JPS5871549A - イオン源 - Google Patents

イオン源

Info

Publication number
JPS5871549A
JPS5871549A JP56169557A JP16955781A JPS5871549A JP S5871549 A JPS5871549 A JP S5871549A JP 56169557 A JP56169557 A JP 56169557A JP 16955781 A JP16955781 A JP 16955781A JP S5871549 A JPS5871549 A JP S5871549A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ion
collision
gas
atoms
ions
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP56169557A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6135658B2 (ja
Inventor
Norihiro Naito
内藤 統▲ひろ▼
Yoshihiro Naito
内藤 善博
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Original Assignee
Jeol Ltd
Nihon Denshi KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jeol Ltd, Nihon Denshi KK filed Critical Jeol Ltd
Priority to JP56169557A priority Critical patent/JPS5871549A/ja
Publication of JPS5871549A publication Critical patent/JPS5871549A/ja
Publication of JPS6135658B2 publication Critical patent/JPS6135658B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J49/00Particle spectrometers or separator tubes
    • H01J49/02Details
    • H01J49/10Ion sources; Ion guns
    • H01J49/14Ion sources; Ion guns using particle bombardment, e.g. ionisation chambers
    • H01J49/142Ion sources; Ion guns using particle bombardment, e.g. ionisation chambers using a solid target which is not previously vapourised

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)
  • Electron Tubes For Measurement (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は質量分析装置に用いて好適なイオン源に関し、
4I6c試料に高速中性粒子を衝突させてイオン化する
方式のイオン源に関する0 質量分析装置に用いられるイオン源のイオン化方式とし
ては、電子衝撃屋、化学電離型、電界電離聾あるいは電
界脱離m轡が次々と開発され実用化されている。ところ
で近時試料に高いエネルギーを持った高速中性粒子(例
えばAr原子)を衝突させ、そのエネルギーにより試料
をイオン化するイオン化方式が注目されており、この方
式は(1)イオン化のエネルギーが小さいソフトなイオ
ン化法である。12)正イオンばかりでなく負イオンの
生成率も高い、(3)加熱気化が不要なため試料の熱分
解が少ない、(4)中性粒子なのでチャージアップがな
く絶縁物でも容易にイオン化できる等長(の優れた点を
持った方式として今後の発達が期待されている。
ところでこの方式のイオン源においては高速中性粒子例
えば高速Ar原子を作成するにあたり、ムrイオン銃で
ムrイオンビームを作成してこれを高速直に加速した後
衝突ガス(Arガス)を充満させた衝突箱を通過させ、
イオンから電荷を奪って高速の中性Ar原子に変換する
よう−こしており、イオン銃とfi央室へ夫々適当な圧
力のArガスを補給する必要がある。本発明はこの点j
c鑑みてなされたものであり、Arガスを補給するのは
衝突箱のみとし、イオン銃へのイオン化用ガスとしては
該衝突箱からArガスを4洩させで供給することにより
構成を簡単化し得るイオン源を提供することを目的とし
ている。以下図面を用いて本発明を詳説する。
図面は本発明の一実施例の構成を示す断面図であり、図
中1は試料#C照射する中性粒子例えばムr原子を一旦
イオン化するためのイオン銃である。
該イオン銃1は質量分析装置のイオン源側壁2に取付け
られており、その内部は排気管6及びバルブ4を介して
真空ポンプ(図示せず)によって排気される。該イオン
銃1は円筒状電極5と、該円筒状電極5内部に形成され
るイオン生成室6に配置される1ノード7及びフィラメ
ント8と、上記円筒状電極5の下端jcjlj付けられ
/S:3段構成の環状レンズ電極9 、10 、11か
ら構成される。該電極9,11には接地電位、又電極1
0#cは電源12により数KVの正電位が与えられてお
り、上記生成室6で生成された正電荷を持っArイオン
(^、+)はこれらの電極間1こ形成される電界1こよ
る加速作用及び収束作用を受け、高速のArイオンビー
ム16としてイオン銃外へ取出される。
ここで上記環状電極11は第1図1ζおけるI−I’断
画図である第2図iζ示すようfζ3分割されて関1こ
絶縁スペーサ14を介して一体lこ成形してあり、分割
電極11°5ζ正又は員の数EVまでの可変電位を与え
ることlζよりArイオンビーム16をX方向へ偏向で
き、父分割帽115に同様の可変電位を与えることiζ
よりY方向へ偏向できる構造となっている。
尚15はフィラメント加熱用の電源、16はフィラメン
ト−アノード関1こ数ぎvの電圧を印加するための電源
、17はフィラメントから電極5の方向へ向けで発生し
た電子をアノードの方向へ反1〜増り占 転させるためjこ電      を与えるための電源、
そして6Bは加速電圧を印加するための電源である。
この様着こしてイオン銃1から取出された高速Arイオ
ンビーム16はイオン源側壁2に絶縁体18を介して固
着された衝突箱19を通過してイオン源内部へ導入され
るが、#衝突箱19には電R2゜からの員の高電圧が印
加されており、Arイオンビーム15は該高電圧により
更Iこ高速度に加速されて衝突箱19内へ入射してゆく
。該衝突箱19の内1istこは導入管21及びバルブ
22を介してArガス(中性Ar原子)が供給されでお
り、衝突箱の内部を通過するイオンのかなりの部分は該
^r原子と衝突して運動方向及び速度は殆んど変わらず
に電荷のみを奪われて高速中性ムr原子1こ変換される
ため、鋏衝突@19を通過したビーム中にはArイオン
と中性Ar原子が混在することになる。
このうちArイオンは後続して設けられた偏向器26に
よる偏向を受けで除去され、中性ムr原子のみが該偏向
器26を通過して高速A「原子ビーム24として取出さ
れる。尚本実施例ではこの時偏向器2sの一対の電極の
うち偏向を受けたArイオンが衝突する方の電極を電流
針25を介して接地することに上りArイオン電流をモ
ニタするようIζしている。
又Arイオン電流と中性Ar原子の量とは比丙関係があ
るので中性kW原子の量も間接的にモニタできることj
こなる0 1記偏向器26から取出された高速ムr原子ビーム24
は切欠き部26を介してイオン化@27内へ導入され、
該イオン化箱27内へ後方から挿入されたターデッド2
BのAr原子ビーム246ζ対して#斜が与えられたタ
ーデッド向に衝突い該衝突面に塗布されているグリセリ
ンと被検物質とを混&#l4Jl!!シた試料をイオン
化させる。該ターデッド28は例えば鋼製で絶縁体29
を介して導入プローブ60の先端に取付けられると共に
電源!1から岡えば3KVI!度の加速電圧が印加され
ており1その表向から飛び出した試料イオンは加速電圧
を分圧@62で分圧して得た適宜な電圧が夫々印加され
ているスリツトt*詳66″−66番こよって引出され
て加速され、図示しない質量分析部へ導かれる。尚67
はターゲット27とイオン化@27とノ関1(バイアス
賦圧(正、負可変)を印加するための電源である。
斯かる構成tc &3いて、衝突M19でイオンビーム
を効率よく中性Arff子に変換するのに適したAr圧
力1Mは10  %−IQ  Torrli度であり、
衝突箱内でこの圧力を維持するのIC必要なArガスが
バルブ22.導入管21を介して衝突箱内へ送られるo
plの正確な調整はバルブ22の操作により行うことが
できる。一方イオン銃1基こおいてイオンビームを連続
して安定的に生成するのに必要なイオン化用Arガスの
圧力P寞は1O−3〜10 ’Torr程度であり、こ
の圧力を維持するのに必!!!なArガスは衝突箱19
のビーム通過口1を介して衝突J@19から供給される
。該ビーム通過口1のコンダクタンスはPlとP2の圧
力差を許容する程度に設定されており、Plの正確なa
mはバルブ4の開直を変えることによりバルブ22の操
作によるPlの!Qllとは独立して行うことができる
〇又債央箱19の出射側のビーム通過口すは鳥真空(1
0Torr以下)のイオン源内部との圧力差が保たれる
様に1よりも小さくしてコンダクタンスを小さく抑えて
いる0 この様番こして衝突[19からイオン化用Arガスが供
給され、その圧力らバルブ4によって最適1itPzl
こ設定されたイオン銃からは高速直に加速されたArイ
オンビーム16が連続して安定的に取出され、j!−こ
該イオンビーム16はバルブ226ζよってこれb最適
圧力P1に設定された衝突箱19内で効率よ<Ar原子
ビームに変換されること−こな6゜ 尚上述した実施図ではビーム通過口1を介して衝突箱1
9からイオン化用A「ガスをイオン銃1へ漏洩させたが
、これに限らず別個1ζ漏洩用の通路を設けても良い〇 以上詳述した如く本発明によれば衝突箱にのみ衝突ガス
を供給する簡単な構成で、しかも衝突箱とイオン銃の圧
力を独立して&4iすることのできるイオン源が実現さ
れる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本@明の一夷織鉤の構成を示す図であり、第2
図はそのI−I断面図である。 1:イオン銃、6:排気管、4.22ニバルブ、16:
ムrイオンビーム、19:@突箱、21:導入管、24
:高速Ar原子ビーム、28:ターゲット〇 特許出願人 日本電子株式会社 代表者加勢忠雄

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 L イオン銃と、鎖イオン銃から取出されたイオンが通
    る通路を有し内部に収容した衝突ガスに債央させて該イ
    オンを中性粒子に変換するための衝突箱とを備え、該中
    性粒子を試料#cllII射して試料をイオン化するイ
    オン源において、鍍紀衝央箱へ衝突ガスを供給する手段
    を設け、錬衝央ガスを衝突箱からイオン銃へ漏洩させ咳
    イオン銃のイオン化用ガスとして用いる嫌#cll成し
    たことを特徴とするイオン源。 ILtiJ起債央ガスを前記衝突箱に開けたイオン通路
    を介してイオン銃へ漏洩させるようにした特許請求の範
    囲第1項記載のイオン源
JP56169557A 1981-10-23 1981-10-23 イオン源 Granted JPS5871549A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56169557A JPS5871549A (ja) 1981-10-23 1981-10-23 イオン源

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56169557A JPS5871549A (ja) 1981-10-23 1981-10-23 イオン源

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5871549A true JPS5871549A (ja) 1983-04-28
JPS6135658B2 JPS6135658B2 (ja) 1986-08-14

Family

ID=15888666

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP56169557A Granted JPS5871549A (ja) 1981-10-23 1981-10-23 イオン源

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5871549A (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6135658B2 (ja) 1986-08-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7067821B2 (en) Flood gun for charge neutralization
US2816243A (en) Negative ion source
US3955091A (en) Method and apparatus for extracting well-formed, high current ion beams from a plasma source
US5576593A (en) Apparatus for accelerating electrically charged particles
JPS5871549A (ja) イオン源
JP3272441B2 (ja) イオン加速装置
US3955090A (en) Sputtered particle flow source for isotopically selective ionization
JPS5871548A (ja) イオン源
KR900008155B1 (ko) 박막형성방법 및 그 장치
JPH09256148A (ja) イオンプレーティング装置
GB2298083A (en) Parallel ion beam ion generator
JPS5836463B2 (ja) イオン源
JPS5838908B2 (ja) イオン源
JPS5838910B2 (ja) イオン源
JP3105931B2 (ja) 電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射方法
JP2778227B2 (ja) イオン源
Goncharov et al. Advanced vacuum arc plasma source: Principles and perspective applications
JP3338099B2 (ja) イオン注入装置
JP2671219B2 (ja) 高速原子線源
JPS5579870A (en) Evaporation apparatus for substance in vacuum
JPH06208843A (ja) 負イオン注入装置
JPS5927383B2 (ja) イオンビ−ム薄膜作成装置
JPH079838B2 (ja) 高速原子線源
JPH11256334A (ja) Cn薄膜の形成方法及びcn薄膜形成装置
JPH02201200A (ja) 高速原子線源装置