JPS5867881A - 電極の再生方法 - Google Patents
電極の再生方法Info
- Publication number
- JPS5867881A JPS5867881A JP56166447A JP16644781A JPS5867881A JP S5867881 A JPS5867881 A JP S5867881A JP 56166447 A JP56166447 A JP 56166447A JP 16644781 A JP16644781 A JP 16644781A JP S5867881 A JPS5867881 A JP S5867881A
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- JP
- Japan
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- electrode
- nickel
- raney
- deplating
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- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電極の再生方法、特には、その表ｆｆ１１にラ
ネーニッケル粒子を共電層せしめた電極活性の劣化した
電極の再生方法に関する。
ネーニッケル粒子を共電層せしめた電極活性の劣化した
電極の再生方法に関する。
負地電解、水電解等の水性液の電解の電極として、ラネ
ーニッケル粒子を共電層した電極が低水素過電圧を有す
るため、好ましいものとして実用されている。しかしな
がら、電解の経過につれて、電解液中に電槽部材より溶
出した鉄イオン等が存在する場合には電極表面に全駅、
又は酸化物として沈積し、徐々に電極活性が低下してく
る。
ーニッケル粒子を共電層した電極が低水素過電圧を有す
るため、好ましいものとして実用されている。しかしな
がら、電解の経過につれて、電解液中に電槽部材より溶
出した鉄イオン等が存在する場合には電極表面に全駅、
又は酸化物として沈積し、徐々に電極活性が低下してく
る。
通常、これらの電極は、基体として、高価なエキスバン
ドメタルあるいはワイアーメツシュ等を用いるものが多
いため、電極活性の劣化した電極を廃棄することなく、
再生して再利用することが望まれる。
ドメタルあるいはワイアーメツシュ等を用いるものが多
いため、電極活性の劣化した電極を廃棄することなく、
再生して再利用することが望まれる。
本発明者等は、このような要求に応えるべく検討を重ね
た結果、本発明を見出したもので、本発明は、ラネーニ
ッケル粒子を共電着した電極活性の低下した電極を陽極
とし、鉄、ニッケル等からなる金属を陰極として、メッ
キ浴中で電極活性の低下した電極の脱メッキを行い、つ
いで、この電極を陰極としてラネーニッケル粒子を分散
させたメッキ浴Φでラネーニッケル粒子を共電着させる
ことを特徴とする電極の再生方法を要旨とするものであ
る。
た結果、本発明を見出したもので、本発明は、ラネーニ
ッケル粒子を共電着した電極活性の低下した電極を陽極
とし、鉄、ニッケル等からなる金属を陰極として、メッ
キ浴中で電極活性の低下した電極の脱メッキを行い、つ
いで、この電極を陰極としてラネーニッケル粒子を分散
させたメッキ浴Φでラネーニッケル粒子を共電着させる
ことを特徴とする電極の再生方法を要旨とするものであ
る。
ラネーニッケル粒子共電着重積は、ニッケルでラネーニ
ッケル粒子が基体上に結合されたもので、電解により徐
々に鉄またはその酸化物がその上に付着してくる。
ッケル粒子が基体上に結合されたもので、電解により徐
々に鉄またはその酸化物がその上に付着してくる。
壕だ、このような場合でなくても、数年又は１０年以上
にわたる電極の長期使用においてはラネーニッケル自体
の変質−結この成長による表面ゲ１“低下、表面の水酸
化ニッケルへの変化等も徐々に起りつる。
にわたる電極の長期使用においてはラネーニッケル自体
の変質−結この成長による表面ゲ１“低下、表面の水酸
化ニッケルへの変化等も徐々に起りつる。
このようにして電極活性の劣化した電極を陽極としてメ
ッキ浴中で脱メッキを行うと、基体上のニッケルは徐々
にメッキ浴中に溶解し、同時に、陰極上にニッケルが電
着する。この時、陽極からニッケルが溶解するにつれ、
電極活性を失ったラネーニッケル粒子は称；椿から脱洛
し、大部分は脱メッキ槽の底に沈積する。脱メッキ作業
の過程において付着している鉄、も同時に鉄イオンとな
ってメッキ浴中に溶出する。しかし々から、電極上に付
着している鉄は一般に微量であるため、これが脱メッキ
作矢中にニッケルと一緒に陰極上に電着することはない
。
ッキ浴中で脱メッキを行うと、基体上のニッケルは徐々
にメッキ浴中に溶解し、同時に、陰極上にニッケルが電
着する。この時、陽極からニッケルが溶解するにつれ、
電極活性を失ったラネーニッケル粒子は称；椿から脱洛
し、大部分は脱メッキ槽の底に沈積する。脱メッキ作業
の過程において付着している鉄、も同時に鉄イオンとな
ってメッキ浴中に溶出する。しかし々から、電極上に付
着している鉄は一般に微量であるため、これが脱メッキ
作矢中にニッケルと一緒に陰極上に電着することはない
。
もし、鉄または鉄化合物が多い時には、各種無機酸によ
って鉄または”・鉄化合物の大部分を溶解除去した後、
脱メッキを行えばよい。または、あらかじめ、低電流密
度’（０，０１〜ｏ、ｏ５Ａ／ａ？）で鉄またはニラ−
ケル陰極を用いて電解すること（いわゆる電解採取）に
よって鉄を採取した後、陰極をニッケル回収用の鉄また
はニッケル陰極に切換える方法により、鉄含有量の少な
いニッケルを回収することができる。
って鉄または”・鉄化合物の大部分を溶解除去した後、
脱メッキを行えばよい。または、あらかじめ、低電流密
度’（０，０１〜ｏ、ｏ５Ａ／ａ？）で鉄またはニラ−
ケル陰極を用いて電解すること（いわゆる電解採取）に
よって鉄を採取した後、陰極をニッケル回収用の鉄また
はニッケル陰極に切換える方法により、鉄含有量の少な
いニッケルを回収することができる。
脱メッキ浴としては、塩化ニッケルを主体とする浴がよ
いが、本発明者等の検討によると、全塩化ニッケル浴、
高塩化ニッケル浴、塩化ニッケルー酢酸ニッケル浴等の
塩化ニッケル濃度の高い浴、即ち、塩化ニッケルがＮ１
０１２，６Ｈ２０として１００グ／を以上、好ましくは
１３５グ／を以上の濃度を有するものがよい。この理由
は、Ｎ１０１２・６Ｈ２０濃度が１００グ／を以下の浴
を用いる場合、脱メッキ作業中にニッケルの不均一溶解
が生じ、説メッキ面がスホンジ状になることによる。特
に、いわゆるワット浴と称せられる汎用性の高いニッケ
ルメッキ浴において上記現象が著しい。また、脱メッキ
浴のＰ）Ｉは１．０〜３．０が適当である。その他の脱
メッキ条件としては電流密度０．０５〜５Ａ／ｄｔｒ？
、温度３０〜６０℃が適当である。
いが、本発明者等の検討によると、全塩化ニッケル浴、
高塩化ニッケル浴、塩化ニッケルー酢酸ニッケル浴等の
塩化ニッケル濃度の高い浴、即ち、塩化ニッケルがＮ１
０１２，６Ｈ２０として１００グ／を以上、好ましくは
１３５グ／を以上の濃度を有するものがよい。この理由
は、Ｎ１０１２・６Ｈ２０濃度が１００グ／を以下の浴
を用いる場合、脱メッキ作業中にニッケルの不均一溶解
が生じ、説メッキ面がスホンジ状になることによる。特
に、いわゆるワット浴と称せられる汎用性の高いニッケ
ルメッキ浴において上記現象が著しい。また、脱メッキ
浴のＰ）Ｉは１．０〜３．０が適当である。その他の脱
メッキ条件としては電流密度０．０５〜５Ａ／ｄｔｒ？
、温度３０〜６０℃が適当である。
脱メッキ工程で陰極として使用される鉄、ニッケル等の
金属は、脱メッキ工程でその表面にニッケルが電着され
るので、この電極を陽極として、再メツキ工程に使用で
きる。
金属は、脱メッキ工程でその表面にニッケルが電着され
るので、この電極を陽極として、再メツキ工程に使用で
きる。
脱メッキ工程中、剥離されたラネーニッケル粒子はメッ
キ浴中を沈降し、除梗上に共１′、着されることはない
が、よシ完全を期す時には脱メッキ浴を若干窒素ガス等
で便泡攪拌させ連続ｐ過しつつ脱メッキ作業を行うのが
よい。
キ浴中を沈降し、除梗上に共１′、着されることはない
が、よシ完全を期す時には脱メッキ浴を若干窒素ガス等
で便泡攪拌させ連続ｐ過しつつ脱メッキ作業を行うのが
よい。
かくして、脱メッキ法により、共電着層を取り除かれた
電極基体は再使用に供することができる。このようにし
て得られた電極基体に電極活性層を設ける手段は、公知
の方法によって行うことができる。その公知の方法の代
表的なものとしては、特開昭５４−１１２７８５号公報
あるいは特開昭５５−１０４’４９１号公報に開示され
る如きものかあ暮。
電極基体は再使用に供することができる。このようにし
て得られた電極基体に電極活性層を設ける手段は、公知
の方法によって行うことができる。その公知の方法の代
表的なものとしては、特開昭５４−１１２７８５号公報
あるいは特開昭５５−１０４’４９１号公報に開示され
る如きものかあ暮。
次に、実施例により本発明を説明する。
実施例１
全塩化ニッケル浴（ＮｉＣ１ｚ−６ＨｚＯ３００ｆ／／
Ｌ 。
Ｌ 。
ＨＩＩＢＯ８３８ｆ／ｌ ）中に未展開ラネーニッケル
合金粉末（、Ｎ１５０チ、Ａ４５０％２００メツシユパ
ス 周器ファインケミカル社製）を１０ ｆ／ｌの割合
で添加し、これをよく攪拌しながら、あらかじめ厚さ２
０μの下地ニッケルメッキを施したエキスバンド状鉄基
板に分散メッキを行った。
合金粉末（、Ｎ１５０チ、Ａ４５０％２００メツシユパ
ス 周器ファインケミカル社製）を１０ ｆ／ｌの割合
で添加し、これをよく攪拌しながら、あらかじめ厚さ２
０μの下地ニッケルメッキを施したエキスバンド状鉄基
板に分散メッキを行った。
陽極に純ニッケルを使用し、電流密度を３ ｈ／ｃｘ、
、？、ＰＨ−２，０４０℃で１時間メッキを行った。Ｎ
１メッキ層は約１７０μであり、メッキ層中のＮｉ−Ａ
ｔ合金粒子含有量は約３８チであった。これを２０チの
苛性ソーダ水溶液中に浸漬して８０℃で２時間処理して
Ａｔを抽出した。３５％苛性ソーダ水溶液中で温度９０
℃、電流密度２０Ａ ／ ｄｍ”で水素過電圧を測定し
て６５ ｍＶを得た。
、？、ＰＨ−２，０４０℃で１時間メッキを行った。Ｎ
１メッキ層は約１７０μであり、メッキ層中のＮｉ−Ａ
ｔ合金粒子含有量は約３８チであった。これを２０チの
苛性ソーダ水溶液中に浸漬して８０℃で２時間処理して
Ａｔを抽出した。３５％苛性ソーダ水溶液中で温度９０
℃、電流密度２０Ａ ／ ｄｍ”で水素過電圧を測定し
て６５ ｍＶを得た。
つさ゛に、上述した全塩化ニッケル浴中で上記試料を陽
極に、鉄板を陰極として液を敏しく攪拌しつつ脱メッキ
を行った。温ｒｉ”Ｊ−を４０℃、ＰＨを２〜３とし、
電流密度を３Ａ／ｄ−５脱メツキ時間を１時間とした。
極に、鉄板を陰極として液を敏しく攪拌しつつ脱メッキ
を行った。温ｒｉ”Ｊ−を４０℃、ＰＨを２〜３とし、
電流密度を３Ａ／ｄ−５脱メツキ時間を１時間とした。
脱メッキ後、上記試料からラネーニッケル粒子は完全に
剥離され、かつ陰極として用いた鉄板上に付着せず、す
べて脱メッキ浴中に分散浮遊した。また、鉄板上に電着
したニッケルのル。
剥離され、かつ陰極として用いた鉄板上に付着せず、す
べて脱メッキ浴中に分散浮遊した。また、鉄板上に電着
したニッケルのル。
＝ ｉｌｌ定ス１＞ら理論値（ＩＡＨに対し一１ｃ１．
０９５ｆ−Ｎ１）の９７％相当の回収率であることが判
った。
０９５ｆ−Ｎ１）の９７％相当の回収率であることが判
った。
実施例２
実か（１例１と同様にしで得られたラネーニッケル分散
メッキ試料を実施例１と同様にして脱メッキを行った。
メッキ試料を実施例１と同様にして脱メッキを行った。
たたし、脱メッキにおける電流密度を６Ａ／ｄイ、脱メ
ッキ時間を０５時間とした。
ッキ時間を０５時間とした。
脱メッキに伴う剥離ラネーニッケル粒子の分散浮遊状況
やニッケルの回収率は実施例１と同様であった。
やニッケルの回収率は実施例１と同様であった。
実施例３
実施例１と同様にして展開済みラネーニッケル分散メッ
キ試料を得た。
キ試料を得た。
つぎに、１３０℃の４５ ％ ＮａＯＨ水溶液中に１５
日間浸漬放置したのち、９０℃ ３５係ＮａＯＨ水溶液
中における水素過低圧を測定したところ約１５０ ｍＶ
であった。電極表面分析をＥ Ｓ Ｃ，Ａ法を用いて調
べたところＮｉ（○Ｈ）２が生成していることが判明し
た。
日間浸漬放置したのち、９０℃ ３５係ＮａＯＨ水溶液
中における水素過低圧を測定したところ約１５０ ｍＶ
であった。電極表面分析をＥ Ｓ Ｃ，Ａ法を用いて調
べたところＮｉ（○Ｈ）２が生成していることが判明し
た。
実施例２と同一条件で脱メッキを行ってラネーニッケル
層を剥離した。
層を剥離した。
実施例４
実施例１と同様にして展開済みラネーニッケル分散メッ
キ試料を得た。
キ試料を得た。
つぎに、Ｔ１基板にＴｉＯ２，ＲｕＯ２を被覆した電極
を陽極として、上記試料を陰極として、旭硝子社製フレ
ミオン膜で仕切った電解槽でＭａｉｌ水溶液の電解を行
った。ただしここで陰極液（３５％ＮａＯＨ）中にＦｅ
イオンをＦｅとして約１００ ｐｐｍを常時溶存させて
、Ｆｅの電析による性能低下の加速試験を行った。約２
０日試験を行ったととろ水素過電圧は約１２０ ｍＶに
上昇した。
を陽極として、上記試料を陰極として、旭硝子社製フレ
ミオン膜で仕切った電解槽でＭａｉｌ水溶液の電解を行
った。ただしここで陰極液（３５％ＮａＯＨ）中にＦｅ
イオンをＦｅとして約１００ ｐｐｍを常時溶存させて
、Ｆｅの電析による性能低下の加速試験を行った。約２
０日試験を行ったととろ水素過電圧は約１２０ ｍＶに
上昇した。
本試料を実施例２と同一の条件でメッキ層の剥離を行っ
た。鉄陰極に電層回収されたニッケルの回収率は約９７
％であった。また、本電着ニッケル層中に鉄は検出され
なかった。
た。鉄陰極に電層回収されたニッケルの回収率は約９７
％であった。また、本電着ニッケル層中に鉄は検出され
なかった。
比較例１
実施例１と同様にして、塩化ニッケル浴を用いてラネー
ニッケル共分散メッキ試料を得だ。
ニッケル共分散メッキ試料を得だ。
これを８０℃の２０％ＮａＯＨ中で１時間展開処理を行
った。つぎに、本試料を陽極とし、鉄板を陰極としテワ
ット浴（Ｎ１５Ｏｉ 、７ＨｚＯ’３００ｆ／ｌ、
Ｎｉ０１２−６Ｈ２０６０？／Ｌ、 Ｈ３ＢＯｓ ３
０７／ｌ）中で脱メッキを行った。Ｐ）Ｉは３．５、温
度４５°Ｃとし、電流密度を３Ａ／ｄｒｒ？、脱メッキ
時間を１時間とした。
った。つぎに、本試料を陽極とし、鉄板を陰極としテワ
ット浴（Ｎ１５Ｏｉ 、７ＨｚＯ’３００ｆ／ｌ、
Ｎｉ０１２−６Ｈ２０６０？／Ｌ、 Ｈ３ＢＯｓ ３
０７／ｌ）中で脱メッキを行った。Ｐ）Ｉは３．５、温
度４５°Ｃとし、電流密度を３Ａ／ｄｒｒ？、脱メッキ
時間を１時間とした。
鉄陰極上にＮ１が理論瞠の約９７チが回収された。しか
し、浮遊ラネーニッケルを回収したところ、ラネーニッ
ケル粒子とともに１〜１０μのニッケル粒子が多量に存
在していることが判った。また、被剥離面を観察したと
ころ表面がスポンジ状になっており、本メッキ浴におい
てはニッケルが不均一に溶解していることを明示してい
た。
し、浮遊ラネーニッケルを回収したところ、ラネーニッ
ケル粒子とともに１〜１０μのニッケル粒子が多量に存
在していることが判った。また、被剥離面を観察したと
ころ表面がスポンジ状になっており、本メッキ浴におい
てはニッケルが不均一に溶解していることを明示してい
た。
比較例２
脱メッキ浴を比較例１に示したワット浴を使用した以外
はすべて実施例４と同一条件で試験を行った。
はすべて実施例４と同一条件で試験を行った。
鉄陰極に回収されたニッケル電着層中に鉄が存在してい
ることが判明した。また、ラネーニッケル中にニッケル
粒子が混在していた。被剥離層の表面状態は比較例１と
同様であった。
ることが判明した。また、ラネーニッケル中にニッケル
粒子が混在していた。被剥離層の表面状態は比較例１と
同様であった。
代理人内 １） 明
代理人萩原亮−
Claims (2)
- （１） ラネーニッケル粒子を共電着した電極活性の
低下した電極を陽４ｉｆｍとし、鉄、ニッケル等からな
る金属を陽極として、メッキ浴中で電析活性の低下した
電極の脱メッキを行い、ついで、この電極を陰極として
ラネーニッケル粒子を分散させたメッキ浴中でラネーニ
ッケル粒子を共電着させることを特徴とする電極の再生
方法。 - （２） 脱メッキを行うメッキ浴は塩化ニッケル濃度
がＮ１０１２＠・６Ｈ２０として１．００ ？／を以上
である慣許請求の範囲第（１）項の電極の角生方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56166447A JPS5867881A (ja) | 1981-10-20 | 1981-10-20 | 電極の再生方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56166447A JPS5867881A (ja) | 1981-10-20 | 1981-10-20 | 電極の再生方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5867881A true JPS5867881A (ja) | 1983-04-22 |
Family
ID=15831571
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56166447A Pending JPS5867881A (ja) | 1981-10-20 | 1981-10-20 | 電極の再生方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5867881A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6059090A (ja) * | 1983-08-22 | 1985-04-05 | インペリアル・ケミカル・インダストリーズ・ピーエルシー | 電解槽に使用される陰極の処理法 |
-
1981
- 1981-10-20 JP JP56166447A patent/JPS5867881A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6059090A (ja) * | 1983-08-22 | 1985-04-05 | インペリアル・ケミカル・インダストリーズ・ピーエルシー | 電解槽に使用される陰極の処理法 |
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