JPS5874392A - 光記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 不発ｌ！１１１はレーザー光に対して反射率が高い陥没
凹部を記録部分としてレーザー光で形成させるべき低融
点の金属又は半金属の光吸収性薄膜を記録層として有す
る新しい形式の光記録媒体に関する。

光記録媒体は、「光デスク」とも首わｎる。こｎｖｃＦ
ｉ、大別すると、第１に、低融点の金属又は半金属の薄
膜にレーザー光で多数の微小な孔（ピット）ヲ空けて記
録し且つレーザー光で孔の存在を検出することによって
記鎌會再生する方式のものと、第２に適当な材質の記録
層の表面に多数の微小な凹凸を印刷することによって記
録をし且つレーザー光の反射で凹凸の存在を検出するこ
とによって配録を再生、する方式のものとの２つが知ら
ｎ、夫々に一長一短がある（テレビジョン学会誌第３３
巻第９号（＋９７９）　１０〜１６頁）。

孔影成による記録ｔ−する形の光記録媒体においては、
従来、ｆｉ’ｆ３つの方式が提案さｎている口その第１
の方式ｑ、　ＰＭＭＡ　（ポリメチル・メタクＳｅ　　
等の低融点の金属又は半金属の薄膜を記録層として形成
させて（蒸倉、等により）なるものであり、この方式で
は記録層レーザー光の照射により該薄膜の一部を融解又
は蒸発させて孔を形成させることにより行い且２記録の
再生は孔が形成した部分ではレーザー光を反射せず且つ
孔がない部分ではレーザー光を反射するので、光の反射
強度め差を検出°Ｔることによシ行う（いわゆるフィリ
ップス方式）。この方式の主な問題点Ｆｉ、記録層の構
成物質の熔解又は蒸発によル孔を形ｍ″ｊる関係上、記
録層がレーザー光に対して大きい吸収重管もち且つ低い
熱伝導軍をもつこと、ちれによシレーザー光で昇温し易
く孔の形成が容易である性質をもつこと（記録感度が良
いこと）を必要とし、その反面、記録の読み出しく再生
）のｆｃめには。

孔がない部分のレーザー光反射率が大きい性＊Ｖもつこ
と（再生コントラストが大きいこと）を必要とするが、
とｎらの要求さｎる性質は互いに基本的に矛盾している
ことに在る。従って、一般的には、半導体レーザー光の
波長である８００　ｎｍ附近の光に対して、吸収率が６
０９１程度、反射率が４０憾程度である特性をもつ記録
層音用いることで妥協が計らｎている。特に半導体レー
ザーを用いる場合ＴＬＦｉ、未だ高出力のものが開発さ
ｎていないので％に２碌時においては、記録層の吸収率
がよシ大きいことが好ましく、また、その反面、再生時
には記録部分の反射率が大きいことが好ましい。再生時
の信号／雑音比（８／’Ｎ比）は反射率に依存するから
である・ 第２の方式は、ｍ紀の低融点の金属又は半金属の薄膜よ
りなる記録層を、記録層に比べて、レーザー光に対して
大きい反射率を示す金属例えばＡ！。

等の金属の反射性薄膜と積層させ、このような積層ｉＩ
會基体上に支持させてなるものである。この方式では、
記録は、ｍｌの方式と同様に、レーザー光の照孔によ）
記録層に孔を形成させることにより行い、また記録の再
生は記録層に孔が形成した部分では、反射性薄膜が露出
して反射率が太きくなっており且つ孔がない部分では１
反射率が相対的に小さいので、このことを利用し、光の
反射強度のＸｔ−検出して行う、この第２の方式でも、
記録層はレーザー光に対して吸収率が出来るだけ高く且
つ熱伝導率が低いことが記録感度の向上の点で好ましい
。

第３の方式は、基板上にムを等の反射膜を設け、その上
にシリカ又は有機物の透明膜をλ／　４　ｎの積厚（但
しλは読み出しレーザー光の波長でｎは透明層の屈折′
Ｎ、）に形成し、さらにその上に半透明の記録層を設け
る構造としたものである。この方式でも、記録は記録層
にレーザー光で孔をあすることにより行い％また記録の
再生は、孔が空いている部分で起る光の全反射と、孔が
ない部分で起る光の干渉による反射防止との差を検出す
ることによシ行わ肛る。この場合の記録層は、やけシ低
融点の金属又は半金属で構赦するが、半透明な膜にする
ために５０〜＋００　Ａ　の程度の極めて薄い膜厚のも
のにしなければならない（ＲＣＡ方式）０この方式でｔ
よ、記録、再生の感度が良いけれども。

記録層の全体が酸化され易く、記録の保存性が悪い欠点
がある。

なお、孔形成による記録によらない光記録媒体の１例と
しては、ＴｅＯｘ、　　Ｇｅ０ｚ、　　８ｂＯｘ　　の
ような低級酸化物がレーザー光で黒化する現象を利用し
て、これ・らの低級酸化物よ）なる記録層をもつ方丈の
ものがある（松下方式、−特開昭５５−３８６１６号公
報参照）０ 本発明者は、孔形成による記録方式の光記録媒体におけ
る前記の欠点を解消するために、記録感度、杏生感度、
記録保存性が従来のものより向上された記録層を開発す
べく鋭意研究した。このために−け、未記鍮状態では、
レーザー光に対しての吸収率が９０嗟以上となし得る（
したがって反射率が１０係以下となし得る）もので、従
って低出力のレーザー光÷孔の形成を達成でき且つ孔（
記録）部分が６０−Ｌ□″、９０優程度の反射率で光を
反射できるか又轄孔を通過するレーザー光を耽み出しレ
ーザー光の照射側と反対側から十分に識別し得る記録層
であって、しかも膜厚＊　５０−１００　Ｘ　　という
極薄にする必要がなく、蒸着、イオングレーティング、
スノ母ツタリング等の公知手段で容易に膜厚をもち得る
記録層を実現さゼることか必要であると知見した。

七ζで、本発明者は、超微粒子の凝集体（ａｇｇ−ｒｅ
ｇａｔｅｓｓ　）が一般には、光に対して非常ＫｊＬい
黒体である事実北ヒントを得て、レーザー光の照射で熔
解又は蒸発できる程度低融点の金属又は半金属の超微粒
子の凝集体よシなる薄膜、丁なわち前記の低融点金属又
は半金属の超微粒子が電気朧微鏡で観察できる程度の小
さい、多数の空Ｎｆ伴って凝集した構造をもつ薄膜を作
成し、これを光記録媒体の記録層として利用することを
着想したりそして種々の実験を行った結果、そのような
薄膜が所期の目的に極めて良く遍することｔ−ａｔめた
・そして、そのような低融点金属又祉半金属の超微粒子
の集合体よりなる薄膜であって、６００〜１０００　ｎ
ｍの波長のレーザー光について６０−以上の吸収率を示
す超微粒子薄膜が光記録層として良く実用できること’
ｔ−ａｉｍした◎ 従って２本発明者は、本出願人の出願に係る％　　　１
―昭５６−　　　号（発明の名称「光記録媒体」、昭和
５６年１０月２９８出ｍ）において、「レーザー光を用
いて記録、記録の再生を行う光記録媒体において、レー
ザー光の照射で熔融又は蒸発できる金属又は半金属゛の
超微粒子が電子顕微鏡で観察できる程度の小さい、多数
の空Ｆｊｔ−伴って凝集した構造をもつ薄膜であって６
００−１０００　ｎｍの波長のレーザー光について６０
暢以上の吸収率を示す金属又は半金属の薄膜を記録層と
して有することを特徴とする光記録媒体」 全提案した。′この光記録媒体は、基板上に、又は基板
に支持さｎた反射性金属膜上に金−又は半金属の超微粒
子が凝集した構造をもつ薄膜よシなる上記の記録層が設
置さｎである形の光記録媒体とすることができ、記録用
レーザー光の照射で記一層の断面全体にわたって、基板
又は金属反射膜に到するまで膜を貫通した穴、すなわち
孔（ピット）を配録部分として形成する方式のものであ
る。

本発明者は更に研究を進めた。その結果、前記のような
低融点の金属又は半金属の超微粒子凝集体よシなる薄膜
としての記録層の膜厚を、記録用レーザー光の照射で膜
断面の一部のみが熔解して膜内に＃没凹部又゛は盲穴が
形成できる程度の大きさ１Ｃ−ｊ″るならば％記録用レ
ーザー光の照射で記録層薄膜の膜断面の一部のみ、例え
ばレーザー照射を受は大記録層薄膜中の表層な馳し中間
層のみを熔解させた時には、そｎよ〕下方の部分、底層
中−に熔解金属が進入して底層が密実な組＆をもつよう
になり月つ形成さｎた凹部底面が高い光反射率を呈し、
鏡面に近い状態になル得ることを知見した。このような
凹部を形成された前記の薄膜は、その凹部（記録部分）
と、凹部が無い未配鍮部分とではレーザー光に対する反
射率の差が着るしいので、記録再生の感度が秀ｎている
・そして、従来から要請きｎていた処の、未記録状態で
は吸収率が大きく（シたがって反射率が小さく）、レー
ザー光を照射して記録すると反射率が大きくなるという
記録層が実現できたことｙｃなる＠従って、本発明の費
旨とするところは、レーザー光を用いて記録、再生を行
う光記録媒体において、レーザー光の照射で熔融又は蒸
発できる金属又は半金属の超微粒子が電子顕微鏡で観察
できる程度の小さい、多数の空隙を伴って凝集した構迄
倉もつ薄膜であって６００〜１０００　ｎｍの波長のレ
ーザー光について６０優以上の吸収率を示す金属又は半
金属の薄膜？記録層として有し、しかもこの記録層薄膜
は、記録用レーザー光の照射で膜断面の一部のみが熔解
して量的に陥没凹部音形成できる大きさの膜厚を有する
ことを特徴とする、光記録媒体にある。

記録層をなす超微粒子の材料とし、従来、孔形成方式の
光記録媒体の配録層で用いらｎた低融点の金属又は半金
属、のすべてのｎｔ類が用いらｎる。

例えば、Ｉｎ、　８ｎｅ　７ｅ、　Ｓｓ、　Ｂｉ、　Ｚ
ｎ、　Ｐｂ、　Ｂｉ、　Ａｇ。

Ｎ１．　Ｆｅ、　Ｃｏ、　Ａ１．　Ｓｊ、　Ｍｇ、　Ｔ
ｉ、　Ｃｒ、　Ｃｕ、　Ｐｄ　　等又はこｎらのうちの
合金Ｔｏ−Ａｓ＋　Ｔｅ−８ｅ＋等が用い得る・超微粒
子は直径１００〜３００　Ａ　１％に１００〜２００λ
の範囲のものであるのが良く、本発明の記録層を電子顕
微鏡で見ると、この１すな大きさの超微粒子がｔｔ　”
ｘ同じ大きさの空隙（ｖｏｉｄｓ　）を多数、介在さゼ
ながら互に連結して凝集している状態が観察される。こ
の記録層１＃、ｊＩの単位体積当シに、超微粒子が占め
る合計体積の割合、すなわち充填率Ｆｉ−記録層断面を
電子顕微鏡で観察して算・・： 出でき、その充填率は９０優、好ましくは１０〜９０憾
、殊に３０〜９０優、特に４０〜ＳＯ憾であるのが好ま
しい。膜が強磁性金属の超微粒子より成る場合には％膜
の飽和磁化の値ｔ−測測定、こｎｔ−当該金属の完全に
密実（５ｏｌｉｄ　）な（すなわち内部空隙が実質的に
無い）同一膜厚の□膜の飽和磁化の値と比較することに
よっても膜の充填重管測定できる・ 本発明の光記録媒体においては、記録層の厚さ範囲であ
るのが好ましい。

本発明における記録層薄膜＃Ｃは、可視光の吸収部が非
常に高く、９０優以上の値を示すものかある。こｎらの
膜ｕ、ｉｉ径数百Ａの超微粒子が、充てん軍３０〜９０
９Ｇ４度で凝集して膜状になっているもので、光の散乱
やプラズモンの吸収部により吸収率が高くなっていると
考えら詐る。このような微粒子集合状薄膜は、先験収車
が高いうえに、普通の金属薄膜ＶＣ（らぺて熱伝導率が
小さいという利点もある。

本発明の光艷鍮媒体の特色扛、６００〜１０００　ｎｍ
の波長の光に対して、平均６０９１以上の吸収率をもち
、かつ、充てん車が９０４以下である様な超微粒子の凝
集体の金属および半金属の薄膜にレーザー光を照射して
、表面又はその付近で超微粒子の融解や凝結を発生させ
て、反射率を増加させることにある。したがって、記録
層表面又祉その付近でのみ上記のような構造変化が発生
することが好ましく１例えは、超微粒子凝集体の薄膜の
膜厚が小さすぎる場合や、記録層レーザーの出力が大き
過ぎる場合等には、完全に貫通した孔管形成してしまい
、反射率の増加は得らｎない・したがって、微粒子凝集
体薄膜の膜厚は、最低１００ＯＡ　以上は必要である。

本発明の光記録媒体においても、低融点金属又は半金属
の超微粒子の凝集体よりなる記録層を基体上に直接に設
けることができる・この場合の本発明の光記録媒体は、
その記録層の光吸収率が高いとと及び粒子間に空隙があ
って熱伝導率が低いことに由って、低出力のレーザー光
照射て感度よく、記録用の凹部管形成することが出来、
また記録の再生は読み取りレーザー光が凹部底面で反射
したレーザー光束を検出する仁とによって行い得−るＯ 更に、本発明の光記録媒体に、おいては、基板に支持さ
ｒｔた中間の金属膜の上に低融点金属又は半金属の超微
粒子凝集体よりなる記録層を設置することができる。そ
の中間金属膜は記録層に対する補強乃至は基板との結合
を良くする役目管する。

そして、記録媒体が基板で・豪わｎてない方の側面には
、透明で低い熱伝導率の：物質１例えばシリカ又はシリ
コーンゴムよシなル且つ膜厚が１００丸程度である表面
保躾膜を設けることも出来るΦ本発明における金属又は
半金属の超微粒子の凝集体よりなる記録層は、従来公知
の蒸着技術、イオンデレーティング技術、スノ臂ツタリ
／グ技術。

プラズマデポジション法、等を利用して基体上ニ彰放さ
せることができる。例えば、金属の蒸溜達度、蒸溜装置
の真空度、蒸着時間１等の種々な操作条件のパラメータ
ーを加減することによって、形成さｎる超微粒子の直径
、充てん率、ＩＩ！厚、膜の光吸収率１等を調整できる
。

特に、１０トール以下の範囲の真空中に保持さｎ、たガ
ラス又はＰＭＭＡ等のプラスチック基板の上に、この基
板表面に対して斜めの方向から金属又は半金属の蒸気の
流れを当てて蒸着させる方法（以下、斜め蒸着法ともい
う）によって造膜するか、若しくはアルゴン、ヘリウム
、窒素ガス等の不反応性ガスをＩＯ〜１０　　）−ルの
低圧で充満させた真空容器内に保持さｒｔ大基板の上に
、慣用の蒸着法、イオンデレー゛トテイング法、スノぐ
ツタリング法、あるいはプラズマデポジション法で金属
又は半金属を造膜させ場合に＃′ｉ、可視光について９
０チ以上の高い吸収率と１０〜８０９！の充てん率とを
示す金属又は半金属超微粒子凝集体よりなる薄膜會記録
層として形成できるＯ 上記のように、蒸着法斜め蒸着法、イオンブレーティン
グ法、等の造膜操作で本発明の記録層を形成させる場合
に、所望の膜厚を得るまで造膜操作を連続して行うこと
ができるＯしかし、このように連続的に造膜操作を続け
、こｎで厚い膜を得ようとすると、粒子の粗大化がおこ
シ、光の吸収率が低下してしまうことがある・ 本発明者は、記録層を造膜するに当？て、蒸着すべき又
はイオンプレーテング又轄その他の手段で付着すべき金
属蒸気の流れを基板表面に断続的に当てる場合、すなわ
ち蒸着操作又祉その他造膜の操作を断続的ないし間歇的
に行う場合には、記録層をなす金属超微粒子内部の金属
結晶の結晶方向が不整いにな４らしく、そして記録層の
内部組織が異方性になるらしく、電子顕微鏡で記録層断
面を観察すると、金属超微粒子の配列状況に若干の多層
構造が認められるようになる・このような多層構造を内
部に６梨発明の記録層においては”Ｊ’ｌｒと配縁用レ
ーザー光で陥没凹部全形成する時には、陥没が過度にす
すんで貫通した孔（ビット）ｙ生ずる恐ｎが小さくなる
ことを紹め大、。このように多層構造にすると、本発明
におけ、！町録層１ｔ１０００Ｘ以下の膜厚にすること
もできる・多層構造のもう一つの利点として、記録層の
熱体導率が更に小さくなり、表面付近のみが溶融させる
ことが容易になる点もある・ 次に図面について１本発明の光記録媒体の種々な形式を
説明する。

第１図は、ガラス又はＰＭＭＡ等の耐熱プラスチックの
基板１の上に、蒸着％等の適当な手段で十分な膜厚に造
膜さｎた金属又は半金属超微粒子２の凝集体よりなるレ
ーザー光吸収性の薄膜６が記録層として設置さｎである
最も単純な形式の本発明の光記録媒体を図解的に示す。

所望ならば、記録層の表面に保鰻膜を設けることができ
る。この図示の光記録媒体については記録時にレーザー
光を基板１の側から薄膜３にレーザー光の焦点を集めて
照射することによって、薄膜ｓ内に記録用の陥没凹部４
全形成した状態を示す。記録の再生（読み取り）Ｆｉ、
読み取りレーザーが基板１０側から照射さｎ、凹部４の
底面５で反射さｎたレーザー光束を検出することにより
行わｎる。なお、記録層の側から記録用レーザー光を照
射しても、記録は行い得る。

第１図に示した基板１と金属又は半金属超微粒子凝集体
よりなるレーザー光吸収性の薄膜Ｓ（記録層）との間に
、基板材料との結合性が良く且つ記録層材質との濡れ性
の良い金属１夛なる中間層を設けることも可能である０ 次に本発明を実施例について説明する。

実施例１ 本発明による光記録媒体を第２図に図解的に示す蒸着装
置１１を用いて製造した− この蒸着装置は真空容器７の底面７′に蒸着すべ睡金属
の熔融金属ゾール８が設癲らｎ％また排気口９に接続し
た排気−ンプの作動によプ容器７の内部を１０　〜１０
　　）−ルの高真空にすることができ゛る。蒸着すべき
金属の超微粒子凝集体の薄膜を記録層として設ける基板
ＩＦ１基板ホルダーに固定され、蒸着を受ける面は、熔
融金属ゾールから上昇する金属蒸気の流ｎの方向に対し
て斜めの方向に配置さ牡る０この基板は基板ホルダーの
軸６’ｆｆｉ中心に１分間当りに２〜３回回転させらｎ
、蒸着膜の厚さが基板表面全体にわたって均一になり且
つ基板表面に蒸着した金属が密実な薄膜にならずに超微
粒子の凝集体の薄膜になるようにさｎる。

本例では、基板表面に対して金属蒸気が当る入射角は８
０°とした。容器７内の真空度ｔ−２Ｘ　１０−’トー
ルにして、鋼金属を熔融したゾール８から銀０・２ｆ／
分の速度で銀蒸気（ＰＭＭム基板（厚さ１２■）に蒸着
させて膜厚４５００　Ａ　の銀斜め蒸着膜を形成させ、
光記録デスク管作成した。この銀斜め蒸着膜の断面管電
子顕黴鏡（１０万倍拡大）で観察すると、直径２００〜
３００　又の鋼金属の超微粒子が多数の微細な空ａｔ￥
ｒ伴って凝集している構造全もつことが認めらｎた。こ
の銀斜め蒸着膜の表面の吸収率は、６００〜１０００　
ｎｍの波長のレーザー光ＶＣついてＦｉｓｈ優であり（
反射率１４憾）、とｎに８３０　ｎｍ　の波長のレーザ
ーを出す出力ジュール１５−の牛導体し−ザー管照射す
ると、平均直径ＩＲｒ１　の記録用陥没凹部が銀層内に
形成された・この凹部で反射される読み取）レーザー光
（波長ぎ３０　ｎｍ　）　　の反射率を約５０憾であ〕
、反射率の差によプ記録凹部が明確に検出できた・実施
例２ 実施例１で用いた蒸着装置を用い、実施例１と同様にし
て、銀の斜め蒸着を行った。し力・シ、蒸着操作ｔ−３
０秒間続け、次に１０分間中断し、ｔた再開して、その
後に中断と再１１ｔ−５回行い、鋼の斜め蒸着膜の全体
の厚さが５０００　Ｘ　になるまで造膜した・ このようにして形成させた銀の斜め蒸着膜の断面を電子
顕微鏡（１０万倍拡大）で観察すると、直径２００〜３
００　Ａの鋼金属の超微粒子が多数の徽細な空ＩＩを伴
って凝集し且つ多層管底している構造をもつことが認め
らｎた。この銀斜めｍ着膜の表面の吸収率は％Ｐ　ＭＭ
Ａ基板ＩＩＩから照射した６００〜１０００　Ｅｌｍの
波長のレーザー光については９０憾であった（反射率＋
０４）。

この光記録デスクの基板側から、銀の記録層に焦点を結
ぶようにして、波長８３０　ｎｍ　のレーザーを出す出
力１５夕の半導体レーザーで照射すると、平均直径１・
２ａ＋ｍ　の凹部が銀層内に形成さｎたＯ波長ｇ３０　
ｎｍ　の読み取少レーザー光を基板側から照射した時に
は、゛凹部の反射率は約５０憾であり、未記録部分と記
録部分との反射率の差（５０％−１０憾）で記録凹部が
感度よく識別できた◎実施ｇＡＪ３ 本発明による光記触媒体を第３図に図解的に示す蒸着装
置を用いて製造した。

この５ｙｔｒ＊＊Ｉ／ｉ真空蓉器７の底面７′に蒸着す
べき金属の熔融金属ゾール８が設けらｎ、また排気口９
に接続した排気ポンプの作動により容器７の内部を１０
〜１０　　トールの真空にすることができる。この装置
には、アルプ７、等の不活性ガスを出入させ得る導管１
０が設けらｎ、真空容器７内に１０−２〜１０　）−ル
の低圧の不活性ガス雰囲気を作ることか出来るようにな
っている。さらに、基板ホルダー６と、蒸着すべき金属
の熔融金属ゾール８との間には、網板状又は格子状、咎
の適当な形態のイオン化電極１１が設けらｎ、こｒｔは
外方の直流電源１２に接続さｎる。この電極に直流電圧
を加えると、ゾール８から上昇する金族蒸気が電圧効果
によりイオン化さｎて、イオ７！レーティング技幇によ
ｐ金属が基板上に蒸着さｎる◎上記の装置において、容
器７を完全に排気した後に導管１０全通してアルゴンガ
スを０・１トールの圧力にまで導入しながら、０・１ト
ールのアルゴン券囲気中で％ＰＭＭＡ基板上に５０００
　Ａ　の膜厚にニッケルを蒸着する。この時、基板の前
面に般皺（−たメツシュ状の電極に一２ＫＶの直流電圧
を印加してグロー放電を発生させ、イオングレーティン
グとなるようにしである。基板ホルダーを回転させて均
一に蒸着が行わｎるようにし約５００　Ｘの膜厚が得ら
ｎた時、５分間中断し、さらｔｃ　５００　Ａの厚きに
ニッケルの超微粒子を重ねて蒸着することをり〕かえし
て、多層構造を形成させた。蒸着後。

表面ＶＣ塩化ビニルの保Ｍ１膜ケ塗布する。この試料の
ニッケル超微粒子の凝集体よりなる記録層表面の分光曲
ｌｉｔ　’ｋ　徘１足したところ、６００〜１０００　
ｎｍの波長では、吸収本９０９６．反射ｓ１０チでＴｏ
る。

８３０ｎｒｎ　の牛導体レーザーで記録し記、緑部分の
反射率音測定し５５係に上昇した。

【図面の簡単な説明】

銅１図は本発明による光記録媒体の図解断面図である・ 第２図、第３図は本発明による光記録媒体を製造するに
適する装置の図解図である。 １・・・・・・光記録媒体基板、　２・・・・・・金属
超微粒子。 ６・・・−・記録層、　４・・・・・・記録用陥没凹部
、　　６・・−・一基板ホルダー、　　７・−・・・真
空容器、　８・・・・・・蒸着すべき熔融金属ゾール・

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、レーザー光を用いて記録、再生を行う光記録媒体に
   おいて、レーザー光の照射で熔融又は蒸発で自る金属又
   は半金属の超微粒子が電子顕微鏡で観察できる程度の小
   さい、多数の空隙を伴って凝集した構造をもつ薄膜であ
   って６００−１０００　ｎｍの波長のレーザー光につい
   て６０憾以上の吸収率を示す金属又は半金属の薄膜を記
   録層として有し、しかもこの記碌層薄膜祉、記録用レー
   ザー光の照射で膜断面の一部のみが熔解して膜内に陥没
   凹部な形成できる大きさの膜厚を有することを特徴とす
   る、光記録媒体・ ２、基板上に、金属又は半金属の超微粒子が凝集した構
   造をもつ薄膜よ）なる上記の記録層が設置さ扛である特
   許請求の範囲第富項に記載の光記録媒体。 ８、基板に支持さｎた中間金属膜の上に１金属又は半金
   属の超微粒子が凝集した構造管もつ薄膜よりなる上記の
   記録層が設置されである特許請求の範囲第１項に記載の
   光記録媒体。 ４・　上記の記録層の露出表面には、保瞳膜が設置らｎ
   である特許請求の範囲第２項又ｔｉ第３項に記載の光記
   録媒体− ５、レーザー光に対して透明な基板上に、金属又は半金
   属の超微粒子が凝集した構造をもつ薄膜より＆る上記の
   記録層が設置され、基板が存在する側面と反対側にある
   記録層側面に保ＩＩＩＩＩが設置されである特許請求の
   範囲第１項に記載の光記録媒体。 ６、上記の記録層を構成する薄膜の単位体積轟りに、金
   属又は半金属の超微粒子が占める合計体積の割合、すな
   わち充てん率がｑｏｔｓ以下、好まＬ＜Ｆｉｌ　Ｏ〜９
   ０１．４１ＨＣ３０〜８０１”ｔ’ｉル特許請求の範囲
   第１項に記載の光記録媒体、　　−７・　基板上に、あ
   るいは基板に支持された中間金属膜上に、該基板の表面
   あるいは該中間金属膜の表面に斜めの方向から、金属又
   は半金属の蒸気を当てて金鵬又に半金域を蒸嘴さゼ、こ
   の蒸看操作を断続的に行い、これにより、金属又は半金
   属の超微粒子が電子顕微鏡で観察できる程度の小さい、
   多数の空隙を伴って凝集した構造をもつ薄膜であって６
   ００〜１０００　ｎｍの波長のレーザー光について６０
   優以上の吸収率を示す金属又は半金属の薄膜を１００Ｏ
   Ａ　以上の膜厚の記録層として形成させることを特徴と
   する、光記録媒体の８１！造法。 ９．１０　〜１０トールの低圧の不活性ガスの雰囲気内
   に保持さｔた基板上に、あるいは基板に支持さｔた中間
   金属膜上に、金属又は半金属を蒸着法、イオンシレーテ
   ィング法、スパッタリング法、あるい拉プラズマデポジ
   ション法によ多造膜ざゼ、この造膜操作を断続的に行い
   、こｆＬによシ、金属又は半金属の超微粒子が電子顕微
   鏡で観察できる′　程度の小さい、多数の空Ｓｔ−伴っ
   て凝集した構造をもつ薄膜であって、６００〜１０００
   　ｎｍの波長のレーザー光について６０ｑ１１以上の吸
   収率を示す金属又は半金属の薄膜を＋ｏｏｏ　Ｘ　以上
   の膜厚の記録層として形成≧せることを特徴とする光記
   録媒体の製造法。