JPS5866839A - 発光分光分析装置 - Google Patents
発光分光分析装置Info
- Publication number
- JPS5866839A JPS5866839A JP16615181A JP16615181A JPS5866839A JP S5866839 A JPS5866839 A JP S5866839A JP 16615181 A JP16615181 A JP 16615181A JP 16615181 A JP16615181 A JP 16615181A JP S5866839 A JPS5866839 A JP S5866839A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mirror
- plasma flame
- light source
- slit
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
- G01N21/71—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light thermally excited
- G01N21/73—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light thermally excited using plasma burners or torches
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- Health & Medical Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は発光分光分析装置に係り、特に、高周波誘導結
合プラズマを用いた発光分光分析装置に関するものであ
る。
合プラズマを用いた発光分光分析装置に関するものであ
る。
高周波誘導結合プラズマ（以下ＩＣＰと記す）を光源と
する発光分光分析が各種微量金属の分析に使用されるよ
うになったが、ＩＣＰは高周波電力をコイルに流してそ
の付近に高温のプラズマ炎を作るものである。このＩＣ
Ｐを用いて金属元素を分析するには、金属元素を含む試
料液を霧状にしてプラズマ炎中に導入して発□光させ、
この光を発光分光分析装置に導入して分析している。
する発光分光分析が各種微量金属の分析に使用されるよ
うになったが、ＩＣＰは高周波電力をコイルに流してそ
の付近に高温のプラズマ炎を作るものである。このＩＣ
Ｐを用いて金属元素を分析するには、金属元素を含む試
料液を霧状にしてプラズマ炎中に導入して発□光させ、
この光を発光分光分析装置に導入して分析している。
第１図はＩＣＰのプラズマ炎の断面図である。
プラズマ炎１はコイル２を巻回した石英パイプ３に霧状
の試料４を導入し、燃料ガスと共に燃焼させることによ
って生成するが、その最も強く発光する部分は、特に垂
直方向について金属の種類によって異なる。これは金属
によって解離の難易があシ、かつ、イオン化の程度が異
なるためである。
の試料４を導入し、燃料ガスと共に燃焼させることによ
って生成するが、その最も強く発光する部分は、特に垂
直方向について金属の種類によって異なる。これは金属
によって解離の難易があシ、かつ、イオン化の程度が異
なるためである。
従来はこのよりなＩＣＰ装置を可動台上に設置し、プラ
ズマ炎の最適場所と分光器の入射側光軸とが一致するよ
うにＩＣＰ装蓋を上下させて調整していた。しかし、最
近になって３０〜４０元素を迅速に分析することが要求
され、これを波長走査と同期して各元素毎に選択する必
要が生じてきた。これを実行するために可動台を急速に
上下移動させることはプラズマ炎を不安定とするばかり
でなく％２．５ ｋＷの太い電カケープルを取シ付けた
ＩＣＰ装置を上下方向に所定の距離だけ移動させること
を繰返して行うことは極めて困難表作業であシ、実際上
は不可能である。
ズマ炎の最適場所と分光器の入射側光軸とが一致するよ
うにＩＣＰ装蓋を上下させて調整していた。しかし、最
近になって３０〜４０元素を迅速に分析することが要求
され、これを波長走査と同期して各元素毎に選択する必
要が生じてきた。これを実行するために可動台を急速に
上下移動させることはプラズマ炎を不安定とするばかり
でなく％２．５ ｋＷの太い電カケープルを取シ付けた
ＩＣＰ装置を上下方向に所定の距離だけ移動させること
を繰返して行うことは極めて困難表作業であシ、実際上
は不可能である。
本発明は従来技術の欠点を解消し、比較的簡単な構成で
プラズマ炎の任意の輝点を迅速・正確に選択して高精度
な分析を可能にする発光分光分析装置を提供することを
目的とし、その特徴とするところは、炎光光源と、この
光源を含む水平面上に光軸を合致させて設置した集光レ
ンズと、この集光レンズで集束された光束を下方に屈曲
させるミラーと、集光レンズによる光源の実像を結像さ
せる入射スリットを光軸と平行な方向に形成し、垂直方
向に設置した分光器とを有し、光源の発光位置が上下に
移動したときは、ミラーの設置状態を変化させる手段を
用いて発光位置の実像を入射スリットの中心位置に生じ
させるごとく構成したことにある。
プラズマ炎の任意の輝点を迅速・正確に選択して高精度
な分析を可能にする発光分光分析装置を提供することを
目的とし、その特徴とするところは、炎光光源と、この
光源を含む水平面上に光軸を合致させて設置した集光レ
ンズと、この集光レンズで集束された光束を下方に屈曲
させるミラーと、集光レンズによる光源の実像を結像さ
せる入射スリットを光軸と平行な方向に形成し、垂直方
向に設置した分光器とを有し、光源の発光位置が上下に
移動したときは、ミラーの設置状態を変化させる手段を
用いて発光位置の実像を入射スリットの中心位置に生じ
させるごとく構成したことにある。
即ち、本発明の場合は光源は固定したままで。
垂直入射の分光器の入射ミラーの設置位置や傾斜角度を
変化させることによって、従来の光源の上下移動と等価
な動作を行わせるようにしたものである。
変化させることによって、従来の光源の上下移動と等価
な動作を行わせるようにしたものである。
第２図は本発明の一実施例である発光分光分析装置の斜
視図である。ＩＣＰ装置のプラズマ炎１の光は集光レン
ズ５によって集束され、平面ミラー６で下方に屈曲され
て入射スリット７上にプラズマ炎１の実像を生成してい
る。入射スリット７よシ分光器内に入射した光束はコリ
メーテングミラ−８で反射して平行光束となりグレーテ
ィング９に入射する。グレーティング９で回折した平行
光束はカメラミラー１０によって反射集束して出射スリ
ット１１の面にスペクトルを生成する。この出射スリッ
ト１１で選択された単色光束はホトマルチプライア１２
によって検知される。
視図である。ＩＣＰ装置のプラズマ炎１の光は集光レン
ズ５によって集束され、平面ミラー６で下方に屈曲され
て入射スリット７上にプラズマ炎１の実像を生成してい
る。入射スリット７よシ分光器内に入射した光束はコリ
メーテングミラ−８で反射して平行光束となりグレーテ
ィング９に入射する。グレーティング９で回折した平行
光束はカメラミラー１０によって反射集束して出射スリ
ット１１の面にスペクトルを生成する。この出射スリッ
ト１１で選択された単色光束はホトマルチプライア１２
によって検知される。
上記の光学部品は分光器ベース１３に取り付けられ、こ
の分光器ベース１３の側面に装着した送りねじ１５をパ
ルスモータ１４で回転させることによってサインパー１
６を回動させ、サインバー１６の回転軸に取り付けたグ
レーティング９を回転させて出射スリット１１より取出
す波長を走査する。
の分光器ベース１３の側面に装着した送りねじ１５をパ
ルスモータ１４で回転させることによってサインパー１
６を回動させ、サインバー１６の回転軸に取り付けたグ
レーティング９を回転させて出射スリット１１より取出
す波長を走査する。
第３図は第２図の分光器の光学系の右側面図で、紙面の
上側より平面ミラー６に入射して下方に反射した光は入
射スリット７よシ入り、単色光となって出射スリット１
１から出てホトマルチプライア１２に検知される。なお
、この分光器はツエルニ−ターナ−形装置の分光器であ
るが、その他の形の分光器も勿論使用することができる
。
上側より平面ミラー６に入射して下方に反射した光は入
射スリット７よシ入り、単色光となって出射スリット１
１から出てホトマルチプライア１２に検知される。なお
、この分光器はツエルニ−ターナ−形装置の分光器であ
るが、その他の形の分光器も勿論使用することができる
。
第４図は第２図の光源より入射スリット塩の光学系の説
明図で、プラズマ炎１の中央より出た光は集光レンズ５
によって集光されるが、平面ミラー５によって反射され
て入射スリット７に入る。
明図で、プラズマ炎１の中央より出た光は集光レンズ５
によって集光されるが、平面ミラー５によって反射され
て入射スリット７に入る。
即ち、プラズマ炎１の中心の最も輝度の高い場所の像を
入射スリット７の上に結像させている。しかるに試料４
０種類によっては最も輝度の高い所がプラズマ炎１の比
較的下部に移動することがある。このときは平面ミラー
６を破線で示す位置まで後退させる。即ち、移動後のプ
ラズマ炎１の像１８は破線で示す所まで左方向に移動し
、入射スリット７よりはプラズマ炎１の中央よりも下部
の光が取入れられることになる。
入射スリット７の上に結像させている。しかるに試料４
０種類によっては最も輝度の高い所がプラズマ炎１の比
較的下部に移動することがある。このときは平面ミラー
６を破線で示す位置まで後退させる。即ち、移動後のプ
ラズマ炎１の像１８は破線で示す所まで左方向に移動し
、入射スリット７よりはプラズマ炎１の中央よりも下部
の光が取入れられることになる。
このことは従来のプラズマ炎１を上下させるよりも平面
ミラー６を移動させるだけで目的を達成できるので、極
めて容易で迅速に行うことができる。また、プラズマ炎
１の最も輝度の高い点が炎の上部に移動した時は、上記
とは反対に平面ミラ＝６を集光レンズ５の方向に前進さ
せることによって最大の光量を分光器内に取り入れて分
析精度を向上させることができる。
ミラー６を移動させるだけで目的を達成できるので、極
めて容易で迅速に行うことができる。また、プラズマ炎
１の最も輝度の高い点が炎の上部に移動した時は、上記
とは反対に平面ミラ＝６を集光レンズ５の方向に前進さ
せることによって最大の光量を分光器内に取り入れて分
析精度を向上させることができる。
厳密にいえば、平面ミラー６を移動させることによって
輝点の結像位置が入射スリット７とは一致しなくなるが
、実際の装置ではプラズマ炎１から入射スリット７まで
の光軸上の長さが約７０ｃｒｎ程度であシ、平面ミラー
６を１ｃｒｒ１前後させてもプラズマ炎１の像が殆んと
ぼけることはない。これはプラズマ炎１自体の厚さが２
ｃｒｎ程度であるからで、分析精度を低下させるような
影響を与えることはない。また、集光レンズ５の測定光
波長の差による色収差も同様に分析精度に影響を与える
程ではない。
輝点の結像位置が入射スリット７とは一致しなくなるが
、実際の装置ではプラズマ炎１から入射スリット７まで
の光軸上の長さが約７０ｃｒｎ程度であシ、平面ミラー
６を１ｃｒｒ１前後させてもプラズマ炎１の像が殆んと
ぼけることはない。これはプラズマ炎１自体の厚さが２
ｃｒｎ程度であるからで、分析精度を低下させるような
影響を与えることはない。また、集光レンズ５の測定光
波長の差による色収差も同様に分析精度に影響を与える
程ではない。
第５図は第４図の平面ミラーの移動装置の側面図である
。平面ミラー６を４５°傾斜させて固定した取付はベー
ス２０．は水平微動台２１に取り付けられており、この
水平微動台２１はパルスモータ１９を駆動することによ
って矢印方向、即ち、光軸方向に移動する。このような
動作は１例えばパルスモーク１９の回転軸に形成したね
じに水平微動台２１を螺合させ、光軸方向にのみ移動可
能な案内溝を滑動させることによって得られる。なお、
２２はこれらの部品を取シ付けている取付は板である。
。平面ミラー６を４５°傾斜させて固定した取付はベー
ス２０．は水平微動台２１に取り付けられており、この
水平微動台２１はパルスモータ１９を駆動することによ
って矢印方向、即ち、光軸方向に移動する。このような
動作は１例えばパルスモーク１９の回転軸に形成したね
じに水平微動台２１を螺合させ、光軸方向にのみ移動可
能な案内溝を滑動させることによって得られる。なお、
２２はこれらの部品を取シ付けている取付は板である。
第６図はプラズマ炎中の発光強度分布を示す線図で、プ
ラズマ炎１にＣａを含む試料籾を導入して発光させると
、主波長４２２．７ｎｍのＣａＩの発光強度分布はコイ
ル２の上端から８鴫の所が最大となり、主波長３９３．
４ｎｍのＣａｎの発光強度分布はコイル２の上端から１
８１ｒｒｒｎの所が最大となり、ＣａＩとＣａｎの輝度
最大の位置は約１ｃｒｎ移動する。したがって、平面ミ
ラー６の位置もこれに関連して移動させなければならな
い。
ラズマ炎１にＣａを含む試料籾を導入して発光させると
、主波長４２２．７ｎｍのＣａＩの発光強度分布はコイ
ル２の上端から８鴫の所が最大となり、主波長３９３．
４ｎｍのＣａｎの発光強度分布はコイル２の上端から１
８１ｒｒｒｎの所が最大となり、ＣａＩとＣａｎの輝度
最大の位置は約１ｃｒｎ移動する。したがって、平面ミ
ラー６の位置もこれに関連して移動させなければならな
い。
このようにして各元素の輝線について最大強度を与える
観測位置を予め測定して記憶装置にメモリーシ、分析力
象の元素を測定するときは観測位置を自動的に選択でき
るようにしておく。本装置においては最大７０元素につ
いて可能なようにコンピュータに記憶させである。即ち
、パルスモータ１の回転数をコンピュータの指令によっ
て制御し、波長走査と同時に最適観測位置に平面ミラー
６の位置を設定している。
観測位置を予め測定して記憶装置にメモリーシ、分析力
象の元素を測定するときは観測位置を自動的に選択でき
るようにしておく。本装置においては最大７０元素につ
いて可能なようにコンピュータに記憶させである。即ち
、パルスモータ１の回転数をコンピュータの指令によっ
て制御し、波長走査と同時に最適観測位置に平面ミラー
６の位置を設定している。
上記は主としてプラズマ炎１の輝度最大の所が入射スリ
ット７に合致するようにして平面ミラー６の位置を定め
たものであるが、場合によっては干渉現象が最も少なく
なるような観測位置をメモリーさせることもある。
ット７に合致するようにして平面ミラー６の位置を定め
たものであるが、場合によっては干渉現象が最も少なく
なるような観測位置をメモリーさせることもある。
この発光分光分析装置は第２図に示すごとく分光器を縦
型として形成することにより、垂直に設置せざるを得な
いＩＰＣ装置と機能的に組合わせることが可能となって
いる。即ち、装置全体の設置場所を小さくしてコンパク
トに構成すると共に、上記のような平面ミラー６の移動
機構を水平方向に設置して合理的に形成することができ
るという利点が得られる。
型として形成することにより、垂直に設置せざるを得な
いＩＰＣ装置と機能的に組合わせることが可能となって
いる。即ち、装置全体の設置場所を小さくしてコンパク
トに構成すると共に、上記のような平面ミラー６の移動
機構を水平方向に設置して合理的に形成することができ
るという利点が得られる。
本実施例の発光分光分析装置は、縦型の分光器の入射ス
リットに光源の光を屈曲させて導入する平面ミラーを光
軸方向に移動させることにより、炎中の解離現象の時間
差による輝度分布の変動を自動的に補正して高精度な測
定を迅速に行わせることができるという効果が得られる
。
リットに光源の光を屈曲させて導入する平面ミラーを光
軸方向に移動させることにより、炎中の解離現象の時間
差による輝度分布の変動を自動的に補正して高精度な測
定を迅速に行わせることができるという効果が得られる
。
第７図は本発明の他の実施例である発光分光分析装置の
光源側の光学系図で、第４図と同じ部分には同一符号を
付しである。この場合は平面ミラー６の位置を移動させ
ずに紙面に沿って回動させる。或元素の輝度最大の場所
がプラズマ炎１の位置ａであるときは入射スリット７の
中央にａの像を生成させたとすると、平面ミラー６を破
線の所まで回動させたときは光源のａ位置はａ′の所に
移動する。しかし、光源のｂ位置は一点鎖線で示す光路
を中心として入射スリット７の中心に結像するので、容
易にｂ位置を選択することができるようになる。
光源側の光学系図で、第４図と同じ部分には同一符号を
付しである。この場合は平面ミラー６の位置を移動させ
ずに紙面に沿って回動させる。或元素の輝度最大の場所
がプラズマ炎１の位置ａであるときは入射スリット７の
中央にａの像を生成させたとすると、平面ミラー６を破
線の所まで回動させたときは光源のａ位置はａ′の所に
移動する。しかし、光源のｂ位置は一点鎖線で示す光路
を中心として入射スリット７の中心に結像するので、容
易にｂ位置を選択することができるようになる。
したがって、平面ミラー６の回動だけで更に迅速にプラ
ズマ炎１の任意の位置を選択することができる。この平
面ミラー６の傾斜角と輝線波長とめ関係を予めコンピュ
ータに記憶させて置き、分析時に波長、即ち、被分析元
素を指定すれば自動的に最大光量を分光器に取り入れて
高精度な分析を行うことができる。なお、一般に物体を
直線移動させるよりは回転機構の方が簡単容易であると
いう利点をもっている。
ズマ炎１の任意の位置を選択することができる。この平
面ミラー６の傾斜角と輝線波長とめ関係を予めコンピュ
ータに記憶させて置き、分析時に波長、即ち、被分析元
素を指定すれば自動的に最大光量を分光器に取り入れて
高精度な分析を行うことができる。なお、一般に物体を
直線移動させるよりは回転機構の方が簡単容易であると
いう利点をもっている。
本実施例の発光分光分析装置は、平面ミラーを回動させ
てプラズマ炎中の輝度最大の位置を選択してその光を導
入することができるので、更に迅速に分析が可能となシ
、機構の構成も簡単になるという効果が得られる。
てプラズマ炎中の輝度最大の位置を選択してその光を導
入することができるので、更に迅速に分析が可能となシ
、機構の構成も簡単になるという効果が得られる。
上記実施例は平・面ミラー６を用いた例であるが。
平面ミラーに限らず曲率を付した表面ミラー、例えばト
ロイド凹面ミラー等を用いてプラズマ炎１の実像を結像
させることもできる。また、集光レンズ５を光軸に対し
て上下方向に変位させることによっても同様な結果が得
られるが、その機構が複雑で選択精度が低下する恐れが
ある。
ロイド凹面ミラー等を用いてプラズマ炎１の実像を結像
させることもできる。また、集光レンズ５を光軸に対し
て上下方向に変位させることによっても同様な結果が得
られるが、その機構が複雑で選択精度が低下する恐れが
ある。
上記実施例はＩＣＰを光源とする発光分光分析を例とし
て説明したが、波長変化と共に発光位置６ｒ変化するよ
うな他の発光強度分布の場合にも適用できる。
て説明したが、波長変化と共に発光位置６ｒ変化するよ
うな他の発光強度分布の場合にも適用できる。
本発明の発光分光分析装置は、比較的簡単な構成で高精
度な分析を可能にするという効果が得られる。
度な分析を可能にするという効果が得られる。
第１図はＩＣＰのプラズマ炎の断面図、第２図は本発明
の一実施例である発光分光分析装置の斜視図、第３図は
第２図の分光器の光学系の右側面図、第４図は第２図の
光源よシ入射スリット迄の光学系の説明図、第５図は第
４図の平面ミラーの移動装置の側面図、第６図はプラズ
マ炎中の発光強度分布を示す線図、第７図は本発明の他
の実施例である発光分光分析装置の光源側の光学系図で
ある。 １・・・プラズマ炎、２・・・コイル、３・・・石英パ
イプ、４・・・試料、５・・・集光レンズ、６用平面ミ
ラー、７・・・入射スリット、１１・・・出射スリット
、１２・・・ホトマルチプライア、１３・・・分光器ペ
ース、１４゜１９・・・パルスモータ、１５・・・送り
ねじ、１６・・・サインバー、２０・・・取付はベース
、２１・・・水平微動賽４図 ９．ｃ図
の一実施例である発光分光分析装置の斜視図、第３図は
第２図の分光器の光学系の右側面図、第４図は第２図の
光源よシ入射スリット迄の光学系の説明図、第５図は第
４図の平面ミラーの移動装置の側面図、第６図はプラズ
マ炎中の発光強度分布を示す線図、第７図は本発明の他
の実施例である発光分光分析装置の光源側の光学系図で
ある。 １・・・プラズマ炎、２・・・コイル、３・・・石英パ
イプ、４・・・試料、５・・・集光レンズ、６用平面ミ
ラー、７・・・入射スリット、１１・・・出射スリット
、１２・・・ホトマルチプライア、１３・・・分光器ペ
ース、１４゜１９・・・パルスモータ、１５・・・送り
ねじ、１６・・・サインバー、２０・・・取付はベース
、２１・・・水平微動賽４図 ９．ｃ図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、炎光光源と、この光源を含む水平面上に光軸を合致
させて設置した集光レンズと、この集光レンズで集束さ
れた光束を下方に屈曲させるミラーと、上記集光レンズ
によって上記光源の実像を結像させる入射スリットを上
記光軸と平行な方向に形成し、垂直方向に設置した分光
器とを有し、上記光源の発光位置が上下に移動したとき
は、上記ミラーの設置状態を変化させる手段を用いて上
記発光位置の実像を上記入射スリットの中心位置に生じ
させるごとく構成したことを特徴とする発光分光分析装
置。 ２、上記ミラーの設置状態を変化させる手段が、上記ミ
ラーを上記光軸上で移動させる手段である特許請求の範
囲第１項記載の発光分光分析装置。 ３、上記ミラーの設置状態を変化させる手段が。 上記ミラーの上記光軸となす角度を上下方向に変化させ
る手段である特許請求の範囲第１項記載の発光分光分析
装置。 ４、上記光源が発生する各輝線を観測するのに最適な上
記ミラーの状態を記憶し、上記各輝線の波長走査と同期
して上記ミラーの状態を設定するごとく構成した特許請
求の範囲第１項記載の発光分光分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16615181A JPS5866839A (ja) | 1981-10-16 | 1981-10-16 | 発光分光分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16615181A JPS5866839A (ja) | 1981-10-16 | 1981-10-16 | 発光分光分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5866839A true JPS5866839A (ja) | 1983-04-21 |
| JPS6411135B2 JPS6411135B2 (ja) | 1989-02-23 |
Family
ID=15826001
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16615181A Granted JPS5866839A (ja) | 1981-10-16 | 1981-10-16 | 発光分光分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5866839A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61109069A (ja) * | 1984-11-02 | 1986-05-27 | Fuji Xerox Co Ltd | 複写機の制御方式 |
| JPS62134052U (ja) * | 1986-02-17 | 1987-08-24 | ||
| JPS62140438U (ja) * | 1986-02-26 | 1987-09-04 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5682544U (ja) * | 1979-11-14 | 1981-07-03 |
-
1981
- 1981-10-16 JP JP16615181A patent/JPS5866839A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5682544U (ja) * | 1979-11-14 | 1981-07-03 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61109069A (ja) * | 1984-11-02 | 1986-05-27 | Fuji Xerox Co Ltd | 複写機の制御方式 |
| JPS62134052U (ja) * | 1986-02-17 | 1987-08-24 | ||
| JPS62140438U (ja) * | 1986-02-26 | 1987-09-04 | ||
| JPH0452681Y2 (ja) * | 1986-02-26 | 1992-12-10 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6411135B2 (ja) | 1989-02-23 |
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