JPS5874625A - m−ジハロゲノベンゼン類の塩素化方法 - Google Patents

m−ジハロゲノベンゼン類の塩素化方法

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JPS5874625A
JPS5874625A JP57168676A JP16867682A JPS5874625A JP S5874625 A JPS5874625 A JP S5874625A JP 57168676 A JP57168676 A JP 57168676A JP 16867682 A JP16867682 A JP 16867682A JP S5874625 A JPS5874625 A JP S5874625A
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    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C17/00Preparation of halogenated hydrocarbons
    • C07C17/093Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens
    • C07C17/10Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of hydrogen atoms
    • C07C17/12Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of hydrogen atoms in the ring of aromatic compounds

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、■ージハ四ゲノベンゼン類の塩素化方法を目
的とする。
従来技術においては、酸性触媒を介在せしめるハーゲン
化化合物の塩素化方法が知られている。
例えば、塩化第二鉄又は塩化アンモニウムの存在下にこ
のような基質をガス状塩素により塩素することが十分に
記載されている。特に、C.▲。
Tk●鵬■ 著「有機化学における無水塩化アルミエラ
^」(ラインホールド・パプリツシンダ社発行)をあげ
ることができる。
そこに述べられた条件下では芳香族核上のへ田ゲンの存
在は、塩素化を●−p位に配向させる。
実験的にはp位に優先的な塩素化が認められる●鵬ージ
ハ―ゲノベンゼン誘導体については実質上4位での塩素
化が認められる。例えば、論−ジタ冑ルベンゼンは主と
して$2.4−}ヅク冑ルベンゼンを与える。
2位での選択的な塩素化はこの経路で実施することはで
きない。従来技術では、これらの化合物は、間接的な経
路により得られている。
本発明者は、これらの基質の2位への直接的な塩基化方
法を発見した。
本発明は、従来技術の酸性触媒に代えて塩基性触媒を用
いるために、1型的な塩素化反応とは完全に員なる実施
からなる。
したがって、本発明は、m−ジハ四ゲノベンゼン額と塩
素供与性化金物を少な《とも1種のアルカリアミド及び
少なくとも1種の、該ア識Fの陽イオンを錯化する化合
物の存在下に反応させることを特徴とするm−ジ^胃ゲ
ノベンイン額の塩素化方法に係る。
本発明方法の特定の第一実施態様によれば、アミドの陽
イオンを錯化する化合物は、次の一般式〔ここで亀は0
以上で且つ約10&1下の整数(0<1≦10)であり
、Rl 、ml, % its及びB4は同一又は異な
っていてよく、水素原子又は1〜4個の炭素原子を有す
るアルキル基を表わし、Rsは1〜12個の炭素原子を
有するアルキル若しくはシタ−アルキル基、7エエル碁
又は一〇,H,,ーー若し《はCH   一φ一基(こ
こで謙は1〜約12wn  1m+1 である》を表わす〕 の金属イオン封鎖剤である。
また、本発明方法の特定の第二実施態様によれば、アi
tの陽イオンを錯化する化金物は、環内に15〜sO個
の原子を有し且つ4〜10単位の一O−X (ここでX
はーCHR●ーCH勧一又は−CUR@−CUR,−C
R@R,一でありs II 、R?、l●及びR−は同
一又は興なっていてよく、水素原子又は1〜4個の炭素
原子を有するアルキル基であり、モしてXのうちの1個
は単位−〇−Xが基−O−CHH4−CHB4−を含む
ときは一CHRsーCIIRsーCRslk−であって
よい)から成る巨大環状lリエーテルである。
さらに、本発明の特定の第三実施態様によれば、アミド
の陽イオンを錯化する化合物は、次の一般式1m又は璽
b 又は 〔ここで、YはN又はPであり、 Aは1〜3個の炭素原子を有するアルキレン基DはO%
B又はN−ILss(lssは1〜6個の炭素原子を有
するアルキル基を表わす)を表わし、R1・は1〜4個
の炭素原子を有するアルキル基を表わし、 ν、電及びrは同−又は員なっていてよく、1〜5の整
数である〕 の巨大環状又は二環状化合物である。
なお、上で定義した錯化用化合物6少なくとも2種類を
用いても本発明の範囲を逸脱するもので本発明において
用いられるアルカリアミドは、好ましくはナト9?^ア
ミv1カリウムアVド及びリチウムアミドよりなる群か
ら選ばれる。ナトリウムアミドが時に好ましい。
塩素供与性化金物は、好まし□くは、へ+ナタ胃、、1
□′ ・・・ ルペ> 4 > 及びベンタタWルベンゼンよりなる詳
から選ばれる。
本発明が係る醜−ジ^−ゲノペン(ン額は、次の一般式
璽 (ここで、Xi及びx富は同−又は異なっていてよく、
モしてCt及びFよりなる群から選ばれる元素をそれぞ
れ表わし、msmは2位にあり得す、そしてCI、F及
び1〜6個の炭素原子を有するアルキル基よりなる群か
ら選ばれる基を表わす)で表わすことができる。
このような化合物の例としては、下記の化合物、即ち、
m−ジクpルベンゼン、2=4−シタ田ルシルエン、論
−フルオルタI11#ベンゼン% Ia−’) フルオ
ルベンゼン、りpルー2.4−シアルオルベンゼン、2
.4−シアルオル)ルエンなどがあげられる。
しかして、得られる化合物は、次の一般式■(ここC″
XI 、!、及び111は前記の意味を有する) により表わすことができる。
これらの化合物は脅威中間体として有用である。
本発明は、特に、下記の化金物、即ち、t3−ジフルオ
#−2−タ四ルベンゼン、2.4−シアルオル−3−夕
四ルトルエン、2.s−シタ臂ルアルオルベンゼン、L
B−シタ四ルー2.4−ジフルオルベンゼンなどの製造
に有益である。
本発明方法の好ましい実施態様によれば、式Iにおいて
、ml 、R1、II及び虱4が水素原子又はメチル基
を表わし、Bl及び1が先に示した意味を有するりな(
とも1種の金属イオン封鎖剤が用し1られる。
これらの中でも、特に−−が0以上で且つ6以下であり
、翼sが1〜4個の炭素原子を有するアルキル基を表わ
す金属イオン封鎖剤を用いるのが好ましい。
例えば、下記のものがあげられる。
トリス(S−オキすブチル)アミン )L(−CHs−CM、−0−CHs)。
トリス(3−オキナヘプチル)アミン N−fCH,−CH,−0−C4H,)。
)リス(翫6−シオキ賃ヘプチル)アミンx+cm、−
cut−o−can−cH,−o−cul)sトリス(
&49−トリオキ賃デシル)アミンN4C[1−CH@
−0−C[1−CHs−0−CH@ −CHs−0−C
H8)@トリスC!ii6−ジオ中サオタチル)アミン
NfCH,−CH5−O−CHs−CH,−o−c、a
s  )aトリス(L&?−)リオキ賃ウンデシル)ア
ミンN+CH1−CHl −0−CHl−CHl−0−
CHI−CHl−0−CIHI )@)リス(&6−ジ
オ中fノニル)ア文ンN+CH寓−−CH5−0−C,
、−CHl−0−CIHy)sトリス(翫49−トリオ
キサドデシル)アミンN−(CH,−CHl−0−CH
,41g−0−CH,−C馬−0−C,H,)。
トリス(46−シオキナデシル)アミンN%CH,−C
H,−0−CHl−CH,−0−C4H@)。
トリス(翫49−トリオキサトリデシル)アミンN+C
B、−CH隼−0−CHl−Ck−0−CHs−CTo
−0−Car!h>畠トリス(翫4鷺12−デシラオキ
−?)リデシk)ア襦ン N−(CH2−ells−0+Cll5−eHs=o−
)s−CHs)sトリス(!1114−ジオ中賃−4−
メチルへブチk)ア之ン N−fCH@−CH2−0−CM−C10−0−C1l
s)s蹴 トリス(46−シオキサー九4−ジメチルヘプチル)ア
叱ン これらの金属イオン封鎖剤の製造は、フランス特許公告
第&45a1201に記載されている・本発明方法に用
いることのてきる巨大環状ぎリエーテルは、「クラウン
エーテル」の一般称で知られており、7ツンス特許会告
第九〇 24481号に記載されている。    ′ 本発明に用いることができるクラウンエーテルの例とし
ては、次のものがあげられる。
巨大環状及び二環状化合物は、フランス特許公告第L0
52,947号に記載されている。
本発明方法の実施に好適なこの種の化金物の例としては
、下記のものがあげられる。
本発明の方法は、第三の溶媒の存在下又は不存在下に実
施することができる。溶媒が用いられる場合には、それ
は、好會しくは、非極性の非ブー)ン溶媒又はそれはと
極性でな1非ブー)ン溶媒、例えばペン(ン、トルエン
、りwルベンゼンなどから遥ばれる。
第五の*aは用いられなくてもよい。その場合に溶媒の
役割を果すのは塩素化剤である。
本発明は、アルカリア叱ドと鵬−ジハ―ゲノベンゼン類
との反応生成物(アルカリアミドがナトリウムア竜ドで
ある場合には下部の式により表わすことができる)が錯
化性化合物による陽イオンの錯化によって反応媒体中に
全部又は一部可溶化されるという事実に基いている。
s この可溶化により塩素供与体との反応が可能となり、後
者は低級同族体に変換される(例えば、ヘキ賃夕田ルベ
ンゼンが用いられるときはベンタタmkペン七ン)。
本発明の方法によれば、アルカリアミドは、7にカッア
ミド対式厘の化金物のモル比が好ましくは約aOS〜約
1であるような量で用いられる。
さらに好ましくは、この比は約a1〜約a5であるO 塩素供与性化金物は、該化金物対式璽の化合物のモル比
が好ましくは約α3〜約1であるような量で用いられる
。さらに好會しくは、この比は約α7〜約1である。
錯化用化金物は、該化金物対式璽の化合物のモル比が好
會しくは豹ant〜約a2であるような量で周動られる
◎さらに好ましくは、この比は約ass〜約11である
反応は、一般に約−5aC〜約50℃の温度で行われる
周囲温度で大気圧下で実施するのが好ましい。
本発明を下記の実施例により詳述する。
例1 磁気攪拌機を備えた1@CCの反応−に、tStの#−
ルベンゼンに溶解したtst(an1毫ル)の13−1
FりW#ペンゼ、ン及び14!f(LOOiモル)のへ
キナりWkベンゼンを順次に装入する。
次いでtL14fのトリス(翫4−ジオキサヘプチ#)
ア之ン(Wちts−ジク田ルベンゼンに対して(L5七
ル襲)を加える。
混合物の温度をかきまぜながら20℃に保ち、a15f
(D+)リウA7tドN*NH@の5G%)ルエン溶液
(1002峰ル)を導入する@マドグラフィーにより分
析する。
混合物の組成は次の通りであった。L2.!S−)リタ
ールベンゼン(90%)、tλ4−トリタ田ルベンゼン
(5−)、1.45−)リタWルベン七ン(5s)。転
化率は62襲で、収率は88−であった。
例2 磁気攪拌機を備えた5ccの反応器に(L57fのり田
ルペン(ンに溶解した(L57 f (ao 05モル
)のt3−ジフルオルベンゼンと1719(10025
モル)のへキサタールベンゼンを順次に装入する。
次いで(LO8fの)リス(−6−ジオ今雫ヘプチル)
アセン(即ち、tS−1ジフルオルベンゼンについて5
毫ル襲)を加える。
反応混合物の温度をか會會讐ながら20℃に保つ。a0
75fのす)19ムア*rN*NH論のSOjg%fi
sxン溶波(a001**)を導入する。
30分接触さ電た後、粗瓦応□混舎物を気相ターマ)ダ
ラフイーにより分析する。
転化率は約50%であり、2.6−ジフルオルクールベ
ン(ンの収率は87%であった。
例3 磁気攪拌機を備えたl0CL:′の反応器にtxtの夕
四ルペンセンに溶解したtSf((LO1毫ル)の1−
フルオル−3−#−ルベンゼンjlびt42f((LO
O54#)のへ’lF9□りWルベンゼンを順1 次に装入する。
次いでa14fのトリス(翫6−シオキナへブチ#)ア
叱ン(Wち、1−フルオ#−5−タしくベンゼンについ
て5毫ル襲)を加える・混合物の温度をかきまぜながら
20℃に保つ。
そして、a14fのナトリウムア之ドN*NH@の50
−トルエン溶液(Q、oo1sモル)を導入する。
20分接触さ曽た後、IIR応混合物を気相ターマトダ
ラフイーにより分析する。
2.3−シタ田ルフルオルベンゼンが45%の収率で形
成された。
!4 磁気攪拌機を備えた1socx::a)度応器に22.
22のトルエンに溶解νた22.2F((115毫ル)
のλ4−ジフルオルタW#ベンゼン及び21L5f((
L1モル)のへキサタールベンゼンを順次に装入する。
次いで4.85fのトリス(!ll6−シオキ!ヘプチ
ル)アセン(In、λ4−ジフルオルクールベンゼンに
ついて5モ#−)を加える。
反応混合物の温度をかきまぜながら20℃に保つ。そし
て5.8fのナト9ウムア電ドNaNH@の50弧トル
エン溶液((LO7S毫k)を導入する。
20分接触させた後、粗反応混合物を気相ターマトダラ
フイーにより分析する。
2.4−ジフルオルーts−シタ四ルペン(ンが61−
の収率で得られた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)  鵬−ジハーゲノベンゼン類と塩素供与性化金
    物を少なくとも1種のアルカリアミド及び少なくとも1
    種の、該アミドの陽イオンを錯化する化合物の存在下に
    反応させることを特徴とする1−シバpゲノベンゼン類
    の塩素化方法。 (2)  アミドの陽イオンを錯化する化金物が次の一
    般式■ 〔ここで臘は0以上で且1約10以下の整数(0<聰≦
    1o)であり、R1、II 、111及び14は同−又
    は異なっていてよ(、水素原子又は1〜4個の炭素原子
    を有するアルキル若を表わし、凰曝は1〜12個の炭素
    原子を有するアルキル若しくはシタレアルキル基、アエ
    エル基又は−C,、H,m−φ若しくはCtm”tm+
    t−φ−基(ここで−は1〜約12である)を表わす〕 の金属イオン封鎖剤であることを特徴とする特許請求の
    範囲一1項記載の方法。 (3)  式(I)においてR1%B雪、R■及び14
    が水素原子又はメチル基を表わすことを特徴とする特許
    請求の範HIJ2項記載の方法。 (4)  式(1)において鳳が0以上で且つ4以下で
    ある整数であることを特徴とする特許請求の範囲第2又
    はS項記載の方法。 (5)  式(I)においてRsが1〜4個の炭素原子
    を有するアルキル若を表わす特許請求の範W第2〜4項
    のいずれかに記載の方法。 (6)  式(1)の金属イオン封値剤がトリス(44
    −ジオキ雫ヘプチル)アミンである特許請求の範囲第S
    〜5項のiずれかに記載の方法。 (7)アミドの陽イオンを錯化する化合物が環内に15
    〜SO個の原子を有し且つ4〜10単位の−0−X (
    ここでxは−C1lls−CHR,−又は−CHR・−
    CHR魯−CR・Rマーであり、R・% R1、R@及
    びR@は同−又は興なっていてよく、水、!原子又は1
    〜4個の炭素原子を有する7にキル基であり、そしてX
    のうちの1個は単位−〇−xが基−0−CUR@−CH
    Ry−を含むときは−CUR@−CHR*−CB、Ry
    −であってよい)から成る巨大環状ミリエーテルである
    ことを特徴とする特許請求の@囲第1項記載の方法。 (8)巨大環状がリエーテルが よりなる群から選ばれることを特徴とする特許請求の@
    S第7項記載の方法。 (9)  アセトの陽イオンを錆化する化合物が次の一
    般弐厘a又はIb 又は 〔ここで、YはN又はP″Cあり、 ムは1〜3個の炭素原子を有するアル中しン基を表わし
    、 D&tO,B又はN−111(R,1は1〜6鯛の炭素
    原子を有するアルキル基を表わす)を表わし、R1・は
    1〜6個の炭素原子を有するアルキル基を表わし、 ?S%及びrは同−又鏡員なっていてよく、1〜5の整
    数である〕 の巨大環状又は二環軟化金物である二2を特徴とする特
    許請求の範囲第11記載の方法。 (10)巨大環状又は二環軟化金物が よりなる群から選ばれる特許請求の範囲第9項記載の方
    法。 (11)非極性の非プW)ン溶媒又はそれはと極性でな
    い非プ四トン溶媒の存在下に行なうことを特徴午する上
    記特許請求の範囲のいずれかに記載の方法0 (12) 1llKカクールベンゼン、ベンゼン及びト
    ルエンよりなる群から選ばれることを特徴とする特許請
    求の範囲第11項記載の方法・ (1B)アルカリアミドがす)リウ^アミド又はカリウ
    ムアセトであることを特徴とする特許の範囲〇いずれか
    に記載の方法。 (14) 111素供与性化合物がヘキ賃りロルペン七
    ン又はペンタタpルベンゼンであることを時機とする上
    記特許請求の範囲のいずれかに記載の方法。 (15)アルカリアミド対一一ジハ璽ゲノベンゼン類の
    モル比が約(LO5〜約5〜間であるような量でアルカ
    リアミドを用りることを特徴とする上記特許請求の範囲
    のいずれかに記載の方法。 (16)塩素供与性化合物対墓ージへ四ゲノベンゼン額
    のモル比が約CL3〜約1の間であるような量で塩素供
    .与性化合物を用いることを特徴とする上記特許請求の
    範囲のいずれかに記載の方法。 (17) アミドの陽イオンを錯化する化合物対論−ジ
    ハpゲノベンゼン類の毫ル比が好ましくは約a1〜約1
    であるような量で該錯化用化合物を用いることを特徴と
    する特許 に記載の方法。 (18)約一!sO℃〜約50℃の温度で実施すること
    を特徴とする前記特許請求の範囲のいずれかに記載の方
    法。
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