA、tanθz Wom
B @tanθ −m  、 tanθM −om!I
  とすると。
A 4′oψA” oψB(omA−0mB) (7+ /
)”−コ〔。ψA(omA””o”B )”。ψB(。
m’、 −0mB))、(+/)+(。mA′−0mB
’ ) −77・・・・・・・・・・・・・・・(l1
式の二次方程式が得られる。
この二次方程式の2根をλ0.λ2 とするととなる。
ここで第2図に示すように検出面りを角膜Cから距11
14’離れた位置に移動した場合の直線光源A、及びB
のこの移動後の検出面D′上への投影儂についても上記
第(1)式と同様の二次方程式が成立するので、この二
次方程式の2根をそれぞを得る。これら(2)式、(2
1’式から角膜Cの第1及び第コ主径線の曲率半径r 
及びr は1         ! ′ としてもとめることができる。
また第1主径線の軸角度0,1は は1通常の角膜であれば、’r* = ’11 + 9
00である力♂■、測定から決定したければ として得ることができる。
以上の測定原理は、直線光源A、Bの角膜Cでの反射に
よる投影直線A′、B′  の検出に検出面りおよびD
′ を使用したが、次KX−YgM標系の両座標軸、X
軸及びY軸上だけでこれら投影直線AlB′を決定する
方法を述べる。
第3図に示すように、直線光源A、Bの相方に交差する
今一つの直線光OICを想定し、その交点をそれぞれj
、にとする。
この三つの+iis光源A、B、CのX−Y座標系への
角膜Cの反射による投影直線なA’、B’及びC′とす
る。そしてY軸及びY軸とこれら投影直−A’、B’、
iびC′の交点を検出するX軸上の検出点をxal、x
a2.  及びxa、 7軸上の検出点をYall F
ags及びya3とそれぞれすると、直線はその内の任
意の一点がきまればその方程式を決定できるので、検出
点ya  と19.から投影直線A′! の方程式が決定でき、同IsK検出点xa  とya、
か■ ら投影IAMB’の方程式が、検出点Xa  とya、
から投影直線C′の方程式がそれぞれ決定できる。
仁れら投影直+1A’、B’及びC′のそれぞれの方程
式から、これら3直線A’、B’及びC′の交点i’、
j’、&びに′の座標が算出でき、これより1′ とj
′間の長さ131.’ r 1 ’ とに′間の長さl
B′かもとめられるし、また、上記投影直線A′ の方
程式よりその傾きtanθ1’m mA’を、投影直線
B′の方程式よりその傾きjan 6g’−mB’をそ
れぞれ算出でき、これより、上述のts(1)式から第
(4)′式を使って角膜Cの曲率半径「、「  及び軸
1 角度−をもとめることができる。
1&装置光軸01 と被検角pcの頂点Oeとのアライ
メントは、直線光源A、B及びCの交点i。
j、及びkの座標をそれぞれ−i(。X□、。Yl)。
j(。X、。Y、)、及びk(。X、。y、)  とす
るとき。
。X1+。X、+。x、 −o及び。Y1+。Y8+。
y、−oを満たすように直線光源A、B、Cを予め設定
し、これら直線光源の角膜Cによる検出面り上への投影
i[11A’  g B’  @及びC’ Kより作ら
れる父点五′ 。
jl、及びに:の座標をそれぞれt’(x、y)。
1 j’(x、e Y、)、及びに’(X、、Y、)  と
するとき。
をもとめα−β−〇となるようKfi!置本体全本体上
下に移動して合わせることができる。
これらアライメント蓋α及びβけ、第1図及び83図に
示すように、角膜Cの頂点OcがX0軸方向に一2Y 
軸方向にEvずれているために発生するものである。
以上説明したように、第3図の方法によれば、第7図に
示したように投影直線^/、B/のそれぞれの交点及び
端点量′、1′、k′を検出する必要がないばかシか、
平面状の検出器でなく互いに交差する2本の直線上の検
出器で投影直線^′、B′、C′が決定でき、これより
その交点1/、1/  及びに′を算出できるので、装
置構成上有利であることがわかる。
また、この第1の測定原理は、次の長所をもつ。
第2図に示すように検出面りとp′ の間の距離Δが予
め定められた一定値を取るならば、直線光源A%B%C
からの角膜Cによる反射光束の反射方向は検出面0(お
よび0/)の位置に無関係に一定であるから、検出面D
?cおける到達点例えば魯から検出面DI  における
到達点l/ への変化蓋へはつねに一定である。このこ
とから、本測定原理を使用すれば、装置の基準面、通常
装置の最前面Pから角1icの頂点Oc  との間の作
動距−εに測定結果は左右されないといえ、従来のオ7
サルモメータのように測定に際して予め定められた装置
固有の作動距離の調整をする必要がない、このことは本
測定原理の大きな長所である。
第4図は、本発明の第一の測定原理を示す斜視図であシ
、第sFi:iはその平面図である。尚、上述の第1の
原理と同一もしくは均等な構成要素には同一の符号を付
して、説明を省略する。被検角膜間されており、この照
明光束の角膜Cによる反射光は、角膜頂点OCから距離
を隔てられたマスクMに形成された直線開口A%B及び
Cで選択透過されて、このマスクMから距[d隔てられ
た検出面Oに投影される。ここで直線開口A%B及びC
の配置状態は前述の第1の原理の直線光源^、B及びC
と同様である。
また、検出1fiDでの投影直線A′、B′及びC′)
検出は、X軸上及びY軸でのこれら投影I![線の交差
点を検出する場合についてのみ説明するが、第1図のよ
うに検出面り全体を走査して検出してもよいことは言う
までもない、また検出を面でおこなう場合はマスクMに
形成された直線開口は^及びBの二本だけでよいことは
言うまでもない。
さて、X軸及びY軸と投影直穆^I%B/及びc’ の
交差点xa1. xa2. xa5.及びyals V
I2sYa5から投影直線A/、B/及びC′のそれぞ
れの方程式を前述の第7の原理と同様に決定し、投影直
線の長さをIA’、投影直@Blの長さを78/、  
また投影直線A/ の傾きをtanf)(==rnA’
 e投影直線B′の傾きをtan2−AB  をそれぞ
れ投影直線の方程式からもとめ、これとマスクM上の直
線開口^、B及びCから直線開口Aの長さをl^、その
傾きをtanθ1:inA、直線開口Bの長さをtB、
その傾きをtanθ2−mBとすると、 ψA−ψs(mA−ms ) (−+ / )2一〔ψ
A((2)うl)情(mA−−)〕(τ十/)+(mA
−ms)=O・・・・・イ6)式の二次方程式が得られ
る。但し、ψA、ψB は第(1)式と同じ定義による
。この二次方程式のコ根z1゜z2  は、それぞれマ
スクMから角MCの第1主径線の焦点Fr1.  第a
主径線の焦点’r2 tでの距離を示しておシ、一方球
面反射光学系の焦点距離fとその曲率半径Rはf = 
R/2の関係があるので、このコ根21.z2  から
角膜Cの第1及び第一主径線の曲率半径r1.r2は、
それぞれ でもとめられる。
ここで、距I!ltは、公知の作動距離検出手段でもと
めた定数としてもよいし、またリレー光学系を使って1
=0になるようにマスクMを設定してもよい。
第1主径線r1の軸角度θ「1は、 として得られる。
第6図は、第2図の測定原理の第一の態様□を示す斜視
図である。第6図の態様は、投影直線A/。
Bl、CI  をX−Y面上の二ツ+7)Y軸、 Y1
軸及びY2軸と交さする位置から検出するものである・
第6図に示すように、投影直線は、yl、y2mysに
おいてY1軸と交さし、Y4s y5e V4において
Y2軸と交さする。したがって、ylとy6かも直線B
′の方程式が得られ、ylとy4から直線A′の方程式
か、またy3とy5から直線C′ の方程式がそれぞれ
得られる。そしてこれら直線の方程式を基にして、直a
A’%E1’のそれぞれの長さl^、 IB及び傾き”
A’s mB/  を求めることができ、また直線の交
点t’s j’s k’  の座標を求めることができ
る。
)第7図は、第2の原理の第3の態様を示す検出面Oの
部分のみを示す斜視図である。検出面Oにおいて角度r
で交差する斜交座41k X’−Y’を考えた場合の例
である。この場合、第3図に示すように投影[Mは点X
’1.X’2.X’!及びY′1.Y′2y/3で交差
1点X / sとY’2とから直$8’(D方程式が、
点X/ 2 、 y /3  とから直線C/の方程式
がそれぞれ得られる。ここで検出面上の斜交座標系x 
/ y /とマスク面上の座標系X−Yとの間にtll
i9図に示すような関係があるとき、斜交座標系X /
−Y′ から直交座標系x−yへの変換は、次式を使っ
て変換でき、その後(6)〜(8)式を使って計算する
ことによシ被検角膜Cの形状特性を計算できる。あるい
は、第7主径線の曲率半径1r1.第一主径線の曲率半
径r2  及び軸角度の算出においては、あらかじめ被
検角膜Cを測定光路中に配置するかわシに装置光軸に垂
直な反射面にマスクパターン照射したときの投影直線を
斜交X /−y /座標系で検出及び算出し、この値を
初期値とし、つぎに被検角膜Cを測定光路中に配置し、
同様に検出・算出し、前記初期値との差をとれば被検角
膜の形状特性を測定できる。このように、本発明は、座
、 種糸の取り方に無関係な装置であり、以下の実施例
で述べるごとく、リニアポジションセンサをX /−y
 /座標系の各軸にあわせて配置するとき、この配置位
置はマスク上のxO−YQ座標系とまったく無関係に任
意に配置できるため、装置製作上及び保守管理上非常釦
すぐれた特徴となる。
また、直線A、B、Qは第10図に示すようにマスクM
上で実質的な交点でなく、仮想交点1゜1、kを有すれ
ばよい、とのことは本発明が、直線A、B、Cの投影像
と、検出面上でのy、 /−y /座S系の各軸との交
点を検出し、この検出点から、直線の方程式をもとめ、
この方程式をもとに交点”*J’+に’  の位置を計
算により算出するものであるから、交点1.1、kは現
実にノやターンとして存在する必要はないものである。
また、直線A1B%Cけ第1/図に示すように、マスク
M上で三角形を形成する必要もない、直線^、8、Cを
それぞれ、延長することにょシ、仮想的に三角形111
、kを形成すればよい、このような直線^、8、Cも上
述の原理と同様に被検角膜Cの屈折特性により変化をう
けて、検出面に投影直線A/、B/、C/を作る。すな
わち、第1コ図に示すように、仮想三角形1、J、kを
作る直@A、8、Cは、am面上OX/−Y/斜交座t
jJ糸テX’1 、 X’2 、 X’5及びV1*V
2*V?iとして検出され、第3図と同様の原理で、直
線^/、B/、C/の方程式がそれぞれ算出でき、ゆえ
にこの算出された直線A/、B/、C/の方程式から仮
想三角形μsj’tk’  を算出できる。そして、仮
想三角形1.J、l(と仮想三角形1’ej’ek′ 
とから第(6)〜第(8)式により同様に被検角膜の曲
率半径r1.r2  及び軸角度θを算出できる・アラ
イメント量α、βの算出は第(5)式と同様に直線^、
B、Cで形づくられる三角形1.j、l(よりあらかじ
め を計算記憶しておき、直線へζB / 、C/  より
”el’mk′ を算出し、 を求める事よシ水平、垂直方向アライメント瀘α、βは
以下のように求めることができる。
ことに これは第9図のような座標においては(9)式の変換を
行って計算すれば、それぞれα、βを求める事が可能で
あることを示すものである。
以上の変形態様は、この第2の測定原理についてのみ成
立するものでなく、前述の第1の測定原理にも、また後
述する第3の測定原理にも同様に適用できるものである
。また、前述の直線光源や、マスクパターンに対応する
検出面りでの検出点Xaj、Xa2bXa5*V’1*
Va2*Va3eや−VM#V2.’15.y4.y5
.’16゜あるいはX1’m”2Zx5’a’jj’a
’2Z’5’がそれぞれどの直線光源やマスクパターン
に対応しているかを判別するためには、直線光源やマス
クパターンの直線の巾を違えるとか、或いは1本の直線
の伏動に一本又は3本の直線群を用いるとかの方法を購
じればよい1例えばマスク上の直線ノ々ターンとしては
、ツ組の平行直線を互いに直交させた配置を用いること
が望ましい、直線の交点の投影が座標軸上に位置する場
合には、各直線間で巾に差を持たせたシ、一方の直線の
代動KI[数本の直線群を用いたりしても、その直線の
中心位置の算出が困難になることが考えられるが、この
問題は、マス゛り上のパターンにおいて、直線の交さ部
で一方の直線を切断し、適当な間隙を設けることにょシ
解決できる。
以上説明した第7及び第2の原理について、「光線逆進
の原理」が適用できる。11]ち、第1の原理について
みるならば、第7図及び第2図において検出面り及びD
′の位置に多数の発光単位が面状〈、そして、面発光体
を検出面0の位置と0′ の位置にそれだれ位置づけて
、面発光体の各発光単位を順次発光させて、前記受光手
段が光を受けたときの面発光体の発光単位の座標上の位
置をプpフトしてゆくことKより、面O及びp/の各位
置における直線AI及びB/が得られ、それらの長さ及
び角度を得ることができる。従って、それらデータから
、前述の第(1)から第(4式を利用して、曲率半径や
軸角度を得ることができる。更に第3図の例について「
光線逆進の原理」を適用するならば、検出面0の位置の
X軸とY軸に沿って直線状発光素子アレイを交さ配置し
、そして、Wi、l1iA状光源^、8、Cの位置に直
線状の受光素子アレイをおく、この場合も上述した光線
逆進の原理の適用例と同様な操作により、Xaj、 X
a2. Xa5.  及びyal、ys2.ys5の各
座標点にある発光単位の位置を求めて、それから直線の
式を求め更に曲率半径を求めることができる。
第一の原理に「光線逆進の原理」を適用した本発明の第
3の測定原理を次に説明する。
第73図はその本発明の第3の測定原理を示す斜視図、
第1ダ図はその平面図である。
この第3の原理は、すなわち、上述の第一の原理の角膜
Cへの照明光束と角膜Cからの反射光束を逆に考え、検
出面りに多数の発光単位から成る発光面Sをおいて、こ
の発光面Sからの光の内でマスク簡の直線開口を通運し
て角gCで反射され装量光軸0.と平行になる光線を射
出した発光面S上の発光単位の位置から角膜Cの形状特
性を求めるものである。以下この第3の測定原理を祥細
に説明するが、上述の第2の原理と同一もしくは均等な
構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。また
直線状発光源に対して成立する原理は当然に平面状発光
源についても成立するので以下の説明は直線状発光源に
ついてのみ説明をする。
X軸上に発散光束/x  を発光する多数の発光単位X
S、、×S2、×S3・・・・・・×Snを稠密的に配
列して成るリニア発光素子アレイSx  を、Y軸上に
同じく多数の発光量位ys、、ys2、ys5・・・・
・・ys、を稠密的に配列して成るリニア発光素子アレ
イS、をそれぞれ配置する。この二本のIJ ニア発光
素子アレイSX%S、の作る発光源面Sの後方(角膜C
側)に光軸01 にそって距離d離なしてマスクMを配
置する。このマスクMには上述の第2の原理のと同様の
直線間ロバターンA%B及びCが形成されている。この
マスクMのさらに彼方に距離lはなして被検角膜Cが配
置される。今IJニア発光アレイSx、SYの各発光単
位Sn  を順次発光走査すると、ある発光単位からの
発散光束中のある光線はマスクMの直線開口A%B及び
Cを通過して角膜Cを照明し、角膜Cで反射される。こ
れら角膜Cで反射された光線の内のさらに少数のある光
線は、製蓋光軸O4と平行な光線である。この平行光線
は、光軸O4に配置した集光レンズLによって、その焦
点FL に集光され、この焦点FL  にピンホールP
Hをおき、このピンホールPHの点開口を通過した光線
を検知器DMで検知する。この検知器DMが光線を検知
したときのその光線を照射した■リニア発光素子アレイ
S×上の発光単位点sX1.1!X2.sX5を知り、
またリニア発光素子アレイS、上の発光単位点sy1、
SV2、sy3を知ることができ、発光単位点sy、と
$×2から直線軌跡へ/、を、発光単位点sX1、とs
y2とから直線軌跡B/、を、sX3とSY3とから直
線軌跡C′、をそれぞれもとめることができる。そして
、これら直線軌跡A′、B′、Cs2は前述のS   
    S 第一の原理と同様にマスクMの直線開口A、B、Cと対
応しており、その長さ及び傾きは直線軌跡^S′、Bs
’についてそれぞれ71′I、18/及びm、′、八 m81に変化しているので、これより前述の第(6)〜
第(8)式を適用して、被検角膜Cの曲率半径r1 、
r2及び軸角度θをもとめることができる。
またアライメント量α、βも前述の他の原理と同様の方
法でもとめることができる。
以上説明した本発明の原理に基づ〈実施例を以下欽明す
る。
第13図は前述の第1の測定原理を利用したオフサルモ
メータの光学配置図である。本実施例においては、検出
器として平面型ポジションセンサを利用しているが、こ
の平面型ポジションセンサの代りに、2本の平行または
交差するリニア型ポジションセンサを使用してもよいこ
とは上述の原理砦、明から明らかであろう。
本実施例のオフサルモメータは、大きく3つの光学系、
即ち、照明光学系1、測定光学系2、固り、光学系3と
から構成されている。
照明光学系1の直線光源としては、多数の微少発光体を
直線状に配列したリニア発光素子アレイを使甲してもよ
いが、以下の構成を増ることも出来る。照明光学系1に
は、光源ランプ4と、このランプ4からの光のうち赤外
光のみを透過する赤外フィルター5と、拡散板6と、コ
ンデンサレンズ7とからなる光源部8があり、この光源
部8からの光は、第76図(a)に示すような太い直線
−口25.26を平行に形成し、かつこの平行直線25
.26に直交する細い3本の直線開口を7組とした直線
開口群27と28をそれぞれ平行に形成してなる開口板
9を照−する。この開口板9の太い直線開口と細い3本
の連線開口群の交点C1;、k、lは、×0軸、YO動
軸上り、そしてその交点剖、はf、 / A図(b)に
示すように直線開口群27が直線25で切断された型と
なっている。また、直線開口26と直線開口群28につ
いても同様である。
この開口板9のそれぞれの直線開口25.26.27.
28が、前述の卯埋四甲における直線光源としてそれぞ
れ作用する。直線開口25.26.27及び28からの
光は、ピンホール板のピンホール10を違って結倭レン
ズ11により角膜Cの頂点Oc  に接する接平面H上
に結像されろ。この結像レン−(’11は、その焦点を
前Fピンホール10の位置にもっているので、結像レン
ズ11を通った照明光束は測定光学系2の光軸0.上に
傾設された穴開きハーフミラ−12で反射されたのち、
その主光線は光軸O4と平行になって角[Cを照明する
一方、測定光学系2には、その光軸0.に垂直な平面内
に平面型ポジションセンサ、例えば平面型CCOアレイ
13が配置されている。このポジションセンサ13は、
穴開きリレーレンズ14によりその光学的共役像がDの
位置に結像されている。そして、この光学的共役像Oの
位置は、前記開口板9とは光学的に非共役は位置になっ
ている。
またリレーレンズ14と?ジションセンサ13との間に
は、ポジションセンサ13のリレーレンズ14による共
役像りをD′ の位置にずらすための例えば平行平面ガ
ラスからなる光路長変換部材15が光路中Km税可能に
配置されている。
また同視光学系3は、光源16、コンデンサレンズ17
、固神欅板18、コリメータレンズ19及び光軸0.上
に傾設された可視光反射赤外光透過型のハーフミラ−2
0とから構成され、固神樟板18からの可視光は、穴開
きリレーレンズ14、穴開きハーフミラ−12の穴を通
って平行光線となって被検角膜Cをもつ被検眼に入射さ
れ被検者に同視される。この固親糠板18には、例えば
第77図に示すように、2重同心円型のW視標113m
が形成されている。
次に本実施例による被検角膜Cの形状特性の測定方法に
ついて説明する。まず、測定光学系2の光軸O4と角p
cのアライメントを行う。照明光学系1で被検角MCを
照明し、光路ik肇換部材15を光路に挿入した状態で
/ジショ/センサ9を走査駆動し、#、1g図に示すよ
うに投影直線25′、26′、27I、及び28′を検
出する。この検出された投影直I!25’〜28′の交
Ai’、i′、 @I、及びl′ の、光軸0.上に原
唐をもっX−Y座柳上の庁柳値を求め、それら座標値1
’ (X、、y+)、j’ (X2、Y2)、k′(×
3、Y3)、//(X4/、Y4′)から、前述の第(
51式を鉱張したを使用してアライメン)tα、βを計
算し、α=β=0となるように図示しない装置本体の左
右上下移動機構を作動させてアライメントする。また光
軸O4上に原点を持つ予め定めた座標系を使用するかわ
りに、第13図に示すように光軸0.と垂直な反射面を
もつ反射鏡21を被検角膜Cの前方に挿入し、この反射
鏡21で反射される直線開口25〜28と同一の形状、
大きさをもつ投影直線を検出して、この交点1.1.3
 1をもとに第1g図に示すようにX−Y座標系を決定
してもよい。この方法を使えば、予め設計された座標系
に一致するように、開口板9の直線開口の製作及び開口
板9自身の組込みをする必要はなく、測定毎にその任意
に形成、組込まれた開口1線を基準に座標系が作られ、
その後の測定値演算上の基準座標系とすることができる
のでオルサルモメータの組立、調整上非常に便利である
アライメントが完了すると、再度ポジションセンサを走
査し、投影直線25′、26′、27′及び28′  
を検出しその傾きと長さを記憶しておく。
次に光路長変換部材15を光路外に脱出させ、共役検出
面をD′ から0の位置に変化させたのち、再度ポジシ
ョンセンサ13を走査し、このときの投影直線251.
26′、27′及び28′を検出する。
この状態を第79図に示す。この検出された共役検出面
O上での投影直線の長さ及び傾きと、前回の共役検出面
D′ 上での投影直線の長さ、及び傾きとから、前述の
第(1)〜第(4)式を使って被検角膜Cの曲率半径「
4、r2及び軸角度θを演算する。
第一0図は、以上の検出及び演算処理をするための駆動
演算処理回路を示すブロック図である。
マイクロプロセッサ100のクロックi4ルス発振器】
01からのクロックパルス201の制御のもとに走査駆
動回路102は、平面型ポジションセンサI3を走査す
る。ポジションセンサ13の各受光単位素子からの出力
信号202は、A力変換6103で予め定められた分解
能でデジタル値に変換されたのち、マイクロプロセンサ
100に入力される。マイクロプロセンサ100は、そ
の入力信号から投影直@25’、26′、27′  及
び28′  のそれぞれの方程式を演算し、これをもと
にその交点1′、11、kl、l’の座標を決定し、予
め定められた座標系をもとに第(5′)式からα。
βを計算し、この値をもとにインターフェース回路10
5を介してCRTディスプレイ106上にアライメント
量を図形表示し、測定者にアライメント方向とアライメ
ント量を知らせる。測定者は、この表示をもとに図示し
ない装置本体を移動する移動IP構を操作して、アライ
メント調整する。または算出されたα、β値から装置本
体を電動駆動させる電気−機械駆動系107にこのα、
β値を入力し、この入力信号により自動的に上下左右に
装置本体を駆動してアライメント調整をさせてもよい。
アライメント調整稜のポジションセンサ13の走査出力
202は、^/D賛換器103、マイクロゾロセンサ1
00を介してランダムアクセスメモリー(RAM)等で
構成されたメモリ回路104のポジションセンサ13の
各受光素子に対応したメモリ番地に順次記憶される。次
に、マイクロゾロセンサ100の制御で光路変換部材駆
動回路108を駆動して光路変換部材15を測定光学系
2の光路21に脱出させ其後検出面りでの検出をする。
その検出値を前記メモリー回路104の別のメモリ番地
に順次記憶していく。これら2回の走査検出値をもとに
マイクロプロセンサの演算部109は次の演算処理をす
る。
l)投影直線25′、26′、27’及び28’を決定
し、 11)投影直線の交点1′、1′、1′、l′ を決定
し、 Ill )  上1!rFI+)  の値をもとに投影
直線の長さら′、18′、lo′、lo′及び傾きmA
’ 、 mB’ 、 m(H’、moIを決定し、 lv)上記l)〜111)と同様の手順で投影直線25
′、26′、27′、28′  についてその長さへ′
、lB′、lo′、lo′及びその傾きmA’ 、mB
’、mc’ 、m□’を決定し、 V)上記111)とIv)の決定値をもとに第(1)式
〜第(4)式をそれぞれ作り、その計算結果をさらに平
均して被検角膜Cの曲率半径r4、「2及び軸角度0を
もとめる。
この演算結果をインターフェース回路105を介してC
RTディスプレイ106に出力して測定結果として表示
する。また必要に応じて、プリンタ回路110で打出し
てもよい。なお、これら一連の検出・演算処理は、プロ
グラムメモリー111に予め格納されている処理プpグ
ラムによって実行される。
第27図は、第73図の照明光学系1の別の構成を示す
第2の実施例である。この実施例は、一つの光源部8−
1.8−2を有しており、それぞれの光源部に開口板9
−1.9−2をそれぞれ配している。開口板9−1には
例えば第16図(a)の直線開口25及び26が形成さ
れ、開口板9−2には算76図(a)の直線開口27.
28が形成されている。そして2つの光源部8−1.8
−2からの照明光はハーフミラ−22に入射され、それ
ぞれ結倫レンズ11に入射される。ハーフミラ−22の
上面には前述の第1の実施例とピンホール板10と同様
の働きをするピンホール23aを開けた遮光膜23が被
覆されている。このように本発明においては7枚の開口
板9上に直線光源として働く直線開口のすべてを形成す
る必要はなく、複数の開口板にそれぞれ一部を形成し、
結像レンズ11によって接平面H上で合成されればよい
以上の実施例に「光線逆進の原理」を適用して変形する
には、ポジシ曹ンセンサー3の位tK、多数の赤外発光
素子を面状に配列した発光素子アレイをおき、開口板9
の開ロバターンと同一パターン部分のみに受光部をもつ
平El型受光素子を開口板9の位置に配置するか、もし
くは光源ツクf4の位置に受光素子をおいて、そして、
その受光素子が受光したときにその光を発した発光素子
の位置をメモリ回路に記憶させればよい。また、前述の
実施例の場合と同様に様々な変形が可能である。
第22図は、本発明の第3の実施例を示す光学配置図で
ある。本実施例は前述の第2の測定原理を利用したオ7
サルモメータである。上述の第1実施例と同−屯しくは
均勢の構成要素には同一の符号を附して説明蜜省略する
また本実施例は、共役検出面内で斜交するようにイメー
ジローチーターを組合せて1本のリニア型ポジションセ
ンナを検出器として利用している1 が、本発明においては、これに限定されずに、平面蓋ポ
ジシ冒ンセンサや交差する二本のリニア型ポジシ冒ンセ
ンナあるいは平行な2本のポジシ冒/センナを利用して
も検出できることは前述の原理説明から明かである。
照明光学系1の光源としては発光波長の互いに異なる二
つの赤外発光ダイオード30,31を使用する。発光ダ
イオード30から光はグイクロイックプリズム32のグ
イクロイック面32aを退避しコンデンサレンズ7に入
射する。一方、発光ダイオード31からの光はグイクロ
イック面32aを反射して、同様にコンデンサレンズ7
に入射する。
コンデンサレンズ7からの射出光は、ピンホール板10
のピンホールを迫って、このピンホールにその焦点位置
をもつコリメータレンズ33によって平行光束とされた
のち、装置光軸0.上に傾設された彼小ミラー34によ
って反射され、光軸0、と平行に被検角膜Cに照射され
る。固親光学系3は、照明光学系1に傾設されたハーフ
ミラ−20によって、その固視伸像を被検111M明し
ている。
測定光学系2には11./のリレーレンズ14の後方に
、第1 A (a)図に示したと同様の直線間口25.
26.27及び28を有するマスク板35が配置されて
いる。このマス、り板35のリレーレンズ!4による共
役偉は図中Mの位置に結像されている。またマスク板3
5の拶方には第2のリレーレンズ群36が配置されてお
り、その後方にグイクロイックプリズム32と同一の光
学特性を有するダイクロツクミラー37が傾設されてい
る。
このダイクロイックミラー37によって、測定光路は、
第1光路120と第2光路121とに部分される。第1
光路120は、ミラー122、ダイクロイックミラー1
23,83リレーレンズ124から構成されている。一
方、第2光路39は、イメージロテータ125、ミラー
126、ダイクロイックミラー123,13リレーレン
ズ124から構成されている。そして、第3リレーレン
ズ124の伊方には、リニアポジションセンサ38が配
置されている。このリニアセンサ38は、第1リレーレ
ンズ14、fl、2リレ一レンズ群36、w、3リレー
レンズ124により、その光学的共役倭な図中Oの位置
に作るとともに、第1光路120のイメージロテータ1
25により、その共役検出面り間で所定角度rで交差す
る二本のりニアセンサとして作用する。
コリメータレンズ33を射出した発光ダイオード30又
は31からの平行光束は°角@Cで反射され被検角yc
の曲面特性に応じて偏向されたのち、リレーレンズ14
を通りマスク板35の直線−ロバターン25.26.2
7及び28で選択透過され、リレーレンズ群36、第1
光路120、又は第2介路121を通ってリニアセンサ
38に到達する。このとき投影直線は被検角pcの曲面
特性に応じて変形を受け、たとえば第一3図のようKな
る。此処で、各投影直線又は投影直線群と座標軸x/ 
、ylとの交点X、I 、X2#、x5、X41 %、
、I、y 2/、y31、y4′を求め、所要の演算を
施すことにより、被検角膜Cの曲面特性を得ることがで
きる。図示実施例においては1発光波長の異る一個の発
光ダイオード30,31が・−交互に゛点滅させられ、
一方の発光ダイオード30からの光は、照明光学系1か
ら測定光学系2のダイロイツクミ2−37を透過して第
1光路120を通りリニアセンサ38に到達し、たとえ
ばX′ 軸についての検出を行ない、他方の発光ダイオ
ード3からの光は、照明光学系1から測定光学系2のグ
イクロイックミラー37で反射されイメージロテータ1
25を有するかコ光路121を逆ってリニアセンサ38
に到達して、yl 軸についての検出を行なう。
次に、第一ダ図を参照すると、発光ダイオード80.8
1には、これを駆動する友めのフリッグフロツデ60カ
ー接続され、このフリツデフジツデ60は、駆動回路6
1からの走査開始ノクルスにより作動させられる。リニ
アセンサ88としては、たとえば172g素子からなる
CCOを用い、その出力は増巾器62により増巾されて
サンプルホールド回路68に与えられる。サンプルホー
ルド回路68の出力は比較器64に与えられ、骸比較器
64において基準設定器65からの基準値と比較器れて
コ値化され、出カフ01を生じる。駆動回路61#i、
走査開始ノ4ルス702及びクジツクノダルス708を
発生し、これらの/4ルスは、センサー88に与えられ
る。第25図は、それら/中ルスを示すもので、(a)
は走査開始/中ルス、(b)Fiクーツクパルス、(C
)はサンプルホールド回路68の出力パルス、(d)/
fi比較器64の出カフ01をそれぞれ示す。
このような構成において、センサ88によp走査を行な
う場合、マスクJ中ターンの各直線の投影がセンサ88
上のどの位置に到達したかを検出する必要がある。その
ためには1.、/fターン直線の巾に相当する出力パル
スの中心がセンサー88のどの検知素子上にあるかを検
出すればよく、たとえば、各出力パルスの立上りと立下
りの中央の位置までを、りpツクパルスにより計数する
ことにより目的が達成される。このための回路を第26
図に示す。第26図において、比較器64からの出カフ
01は立上)検出器40m及び立下シ検出器40bに与
えられ、走査開始ノルスフ02及びクロック/ヤルス7
08は計数器41に与えられる。
計数器41Fiまず走査開始ノぐルス70Bによってク
リアーされたのちクロック/中ルス?08を計数する。
計数器41の出力は、ラッチ回路44に供給されておシ
、ラッチ回路44IIi、立上り検出器40−の出力4
01で計数器41の出力をラッチする。この時のラッチ
回路44の出力は、友とえは第23図のパルスL、の前
端のセンサ28上における位置を表わす。ダート回路4
Bは、出力/#ルス701が″l#の期間中、あらかじ
め走査開始ノ母ルス702によりクリアされている計数
器48にクロックパルスを供給する。ダート回路4zの
出力を第27図にgで示す、シ友がって、計数器4Bの
出力は、センサ88上に投影されたスリット巾に等しい
値を示す、計数器48がコ進計数器であるならダート回
路42の出力の最下位ピットを切り捨ててlピット分下
位ピット方向にシフトした値とラッチ回路44の出力と
を加算器47にて加算すること(より、センサ88に投
影されたスリットの中心位置が求められる。46は遅延
回路であり、立下り検出器40bの出力402をΔtだ
け遅延させる。この様子をWI2り図Kfとして示す。
遅延回路46の出力は、カウンタデコーダ48に与えら
れる。このカウンタデコー〆48は、加算器47の出力
をシーケンシャルにラッチ191.192・・・・・1
98までラッチさせる為のものである。陶、遅延回路4
6の出力は、カウンタ4Bのリセットにも用いられてい
る。
以上の回路により、センサB8の一走査妙I終了すると
ラッチ191にはセンサー上の一番最初に現われたツク
ターン直線の中心の位置が、ランチ192には、一番目
のスリットの中心位置がそれぞれ保持される。たとえば
、センサ88が、第2g図のY′軸に沿って走査すると
、センサ88には、第2jt図のCの様に3本のスリッ
トに対応する信号が表われる。従って、ラッチ回路には
、191〜198tでのg回路が必要である。
第26図において、45は、デジタル比較器であり、基
準値発生器50の出力と計数器48の出力會比較して比
較出力全ラッチ191〜198に供給する。こ−nは、
マスクツ!ターンのうちの太い直線によるセンナ上の着
点の位置管表わすデータか、細い直線によるものか全判
別する為のものである。従って、各ラッチの出力は、ス
リットの中心の位置の情報とそのスリット幅の大小の情
報を合せて判定回路51に送り込まれる。マスクのt4
ターンt−一の太い直線と3本の細い直線により構成し
たのは、讐でに述べた通り、センナ88上に投影される
直線の判別勢容易にする為である。
これt第コデ図、を用いて許しく詩明する。第29図は
、直線の交さ部ケ拡大したものである。25に太い直線
、27は、25との判別を容易に行なうことのできる程
度に細い3本の直線27−1.27−2%27−8から
なる直線群である。
今、センサ88が8又はeの位置でパターンを走査する
なら太い直1m25の中心管センサ上の該直線の位置と
判定し、3本の細い直線の内の中央の直IImB?−2
の中心を直線群27の位置と検出できる。パターンの走
査がbの位置で行なわれると、センサz4には、直線2
5.27−1%z7−8による出力が表われ、Cの位置
では、直線27−1.25.2−7−8、dの位置では
、直線27−1,27−2.25の順に出力される。従
って、センサ上に細い直線が2本しか投影されなかった
時は、次の判定を行なう事により各直線及び直線群の中
心の位置管検出かつ判定することができる。
(1)  常に太い直線によるセンサ出力の中央の位置
をセンサ上で検出された直@25の位置とする。
(2)  細い直線による出力が3本分センナ出力に現
われている時は、中間の直線の中央の位置管センナ上で
検出された直線群27の位置とする。
(3)細い直線による出力が2本しか出力されなかった
時は、 (a)  太、細、細の順ならば、最初の細い直線の中
央r、 (b)  細、太、細の順ならば、2本の細い直線でげ
さまれる中央の位置t5 (C)  細、細、太の順ならば、2番目の細い直線の
中央?、 センナ上で検出された直線群27の位置とする。
以上の判定klR26図に示す判定回路51にて行なう
。判定回路51′にランダムロジックにて構成する事も
可能であるが、好ましい構成例としては、判定回路r含
めてそれ以降のデータ処理をマイメ・ログロセツサによ
って行なうのが良い。マイク岬プロセッサr用いて上記
のごとき判定を行なわせることは、関係する業種のもの
にとっては容易であろう。
以上の説明は、直線25と直線群27との交さ部につい
てのものであるが、他の交さ部分に於ても同様の方法に
より判定できることは、いうまでもない。なお、センサ
出力としては、ダつの交さ部に対応する出力が一走査に
て出力されるが、センサの中央の位置にて2つの区分に
分割し、各区分についてそれぞれ上記の判定tすること
で第2ざ図に示すyl4、yl2、yl 、 、yl4
  のセンナ上の位置を検出できる。
以上述べた測定原理に基づくオフサルモメータの全体の
構成例を第3θ図に示す、第30図において700は、
第2ダ図に示した回路及び第一2図の光学系により構成
される。1000は、第26図に示した回路からなり、
マスクツヤターンのそれぞれの直線のセンナ上での位置
會マイク四プロセッサ52に入力する。マイクロプロセ
ッサ5zは、データメモリ部58、プログラムメモリ部
54、表示器インターフェース部55、プリンターイン
ターフェース部57、及びマイクロプロセッサによる演
算結果音出力する邑カレジスタ群291−2195によ
り構成されるが、これも又、マイクロプロセッサを扱う
分野に於ては、この様な構成を達成するのは、容易なこ
とである。
最初のセンサの一走査によシyl4、y’ 2 、’ 
Y’ 51、y′4の位置が得られると、次の走査でに
、マスクを照明する発光ダイオードが切り替えられる。
発光ダイオードが切り替ると発光波長が違う為、光学系
による光路が、切り替り、等測的に第2g図に於てセン
サがX′ 軸に沿って走査したことになる。従ってX′
1、x12、X′5、X′4のセンサ上の位置が求めら
れることとなる。
このようにして、センサ88上のパターン直線の位置が
求められると、以下の演算処理により被検眼の角膜の光
学的特性が計算される。
(1)直線25.26、直線群27.28の方程式ケ求
め、直線群27の勾配を解5、直線26の勾配をrn’
Bとする。
(皇)直f125.26に挾tnる直線群27の長さ會
求め、その長さEへとする。
偽) 直線群z7、z8に挾まれる直l[6の長さt求
め、その長さv、 418とする。
釦 アライメント量α、βの計算は、第2g図1.1、
k、A(Dそnぞれの座標k (X’l % X’l 
)、(X′1、y’3.)、(X’H% V’k)、(
X’A%y′))、とするとき、水平方向アライメント
量α(X軸方向)、及び垂直方向アライメント量β(Y
軸方向)は、顛、αD弐に’ll点点場合に拡張L%と
し、またその検出面上の変点から ?求め、ここでX=Y=θとなるようにマスク上の直線
パターンをあらかじめ形成することにより%Oり式を として計算する。
(V)  前述した方程式に基づく演算処理tマイクロ
プロセッサにより行なって、所要の曲面特性を求める。
このようにして得られた結果は、第1主径線曲率半径r
1、第λ主極線曲率半径r2、軸角度、及びアライメン
ト量として第3θ図に示す表示器56、ゾIJ 7 タ
ロ 8、出力1/シx夕291〜115に出力される。
尚、表示器56に、2次元表示の可能な装置(例えばC
RT−デスプレイ装置尋)管用いることにより、アライ
メント量、及び軸角度は、−次元のパターンとして表示
する事ができる。これ1行なうことにより、被検角膜と
オ7サルモメータとのアライメントを容易に、かつ素早
く行なえるという利点がある。
また、アライメント量出力しジスタケ、オフサルモメー
タ筐体を電気・機械駆動して左右上下に移動させる移動
機構に接続すれば、アライメントが自動的に出来ること
は前述の第7実施例と同様である。
第37図は本発明の第ダの実施例を示す部分光学配置図
である。第ココ図と同−作用倉する#II成部分は同一
符号を付して説明倉省略する。この実施例は、第2a図
でイメージロテータ21を使って儂?回転したかわりに
、平行平面ガラス801を光軸802対し角度會もたせ
て配置し、この平行平面ガラス801 ? 801 (
a)の位置と801伽)の位置に変化させることにより
、第32図に示すようにセンサ88 ’k 88’の位
置へ平行移動させると同様か、あるい#i2本のセンサ
24.24’t−平行に配したと同様の効果ケあたえる
ものである。
センサが24の位置にあるとき、e、〜・4の点を検出
し、24′の位置にあるとき#ie’、〜・′4 の点
を検出し、これから直Iii!25〜28の方程式が算
出でき、以下第1実施例と同様の演算で被検角膜Cの曲
面特性を測定できる。
第33図は、本発明の第5の実施例ケ示す光学配置図で
あり、照明光学系1と固視光学系8は菖JJ図と同様の
構成を有するので簡略化して示しである。また第2a図
と同様の榊成賛素には同一の符号を附して説明を省略す
る6本実施例では、マスク85會二ツ(D −r スフ
85−1,85−8Kわけ、マスク85−IKti、纂
16図(a)の直線間ロバターン25.26會、マスク
85−2には直M%llロノ母ターフ27,28’に形
成し、リレーレンズ14による共役マスク面部上で/っ
に合成スる。
リレーレンズ14の後方にはグイクロイックミラー87
が配置され、その後方の光路を第1光路120と第2光
路121に部分する。第1光路には前述のマスク85−
1が、第2光路121にはマスク85−2がそnぞれ配
置される。マスク85−11通過t、た光束はハーフミ
ラ−80Bでさらに二分割さ几、反射光束はリニアポジ
ションセンナ88に、透過光束はリニアポジションセン
サ802に入射する。また同様にマスク85−2を通過
した光束もハーフミラ−80Bで反射及び透過され、そ
れぞnリニアセンサ88.802に入射する。ここでリ
ニアセンサ88と802Fiリレーレンズ14により、
その共役検出面り内で互いに交差するように配置されて
いる。発光ダイオード800発光により、リニアセンサ
88は第2g図に示すX’24 X’M  ?r検出し
、υニアセンサ802tfiV’2とy#4 k検出す
る。次に発光ダイオードa1v発光するとリニアセンサ
88Fix’、とxl、 k検出し、リニアセンサ80
2はyl、とy11ケ検出する。以下前述の第3実施例
と同様の手順によって被検角膜の曲面特性が得られる。
以上説明り九第1〜第3実施例が門出器として固定的に
配置さnた平面型ポジションセンサや7本ないし複数本
のリニアポジションセンナr利用したが、不発8AFi
こtLK限られるものでなく、少なくとも7本のリニア
ポジションセンナを測定光学系lの光軸0;と垂直な面
内で平行移動させたり、アルいけ光軸0.  ?中心に
回転してもよい。その−例を第35図に示す。リニアセ
ンサ88ti、光軸0.ヲ回転軸としてマイクロプロセ
ッサ100の制御を受けるパルスモータ駆動回路810
によって回転さnるノぐルスモータ811により回転さ
れる。このパルスモータ811でリニアセンナ88會連
続回転して平面センサと同一の機能ケもたせたり、ある
いは所定角度回転して、交差する2本のりニアセンサと
同一の機能倉もたせると七ができる。
第3ダ図は本発明の第7の実施例を示す光学配置図であ
る。本実施例は前述の第3の測定原理ヶ応用したオフサ
ルモメータの図である。なお、本実施例では、平面型の
発光素子アレイを利用しているが、前述の種々の実施例
においてリニアポジションセンサtリニア受光素子アレ
イに置き換えられるのと同様に第3の測足yX埋全利用
したオフサルモメータにおいても平面型発光素子アレイ
の代にリニア発光素子アレイに置き代えられるのは、当
業者には明らかであろう。リレーレンズ14の光軸を垂
直な平面内に平面型発光索子アレイ820が配置されて
いる・、この平面型発光素子アレイ820H微細な発光
ダイオードを稠密的に平面基板上に配列して構成されて
いる。リレーレンズ14と、発光素子アレイ820との
間には、前記第3の実施例と同様のマスク85が配置さ
れており、リレーレンズ14により、マスク85はその
共役像kMの位置に、また、発光素子アレイはその共役
像ysO位gK作らnている。また、リレーレンズ14
は、前述の原理説明においてのべた集光レンズL?も兼
用しており、角膜Cの反射光のウチリレーレンズ14の
光軸Oと平行な光線?反射f118211介してピンホ
ール322に一集光させ、このピンホール822i1!
r通過した光l1IFiリレーレンズ828により検知
器824に入射される。この検知器824としては高感
度のアバランジャフォトダイオードが利用さnる。また
さらに感度をあげるにはペルチェ効果を利用した電子冷
却手段を兼用してもよいし、また、公知の光電子倍増管
會利用してもよい。
測定方法は、平面型発光素子アレイ820の各発光ダイ
オード會順次発光走査し、走査発光された発光ダイオー
ドのうちの一部の発光ダイオードからの光がマスク85
の直線開口25.26、z7及び2S會通過して角膜C
に照射される。そして、角gcで反射され、その一部は
、リレーレンズ14によりピンホール822に集光され
、検知器824で検知される。こめ−検知器824で検
知されたときの発光ダイオードの位置、たとえば第2g
図のxI’ 、X′2、X’5 % K’4及び、p、
 %yI2゜yJ3、y14  の各発光点から、直線
軌跡25.26.27.28を算出し、この直線軌跡を
もとにその長さ・傾きケ求め、マスク85の直線−ロバ
ターンの各直線間ロケ基準として、第(6)〜第(8)
式ケ使って角膜の曲率半径「1、r2及び軸角度θ全演
算する。本実施例の駆動演算回路としては、前述の第2
θ図、第26図、第30図に示した各回路とほぼ同様の
構成で達成できる相異点は、ポジションセンサ18.8
8のかわりに平面型発光素子アレイか、またはリニア発
光素子アレイを使用することと、この発光素子アレイの
駆動パルスと、検知器824の検知出力との同期ケとる
同期回路會追加する点が相異するのみである。
また、発光素子アレイとしては、その発光単位として発
光ダイオードを利用するかわりにレーザ倉利用すること
もできる。
第36図はその第1の例で、GAA、半導体レーザ50
0からのレーザ光501を例えば回転多面鈍やガルバノ
メータ反射鏡あるいは音響光学素子等r使ったレーザ光
走査中段で走査し、後側にコリメータレンズ508有し
て前側に多数の微少光ファイバロッド504a?平面状
に配列した光フアイバ集合体504の各党ファイバロッ
ド504aにレーザ光?入射させ、この光ファイバロン
ド。の開口数の多いこと?利用して、発散光束にして射
出するような構成ケとってもよい。
また、−リニア型発光素子プレイのかわりに、第37図
に示すように、多数のオシティカルファイバ510の一
端?直線状に配列し、他端會円筒状に束ねこのオシティ
カルファイバの円筒束他端に、レーザ光ガイド光学系5
11t−内蔵した回転円板512にノ#ルスモータ81
1で回転しながら半導体レーデ512からのレーデ光を
スキャンさせてもよい。
第3g図は、本発明の第7の測定原理ケコンタクトレン
ズのペースカーブあるいは前面のカーブ?測定するラジ
アスメータに応用した実施例を示す光学配置図である。
第1実施例と同様の構成費素には同一の符号ケ附して説
明は省略する。
コンタクトレンズCLのペースカーブを測定スる時に、
コンタクトレンズの凸面管下にして、コンタクトレンズ
保持手段600の円管状突出部601に保持される。
この円管状突出部の底面には、第1S図の反射鏡21と
同様の作用?する反射鏡602がはめ込まれている。コ
ンタクトレンズCL?保持手段600に保持する前に、
この反射鏡602に使って基準座標系の設定が出来るよ
うになっている。
尚、本−実施例においては、ポジシャンセンサ18のリ
レーレンズ14による共役面り、D’は、それぞれ測定
しようとするコンタクトレンズの後面の焦点距離ず。、
より内側に位置するように設計する。
ラジアスメータへの応用は、本実施例で示したように本
発明の第1の原理だけが応用できるのでなく、他の第2
、第3の測定原理ケ利用できることFi百うまでもない
以上説明した測定原理、及び各実施例のマスク手段には
光束會選択的に透過させる直線開口?形成した例を示し
たがこのかわりに光束?選択的に反射する反射型直線ノ
4ターン?利用しても本発明と同一の作用、効果が得ら
れることは言うまでもない。
また、発光素子又は受光素子全走査駆動しそして検出デ
ータケ演算処理する回路は、前述した回路に限らず、必
要なデータが得られそして前述した演算式を処理できる
ならばどのような回路でもよく、当業者には様々な回路
が設計できるであろうことは明らかであろう。
【図面の簡単な説明】
第7図は本発明の第1の測定原理ケ説明するための斜視
図、第一図はその平面図、第3図はその第1の測定原理
のもう1つの態様?説明するための斜視図、第グ図は禾
発明の第一の測定原理を説明するための斜視図、第S図
はその平面図、第6図は、その第一の測定原理のもう7
つの態様を説明するための斜視図、第7図は検出面での
斜交座標系會示す図、第3図は斜交座標に表わnる投影
直線の図、第9図は斜交座標と1反座標の関係を示す図
、第1θ図は、仮想交点ケ有するマスクの直線開ロノヤ
ターンの図、第1/図は、マスクの別の直amロバター
ンと投影直線パターンの図、第12図は、仮想交点?有
する直線開口・リーンと斜交座標上に表われるその投影
i4ターン會示す図、第73図は本発明の第3の測定原
理を説明するための斜視図、第11I図はその平面図、
第1S図は本発明の第1の実施例ケ説明する光学配置図
、第76図(a)はマスクツ臂ターンの例會示す図、第
76(b)図はマスクパターンの交差部を示す図、第1
7図は固視標の例會示す図、第1g図はアライメント調
整の方法管示す図、第1q図は測定方法を示す投影直線
の関係會示す図、第20図は第1の実施例の検出演算処
理回路r示すブロック図、第27図は本発明の第2の実
施例1示す照明光学系を示す図、第22図は本発明の第
30冥施例r示す光学配置図、第23図は斜交配置のり
ニアセンサと投影直線の関係會示す図、第一を図は第3
実−1 流側の検出回路の−@51r示すブロック図、第25図
は検出パルス列を示す図、第コロ図は第3実施例の演算
処理回路會示すブロック図、第27図は各出力信号例會
示す図、第2g図は第3実施例の投影直線とセンナの走
査の関係會示す図、第2を図は投影直線の交差部の走査
を示す概略図、第30図は第3の実施例の全体の電気回
路會示すブロック図、第37図は本発明の第1の実施例
を示す一部省略した光学配置図、第32図は第ダの実施
例におはる投影直線とセンサの検出関係會示す図、第3
3図は本発明の第Sの実施例を示す光学−配置図、第3
’1図は本発明のm乙の実施例會示す光学配置図、第3
S図は本発明の第7の実施例1示す図でセンサの回転機
構部分管示す図、第36図は本発明の発光素子アレイの
他の例を示す図、第37図は発光素子アレイのさらに別
の例倉示す図、そして、11.3g図は本発明の第gの
実施例i示す光学配置図である。 9・・・開口板、lo・・・ピンホール板、11・・・
結倫レンズ、14.86.124・・・リレーレンズ、
15゛・・・光路長変換部材、18.88.802・・
・4ジシヨンセンサ、■25・・・イメージローチータ
ー、88・・・コIJ /−ターレンズ、801・・・
平行平向ガラス、820・・・発光素子アレイ。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)実質的もし、くは仮想的な平面内に少なくとも一
    本の直線で少なくとも1つの実質的もしくは仮想的な変
    点を有するように直線を成す光源と、光軸土に配置され
    たピンホールを通して該1111を射出し九照明光束の
    主光線を該光軸と平行にする結謙レンズとを有する照明
    光学系と、前記照明光の被検曲面からの反射光を前記光
    源と光学的に非共役な一つの面内で検出する検出手段と
    、 該検出手段が検出し友前記反射光の前記光源に対応する
    投影直−ノ4/ターンから前記被検曲面の一率牛儀を演
    算する演算手段と から構成されてなることを神倣とする曲4測に装置。 +2)  前記直線をなす光源は、少なくとも3本の直
    線で少なくとも3点で実質的もしくは仮想的に交差して
    成る仁とを特徴とする特許1w家の範囲II/項記載の
    一率測定装置。 (3)  前記直線をなす光源は、それを構成する前記
    直線が互いに太さ、もしくは本数、または発光強度を異
    にして成ることを特徴とする特許請求の範囲鮪/項また
    は第2項記載の曲率測定装置。 (4)  前記直線をなす光源は、それぞれ7本の互い
    に平行な直線からなる第1平行1111群と、該第1平
    行直線群に交差するそれぞれ3本の直線を7組とする一
    組の直fs群を平行く形成してなるllX−平行、直線
    群とから構成されていることを特徴とする特許請求の範
    囲第一項または第3璃記載の曲)Ja測定装置。 (5) 前記直線をなす光源は、発光光源からの光を透
    過する直線開口であることを特徴とする特許請求の範囲
    第1項ないし纂参項のいずれかに記載の一率測定装置。 (6)  前記照明光束は赤外光であることを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項ないし第!f璃のいずれかに記
    載の曲率測定装置0 (7)  前記検出手段は、平面型?ジションセンサで
    あることを特徴とする特許請求の範囲j11/iないし
    第6項のいずれかに記載の曲率測定装置。 (8)  前記検出手段は、前記非共役面内で実質的も
    しくは仮想的に交差する少なくとも一本のリニア型ポジ
    ションセンサであることを特徴とする特許請求の範囲#
    !λ項ないし第6項のいずれかに記載の曲率測定装置。 (9)  前記検出手段は、前記非共役面m平−行な少
    なくとも一本のリニア型4ジシヨンセンサであることを
    特徴とする特許請求の範囲第一項ないし#!6項のいず
    れかに記載の一率測定装置。 ill  前記検出手段は、前記非共役面内で回転する
    少なくとも7本のリニア型4ジシヨンセンサであること
    を特徴とする特許請求の範囲g/項ないし第6項のいず
    れかに記載の一率測定装置Oa1  前記検出手段は、
    少なくとも1本のリニア型ポジションセンサであり、前
    記被検曲面からの前記反射光を装置光軸を回転軸として
    回転させる光束回転手段を有することを特徴とする特許
    請求の範囲第1項ないし第6項のいずれかに記載の曲率
    測定装置。 l 前記検出手段は、前記非共役面内で平行移動する少
    なくとも7本のリニア型4ジシヨンセンサであることを
    特徴とする特許請求の範囲wJ/項ないし816項のい
    ずれかに記載の一率測定装置0 11j  前記検出手段は、少なくとも1本のリニア型
    ポジションセンサであり、前記反射光を装置光軸と垂直
    な面内で平行移動させる光束シフト手段を有してなるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第6項のい
    ずれかに記載の一率測定装置。 a4  前記検出手段を前記非共役面に結澹させるリレ
    ー光学手段を有してなることを特徴とする特許請求の範
    囲第1項ないし第73項のいずれかく記載の曲率測定装
    置0 Ill  前記被検曲面と前記検出手段の間に光路長変
    。 換手段を配し九ことを特徴とする特許請求の範囲#!/
    項ないしj1!/弘項のいずれかに記載の曲率測定装置
    。 αe 前記被検曲面と前記検出手段の関に前記照明光軸
    と垂直な反射面をもつ反射部材を挿入可能に配して成る
    ことを特徴とする特許請求の範囲第7項ないし第75項
    のいずれかに記載の一率測定装置。 、aカ  前記リレー光学手段の光軸と、前記照明光軸
    とを少なくとも一部共通にしたことを特徴とする特許請
    求のIa囲@/4を項ないし第16項のいずれかに記載
    の曲率測定装置。 鯖 実質的もしくは仮想的な平面内において少なくとも
    一本の直線で少なくとも1つの実質的もしくは仮想的な
    変点を有するように直線をなす光検出手段と、被検曲面
    からの光軸に平行な光を光軸上に配置されたピンホール
    を介して前記光検出手段へ向ける光学部材とを有する検
    出光学し、前記被検曲面に向けて、前記光検出手段と光
    学的に非共役なλつの位置から光を照射する発光源と、 前記光検出手段が検出した光線を発した前記発光源の発
    光単位の直線軌跡から前記被検曲面の曲率中径を演算す
    る演算手段と から構成されてなる仁とを特徴とする曲率測定装置。 (至) 前記光検出手段紘、その検出部が少なくとも3
    本の直線で少なくとも3点で実質的もしくは仮想的Kf
    f″差して成ることを特徴とする特許請求の範囲第1g
    項記載の曲率測定装置。 (至)前記光検坦手段鉱、その検出部がそれを構成する
    前記直線が互いに太さもしくは本数または発光強度を異
    にして成ることを特徴とする特許請求の範181N/ざ
    項または872項記載の曲率測定装置。 12珍  前記光検出手R杜、その検出部がそれぞれ7
    本の互いに平行な直線からなる#!/平行直線群と、該
    第1平行直線群に交差するそれぞれ3本の直線を7組と
    する一組の[111jIを平行に形成してなる纂コ平行
    直線群とから構成されていることを特徴とする特許請求
    の範囲第79項または第する特許請求の範11!第78
    環ないし第二l璃のいずれかに記載の曲率測定装置。 @ 前記光線の発する光は赤外光であることを特徴とす
    る特許請求の範囲I11に項ないし第−一塩のいずれか
    に記載の曲率測定装置。 (至) 前記発光源は、平面型発光素子アレイであるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第/を項ないし第23項
    のいずれかに記載の曲率測定装置。 (至) 前記発光源は、前記非共役゛面内で実質的もし
    くは仮想的に交差する少なくとも一本の、すzア発光素
    子プレイであることを特徴とする特許請求の範囲第79
    項ないしgコ3項のいずれか行カ少なくと′4bコ本の
    りエア発光素子アレイであることを特徴とする特許請求
    の範囲第1ヂ項ないし第13項のいずれかに記載の曲率
    測定装置0 (2) 前記発光源は、前記非共役面内で回転する少な
    くとも1本のリニア発光素子アレイであることを特徴と
    する特許請求の範囲第1t項ないし第13項のいずれか
    く記載の曲率測定装置。 (至) 前記発光源は、少なくとも1本のy=ア発光素
    子アレイであり、前記被検曲面へ向けての光を装置光軸
    を回転輪として回転させる光束回転手段を有することを
    特徴とする特許請求の範囲sit項ないしgコ3項のい
    ずれかに記載の一率測定装置〇 四 前記発光源は、前記非共役面内で平行移動する少な
    くとも7本のリニア発光素子プレイであることを特徴と
    する特許請求の範囲第11項ないしgコ3項のいずれか
    く記載の曲率測定装置0(至) 前記発光源は、□7少
    なくとも1本のリニア発光素子アレイであり、前記被検
    曲面へ向けての光゛を装置光軸と垂直な面内で平行移動
    させる光束シフト手段を有してなることを特徴とする特
    許請求の範囲第1s:環ないし第23項のいずれかに記
    載の曲率測定装置〇 0 前記発光源を前記非共役面に結像させるリレー光学
    手段を有してなることを特徴とする特許請求の範囲第1
    j項ないし1830項のいずれかに記載の曲率測定装置
    。 ― 前記被検曲面と前記発光源の間に光路長変換手段を
    配したことを特徴とする特許請求の範囲第1ざ項ないし
    第37項のいずれかに記載の一率測定装置。 (至)光源と、蚊光源からの光を平行光束とする=リメ
    ータ手段とを有する照明光学系と、該照明光学系からの
    光束で被検曲面によって反射された光束を選択する丸め
    に実質的もしくは仮想的な面内で少なくとも一本の直線
    を少なくとも7点で実質的賜しくは仮想的に5!差させ
    るよう構成された直線を成すパターンを有するマスク手
    段と、               イ該iスク手段
    で選択された該反射光を検出する検出手段と、 鍍検出手段が検出した前記反射光の前記直線ノ4ターン
    に対応した投影直1mAターンから前記壁検曲面の曲率
    半径を演算する演算手段とからなり、 前記マスク手段と、前記検出手段のいずれもが前記光源
    と光学的に非共役で、かつ互いに異なる面内にそれぞれ
    配置されている ことを特徴とする曲率測定装置。 (至) 前記直線パターンは、少なくとも3本の直線で
    少なくとも3点で実質的もしくは仮想的に交差すること
    t−%徹とする特許請求の範囲第33項記載の一率測定
    装置。 (至) 前記直線パターンは、それを構成する前記直線
    の太さ若しくは本数又は前記反射光の選択率を異にして
    いることを特徴とする特許請求の範囲11EJJ項又は
    Jlj参項参戦記載率測定装置。 (至) 前記直線パターンは、それぞれ1本の互いに平
    行は直線からなる第1平行厘aSと、該第1平行直*#
    に実質的もしくは仮想的に交差するそれぞれ3本の直線
    を7組とする一組の直線群を平行に形成してなる第−平
    行直線群とから構成されていることを特徴とする特許請
    求の範囲1XJy項又は第3!r項記載の曲率中径測定
    装置〇(ロ) 前記直線パターンは、前記反射光を選択
    的に透過させるために前記マスク手段に形成された開口
    により構成されていることを特徴とする特許請求の範囲
    第33項ないし第36項のいずれかに記載の曲率測定装
    置。 (至) 前記直線パターンは、その全ての直線を7枚の
    マスク手段に形成してなることを特徴とする特許請求の
    範囲11tJJ項ないし第37項のいずれかに記載の一
    率測定装置◇ (至) 前記照射光束は赤外光であることを特徴とする
    特許請求の範1iIfl第、73項ないし第31項のい
    ずれ九に記載の曲率測定装置。 −前記検出手段は、千面汲−ジシlンセンサであること
    を特徴とする特許請求の範囲11EJJ項ないし第3を
    項のいずれかに記載の一率測定装置O 鵠 前記検出手段は、前記非共役面内で実質的もしくは
    仮想的に又差する少なくとも一本のり=7m、/ジシ璽
    ンセンサであることを特徴とする特許請求の範囲第34
    I項ないし第3?項のいずれかに記載の曲率半径測定装
    置。 −前記検出手段は、前記非共役面内で実質的に平行な少
    なくとも一本のりエアffi/ジションセンサである仁
    とを特徴とする特許請求の範囲第3411項ないし第3
    ?項のいずれかに記載の曲率#1定妓置◇ −前記検出手段は、前記非共役面内で回転する少なくと
    も7本のリニア型4ジシ冒ンセンナであることを特徴と
    する特許請求の範囲#I33項ないし第32項のいずれ
    かく記載の曲率中径測定装置〇 −前記検g手段は、少なくとも7本のy=ニア4ジシ■
    ンセンサであり、前記被検曲面からの前記反射光を装置
    光軸を回転軸として回転する光束回転手段を有してなる
    ことを特徴とする特許請求の範囲第33項ないし第39
    項のいずれかに記載の曲率中径測定装置。 四 前記検出手段は、前記非共役面内で平行移動する少
    なくとも7本のリニア−ジションセンナであることを特
    徴とする特許請求の範囲第JJ項ないし第39項のいず
    れかく記載の一率測定装置。 −前記検出手段は、少なくとも7本のリニア型/ソショ
    ンセンサであり、前記反射光を装置光軸と垂直な面内で
    平行移動させる像フット手段を有して成ることを特徴と
    する特許請求の範囲第33項ないし第3を項のいずれか
    に記載の一率測定装置。 −前記検出手段と前記マスク手段の少なくとも一方を前
    記非共役面に結像させるリレー光学手段を肩しているこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第33項ないし第ダ6項
    のいずれかく記載の曲率測定装置。 −前記被検曲面と前記マスク手段との関に前記照明光軸
    と垂直な反射面をもつ反射部材を挿入可能に配して成る
    ことを特徴とする特許請求の範囲111JJ項ないし第
    4I7項のいずれかに記載の一率測定装置0 − 前記リレー光学手段の光軸と、前記照明光軸とを少
    なくとも一部共通して構成したことを特徴とする特許請
    求の範囲第1I7項又は第ダざ項記載の一率測定装置。 (至)多数の発光単位を有する発光源と、該発光源から
    の光束を□選択するために実質的もしくは仮想−な面内
    で少なくとも一本の直線で少なくとも7点で実質的もし
    く鉱仮想的に交差させるように構成された直線を成すパ
    ターンを有するマスク手段と、 該マスク手段により選択され被検曲面により反射され九
    反射光束のうち装置光軸と平行な光線を該光鵬上に配置
    されたピンホール手段に導び〈集光手段と、 該ピンホール手段を通過した光線を検知する検知手段と
    、 該検知手段が検知し得た光線を発光した前記発光単位が
    作る直線軌跡から前記被検曲面の曲率半径を演算する演
    算手段とから構成される前記マスク手段と前記発光源の
    いずれもが前記ピンホール手段と光学的に非共役でかつ
    互いKAなる面内にそれぞれ配置されて成ることを特徴
    とする曲率測定装置。 6珍  前記1トリーンは、少なく、とも3本の直線で
    少なくとも3点で実質的もしくは仮想的に交差すること
    を特徴とする特許請求の範囲第!0項記戦の曲率測定装
    置。 輪 前記直線パターンは、それを構成する前−直線の太
    さ、著しくは本数又は前記光束の選択率を異にしている
    ことを特徴とする特許請求の範囲第3θ項又は第37項
    記載の曲率測定装置。 (至)前記直線パターンは、それぞれ7本の互いに平行
    な直線からなる第1平行直線紳と、該第1平行[!l#
    に交差する、それぞれ3本の直線を7組とするコ組の直
    a1#を平行に形成してなる第−平行直!1#とからな
    ることを特徴とする特許請求の範囲第5.7項又は第5
    −項記載の曲率測定装置。 −前記直線パターンは、前記光束を選択的に透過させる
    ために前記122手段に形成された開口により構成され
    ていることを特徴とする特許請求の1#!−第50項な
    いし17に!TJ項のいずれかに記載の曲率測定装置。 (至)前記直線パターンは、その全ての直線を7枚の前
    記マスク手段に形成してなることを特徴とする特許請求
    の範囲第50項ないし第34を項のいずれかに記載の曲
    率測定装置〇 (至) 前記発光源は、多数の前記発光源を平面内に配
    列してなる千me発光素子プレイであることを特徴とす
    る!IFF情求の範囲第30項ないし第33項のいずれ
    かに記載の曲率測定装置。 (ロ) 前記発光原鉱、多数の前記発光源を直線状に配
    列してなるリニア発光素子アレイであることを特徴とす
    る特許請求のli!−Mよ0項ないし第!f5項いずれ
    かに記載の曲率測定装置1t。 (至)前記リニア発光素子プレイを少なくともλ本前記
    非共役面内で実質的もしくは仮想的に交差するよう構成
    したことを特徴とする特許請求の範囲第57璃記載の曲
    率測定装fQ 碍 前記リニア発光素子プレイを少なくとも一本、前記
    非共役面内で実質的に平行するよう構成したことを特徴
    とする特許請求の範囲第57項記載の曲率測定装置。 輪 前記IJ =ア発光累チアレイは、少なくとも7本
    あり、前記非共役面内を回転することを特徴とする特許
    請求の範囲第37項記載の曲率測定装置。 旬 前記リニア発光素子アレイは少なくと47本あり、
    該リニア発光素子アレイからの光束を回転させて、前記
    マスク手段に入射させる光束回転手段を有していること
    を特徴とする特許請求の範囲第より項記載の曲率測定装
    置。 −前記リニア発光素子プレイは、少なくとも1本あり、
    前記非共役面内を平行移動する仁とを特徴とする特許請
    求の範囲第57項記載の曲率測定装置。 −前記リニア発光素子プレイは少なくとも7本あり、該
    リニア発光素子アレイからの光束を照明光軸と垂直な面
    内で平行移動させ前記マスク手段に入射させるための光
    束シフト手段を有することを特徴とする特許請求の範囲
    第57fIA記載の曲率測定装置。 −前記光束は赤外光であることを特徴とする特許請求の
    範囲第50項ないし第63項のいずれかく記載の曲率測
    定装置。 −前記発光単位は、赤外光を発する発光ダイオード°で
    あることを特徴とする請求 56、111ないし第6lI項いずれかく記載の曲率測
    定装置。 鴫 前記発光源と前記マスク手段の少なくとも一方を前
    記非共役11rK結像させるリレー光学手段を有してい
    ることを待徽とする特許請求の範囲第50項ないし第6
    左項のいずれかに記載の曲4#J定装置。 一 前記被検曲面と前記マスク手段の間に前記装置光軸
    と一厘な反射面をもつ反射部材を挿入可能に配して成る
    ことを特徴とする特許請求の範囲mzo項ないし第66
    項のいずれかに記載の曲率測定装置。 −前記リレー光学手段の光軸と、前記集光レンズの光軸
    とを少なくとも一部共通にし九ことを特徴とする請求 67項記載の曲率測定装置。 一 前記検出手段は、アバランシュフォトダイオードか
    らなることを特徴とする特許請求の範囲第50項ないし
    第6g頂のいずれかに記載の曲率測定装置。 σ1 前記ア/fランシュフォトダイオードは、さらに
    電子冷却手段を有してなることを%徴とする特許請求の
    範囲第69項記載の曲率測定装置〇σρ 前記検出手段
    は、光電子倍増器であることを特徴とする特許請求の範
    囲第30項ないし第6を珈いずれかに記載の曲率測定装
    置0111
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