JPS587394A - ヒ−トモ−ド記録材料 - Google Patents
ヒ−トモ−ド記録材料Info
- Publication number
- JPS587394A JPS587394A JP56105309A JP10530981A JPS587394A JP S587394 A JPS587394 A JP S587394A JP 56105309 A JP56105309 A JP 56105309A JP 10530981 A JP10530981 A JP 10530981A JP S587394 A JPS587394 A JP S587394A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recording
- layer
- recording material
- metal
- recording layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/24—Ablative recording, e.g. by burning marks; Spark recording
Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は高エネルギー密度の光ビームを用いて情報を記
録するためのヒー）−％−ド記録材料に関するものであ
る。
録するためのヒー）−％−ド記録材料に関するものであ
る。
従来よりレーザ等の高エネルギー密度の光ビームを用い
る記録材料としては、銀塩等の感光材料の他に次のよう
な熱的記録材料がある。この熱的記録材料に於いては、
記録層は廃い光学浸度を有し、照射される高エネルギー
密度の光ビームな吸収し局所的な温度上昇を生じ、融解
、蒸発、凝集等の熱的変形をして、その光照射された部
分が除去されるととｋよって、非照射部分に対して光学
的濃度差を生じるととｋより情報が記録されるものであ
る。このような熱的記録材料は一般に現儂。
る記録材料としては、銀塩等の感光材料の他に次のよう
な熱的記録材料がある。この熱的記録材料に於いては、
記録層は廃い光学浸度を有し、照射される高エネルギー
密度の光ビームな吸収し局所的な温度上昇を生じ、融解
、蒸発、凝集等の熱的変形をして、その光照射された部
分が除去されるととｋよって、非照射部分に対して光学
的濃度差を生じるととｋより情報が記録されるものであ
る。このような熱的記録材料は一般に現儂。
定着等の処理な必愛としないこと一通常の室内光では記
録されないため暗室操作が不要であること。
録されないため暗室操作が不要であること。
高コントラストの画像が得られること、情報の追加記録
（ア「オン）が可能であること等の利点を有する。
（ア「オン）が可能であること等の利点を有する。
一般にこのような熱的記録材料への記録方法は。
記録すべき情報を電気的な時系列信号に変換し。
その信号に応じて強度変調されたレーサビームで七〇記
録材料上を走査させて行なう場合が多い。
録材料上を走査させて行なう場合が多い。
この場合、リアルタイムで記録画像が帰られるという利
点を有する。
点を有する。
このような熱的記録材料の記録層としては、金属、染料
、プラスチック等が適しており、一般に安価な材料を用
いることが出来る。このような記録材料は１例えばＭ、
Ｌ、 Ｌｅマ・ｎ・ らの著による” Ｅｌｅｃｔｒｏ
ｎ 、 Ｉｏｎ ａｎｄ Ｌａｔｅｒ Ｂｅａａ＋ Ｔ
ｅｃｈｎｏｌｏｇｙ“第１１回シンボジウ五の記録（１
９６９年）。
、プラスチック等が適しており、一般に安価な材料を用
いることが出来る。このような記録材料は１例えばＭ、
Ｌ、 Ｌｅマ・ｎ・ らの著による” Ｅｌｅｃｔｒｏ
ｎ 、 Ｉｏｎ ａｎｄ Ｌａｔｅｒ Ｂｅａａ＋ Ｔ
ｅｃｈｎｏｌｏｇｙ“第１１回シンボジウ五の記録（１
９６９年）。
Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ誌（１９６８年６月１８日）第
５０頁、Ｄ 、 Ｍａｙｄａｎ１１＠Ｔｈｅ Ｂｅ１ｌ
５ｙｓｔａ ＴｅｃｈｎｉｃａｌＪｏｕｒｎａｌ−誌
第５０巻（１９７１年）第１７６１頁、 Ｏ、Ｏ、Ｃａ
ｒｌｓｏｎｌ ＠５ｃｉｅｎｃｅ ”誌第１５４巻（１
９６６年）第１５５０頁等に記載されている。
５０頁、Ｄ 、 Ｍａｙｄａｎ１１＠Ｔｈｅ Ｂｅ１ｌ
５ｙｓｔａ ＴｅｃｈｎｉｃａｌＪｏｕｒｎａｌ−誌
第５０巻（１９７１年）第１７６１頁、 Ｏ、Ｏ、Ｃａ
ｒｌｓｏｎｌ ＠５ｃｉｅｎｃｅ ”誌第１５４巻（１
９６６年）第１５５０頁等に記載されている。
それらのうち記録層に金属を用いたものとしてはたとえ
ば支持体上１ｃＢｓ、 Ｓｓ、 Ｉｓ、等の金属薄膜
を用いたものがあり、それらは高第會力の画像が記録出
来ること、高コントラストであること等のため熱的記録
材料として優れた性質を有している。
ば支持体上１ｃＢｓ、 Ｓｓ、 Ｉｓ、等の金属薄膜
を用いたものがあり、それらは高第會力の画像が記録出
来ること、高コントラストであること等のため熱的記録
材料として優れた性質を有している。
しかしながら一般に金属薄膜を用いた記録材料では、記
ｉ＆に用いるレーザ光に対する光反射率が５０憾以上の
ものが多く、レーザ光のエネルギーを有効に利用するこ
とが出来ないため記録に愛する光エネルギーが大きく、
従って高速走査で記録するｋは大出力のレーザ光源が必
髪となり、そのため記録装置が大型且つ高価なものにな
るという欠点を有している。そこで記録感度の高い記録
゛材料がいくつか探究されている。たとえば特公昭４６
−４０４７９号公報Ｉｃｅｓ、 Ｂｊ、 Ｇ−から成る
６層構成の記蟲材料が記載されている。ここでＧ−の層
はＢｊの層の照射光に対する反射率を低下させるもので
あり、 Ｓｍ層は蒸発し易い層であり。
ｉ＆に用いるレーザ光に対する光反射率が５０憾以上の
ものが多く、レーザ光のエネルギーを有効に利用するこ
とが出来ないため記録に愛する光エネルギーが大きく、
従って高速走査で記録するｋは大出力のレーザ光源が必
髪となり、そのため記録装置が大型且つ高価なものにな
るという欠点を有している。そこで記録感度の高い記録
゛材料がいくつか探究されている。たとえば特公昭４６
−４０４７９号公報Ｉｃｅｓ、 Ｂｊ、 Ｇ−から成る
６層構成の記蟲材料が記載されている。ここでＧ−の層
はＢｊの層の照射光に対する反射率を低下させるもので
あり、 Ｓｍ層は蒸発し易い層であり。
いずれもＢｊ単層の場合よりも少ないエネルギーによっ
て主なる記録層であるＢｉ層の熱的な変形を促進させる
。さらに反射減少ないし反射防止をするための層は１！
！！開昭５０−１５１１５１号公報や特公昭５１−１４
２６２号公報にも記載されている。
て主なる記録層であるＢｉ層の熱的な変形を促進させる
。さらに反射減少ないし反射防止をするための層は１！
！！開昭５０−１５１１５１号公報や特公昭５１−１４
２６２号公報にも記載されている。
また記録層とその支持体との間の熱伝導を減少させる層
を設けたものは特開昭５０−１２６２５７号公報や特開
昭５ｌ−ＩＳＯ２，６号公報に記載されている。また特
開昭５１−７８２３６号公報および特開昭５２−２０８
２１号公報には金属硫化物、金属ぶつ化物あるいは金属
酸化物を金属と重層あるいは混合した記録層が記載され
ている。また本出願の発明者６一部を含む発明者らの発
明による特開昭５４−５７４２号公報には、無機物質と
有機物質とを混合した記録層が記載されている。
を設けたものは特開昭５０−１２６２５７号公報や特開
昭５ｌ−ＩＳＯ２，６号公報に記載されている。また特
開昭５１−７８２３６号公報および特開昭５２−２０８
２１号公報には金属硫化物、金属ぶつ化物あるいは金属
酸化物を金属と重層あるいは混合した記録層が記載され
ている。また本出願の発明者６一部を含む発明者らの発
明による特開昭５４−５７４２号公報には、無機物質と
有機物質とを混合した記録層が記載されている。
本発明者はさらに鋭意研究を重ねた結果”上述の各記録
材料より同等以上の高感度の新しい記録材料を見出し１
本発明に結びついたものである。
材料より同等以上の高感度の新しい記録材料を見出し１
本発明に結びついたものである。
本発明の目的は高感度の熱的記録材料を提供することで
ある。また本発明の他の目的は記録画質のすぐれた高感
度の熱的記録材料を提供することである。また本発明の
別の目的は公害発生の危険のない高感度の記録材料を提
供することである。
ある。また本発明の他の目的は記録画質のすぐれた高感
度の熱的記録材料を提供することである。また本発明の
別の目的は公害発生の危険のない高感度の記録材料を提
供することである。
さらに本発明の他の目的は安価でしかも製造管理の容易
な高感度の記録材料を提供すｂことである。
な高感度の記録材料を提供すｂことである。
本発明は・支持体上に酸素の分圧下で金属、半金属又は
半導体をイオンプレーテインダするととｋより設けられ
た記録層を有することを特徴とするヒートモード記録材
料である。酸素の分圧下で金属等をイオンプレーテイン
ダするととにより感度が上昇する理由は現在のところ不
明確である。しかしながらその理由を推察するに、イオ
ンプレーテインダにより金属環が一部酸化するため帰ら
れた薄膜の光反射率が低下すること、また得られた薄膜
の熱伝導性等の熱的性質が変化していることが考えられ
る。
半導体をイオンプレーテインダするととｋより設けられ
た記録層を有することを特徴とするヒートモード記録材
料である。酸素の分圧下で金属等をイオンプレーテイン
ダするととにより感度が上昇する理由は現在のところ不
明確である。しかしながらその理由を推察するに、イオ
ンプレーテインダにより金属環が一部酸化するため帰ら
れた薄膜の光反射率が低下すること、また得られた薄膜
の熱伝導性等の熱的性質が変化していることが考えられ
る。
以下１本発明の詳細な説明する。′
本発明に用いられる支持体としては、ポリエチレンテレ
フタレート％ポリカーボネート、アクリル樹脂等のプラ
スチックフィルム、ガラス板１紙。
フタレート％ポリカーボネート、アクリル樹脂等のプラ
スチックフィルム、ガラス板１紙。
板状又は箔状の金属等の一般の記録材料の支持体が用い
られる。
られる。
本発明に用いられる金属としては、例えば。
Ｍｇ、 Ｓｃ、 Ｙ、 Ｔｉ、 Ｚｒ、 Ｈ７，Ｖ、
Ｎｈ、 Ｔｇ。
Ｎｈ、 Ｔｇ。
Ｏｒ、’Ｍｏ、 Ｗ、 Ｍｓ、 Ｒａ、 Ｆａ、 Ｇｏ
、 Ｎｉ、 Ｒｍ。
、 Ｎｉ、 Ｒｍ。
ＲＡ、 Ｐｇ、 Ｉｒ、 Ｐｔ、 Ｃｍ、 Ａｙ、
Ａｓ、 Ｚｓ、 Ｃｄ。
Ａｓ、 Ｚｓ、 Ｃｄ。
ｋ６． Ｃｒａ、 Ｉｓ、 ＴＪ、 ＰＩ！、
ＰＯ，Ｓｓ、 Ｓｍ、 Ｔｇ等があり、半金属
としては、 Ｂｉ、 Ａｓ、 Ｅ３ｈ等。
ＰＯ，Ｓｓ、 Ｓｍ、 Ｔｇ等があり、半金属
としては、 Ｂｉ、 Ａｓ、 Ｅ３ｈ等。
半導体としてはＧ＃、 Ｓｉ等がある。これらは単独で
用いても二つ以上の合金又は組み合せとして用いてもよ
い。本発明に用いられるこれらの物質として特に望まし
い条件は、毒性が少ないこと、融解又は蒸発ＫＩＬする
エネルギーが小さいこと、保存時の光学淡度の低下尋の
経時劣化が少ないこと。
用いても二つ以上の合金又は組み合せとして用いてもよ
い。本発明に用いられるこれらの物質として特に望まし
い条件は、毒性が少ないこと、融解又は蒸発ＫＩＬする
エネルギーが小さいこと、保存時の光学淡度の低下尋の
経時劣化が少ないこと。
膜の製造が容易であること等である。以下、上記の金属
、半金属、半導体を金属等と称する。膜の製造が容易で
あること等である。本発明を最も有効に実権しうる金属
等としては２％、工％、Ｓル。
、半金属、半導体を金属等と称する。膜の製造が容易で
あること等である。本発明を最も有効に実権しうる金属
等としては２％、工％、Ｓル。
Ｃｚａ、 局、Ｃ藁、Ｇａが好ましい。
更に合金の場合はＮｇ、 Ｋ、 Ｇａを含むものであっ
てもよい。
てもよい。
二種以上の金属等から成る層を形成する方法としては１
合金を真空蒸着してもよいし、゛また二種以上の金属等
を別々の蒸発源を用いて同時或いは別にに蒸着してもよ
い。二種以上の金属等を積層する場会七の少なくとも一
層は酸素の分圧下でイオンプレーティンダにより層を形
成する必要がある。
合金を真空蒸着してもよいし、゛また二種以上の金属等
を別々の蒸発源を用いて同時或いは別にに蒸着してもよ
い。二種以上の金属等を積層する場会七の少なくとも一
層は酸素の分圧下でイオンプレーティンダにより層を形
成する必要がある。
金属屑の膜厚は１画僚として必要な光学濃度を与える厚
さであればよく１例えば透過濃度２を帰るためｋは６０
０Ａ〜１５００Ａの金眞醇の層を必要とするが、用いる
金属等の種類によっで異なるのは轟然である。
さであればよく１例えば透過濃度２を帰るためｋは６０
０Ａ〜１５００Ａの金眞醇の層を必要とするが、用いる
金属等の種類によっで異なるのは轟然である。
また真空蒸着、スパッタリング、イオンゾレーテインメ
、ＧＶＤ等の方法で支持体上に金属等の層を形成する場
合、支持体の種類、温度、真空度。
、ＧＶＤ等の方法で支持体上に金属等の層を形成する場
合、支持体の種類、温度、真空度。
蒸着速度等によって金属等の層の層構造が変化するため
所望の光学濃度を帰るために必要な一層も当然異なるこ
とは明らかである。
所望の光学濃度を帰るために必要な一層も当然異なるこ
とは明らかである。
本発明における酸素ガス等の適正な分圧は、薄膜形成材
料の種類に依存するため一般的な範囲を決めることは困
難であるが、一般には圧力範囲は１０””〜１０−’
Ｔｏｒｒ、 好ましくは、 １０−” 〜１０−’Ｔ
ｏｒｒである。
料の種類に依存するため一般的な範囲を決めることは困
難であるが、一般には圧力範囲は１０””〜１０−’
Ｔｏｒｒ、 好ましくは、 １０−” 〜１０−’Ｔ
ｏｒｒである。
本発明の高感度記録材料においては、支持体上に設けら
れた前記記録層上に無機物質又は有機物質からなる反射
防止層及び／又は保護層を設けてもよい。
れた前記記録層上に無機物質又は有機物質からなる反射
防止層及び／又は保護層を設けてもよい。
記録層上に反射層及び／又は保護層を設けることは、記
録材料としての感度、耐久性１機械的強度、経時安定性
の改善等に有効であって、本発明としては好ましい態様
であることは勿論である。
録材料としての感度、耐久性１機械的強度、経時安定性
の改善等に有効であって、本発明としては好ましい態様
であることは勿論である。
保護層としては無機物質又は有機物質のいずれでもよい
が、使用する高岑ネルギー密度の光ビームに対し℃透過
性であること１機械的強度が大であること、記録層と反
応しにくいこと、被膜性の良いこと、製造が容易なこと
等が安来される。
が、使用する高岑ネルギー密度の光ビームに対し℃透過
性であること１機械的強度が大であること、記録層と反
応しにくいこと、被膜性の良いこと、製造が容易なこと
等が安来される。
本発ｇＡ＃ｃ用いられる反射防止層及び／又は保護層と
しＣは、無機物質又は有機物質のいづれでもよいが１例
えば無機の反射防止層としくはＳｗＳ。
しＣは、無機物質又は有機物質のいづれでもよいが１例
えば無機の反射防止層としくはＳｗＳ。
ＧｖＳ、 Ｓｓ、 Ｚｓ８．５ＡＩＳＢ、ｌ５２Ｓ３．
ＰｈＸ２゜ＧｓＸ、 ＡｙＸ、 ＫＸ、 ＧａＸｚ、
５ｓＸ２． ＦａＸ３ （コれらのＸはハロゲン元素
を表わす）等が用いられ、一方無機の保護層としてｔ！
／ｕｚＯｓ−ｓ＝ｏ、、 ＳｉＯ。
ＰｈＸ２゜ＧｓＸ、 ＡｙＸ、 ＫＸ、 ＧａＸｚ、
５ｓＸ２． ＦａＸ３ （コれらのＸはハロゲン元素
を表わす）等が用いられ、一方無機の保護層としてｔ！
／ｕｚＯｓ−ｓ＝ｏ、、 ＳｉＯ。
ＭｙＯ，ＺｓＯ，Ｔｉ０１． ＺｒＯ２，ＭｙＦｌ、
０ｗＦ２等の透明な物質が菫ましい。これらは真空蒸着
、スパッタリンＩ、イオ°ンプレーテインダで形成され
る。
０ｗＦ２等の透明な物質が菫ましい。これらは真空蒸着
、スパッタリンＩ、イオ°ンプレーテインダで形成され
る。
また有機物質を保護層として用いることは優れた方法で
ある。かかる保護層として用（１られる樹脂は種々のも
のが可能であるが例えば＄ ＋）スチレン、スチレン−
無水賃しイン酸樹脂のごときスチレン系樹脂、ポリ酢酸
ビニル、ポリビニルアルコール、フチ２−ル、ポリビニ
ルホルマールの如き酢酸ビニル系樹脂、メリメタクリル
酸インゾチル。
ある。かかる保護層として用（１られる樹脂は種々のも
のが可能であるが例えば＄ ＋）スチレン、スチレン−
無水賃しイン酸樹脂のごときスチレン系樹脂、ポリ酢酸
ビニル、ポリビニルアルコール、フチ２−ル、ポリビニ
ルホルマールの如き酢酸ビニル系樹脂、メリメタクリル
酸インゾチル。
Ｉリメタクリ希酸メチルのごときメタクリル酸エネテル
系樹脂、ポリダイア七トンアクリルアミド。
系樹脂、ポリダイア七トンアクリルアミド。
ポリアクリルアミドのごときアミド系樹脂、エチルセル
ｉ−ス、酢酸うク酸セルー−ス、硝酸セルロース、ジア
セチルセル四−スのごときセルロース系樹脂、ポリ塩化
ビニル、塩素化ポリエチレンのごときポリハロゲン化オ
レフィン、フェノール樹脂、可溶性ポリエステル、可溶
性ナイロン、ゼラチン等及びこれらの共重合物等から選
ばれる。
ｉ−ス、酢酸うク酸セルー−ス、硝酸セルロース、ジア
セチルセル四−スのごときセルロース系樹脂、ポリ塩化
ビニル、塩素化ポリエチレンのごときポリハロゲン化オ
レフィン、フェノール樹脂、可溶性ポリエステル、可溶
性ナイロン、ゼラチン等及びこれらの共重合物等から選
ばれる。
これらの樹脂は種々の溶剤に溶かして既知の塗布方法に
より塗布することが出来る。
より塗布することが出来る。
用いられる溶剤としては各種の溶剤があるが。
例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソジチ
ルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルゾ、ゾチ
ルセロツルゾ、メチルセロソルブアセテート、エチルセ
四ソルゾアセテート、メチルセ藁ノルプアセテート、ヘ
キサン、ククμヘキす／、エチクロ、メチｐ口、ベンゼ
ン、クロルばンイン、メタノール、エタノール、ゾクノ
ール１石油エーテル％ジメチルホルムアミｒ、シンナー
等の中から、使用する樹脂に応じて選べば良い。
ルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルゾ、ゾチ
ルセロツルゾ、メチルセロソルブアセテート、エチルセ
四ソルゾアセテート、メチルセ藁ノルプアセテート、ヘ
キサン、ククμヘキす／、エチクロ、メチｐ口、ベンゼ
ン、クロルばンイン、メタノール、エタノール、ゾクノ
ール１石油エーテル％ジメチルホルムアミｒ、シンナー
等の中から、使用する樹脂に応じて選べば良い。
これらの樹脂の中には、顔料、マット化剤、可塑剤、滑
剤なとの各種添加物を目的に応じ【添加することが可能
であり、特に炭素原子数が１１以上の高級脂肪酸、或い
は酸アミドを０．１〜１０ｖｒｔ％程度添加することは
記録材料の膜面強度を向上させる点で効果がある。
剤なとの各種添加物を目的に応じ【添加することが可能
であり、特に炭素原子数が１１以上の高級脂肪酸、或い
は酸アミドを０．１〜１０ｖｒｔ％程度添加することは
記録材料の膜面強度を向上させる点で効果がある。
またこれらの高級脂肪酸或いは酸アミ）ｅのごとき滑剤
は保護層上に通常の方法で０．００１〜１μの厚さに塗
布することも可能である。本発明に用いられる保護層の
膜厚は記録材料として要望される膜面強度、経時安定性
、記録感度等から最適の厚さに選ばれるが、特にα０１
μ〜２００μの膜厚が好ましい。
は保護層上に通常の方法で０．００１〜１μの厚さに塗
布することも可能である。本発明に用いられる保護層の
膜厚は記録材料として要望される膜面強度、経時安定性
、記録感度等から最適の厚さに選ばれるが、特にα０１
μ〜２００μの膜厚が好ましい。
保護層の別な形態とし℃記録層と保饅層間に空気ギャッ
プを設ける形に保護層を形成する事も可能である。
プを設ける形に保護層を形成する事も可能である。
本発明の記録材料の用途とし【は印刷用リスフィルムの
代用、ファクシミリ用記録材料、光学ディスク、ＩＣ用
フォトマスク、マイクロフィルム用記録材料など多（の
方面に用いる事ができる。
代用、ファクシミリ用記録材料、光学ディスク、ＩＣ用
フォトマスク、マイクロフィルム用記録材料など多（の
方面に用いる事ができる。
以下実権例により本発明をさらに詳しく説明する。
実線例１
高周波イオンプレーティンダ装置内ｔｉｏ−’〜１０−
’ Ｔｏｒｒの真空度まで排気し、その後、酸−ガスを
該装置内に導入し、装置内の真空度を２ｔ１０−’Ｔｏ
ｒｒ程度に設定した。このよう＃ｃシた後、高同波電源
を高周波電力２００Ｗで動作させ、 Ｓｍを加熱蒸発さ
せることｋより、厚さ１００μのポリエチレンテレフタ
レートフィルム上に、 厚１Ｌ６０ＯＡの記録層を形成
した。この時この膜の白色光に対する光学濃度は五〇で
あった。次にアルノンイオンレーザの波長５１４５Ａの
ビームをレンズで約゛２５μのビーム径に集光させ、１
９罵／。。の走査速度で走査させて記録を行なった。該
記録層に照射するレーザパ→−を変化させて照射した。
’ Ｔｏｒｒの真空度まで排気し、その後、酸−ガスを
該装置内に導入し、装置内の真空度を２ｔ１０−’Ｔｏ
ｒｒ程度に設定した。このよう＃ｃシた後、高同波電源
を高周波電力２００Ｗで動作させ、 Ｓｍを加熱蒸発さ
せることｋより、厚さ１００μのポリエチレンテレフタ
レートフィルム上に、 厚１Ｌ６０ＯＡの記録層を形成
した。この時この膜の白色光に対する光学濃度は五〇で
あった。次にアルノンイオンレーザの波長５１４５Ａの
ビームをレンズで約゛２５μのビーム径に集光させ、１
９罵／。。の走査速度で走査させて記録を行なった。該
記録層に照射するレーザパ→−を変化させて照射した。
この様にして５００ ｍＷのレーザパワーを照射した時
１幅１０μθ記鍮線が記録できた。これに対し、真空蒸
着によりポリエチレンテレフタレート上に形成された厚
さ６００ＡｔＩ）Ｓｓの膜を同様に記録するｋは４００
ｍＷのレーザパワーが必ｔであり、感度が上昇してい
ることが、確認された。
１幅１０μθ記鍮線が記録できた。これに対し、真空蒸
着によりポリエチレンテレフタレート上に形成された厚
さ６００ＡｔＩ）Ｓｓの膜を同様に記録するｋは４００
ｍＷのレーザパワーが必ｔであり、感度が上昇してい
ることが、確認された。
Claims (2)
- （１）支持体上に酸素の分圧下で金属、半金属又は半導
体をイオンプレーテインダを行なうととｋより設けられ
た記録層を有することを特徴とするヒートそ一ド記銀材
料。 - （２）酸素の分圧が１０−３〜１０””Ｔｏｒｒである
特許請求の範囲第（１）項に記載のヒートモード記録材
料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56105309A JPS587394A (ja) | 1981-07-06 | 1981-07-06 | ヒ−トモ−ド記録材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56105309A JPS587394A (ja) | 1981-07-06 | 1981-07-06 | ヒ−トモ−ド記録材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS587394A true JPS587394A (ja) | 1983-01-17 |
Family
ID=14404097
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56105309A Pending JPS587394A (ja) | 1981-07-06 | 1981-07-06 | ヒ−トモ−ド記録材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS587394A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60152381A (ja) * | 1984-01-21 | 1985-08-10 | Yoshitaka Aoyama | 接合板金部品に孔明き部品を溶接する方法 |
| JPS60201543A (ja) * | 1984-03-26 | 1985-10-12 | Res Dev Corp Of Japan | カルコゲナイド系低酸化物による光記録媒体の製造法 |
| JPS61142548A (ja) * | 1984-12-13 | 1986-06-30 | Kuraray Co Ltd | カルコゲナイド系低酸化物による光記録媒体の製造法 |
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