JPS58703A - 高精度位置検出装置 - Google Patents

高精度位置検出装置

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Publication number
JPS58703A
JPS58703A JP9922681A JP9922681A JPS58703A JP S58703 A JPS58703 A JP S58703A JP 9922681 A JP9922681 A JP 9922681A JP 9922681 A JP9922681 A JP 9922681A JP S58703 A JPS58703 A JP S58703A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
output
signal
high accuracy
laser
scale
Prior art date
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Pending
Application number
JP9922681A
Other languages
English (en)
Inventor
Kikuji Miyazaki
宮崎 喜久次
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Nippon Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp, Nippon Electric Co Ltd filed Critical NEC Corp
Priority to JP9922681A priority Critical patent/JPS58703A/ja
Publication of JPS58703A publication Critical patent/JPS58703A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01DMEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01D9/00Recording measured values
    • G01D9/42Recording indications of measuring instruments by photographic means, e.g. of counters

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Optical Transform (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はレーザを光源に用いたスキャナ又はライターに
おいて、レーザビーム位置を高精度で検出する装置に関
するものである。
従来この種の装置はレーザビームをスキャンするための
ミラー駆動系、゛例えばガルバノメータ等、に接続され
たエンコーダからの位置出力によってレーザビームの位
置を検出していた。従ってエンコーダからの位置の分割
数についてはおのずと限界があり、特にスキャン幅が広
く高精度に位置を検出しようとするときには、エンコー
ダからの位置出力を一定層期のクロックによって分割す
るという方法しかとれなかった。
このため予測されるビーム位置と実際のビーム位置との
間には誤差が生じて、例えば@面等における読取に際し
ては読取位置の誤差原因になっていた。
本発明はこれらの欠点を解決するためのものであり1例
えば図面読取等の場合でいえば、実際の読取位置に近い
ところに配したスケールと、周波数逓倍回路を備えるこ
とにより高精度にビーム位置を検出することを可能くし
たものである。
すなわち本発明によれば、レーザ光を用いたスキャナ又
はライターにおいて、レーザビーム走査方向のビーム位
置を検出するためのスケールと、該スケールを介してレ
ーザ光を集光するための集先手段と、集光されたレーザ
光を充電変換するための光電変換素子と、充電変換され
た位置信号からさらに細い位置信号を得るための周波数
逓倍回路と、を備えたことを特徴とする高精度位置検出
装置が得られる。
以下図に従って詳細に説明する。図は本発明の実施例を
示す構成図であり、レーザライターの例である。本実施
例を取り上げるのは説明の便宜であり、これに本発明を
限定するものではない。
この実施例では、レーザ発振部1が発するレーザビーム
は2本あり、それぞれ作画ビーム2と位置検出ビーム3
に分れており、上記作画ビームはレーザ発振部1への外
部信号によってレーザビームの出力レベルを可変できる
ようになっている。
この2つの一定の位置関係を持ったレーザビームは、例
えばガルバノメータなどの偏向手段4により一定幅スキ
ャンする。
位置検出ビーム2は1例えばり四−ム蒸着等の手段によ
って位置を刻んだガラススケール5を透過し、介在する
スケールによって与えられた位置情報をもりて、ライト
ガイド7に入射する。ライトガイド7に入射されたレー
ザ光は1例えばフォト・マルチプライヤ等の光電変換素
子9に集光され、光電変換される。
さらに光電変換された位置信号は2値化回路10により
て例えば2値化して逓倍回路11のリファレンス周波数
とする。逓倍回路11は、逓倍数設定回路12からの信
号により必要な分割数だけの細い位置信号を出力する。
その出力は位置出力端子13に出力させると同時にレー
ザ発振部lの作画ビーム2の出力レベル変調用のタ四ツ
ク信号として変調制御部14へ入力させる。一方作画ビ
ーム2は変調制御部14からの信号で出力レベルの変調
を受け、ミラー6によってレーザ光によって感光するフ
ィルム80面上に作画することになる。
以上説明したように、本発明によればレーザビームのビ
ーム位置を高精度で検出できるというすぐれた特徴を有
する。
【図面の簡単な説明】
図は本発明の一実施例を示す構成図である。図において
1はレーザ発振部、2は作画ビーム、3は位置検出ビー
ム、4は偏向手段としてのガルバノメータ、5はガラス
スケール、・6はミラー%7はライトガイド、8はフィ
ルム、9は光電変換素子、10は2値化部、11は周波
微逓倍部、12は逓倍数設定部、13は出力端子、14
は変調制御部、 である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. レーザを光源に用いたスキャナ又はライターにおいて、
    レーザビームの走査方向のビーム位置を検出するための
    スケールと、該スケールを介してレーザ光を集光するた
    めの集光手段と、集光されたレーザ光を光電変換するた
    めの光電変換素子と、光電変換された位置信号からさら
    に細い位置信号を得るための周波数逓倍回路とを備えた
    ことを特徴とする高精度位置検出装置。
JP9922681A 1981-06-26 1981-06-26 高精度位置検出装置 Pending JPS58703A (ja)

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