JPS5872141A - 感光性組成物 - Google Patents
感光性組成物Info
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- JPS5872141A JPS5872141A JP57173114A JP17311482A JPS5872141A JP S5872141 A JPS5872141 A JP S5872141A JP 57173114 A JP57173114 A JP 57173114A JP 17311482 A JP17311482 A JP 17311482A JP S5872141 A JPS5872141 A JP S5872141A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive
- resin
- photosensitive composition
- lithographic
- plate
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、特にリトグラフ感光板
（ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｉｃ ｐｌａｔｅ）の製造用の
、新規な感光性組成物に関する。
、新規な感光性組成物に関する。
この目的に現在使用されている感光性材料は一般に、ψ
量体および光増感剤を含む感光性系用の結合剤として働
（固体樹脂を含有する。これらは各種の官能性基を有す
るエポキシ樹脂を包含できる。感光性層の結合剤を構成
するこれらの樹脂は、感光板を用いる時点で固体状態に
ある。適当な単量体および光増感剤の存在下に交差結合
させると、感光性層は光源によりおよび複製されるべき
像を一担持するネガの干渉により、光源と感光性層との
間の活性線の通路で選択的に露光された点が不溶性にな
る。未露光コーティングの表面は可溶性のまま残り、適
当な溶媒で洗浄することにより除去され、親水性表面が
現われ、他方、残存するコーティング層は疎水性である
。かくして、良く知られた方法に従い、像を複製できる
。これらの樹脂の交差結合には１分より長い時間の活性
線照射が一般に必要である。これは接触によってだけ露
光が可能であって、鉄綱による露光の可能性を除外する
強力灯を備えた特別の装置を必要とする。
量体および光増感剤を含む感光性系用の結合剤として働
（固体樹脂を含有する。これらは各種の官能性基を有す
るエポキシ樹脂を包含できる。感光性層の結合剤を構成
するこれらの樹脂は、感光板を用いる時点で固体状態に
ある。適当な単量体および光増感剤の存在下に交差結合
させると、感光性層は光源によりおよび複製されるべき
像を一担持するネガの干渉により、光源と感光性層との
間の活性線の通路で選択的に露光された点が不溶性にな
る。未露光コーティングの表面は可溶性のまま残り、適
当な溶媒で洗浄することにより除去され、親水性表面が
現われ、他方、残存するコーティング層は疎水性である
。かくして、良く知られた方法に従い、像を複製できる
。これらの樹脂の交差結合には１分より長い時間の活性
線照射が一般に必要である。これは接触によってだけ露
光が可能であって、鉄綱による露光の可能性を除外する
強力灯を備えた特別の装置を必要とする。
■ホキシアクリレートを基材とする組成物はヨーロッパ
特許出願第０．０３０，２１３号に記載されている；こ
の特許では必要な露光時間が短縮されているが、まだ非
常に強力なランプを用いて、少なくとも２５秒の露光が
必要である。
特許出願第０．０３０，２１３号に記載されている；こ
の特許では必要な露光時間が短縮されているが、まだ非
常に強力なランプを用いて、少なくとも２５秒の露光が
必要である。
ここに、非常に短時間の露光を必要とするにすぎない感
光性組成物が見い出された。
光性組成物が見い出された。
従って、本発明は、先ず第１に、液状または粘性エポキ
シアクリレート樹脂と、多価アルコールまたは多ヒドロ
キシル性オリゴマーのアクリレートまたはメタアクリレ
ートを含む群から選ばれる＊吊体と、少なくとも１種の
光増感剤とより成る、特にリトグラフ感光板の製造用の
、感光性組成物に関り−る。
シアクリレート樹脂と、多価アルコールまたは多ヒドロ
キシル性オリゴマーのアクリレートまたはメタアクリレ
ートを含む群から選ばれる＊吊体と、少なくとも１種の
光増感剤とより成る、特にリトグラフ感光板の製造用の
、感光性組成物に関り−る。
本発明で使用できるエポキシアクリレート樹脂は液状ま
たは粘性である：すなわち、これらは一般に６０℃で４
０〜８０ボイズの粘瓜を有する。
たは粘性である：すなわち、これらは一般に６０℃で４
０〜８０ボイズの粘瓜を有する。
これらの分子量は一般に４００〜１，０００．１利には
８００以下、好ましくは４００〜６００である；これら
は２個の末端オレフィン結合を有し、および一般にビス
フェノールＡおよびＦを含有する。最終樹脂１モル当り
少な（とも２個のエポキシド樹脂がその製造中に使用さ
れるが、そのほとんど全部はそのままであって、エステ
ル化される。
８００以下、好ましくは４００〜６００である；これら
は２個の末端オレフィン結合を有し、および一般にビス
フェノールＡおよびＦを含有する。最終樹脂１モル当り
少な（とも２個のエポキシド樹脂がその製造中に使用さ
れるが、そのほとんど全部はそのままであって、エステ
ル化される。
コｔＬ ラ（１）樹脂の中で、５ｈｅｌｌ Ｃｈｅａ
＋１ｃａｌ Ｃｏｒｐによりｒ Ｆ、 ｐｏｃｒｙ１３
７０ Ｊ （エボクリル３７０）の商品名で販売されて
いる製品またはＬＪ ｎｉｏｎＣｈｉｍｉｑｕｅ Ｂｅ
１ｏｅによりｒＥｂｅｃｒｙ１６００Ｊ （Ｉベクリ
ル６００）の商品名で販売されている製品を挙げること
ができる。
＋１ｃａｌ Ｃｏｒｐによりｒ Ｆ、 ｐｏｃｒｙ１３
７０ Ｊ （エボクリル３７０）の商品名で販売されて
いる製品またはＬＪ ｎｉｏｎＣｈｉｍｉｑｕｅ Ｂｅ
１ｏｅによりｒＥｂｅｃｒｙ１６００Ｊ （Ｉベクリ
ル６００）の商品名で販売されている製品を挙げること
ができる。
組成物の第２の構成成分はポリオールのアクリレートま
たはメタアクリレートを含む群から選ばれる！ｌ置体で
ある；これらは１分子当り２〜４個、より好ましくは少
なくとも３個のアクリル性基を含有すると好ましい。特
に、ペンタエリスリトール トリアクリレートおよびト
リメタアクリレート、ビス−ペンタエリスリトール ア
クリレート、ジエチレングリコール ジメタアクリレー
ト、ブタン−１，４−ジオール ジアクリルレート、ネ
オペンチルグリコール ジアクリレート、トリプロピレ
ン グリコール ジアクリレート、テトラエチレン グ
リコール ジアクリレート、トリメチロールプロパン
トリアクリレート並びにヒドロキシル系オリゴマーのト
リアクリレートを挙げることができる。これらの化合物
は室温で液状である。 本発明の組成物に使用できる光
増感剤は樹脂と単量体との混合物と混和性であり、３２
０ｎ■より大きい波長を有する照射線の作用下に上記ｌ
１１ｍ体の遊離基重合を開始させうる化合物である。
たはメタアクリレートを含む群から選ばれる！ｌ置体で
ある；これらは１分子当り２〜４個、より好ましくは少
なくとも３個のアクリル性基を含有すると好ましい。特
に、ペンタエリスリトール トリアクリレートおよびト
リメタアクリレート、ビス−ペンタエリスリトール ア
クリレート、ジエチレングリコール ジメタアクリレー
ト、ブタン−１，４−ジオール ジアクリルレート、ネ
オペンチルグリコール ジアクリレート、トリプロピレ
ン グリコール ジアクリレート、テトラエチレン グ
リコール ジアクリレート、トリメチロールプロパン
トリアクリレート並びにヒドロキシル系オリゴマーのト
リアクリレートを挙げることができる。これらの化合物
は室温で液状である。 本発明の組成物に使用できる光
増感剤は樹脂と単量体との混合物と混和性であり、３２
０ｎ■より大きい波長を有する照射線の作用下に上記ｌ
１１ｍ体の遊離基重合を開始させうる化合物である。
これらの化合物はリトグラフ感光板製造に係る当業者に
よく知られている。特に、Ｃ１ｂａ −Ｇ ｅ：ＱＶに
より［ｌｒｇａｃｕｒｅ ６５１Ｊ （イルガキュア
６５１）の商品名で販売されているベンジルジメチルア
セタール、ベンゾインおよびそのメチル、■プル、イソ
プロパルまたはブチルエーテル、並びにミツシュラ−の
ケトンを挙げることができる。
よく知られている。特に、Ｃ１ｂａ −Ｇ ｅ：ＱＶに
より［ｌｒｇａｃｕｒｅ ６５１Ｊ （イルガキュア
６５１）の商品名で販売されているベンジルジメチルア
セタール、ベンゾインおよびそのメチル、■プル、イソ
プロパルまたはブチルエーテル、並びにミツシュラ−の
ケトンを挙げることができる。
組成物中の各群の化合物の２種またはそれ以上を組成物
中に導入できる。特に・光増感剤に関して、たとえば１
方がイルガキュアＧ５１であり、他方がミツシュラ−の
ケトンまたはベンゾインエチルエーテルである混合物が
組成物中に存在すると、照射線に対する感光性範囲が広
くなる。
中に導入できる。特に・光増感剤に関して、たとえば１
方がイルガキュアＧ５１であり、他方がミツシュラ−の
ケトンまたはベンゾインエチルエーテルである混合物が
組成物中に存在すると、照射線に対する感光性範囲が広
くなる。
本発明の組成物で使用できる化合物の第４番目の群の成
分は熱重合抑制剤、すなわち適用された熱の作用下に生
起する遊離基重合を防止するが、光重合を阻害しない物
質よりなる。これらの化合物はまた当業者によく知られ
ている；フェノール類およびポリフェノール類並びにフ
ェノールまたはポリフェノールのエーテル類またはエス
テル類、たとえばハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノ
ールおよびｔ−またはｎ−ブチル−バラ−クレゾールの
メチル、エチル、イソプロピルおよびブチルエーテルを
挙げることができる。
分は熱重合抑制剤、すなわち適用された熱の作用下に生
起する遊離基重合を防止するが、光重合を阻害しない物
質よりなる。これらの化合物はまた当業者によく知られ
ている；フェノール類およびポリフェノール類並びにフ
ェノールまたはポリフェノールのエーテル類またはエス
テル類、たとえばハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノ
ールおよびｔ−またはｎ−ブチル−バラ−クレゾールの
メチル、エチル、イソプロピルおよびブチルエーテルを
挙げることができる。
着色剤および各種のその他の添加剤もまた本組成物中に
存在できる。
存在できる。
液状または中程度の粘性状態の、またはそれらが少割合
で存在する場合に懸濁状態の化合物は相互に容易に混合
して、均質な組成物を形成できる。
で存在する場合に懸濁状態の化合物は相互に容易に混合
して、均質な組成物を形成できる。
これらの成分は次の割合または比率で使用し、従ってこ
れらの割合または比率で組成物中に存在する。樹脂対単
量体の重量比は５／１〜２／１であり、そして液状樹脂
に対する増感剤の重量割合は１５〜３５％である。樹脂
に対する抑制剤の重量比は０．５〜１．５％である。
れらの割合または比率で組成物中に存在する。樹脂対単
量体の重量比は５／１〜２／１であり、そして液状樹脂
に対する増感剤の重量割合は１５〜３５％である。樹脂
に対する抑制剤の重量比は０．５〜１．５％である。
しかしながら、樹脂／Ｉｉ１体比についての上記限界外
で反応を行なっても成る成果をうろことができる。しか
し、この場合は、種々の問題が生じる。この比率が低す
ぎると、層が粘着性でありすぎ、従って取り扱いが困難
になる；貯蔵および包装が困難である。この比率が高す
ぎると、層の感光性が低くなり、その実用上の価値が減
少する。
で反応を行なっても成る成果をうろことができる。しか
し、この場合は、種々の問題が生じる。この比率が低す
ぎると、層が粘着性でありすぎ、従って取り扱いが困難
になる；貯蔵および包装が困難である。この比率が高す
ぎると、層の感光性が低くなり、その実用上の価値が減
少する。
同様に、光増感剤の割合が樹脂に対して１５％より少な
いと、感光板の感光性が減少する。さらにまた、この割
合が３０％を超えても、感光性の増大は（Ｉｌられない
ので、何の利益も得られない。
いと、感光板の感光性が減少する。さらにまた、この割
合が３０％を超えても、感光性の増大は（Ｉｌられない
ので、何の利益も得られない。
本発明はまた、本発明の組成物を含むリトグラフ感光板
に関する。この感光板はその表面の１方の上が被覆され
ている一般ら金属から作られた支持体を包含する。金属
は場合により陽極酸化されたアルミニウムまたは銅処理
され、次いでクロム処理されたスチールであることがで
きる。機械的、化学的または電気化学的研摩のよく知ら
れた技法を板に適用して、そこに小さいレリーフ（ザラ
ザラした外観）を与えることができる。この板を先ず、
好ましくは特にゾルの形のケイ酸ナトリウム（これはア
ルミニウムの場合にフルオシリケードであることができ
る）またはシリカで被覆する。
に関する。この感光板はその表面の１方の上が被覆され
ている一般ら金属から作られた支持体を包含する。金属
は場合により陽極酸化されたアルミニウムまたは銅処理
され、次いでクロム処理されたスチールであることがで
きる。機械的、化学的または電気化学的研摩のよく知ら
れた技法を板に適用して、そこに小さいレリーフ（ザラ
ザラした外観）を与えることができる。この板を先ず、
好ましくは特にゾルの形のケイ酸ナトリウム（これはア
ルミニウムの場合にフルオシリケードであることができ
る）またはシリカで被覆する。
次いで、ポリアクリルアミドのような水溶性重合体の層
を適用すると好ましい。
を適用すると好ましい。
この方法で予備処理した支持体を次いで、本発明の組成
物で、０．５〜２μ蒙の厚さに、すなわちＩｏｌ■２の
程度の重量で被覆する。こうするためには、組成物を組
成物中の成分と反応しない比較的揮発性の（沸点く１５
０℃）、極性溶媒で稀釈する。列挙できる溶媒にはメチ
ル−、エチル−、プロピル−またはブチル−セロソルブ
、アセトン、メチル エチル ケトンまたはメチル イ
ソプロピル ケトン、エタノール、イソプロパツル、ｎ
−ブタノール、ジオキサンおよびジメチルホルムアミド
がある。この被覆は良く知られた技法、たとえば回転（
ｗｈｉｒｌｅｒ ）またはいわゆる「カーテン」 （流
し塗）技法により適用する。この場合に組成物の溶媒稀
釈度は２〜５重量％程度である。またはいわゆる「浸漬
」技法により適用する。この場合の稀釈度はより低くて
もよく、すなわち２５〜３０％程度でありうる。
物で、０．５〜２μ蒙の厚さに、すなわちＩｏｌ■２の
程度の重量で被覆する。こうするためには、組成物を組
成物中の成分と反応しない比較的揮発性の（沸点く１５
０℃）、極性溶媒で稀釈する。列挙できる溶媒にはメチ
ル−、エチル−、プロピル−またはブチル−セロソルブ
、アセトン、メチル エチル ケトンまたはメチル イ
ソプロピル ケトン、エタノール、イソプロパツル、ｎ
−ブタノール、ジオキサンおよびジメチルホルムアミド
がある。この被覆は良く知られた技法、たとえば回転（
ｗｈｉｒｌｅｒ ）またはいわゆる「カーテン」 （流
し塗）技法により適用する。この場合に組成物の溶媒稀
釈度は２〜５重量％程度である。またはいわゆる「浸漬
」技法により適用する。この場合の稀釈度はより低くて
もよく、すなわち２５〜３０％程度でありうる。
板を次いで中程度の温度（６０〜８０’Ｃ程度）で乾燥
させ、次いで好ましくは酸素に対する障壁を形成する化
合物、たとえばポリビニルアルコールの層で被覆する。
させ、次いで好ましくは酸素に対する障壁を形成する化
合物、たとえばポリビニルアルコールの層で被覆する。
この方法で生成された本発明の感光板は従って、シリカ
またはケイ酸ナトリウムの、またはそれらの基体上にこ
れらの物質を作用させることにより生成された生成物の
薄層を被覆し、そして場合により、ポリアクリルアミド
を被覆し、次いで本発明の組成物を被覆し、次いで好ま
しくは酸素に対する障壁を形成する層を被覆した支持体
を包含する。本発明による感光板の悪路性の観点から、
これらは少なくとも半暗所で、好ましくは不活性黄色光
下で、貯蔵し、取り扱う。
またはケイ酸ナトリウムの、またはそれらの基体上にこ
れらの物質を作用させることにより生成された生成物の
薄層を被覆し、そして場合により、ポリアクリルアミド
を被覆し、次いで本発明の組成物を被覆し、次いで好ま
しくは酸素に対する障壁を形成する層を被覆した支持体
を包含する。本発明による感光板の悪路性の観点から、
これらは少なくとも半暗所で、好ましくは不活性黄色光
下で、貯蔵し、取り扱う。
感光板の露光は慣用のやり方で、好ましくは減圧枠内で
、アーク、または好ましくはハロゲンドープ水銀蒸気灯
を用いて行なう。露光は慣用の装置で数秒続けるだけで
良い。従って、露光は光にさらすか慣用のネガ感光板よ
り数十倍早い速度を要するいずれかその他の手段により
実施できる。
、アーク、または好ましくはハロゲンドープ水銀蒸気灯
を用いて行なう。露光は慣用の装置で数秒続けるだけで
良い。従って、露光は光にさらすか慣用のネガ感光板よ
り数十倍早い速度を要するいずれかその他の手段により
実施できる。
現像は有機溶剤の使用を必要としないが、表面活性化合
物が加えられている稀アルカリ性水性溶液、特にメタケ
イ酸ナトリウムを単に必要とするだけである。従って、
ポジ感光板用の慣用の現像剤がこの板に使用でき、現存
する現像装置で処理できる。
物が加えられている稀アルカリ性水性溶液、特にメタケ
イ酸ナトリウムを単に必要とするだけである。従って、
ポジ感光板用の慣用の現像剤がこの板に使用でき、現存
する現像装置で処理できる。
リトグラフ感光板の製造とは別に、本発明の組成物は文
字、図面または物体の複写に係る種々の技術に、一般、
照射の作用下に表面の被覆物の選択的不溶性化が必要な
技術に使用できる。
字、図面または物体の複写に係る種々の技術に、一般、
照射の作用下に表面の被覆物の選択的不溶性化が必要な
技術に使用できる。
法例は本発明を例示する目的にだけ示すものであり、従
って特許請求の範囲に記載の保護範囲を制限することは
できない。
って特許請求の範囲に記載の保護範囲を制限することは
できない。
例１
感光性溶液を次の組成に従い製造する：ペンタエリスリ
トール トリアクリレート１ｇ［エベクリル６００Ｊ
［ユニオン キミヶ ベルブ（Ｕ、ＣＢ）からのエポキ
シアクリレート樹脂］
３０メチルセロソルブ １５０（
Ｊｎ−ブタノール ２０（Ｊ［イ
ルガキュア ６５１ Ｊ ［Ｃ１ｂａ −ＧｅｉＱＶ
がら］ ０．６０゜ミツシ
ュラ−のケトン ０．３ｇハイドロキノン
七ツメチル エーテル０．０３゜ ５０ ｒｐｎ＋で回転しているホイラー（ｗｈｉｒｌｅ
ｒ ）で用いて、この溶液を軽石で慣用のやり方で表面
をザラザラにしたアルミニウム板上に３０秒間被覆し、
次いで酢酸１０９を加えたナトリウム フルオシリケー
ド７Ｑ／ｌの容篭で３０秒間処理する。
トール トリアクリレート１ｇ［エベクリル６００Ｊ
［ユニオン キミヶ ベルブ（Ｕ、ＣＢ）からのエポキ
シアクリレート樹脂］
３０メチルセロソルブ １５０（
Ｊｎ−ブタノール ２０（Ｊ［イ
ルガキュア ６５１ Ｊ ［Ｃ１ｂａ −ＧｅｉＱＶ
がら］ ０．６０゜ミツシ
ュラ−のケトン ０．３ｇハイドロキノン
七ツメチル エーテル０．０３゜ ５０ ｒｐｎ＋で回転しているホイラー（ｗｈｉｒｌｅ
ｒ ）で用いて、この溶液を軽石で慣用のやり方で表面
をザラザラにしたアルミニウム板上に３０秒間被覆し、
次いで酢酸１０９を加えたナトリウム フルオシリケー
ド７Ｑ／ｌの容篭で３０秒間処理する。
層をボイラー中において４０℃で５分間、次いでオーブ
ン中において８０℃で５分間乾燥させる。
ン中において８０℃で５分間乾燥させる。
沈着した層の重量は１Ｇ／１２である。かくして得られ
た感光板を、据付はネガを通してＮＵＡＲＣ２ＫＷ形の
アーク灯で、６０ｃｌ１１の距離から、５秒間、露光す
る。感光板はメタケイ酸ナトリウムおよび湿潤剤の水性
溶液である現像剤ｒＱＭ８０５Ｊ （Ｒｈδｎｅ −Ｐ
ｏｕＬｅｎｃ ３ ｙｓｔＮｍｅｓにより市販）を
用いて未露光部分を除去することにより現像する。この
作業は非常に迅速である。
た感光板を、据付はネガを通してＮＵＡＲＣ２ＫＷ形の
アーク灯で、６０ｃｌ１１の距離から、５秒間、露光す
る。感光板はメタケイ酸ナトリウムおよび湿潤剤の水性
溶液である現像剤ｒＱＭ８０５Ｊ （Ｒｈδｎｅ −Ｐ
ｏｕＬｅｎｃ ３ ｙｓｔＮｍｅｓにより市販）を
用いて未露光部分を除去することにより現像する。この
作業は非常に迅速である。
スト−７Ｆ −（Ｓｔａｕｆｆｅｒ ） スケールで７
〜８ステツプの範囲にわたる、優れたコビイが得られる
。
〜８ステツプの範囲にわたる、優れたコビイが得られる
。
ネガ感光性層を有する慣用の類似の感光板に要する露光
時間は１００秒間の程度であることに留意されるべきで
ある。
時間は１００秒間の程度であることに留意されるべきで
ある。
比較例Ａ
「エペクリル６００」の代りに、同じ会社からの「エベ
クリル８６０」樹脂（１，２００程度の分子曇を有する
大豆油エポキシアクリレート）を用いて、例１に従い、
感光性溶液を作る。支持体を例１に記載の条件と同じ条
件下に被覆する。
クリル８６０」樹脂（１，２００程度の分子曇を有する
大豆油エポキシアクリレート）を用いて、例１に従い、
感光性溶液を作る。支持体を例１に記載の条件と同じ条
件下に被覆する。
１１′−３Ｖ後に、この板は例１と同じ現像剤で現像で
きないことが判る。 − 比較例８ エポキシ樹脂３．５０ａ３よびトリアクリレート０．５
ａを使用する、すなわちその重量比を７／１にして用い
て例１を繰返す＝５秒間だけの露光後にスト−ファース
ケールの４〜６ステツプの範囲に入り、このスケールの
７〜８ステツプの範囲に入るには２０秒の露光時間を要
する。
きないことが判る。 − 比較例８ エポキシ樹脂３．５０ａ３よびトリアクリレート０．５
ａを使用する、すなわちその重量比を７／１にして用い
て例１を繰返す＝５秒間だけの露光後にスト−ファース
ケールの４〜６ステツプの範囲に入り、このスケールの
７〜８ステツプの範囲に入るには２０秒の露光時間を要
する。
例２
次の溶液を作る：
オリゴトリアクリレート（Ｕ ｎ１ｏｎ Ｃｈｉｍｉ
ｑｕｅ３ｅ１ｇｅからの商品名ｒＯＴＡ ４８０Ｊ
）１０「エベクリル６００」 エポキシアクリレート樹脂 ３ｇメチルセ
ロソルブ １５０ｇｎ−ブタノール
２０゜「イルガキュア６５１Ｊ
０．６゜ミツシュラ−のケトン
０．３ｇハイドロキノン 七ツメチル エーテル
０．０３０ この層を例１に記載の支持体に、同じ条件下に適用する
。ネガを通して５〜６秒間、この板を露光した後に、例
１のとおりに現像する。
ｑｕｅ３ｅ１ｇｅからの商品名ｒＯＴＡ ４８０Ｊ
）１０「エベクリル６００」 エポキシアクリレート樹脂 ３ｇメチルセ
ロソルブ １５０ｇｎ−ブタノール
２０゜「イルガキュア６５１Ｊ
０．６゜ミツシュラ−のケトン
０．３ｇハイドロキノン 七ツメチル エーテル
０．０３０ この層を例１に記載の支持体に、同じ条件下に適用する
。ネガを通して５〜６秒間、この板を露光した後に、例
１のとおりに現像する。
スト−ファースケールで６〜７ステツプの範囲にわたる
優れたコビイが得られる。
優れたコビイが得られる。
例３
次の組成に従い溶液を作る：
ビスーベンタエリスリトールアクリレート１ｇエベクリ
ル ６００ ３０メチルセロソルブ
１５０ｇｎ−ブタノール
２０゜「イルガキュア６５１Ｊ
Ｏ，６゜ミツシュラ−のケトン ０６
３ｇハイドロキノン モノメチル エーテル０．０３０ 方法は例１と同一である。現像後に、スト−ファースケ
ールの５〜６ステツプの範囲にわたる優れた品質の印刷
板で得られる。
ル ６００ ３０メチルセロソルブ
１５０ｇｎ−ブタノール
２０゜「イルガキュア６５１Ｊ
Ｏ，６゜ミツシュラ−のケトン ０６
３ｇハイドロキノン モノメチル エーテル０．０３０ 方法は例１と同一である。現像後に、スト−ファースケ
ールの５〜６ステツプの範囲にわたる優れた品質の印刷
板で得られる。
例４
感光性溶液を次の組成に従い作る：
ペンタエリスリトール トリアクリレートｇ
Ｓｈｅｌｌ ＣｈｅｌｉＣａｊ Ｃ０ｒｌ） 、に
より「エポクリル３７０」の商品名で市販されているエ
ポキシアクリレート樹脂 ３ｇメチルセロ
ソルブ １４０ｇｎ−ブタノール
２００「イルガキュア６５１Ｊ
Ｏ，６゜ミツシュラ−のケトン
０．３゜ハイドロキノン モノメチル エーテル０．
０３０ この層を例１に記載の支持体上に同じ条件下に被覆する
。３％濃度のポリビニルアルコール溶液を使用して常法
に従い、保護層を適用する。かくして得られた感光板を
据付は講ガを通してＮＵＡＲＧ ２ＫＷ形のアーク灯
下に２〜３秒間露光する。 スト−ファースケールで８
〜９ステツプの範囲にわたる優れたコピイが得られる。
より「エポクリル３７０」の商品名で市販されているエ
ポキシアクリレート樹脂 ３ｇメチルセロ
ソルブ １４０ｇｎ−ブタノール
２００「イルガキュア６５１Ｊ
Ｏ，６゜ミツシュラ−のケトン
０．３゜ハイドロキノン モノメチル エーテル０．
０３０ この層を例１に記載の支持体上に同じ条件下に被覆する
。３％濃度のポリビニルアルコール溶液を使用して常法
に従い、保護層を適用する。かくして得られた感光板を
据付は講ガを通してＮＵＡＲＧ ２ＫＷ形のアーク灯
下に２〜３秒間露光する。 スト−ファースケールで８
〜９ステツプの範囲にわたる優れたコピイが得られる。
印刷に通常使用される感光板を用いて同じ結果を得るた
めには、５０倍長い露光時間が必要である。
めには、５０倍長い露光時間が必要である。
この感光板は６０℃のオーブン中で４８時間、加速老化
させても、インキ付けは非常に良好であり、着色麿に損
害が生じない。
させても、インキ付けは非常に良好であり、着色麿に損
害が生じない。
例５
ミツシュラ−のケトンの代りにベンゾインエチルエーテ
ルを使用して、例１と同じ条件下に感光性溶液を作る。
ルを使用して、例１と同じ条件下に感光性溶液を作る。
ネガを通して５〜６秒間露光した後に、スト−ファーの
スケールで６〜７ステツプの範囲にわたる優れたコビイ
が得られる。
スケールで６〜７ステツプの範囲にわたる優れたコビイ
が得られる。
例６
次の組成に従い感光性溶液を作る：
ペンタエリスリトール トリアクリレートｇ
［エボクリル３７０ＪＩボキシアクリレート樹脂
３ｇメチルセロソルブ
１４０ｇｎ−ブタノール
３０ｇ「イルガキュア６５１Ｊ
０．６゜ミツシュラ−のケトン ０．
３ｇハイドロキノン モノメチル １−チル０．０３ａ ＢＡＳＦにより市販されている着色剤 ゼポンファイヤレッド（７ａｐｏｎ ｆｉｒｅ ｒｅ
ｄ）０、 ０６Ｔ１１ 方法は例４のとおりにする。据付ｔプネガを通して７〜
８秒間露光した後に、スト−ファースケールで６〜７ス
テツプの範囲にわたる、優れたコビイが得られる。
３ｇメチルセロソルブ
１４０ｇｎ−ブタノール
３０ｇ「イルガキュア６５１Ｊ
０．６゜ミツシュラ−のケトン ０．
３ｇハイドロキノン モノメチル １−チル０．０３ａ ＢＡＳＦにより市販されている着色剤 ゼポンファイヤレッド（７ａｐｏｎ ｆｉｒｅ ｒｅ
ｄ）０、 ０６Ｔ１１ 方法は例４のとおりにする。据付ｔプネガを通して７〜
８秒間露光した後に、スト−ファースケールで６〜７ス
テツプの範囲にわたる、優れたコビイが得られる。
例７
固形物３％を含有する感光性溶液を例４と同じ条件で作
る。
る。
５０ ｒｐｍで回転するホイラーを用いてこの溶液を、
５ＥＰＰＩＣから市販さ９れている［ＬＵＤＯＸＪ（ロ
ードックス）の２％濃度の水溶液で先ず処理し、次いで
ポリアクリルアミドの０．５％濃度の水溶液で処理した
、クロム処理し、銅処理したスチールの根土に３０秒間
被覆する。
５ＥＰＰＩＣから市販さ９れている［ＬＵＤＯＸＪ（ロ
ードックス）の２％濃度の水溶液で先ず処理し、次いで
ポリアクリルアミドの０．５％濃度の水溶液で処理した
、クロム処理し、銅処理したスチールの根土に３０秒間
被覆する。
ポリビニルアルコールの３％ＩＩ Ｇ水溶液の保護層を
通常の技法により適用する。
通常の技法により適用する。
この感光板を、ネガフィルムを通して活性光に２秒間露
光した後に、現像剤ＤＭ８０５で現像する。
光した後に、現像剤ＤＭ８０５で現像する。
スト−ファースケールで８ステツプにわたる優れたコピ
イが得られる。
イが得られる。
例８
着色剤ゼボン７アイヤレッド０．１２ｏを加えて、例７
と同じ条件で感光性層を作る。この層を例７と同じ支持
体に同じ条件で適用する。ネガを通して２５秒間露光し
た後にスト−ファースケールで７ステツプにわたる、優
れたコビイが得られる。
と同じ条件で感光性層を作る。この層を例７と同じ支持
体に同じ条件で適用する。ネガを通して２５秒間露光し
た後にスト−ファースケールで７ステツプにわたる、優
れたコビイが得られる。
代理人 浅 村 皓
外４名
２１Ｆ
Claims (11)
- （１） 液状または粘性エポキシアクリレート樹脂と、
ポリオールまたはヒドロキシル性オリゴマーのアクリレ
ートまたはメタアクリレートよりなる群から選ばれる単
量体と、少なくとも１種の光増感剤とより成ることを特
徴とする特にリトグラフ感光板用の感光性組成％’６ - （２） エポキシアクリレート樹脂が４００〜１．００
０の分子量を有する特許請求の範囲第１項の感光性組成
物。 - （３） エポキシアクリレート樹脂が４００〜６００の
分子量を有する特許請求の範囲第２項の感光性組成物。 - （４） １方がベンジルジメチルアセチルであり、ぞし
て他方がミツシュラ−〇ケトンまたはベンゾインエーテ
ルである光増感剤の混合物音含有する特許請求の範囲第
１項、第２項または第３項の感光性組成物。 - （５） エポキシアクリレート樹脂およびアクリル系単
量体が５／１〜２／１の重量比で存在する特許請求の範
囲第１項〜第４項のいずれか１つに記載の感光組成物。 - （６） 樹脂に対する光増感剤の重量割合が１５〜３５
％である、特許請求の範囲第１項〜第５項のいずれか１
つに記載の感光性組成物。 - （７） 末端遊離基重合抑制剤を樹脂に対する重量割合
で０．５〜１．５％の量でまた含有する特許請求の範囲
第１項〜第６項のいずれか１つに記載の感光性組成物。 - （８） 場合により表面酸化されたアルミニウムおよび
銅処理され、次いでクロム処理されたスチールを含む群
から選ばれるつぶ肌の金属支持体を含むリトグラフ感光
板であって、この支持体が上記特許請求の範囲第１項〜
第６項のいずれか１つに記載の感光性組成物で被覆され
ていることを特徴とするリトグラフ感光板。 - （９） シリケートまたはシリカ塩による処理により生
じる生成物よりなる下塗層が感光性組成物の下に存在す
る特許請求の範囲第８項のリトグラフ感光板。 - （１０） この下塗層がまた、ポリアクリルアミドによ
る処理により生成する生成物を含む特許請求の範囲第９
項のリトグラフ印刷板。 - （１１） ポリビニルアルコールの表面層を含む特許請
求の範囲第８項〜第１０項のいずれか１つに記載のリト
グラフ感光板。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8118583 | 1981-10-02 | ||
| FR8118583A FR2514159A1 (fr) | 1981-10-02 | 1981-10-02 | Composition photosensible et plaque lithographique realisee a l'aide de cette composition |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5872141A true JPS5872141A (ja) | 1983-04-30 |
Family
ID=9262684
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57173114A Pending JPS5872141A (ja) | 1981-10-02 | 1982-10-01 | 感光性組成物 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0077278B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5872141A (ja) |
| AT (1) | ATE27500T1 (ja) |
| CA (1) | CA1177301A (ja) |
| DE (1) | DE3276450D1 (ja) |
| ES (1) | ES8400829A1 (ja) |
| FR (1) | FR2514159A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6261908A (ja) * | 1985-09-11 | 1987-03-18 | G C Dental Ind Corp | 歯科修復用光重合性組成物 |
| FR2869321B1 (fr) * | 2004-04-26 | 2008-09-05 | Soficor Mader Sa | Vernis anti-graffiti |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS492601A (ja) * | 1972-04-24 | 1974-01-10 | ||
| JPS4937702A (ja) * | 1972-08-18 | 1974-04-08 | ||
| JPS5799636A (en) * | 1979-11-29 | 1982-06-21 | Ciba Geigy Ag | Photobridging uniform layer and manufacture of offset printing plate using it |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1572153B2 (de) * | 1966-06-27 | 1971-07-22 | E I Du Pont de Nemours and Co , Wilmington, Del (V St A ) | Fotopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial |
| US3980483A (en) * | 1972-04-24 | 1976-09-14 | Nippon Oil Seal Industry Co., Ltd. | Photocurable composition |
| EP0030213A1 (de) * | 1979-11-29 | 1981-06-10 | Ciba-Geigy Ag | Durch Licht vernetzbare Schicht auf Druckformen und Verfahren zur Herstellung von Offset-Druckplatten |
-
1981
- 1981-10-02 FR FR8118583A patent/FR2514159A1/fr active Pending
-
1982
- 1982-09-28 AT AT82420134T patent/ATE27500T1/de not_active IP Right Cessation
- 1982-09-28 EP EP82420134A patent/EP0077278B1/fr not_active Expired
- 1982-09-28 DE DE8282420134T patent/DE3276450D1/de not_active Expired
- 1982-10-01 JP JP57173114A patent/JPS5872141A/ja active Pending
- 1982-10-01 ES ES516140A patent/ES8400829A1/es not_active Expired
- 1982-10-01 CA CA000412661A patent/CA1177301A/fr not_active Expired
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS492601A (ja) * | 1972-04-24 | 1974-01-10 | ||
| JPS4937702A (ja) * | 1972-08-18 | 1974-04-08 | ||
| JPS5799636A (en) * | 1979-11-29 | 1982-06-21 | Ciba Geigy Ag | Photobridging uniform layer and manufacture of offset printing plate using it |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ES516140A0 (es) | 1983-11-01 |
| EP0077278A1 (fr) | 1983-04-20 |
| DE3276450D1 (en) | 1987-07-02 |
| ATE27500T1 (de) | 1987-06-15 |
| EP0077278B1 (fr) | 1987-05-27 |
| CA1177301A (fr) | 1984-11-06 |
| FR2514159A1 (fr) | 1983-04-08 |
| ES8400829A1 (es) | 1983-11-01 |
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